JPH0850U - 陰極スパッタリング装置 - Google Patents
陰極スパッタリング装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 陰極スパッタリング装置において、ターゲッ
トの、容易かつ迅速な取付け及び取外しを可能にする迅
速クランプ装置を提供する。 【構成】 陰極スパッタリング装置は、係止体としてク
ランプスリーブ10を有している。このような構成にお
いて、まずターゲットユニット1,2の軸線を中心とし
てクランプスリーブ10を所定量だけ回転させる。それ
により、球体12を半径方向外側へ向かって押出す。そ
の結果、ターゲットユニット1,2を作業位置に係止さ
せる。
トの、容易かつ迅速な取付け及び取外しを可能にする迅
速クランプ装置を提供する。 【構成】 陰極スパッタリング装置は、係止体としてク
ランプスリーブ10を有している。このような構成にお
いて、まずターゲットユニット1,2の軸線を中心とし
てクランプスリーブ10を所定量だけ回転させる。それ
により、球体12を半径方向外側へ向かって押出す。そ
の結果、ターゲットユニット1,2を作業位置に係止さ
せる。
Description
【0001】
本考案は、真空コーティング技術に用いられるような、ターゲットを備えた陰 極スパッタリング装置に関する。この装置については、例えばLeybold AG社に よる刊行物12−710.01「Compact Disks Vakuum−Beschichtungstechnik 」を参照されたい。しかし、本考案による装置の使用は、この刊行物に記載され た場合に制限されるものではない。
【0002】
ヨーロッパ特許第0291690号明細書によれば、排気されたコーティング 室内へほぼ平らなワークを走入させてそこから走出させるための、及びこのワー クをコーティング源の範囲内へ供給してそこから戻し案内するための装置が開示 されている。ワーク表面はこの装置によって処理される。
【0003】 上記ヨーロッパ特許出願による装置の特徴は、以下のことにある。即ち、1つ 又は複数の蓋形状のワーク担体を備えたコーティング装置が、コーティング室の 範囲に配置されている。そして、上記ワーク担体により、ワークがコーティング 室の開口部に隣合う位置へ搬送される。この位置では、上記開口部が一方でワー ク担体によって、他方で昇降プレートによって閉鎖される。また、昇降プレート は、コーティング室内部で回転可能に支承されたターンテーブル上に保持かつ案 内されている。この場合、上記ワーク担体はコーティング装置に支持された昇降 シリンダによって、上記昇降プレートはベースプレートに固定された昇降装置に よって、コーティング室の蓋における上記開口部へとそれぞれ押圧させられる。
【0004】 しかし、上述した形式のコーティング装置及び通常の陰極スパッタリング装置 においては、ターゲットが新しいものと交換されなければならない。従来、ター ゲットはねじ又は締付け片によって陰極室の部材に固定されている。従って、タ ーゲットの交換は面倒であり、しかも、ターゲットの交換には時間及び費用がか かる。また、ターゲットのこのような交換により、製造つまり基体のコーティン グが長時間中断されねばならなくなる。
【0005】
本考案の課題は、上述した先行技術における欠点を排除すると共に、ターゲッ トの、容易かつ迅速な取付け及び取外しを可能にする迅速クランプ装置を提供す ることにある。
【0006】
上記課題は、本考案によればはじめに述べた陰極スパッタリング装置において 、ターゲットを陰極スパッタリング装置の部材に容易に解離可能に固定させるク ランプ装置が設けられており、クランプ装置が転動体と傾斜面とから成る締付け 装置少なくとも1つを備えており、かつ少なくとも1つの転動体に対する少なく とも1つの傾斜面の相対運動時に、締付けを行う押圧力をターゲットユニットに 対して及ぼし、かつクランプ装置が回転可能なクランプスリーブを有しており、 クランプスリーブが、回転時にその傾斜面によって、ターゲットユニットに対し て間接的又は直接に転動体を押圧することによって解決されている。
【0007】
本考案によれば、クランプ装置が少なくとも1つの、有利には3つ又はそれ以 上の転動体と傾斜面とから成る締付け装置から構成されており、かつ少なくとも 1つの転動体に対する、有利には球体に対する少なくとも1つの傾斜面の相対運 動時に、締付けを行う押圧力をターゲットユニットに対して及ぼす。
【0008】 本考案によれば、クランプ装置が回転可能な、有利には転動体のために複数の 傾斜面を備えた、クランプスリーブを有している。このクランプスリーブは、回 転時に傾斜面によって、ターゲットユニットに対して間接的又は直接に転動体を 押圧する。
【0009】 本考案の陰極スパッタリング装置の構成によれば、ターゲットとターゲット保 持装置、有利にはターゲットベースプレートとから成るユニット(ターゲットユ ニット)が設けられており、クランプ装置がこのターゲット保持装置に対して作 用を及ぼしている。
【0010】 この場合、クランプ装置からの押圧力が、環状のターゲットユニットに対して 半径方向に作用を及ぼしていると、有利である。
【0011】 さらに、本考案によれば、クランプ装置が環状のターゲットユニットの内部に 配置されており、上記押圧力が、半径方向内側から外側へ向かってこのターゲッ トユニットに対して作用を及ぼしている。もしくは、クランプ装置が環状のター ゲットユニットの外周部に配置されており、上記押圧力が、半径方向外側から内 側へ向かってこのターゲットユニットに対して作用を及ぼしている。
【0012】 また、有利には、クランプ装置がターゲットベースプレートに対して作用を及 ぼしている。
【0013】 そして特に、クランプスリーブが環状のターゲットユニットに対して中心に配 置されており、上記の転動体と傾斜面とから成る締付け装置が、半径方向外側へ 向かう力によってこのターゲットユニットを締付けて固定している。
【0014】 また、本考案による装置は、以下の構成のおかげで特に容易に操作される。即 ち、クランプスリーブが係止体として形成されており、係止体が、ターゲットユ ニットの軸線を中心として所定量だけ回転可能であり、かつ、この回転時に転動 体、特に球体を半径方向外側へ向かって押圧するようになっている。ターゲット ユニットは、このような押圧による締付けによって作業位置に係止される。
【0015】 さらに、本考案の装置は安価な構成を有している。なぜなら、傾斜面が偏心的 なフライス加工部としてクランプスリーブの外周面の一部に形成されているから である。
【0016】 この場合、傾斜面に、クランプスリーブとターゲットユニットとの間で締付け られる少なくとも1つの、有利には2つの球体が対応配置されている。
【0017】 本考案の装置のさらに別な構成によれば、傾斜面に、スペーサによって離され てはいるがクランプスリーブとターゲットユニットとの間で締付けられる2つの 球体が対応配置されている。
【0018】 また、ターゲットを迅速に交換するために、クランプ装置が陰極室上部内に取 付けられている。この陰極室上部は、ターゲットの交換のために陰極室から取外 し可能に、特に陰極室から離れる方向で旋回可能に、配置及び形成されており、 陰極室上部の取外し状態、特に外側への旋回状態、においてクランプ装置をゆる めることにより、ターゲットユニットが容易に交換されるようになっている。
【0019】 本考案の装置のさらに有利な構成によれば、ターゲットの交換のために陰極室 から取外し可能に、特に陰極室から離れる方向で旋回可能に、配置及び形成され た上記陰極室上部に、陰極ステーションの、2つの部分から成るマスクのうちの 中央マスク部分が取付けられている。この中央マスク部分は、陰極室上部と共に 陰極室から取外し可能、特に陰極室から離れる方向に旋回可能、であり、それに 対して、上記マスクの外側に位置する環状の縁部部分は、作業位置に留まり続け る。
【0020】 さらに、本考案によれば、転動体特に球体が、絶縁材料特にAl2O3から形成 されている。そして、転動体特に球体が、その締付け時にターゲットベースプレ ートの溝内へ押込まれる。
【0021】 また、ターゲットをより迅速に交換するために、陰極室上部とターゲットユニ ットとが、自体公知の、水を供給するためのカップリングの構成要素を有してお り、このカップリングが、ターゲットユニットの取外し時には閉鎖される。さら に、陰極室上部とターゲットユニットとが、自体公知の、電流を供給するための カップリングの構成要素を有しており、このカップリングが、ターゲットユニッ トの取外し時には電流の供給を遮断する。
【0022】 本考案の装置の選択的な構成によれば、クランプ装置が、少なくとも1つの、 有利には3つ又はそれ以上の転動体と傾斜面とから成る締付け装置を備えてター ゲットユニットの外周部範囲で回転可能なリングとして構成されている。
【0023】
次に図示の実施例につき本考案を説明する。
【0024】 図1による陰極室上部19は、ターゲット1とターゲットベースプレート2と から構成された環状のターゲットユニットを被覆している。また、ターゲット1 とターゲットベースプレート2とは複数のボルトによって結合されており、これ らのボルトのうちで1つが符号14で示されている。さらに、ターゲット1とタ ーゲットベースプレート2との間には水冷却室15が形成されている。
【0025】 その上、冷却水を供給するための迅速カップリングが符号3によって、電流を 供給するための迅速カップリングが符号4によって、それぞれ示されている。
【0026】 さて、上記ターゲットユニットは陰極室の陰極室上部19と共に、陰極ステー ションの残りの部材から離れるように矢印5で示された方向に旋回できる。とこ ろで、冷却水の供給のための上記迅速カップリング3と、電流の供給のための上 記迅速カップリング4とは、互いに約180°ずらされて陰極室上部19に取付 けられている。
【0027】 上記陰極室上部19の下面には、陰極ステーションの、2つの部分から成るマ スクの中央のマスク部分6が結合されているが、これについては図5をも参照さ れたい。従って、陰極室上部19が旋回すると、中央のマスク部分6も矢印7( 図5)の旋回方向で不動のマスク部分8から離れるように運動する。しかし、図 5では、上記マスクが作業位置で示されている。既に先行技術に関して述べたよ うに、このマスクは、図示されていない基体へスパッタリング時にプラズマを集 中させるために役立つ。
【0028】 また、クランプ装置全体が符号9によって示されている。図2〜図4に示され たように、このクランプ装置9はクランプスリーブ10から形成されており、ク ランプスリーブ10の外周部範囲にはフライス加工部11(図3)が設けられて いる。
【0029】 図2には、図1による装置の中央範囲が拡大されて示されている。また、図3 には、図4による矢印IIIの方向から見た、クランプスリーブ10が示されて おり、図4には、図3による線分IV−IVに沿った、クランプスリーブ10の 断面図が示されている。
【0030】 図3からわかるように、クランプスリーブ10には全部で4つのフライス加工 部11が形成されている。
【0031】 さて、上記クランプスリーブ10が、このクランプスリーブ10に対しては不 動の陰極室上部19に対して約45°回転すると、傾斜面として作用する上記フ ライス加工部11が、図2ではただ1つしか示されていないが全部で4つの球体 12を、半径方向外側へ向かって矢印13の方向に押出す。
【0032】 さらに、上記球体12は、図2ではただ1つしか示されていないが全部で4つ のスペーサ16を、やはり半径方向外側へ向かってシフトさせる。そして、この スペーサ16が4つの球体17をやはり半径方向外側へ向かって押出し、ターゲ ットベースプレート2の外周面にフライス加工された溝18内へ押込む。
【0033】 このように回転するので、上記クランプスリーブ10は係止体として作用して いる。ターゲットユニットは、この係止体によって締付けられて作業位置に係止 させられ、かつセンタリングされる。
【0034】 次に、上記ターゲットユニットの交換作業について述べることとする: まず、蓋としても作用して全体的に符号19によって示された陰極室上部19 が、図1による第1の位置、つまりスパッタリング位置から、水平な第2の位置 、つまり保守整備位置へと、矢印5の方向で約180°旋回させられる。従って 、この第2位置では、ターゲット1と、クランプスリーブ10のキノコ形の終端 部20と、その他すべての部材、つまり外側へ向かって旋回可能な陰極ステーシ ョンの蓋(陰極室上部19)の下面に結合された部材とが、監視員に対して開放 され、かつ容易に接近される。
【0035】 次いで、固定ねじ23がゆるめられた後に、ピン付スパナ形の特別な工具が袋 孔21,22に係合する。クランプスリーブ10はこのような工具によって矢印 24の方向(図3)に約45°回転させられる。
【0036】 その結果、球体12とスペーサ16と球体17とが開放される。つまり、ター ゲットユニットの締付けが解除される。
【0037】 その後、取出し装置の鋭いグリッパ機構が、まずターゲットの縁部27に対し て半径方向に矢印25,26の方向で押圧される。その結果、ターゲットユニッ トは取出し装置によって掴まれ、軸方向上方へ向かって陰極ステーションの蓋( 陰極室上部19)から取出される。この際、冷却水のための迅速カップリング3 は冷却水の供給源と接続されておらず、かつ閉鎖されている。また、電流のため の迅速カップリング4も接続を遮断されている。
【0038】 ところで、新しいターゲットユニットは以上のような作業工程とはほぼ逆の作 業工程で取付けられる: まず、新しいターゲットユニットが陰極室の蓋(陰極室上部19)内へ軸方向 にはめ込まれる。次いで、冷却水及び電流のための迅速カップリング3,4が、 各供給源に接続される。次に、係止スリーブとして役立つクランプスリーブ10 が、矢印24とは逆方向に約45°回転させられる。その結果、上記4つの球体 12が傾斜面(フライス加工部11)によって矢印13の方向に半径方向外側へ 向かって押出される。これにより、球体12とスペーサ16と球体17とは、上 述したようにターゲットベースプレート2とクランプスリーブ10との間で締付 けられる。この後、固定ねじ23,28が締込まれる。ところで、図3及び図4 では、わかりやすくするために、これらの固定ねじ23,28のための孔も符号 23,28によって示されている。
【0039】 有利には、ターゲットユニットはハンドルによってゆるめられたり締付けられ たりしてもよい。
【0040】 さて、上記球体は剛性で絶縁性の材料から製作されており、このような材料と して特にAl2O3が選択されている。また、ターゲットユニットと陰極スパッタ リング装置の蓋(陰極室上部)との間には、この装置の機能上やむを得ず電圧差 が生じてしまうので、絶縁特性が必要なのである。
【0041】 さらに、小さな陰極の場合には、上記スペーサは設けられなくともよく、また 、クランプスリーブとターゲットベースプレートとの間で締付けられる球体は2 つ又は1つだけでもよい。
【図1】本考案による装置の陰極室上部の断面図であ
る。
る。
【図2】図1による陰極室上部のクランプスリーブの拡
大断面図である。
大断面図である。
【図3】図4による矢印IIIの方向から見た、クラン
プスリーブの平面図である。
プスリーブの平面図である。
【図4】図3による線分IV−IVに沿った、クランプ
スリーブの断面図である。
スリーブの断面図である。
【図5】図1による陰極ステーションのマスクの断面図
である。
である。
1 ターゲット 2 ターゲットベースプレート 3,4 迅速カップリング 5 陰極室上部とターゲットユニットとの旋回方向を
示す矢印 6 中央のマスク部分 7 中央のマスク部分の旋回方向を示す矢印 8 縁部のマスク部分 9 クランプ装置 10 クランプスリーブ 11 フライス加工部 12 球体 13 球体の押圧方向を示す矢印 14 ボルト 15 水冷却室 16 スペーサ 17 球体 18 溝 19 陰極室上部 20 終端部 21,22 袋孔 23 固定ねじ 24 クランプスリーブの回転方向を示す矢印 25,26 取出し装置の押圧方向を示す矢印 27 縁部 28 固定ねじ
示す矢印 6 中央のマスク部分 7 中央のマスク部分の旋回方向を示す矢印 8 縁部のマスク部分 9 クランプ装置 10 クランプスリーブ 11 フライス加工部 12 球体 13 球体の押圧方向を示す矢印 14 ボルト 15 水冷却室 16 スペーサ 17 球体 18 溝 19 陰極室上部 20 終端部 21,22 袋孔 23 固定ねじ 24 クランプスリーブの回転方向を示す矢印 25,26 取出し装置の押圧方向を示す矢印 27 縁部 28 固定ねじ
Claims (18)
- 【請求項1】 ターゲットを備えた陰極スパッタリング
装置において、ターゲットを陰極スパッタリング装置の
部材に容易に解離可能に固定させるクランプ装置が設け
られており、クランプ装置(9)が転動体と傾斜面とか
ら成る締付け装置少なくとも1つを備えており、かつ少
なくとも1つの転動体(12)に対する少なくとも1つ
の傾斜面(11)の相対運動時に、締付けを行う押圧力
をターゲットユニットに対して及ぼし、かつクランプ装
置(9)が回転可能なクランプスリーブ(10)を有し
ており、クランプスリーブ(10)が、回転時にその傾
斜面(11)によって、ターゲットユニット(1,2)
に対して間接的又は直接に転動体(12)を押圧するこ
とを特徴とする陰極スパッタリング装置。 - 【請求項2】 ターゲット(1)とターゲット保持装置
とから成るユニット(ターゲットユニット)が設けられ
ており、クランプ装置(9)がこのターゲット保持装置
に対して作用を及ぼしている、請求項1記載の陰極スパ
ッタリング装置。 - 【請求項3】 ターゲットユニットがほぼ環状に形成さ
れており、クランプ装置(9)からの押圧力が、この形
状に対して半径方向に作用を及ぼしている、請求項1ま
たは2記載の陰極スパッタリング装置。 - 【請求項4】 クランプ装置(9)が環状のターゲット
ユニット(1,2)の内部に配置されており、上記押圧
力が、半径方向内側から外側へ向かってこのターゲット
ユニット(1,2)に対して作用を及ぼしている、請求
項1から3までのいずれか1項記載の陰極スパッタリン
グ装置。 - 【請求項5】 クランプ装置が環状のターゲットユニッ
トの外周部に配置されており、上記押圧力が、半径方向
外側から内側へ向かってこのターゲットユニットに対し
て作用を及ぼしている、請求項1から4までのいずれか
1項記載の陰極スパッタリング装置。 - 【請求項6】 クランプ装置(9)がターゲットベース
プレート(2)に対して作用を及ぼしている、請求項1
から5までのいずれか1項記載の陰極スパッタリング装
置。 - 【請求項7】 クランプスリーブ(10)が環状のター
ゲットユニット(1,2)に対して中心に配置されてお
り、上記転動体と傾斜面とから成る締付け装置が、半径
方向外側へ向かう力によってこのターゲットユニット
(1,2)を締付けて固定している、請求項1から6ま
でのいずれか1項記載の陰極スパッタリング装置。 - 【請求項8】 クランプスリーブ(10)が係止体とし
て形成されており、係止体がターゲットユニット(1,
2)の軸線を中心として所定量だけ回転可能であり、か
つ、この回転時に転動体(12)を半径方向外側へ向か
って押圧するようになっており、ターゲットユニット
(1,2)が締付けによって作業位置に係止される、請
求項1から7までのいずれか1項記載の陰極スパッタリ
ング装置。 - 【請求項9】 傾斜面(11)が、偏心的なフライス加
工部としてクランプスリーブ(10)の外周面の一部に
形成されている、請求項1から8までのいずれか1項記
載の陰極スパッタリング装置。 - 【請求項10】 傾斜面(11)に、クランプスリーブ
(10)とターゲットユニット(1,2)との間で締付
けられる少なくとも1つの球体が対応配置されている、
請求項1から9までのいずれか1項記載の陰極スパッタ
リング装置。 - 【請求項11】 傾斜面(11)に、スペーサ(16)
によって離されてはいるがクランプスリーブ(10)と
ターゲットユニット(1,2)との間で締付けられる2
つの球体(12,17)が対応配置されている、請求項
1から10までのいずれか1項記載の陰極スパッタリン
グ装置。 - 【請求項12】 クランプ装置(9)が陰極室上部(1
9)内に取付けられており、陰極室上部(19)が、タ
ーゲット(1)の交換のために陰極室から取外し可能に
配置及び形成されており、陰極室上部(19)の取外し
状態においてクランプ装置(9)をゆるめることによ
り、ターゲットユニット(1,2)が容易に交換される
ようになっている、請求項1から11までのいずれか1
項記載の陰極スパッタリング装置。 - 【請求項13】 ターゲット(1)の交換のために陰極
室から取外し可能に配置及び形成された上記陰極室上部
(19)に、陰極ステーションの、2つの部分から成る
マスクのうちの中央マスク部分(6)が取付けられてお
り、この中央マスク部分(6)が、陰極室上部(19)
と共に陰極室から取外し可能であり、それに対して、上
記マスクの外側に位置する環状の縁部部分(8)が、作
業位置に留まり続ける、請求項1から12までのいずれ
か1項記載の陰極スパッタリング装置。 - 【請求項14】 転動体(12,17)が絶縁材料から
形成されている、請求項1から13までのいずれか1項
記載の陰極スパッタリング装置。 - 【請求項15】 転動体(17)が、その締付け時にタ
ーゲットベースプレート(2)の溝(18)内へ押込ま
れる、請求項1から14までのいずれか1項記載の陰極
スパッタリング装置。 - 【請求項16】 陰極室上部(19)とターゲットユニ
ット(1,2)とが、自体公知の、水を供給するための
カップリング(3)の構成要素を有しており、このカッ
プリング(3)が、ターゲットユニット(1,2)の取
外し時には閉鎖される、請求項1から15までのいずれ
か1項記載の陰極スパッタリング装置。 - 【請求項17】 陰極室上部(19)とターゲットユニ
ット(1,2)とが自体公知の、電流を供給するための
カップリング(4)の構成要素を有しており、このカッ
プリング(4)が、ターゲットユニット(1,2)の取
外し時には電流の供給を遮断する、請求項1から16ま
でのいずれか1項記載の陰極スパッタリング装置。 - 【請求項18】 クランプ装置が、転動体と傾斜面とか
ら成る締付け装置を少なくとも1つを備えてターゲット
ユニットの外周部範囲で回転可能なリングとして構成さ
れている、請求項1から17までのいずれか1項記載の
陰極スパッタリング装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4020659A DE4020659C2 (de) | 1990-06-29 | 1990-06-29 | Katodenzerstäubungsvorrichtung |
| DE4020659.9 | 1990-06-29 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0850U true JPH0850U (ja) | 1996-01-19 |
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Family
ID=6409287
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3156362A Pending JPH04231462A (ja) | 1990-06-29 | 1991-06-27 | 陰極スパッタリング装置 |
| JP1995006372U Expired - Lifetime JP2602625Y2 (ja) | 1990-06-29 | 1995-06-26 | 陰極スパッタリング装置 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3156362A Pending JPH04231462A (ja) | 1990-06-29 | 1991-06-27 | 陰極スパッタリング装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5112467A (ja) |
| EP (1) | EP0463227B1 (ja) |
| JP (2) | JPH04231462A (ja) |
| DE (2) | DE4020659C2 (ja) |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3066507B2 (ja) * | 1990-11-30 | 2000-07-17 | 日本テキサス・インスツルメンツ株式会社 | 半導体処理装置 |
| JP2559546B2 (ja) * | 1991-09-20 | 1996-12-04 | 株式会社芝浦製作所 | スパッタリング装置 |
| DE4133564C2 (de) * | 1991-10-10 | 1999-11-18 | Leybold Ag | Vorrichtung zur lösbaren Befestigung eines Targets oder Targetgrundkörpers auf der Kathodenhalterung |
| DE4225531A1 (de) * | 1992-08-01 | 1994-02-03 | Leybold Ag | Targetwechselvorrichtung |
| US5286361A (en) * | 1992-10-19 | 1994-02-15 | Regents Of The University Of California | Magnetically attached sputter targets |
| US5482612A (en) * | 1992-10-27 | 1996-01-09 | Texas Instruments Incorporated | Methods and systems for shielding in sputtering chambers |
| JP3398452B2 (ja) * | 1994-01-19 | 2003-04-21 | 株式会社ソニー・ディスクテクノロジー | スパッタリング装置 |
| US5419029A (en) * | 1994-02-18 | 1995-05-30 | Applied Materials, Inc. | Temperature clamping method for anti-contamination and collimating devices for thin film processes |
| DE4410466C1 (de) * | 1994-03-25 | 1995-09-14 | Balzers Hochvakuum | Targethalterung, Target und ihre Verwendung |
| EP0676791B1 (de) * | 1994-04-07 | 1995-11-15 | Balzers Aktiengesellschaft | Magnetronzerstäubungsquelle und deren Verwendung |
| US5597459A (en) * | 1995-02-08 | 1997-01-28 | Nobler Technologies, Inc. | Magnetron cathode sputtering method and apparatus |
| DE19508406A1 (de) * | 1995-03-09 | 1996-09-12 | Leybold Ag | Kathodenanordnung für eine Vorrichtung zum Zerstäuben eines Target-Paares |
| DE19508405A1 (de) * | 1995-03-09 | 1996-09-12 | Leybold Ag | Kathodenanordnung für eine Vorrichtung zum Zerstäuben von einem Target-Paar |
| US5824197A (en) * | 1996-06-05 | 1998-10-20 | Applied Materials, Inc. | Shield for a physical vapor deposition chamber |
| US5738770A (en) * | 1996-06-21 | 1998-04-14 | Sony Corporation | Mechanically joined sputtering target and adapter therefor |
| US7634384B2 (en) * | 2003-03-18 | 2009-12-15 | Fisher-Rosemount Systems, Inc. | Asset optimization reporting in a process plant |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5127114A (ja) * | 1974-08-29 | 1976-03-06 | Chiyoda Chem Eng Construct Co | |
| JPS623387U (ja) * | 1985-06-24 | 1987-01-10 | ||
| JPS6318070A (ja) * | 1986-04-04 | 1988-01-25 | マテリアルズ リサ−チ コ−ポレイシヨン | スパッタ陰極一標的アセンブリ |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4169031A (en) * | 1978-01-13 | 1979-09-25 | Polyohm, Inc. | Magnetron sputter cathode assembly |
| JPS6014833B2 (ja) * | 1978-12-26 | 1985-04-16 | 株式会社村田製作所 | スパツタリング用タ−ゲツト |
| JPS57145983A (en) * | 1981-03-04 | 1982-09-09 | Murata Mfg Co Ltd | Coaxial barrel sputtering device |
| JPS59133369A (ja) * | 1983-01-21 | 1984-07-31 | Hitachi Ltd | スパツタリング用のタ−ゲツト構造体 |
| US4515675A (en) * | 1983-07-06 | 1985-05-07 | Leybold-Heraeus Gmbh | Magnetron cathode for cathodic evaportion apparatus |
| JPS6082665A (ja) * | 1983-10-07 | 1985-05-10 | Hitachi Ltd | イオンビ−ムスパツタ法による多層薄膜製造方法 |
| CH665057A5 (de) * | 1984-07-20 | 1988-04-15 | Balzers Hochvakuum | Targetplatte fuer kathodenzerstaeubung. |
| US4564435A (en) * | 1985-05-23 | 1986-01-14 | Varian Associates, Inc. | Target assembly for sputtering magnetic material |
| DE3716498C2 (de) * | 1987-05-16 | 1994-08-04 | Leybold Ag | Vorrichtung zum Ein- und Ausschleusen von Werkstücken in eine Beschichtungskammer |
| US4820397A (en) * | 1988-04-04 | 1989-04-11 | Tosoh Smd, Inc. | Quick change sputter target assembly |
-
1990
- 1990-06-29 DE DE4020659A patent/DE4020659C2/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-11-20 DE DE59008728T patent/DE59008728D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-11-20 EP EP90122149A patent/EP0463227B1/de not_active Expired - Lifetime
-
1991
- 1991-02-15 US US07/656,235 patent/US5112467A/en not_active Expired - Fee Related
- 1991-06-27 JP JP3156362A patent/JPH04231462A/ja active Pending
-
1995
- 1995-06-26 JP JP1995006372U patent/JP2602625Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5127114A (ja) * | 1974-08-29 | 1976-03-06 | Chiyoda Chem Eng Construct Co | |
| JPS623387U (ja) * | 1985-06-24 | 1987-01-10 | ||
| JPS6318070A (ja) * | 1986-04-04 | 1988-01-25 | マテリアルズ リサ−チ コ−ポレイシヨン | スパッタ陰極一標的アセンブリ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE4020659A1 (de) | 1992-01-02 |
| EP0463227A1 (de) | 1992-01-02 |
| DE59008728D1 (de) | 1995-04-20 |
| US5112467A (en) | 1992-05-12 |
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| DE4020659C2 (de) | 1997-09-11 |
| JPH04231462A (ja) | 1992-08-20 |
| EP0463227B1 (de) | 1995-03-15 |
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