JPH083365A - 成形用樹脂組成物 - Google Patents
成形用樹脂組成物Info
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- JPH083365A JPH083365A JP6137049A JP13704994A JPH083365A JP H083365 A JPH083365 A JP H083365A JP 6137049 A JP6137049 A JP 6137049A JP 13704994 A JP13704994 A JP 13704994A JP H083365 A JPH083365 A JP H083365A
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- component
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Abstract
(57)【要約】
【目的】流れ性が優れ、低吸湿性、低熱膨張率の成形物
を与える成形用樹脂組成物を提供すること。 【構成】樹脂(例えば、エポキシ樹脂)中に、平均粒径
0.1μm以上1.5μm未満の球状粉末(x成分)
と、平均粒径2μm以上10μm未満の球状粉末(y成
分)と、平均粒径が20μm以上70μm未満の球状粉
末(z成分)、またはこれらと破砕状粉末(m成分)か
らなる充填材を含有してなり、x、y、z成分の合計体
積に占める各x、y、z成分の割合が、それぞれ10体
積%以上22体積%以下、21体積%以上66体積%以
下、24体積%以上57体積%以下であり、m成分の充
填材中に占める割合が1重量%以上30重量%未満であ
り、全組成物に占める充填材の割合が70重量%以上9
4重量%以下である成形用樹脂組成物。
を与える成形用樹脂組成物を提供すること。 【構成】樹脂(例えば、エポキシ樹脂)中に、平均粒径
0.1μm以上1.5μm未満の球状粉末(x成分)
と、平均粒径2μm以上10μm未満の球状粉末(y成
分)と、平均粒径が20μm以上70μm未満の球状粉
末(z成分)、またはこれらと破砕状粉末(m成分)か
らなる充填材を含有してなり、x、y、z成分の合計体
積に占める各x、y、z成分の割合が、それぞれ10体
積%以上22体積%以下、21体積%以上66体積%以
下、24体積%以上57体積%以下であり、m成分の充
填材中に占める割合が1重量%以上30重量%未満であ
り、全組成物に占める充填材の割合が70重量%以上9
4重量%以下である成形用樹脂組成物。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、射出成形やトランスフ
ァー成形に適した充填材含有樹脂組成物に関し、特に、
電子部品の封止用材料として有用なエポキシ樹脂組成物
に関する。
ァー成形に適した充填材含有樹脂組成物に関し、特に、
電子部品の封止用材料として有用なエポキシ樹脂組成物
に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、LSI、IC、トランジスタ等、
半導体の封止には、経済的に有用なエポキシ樹脂組成物
のトランスファーモールドが行われている。特に、最近
では、LSIの表面実装が行われており、半導体の基盤
への実装時に半導体パッケージが直接半田浴中に浸漬さ
れる場合が増えてきている。この時、封止パッケージが
200℃以上の高温にさらされるため、封止パッケージ
中に吸湿していた水分が膨張してクラックが入ったり、
熱ストレスによる応力のため素子や金属フレームと封止
材界面との間に剥離を生じる。クラックや剥離界面から
侵入した湿気等の影響により、素子の不良が発生するこ
とが問題となっている。このため樹脂封止材には低吸湿
性および耐クラック性が要求される。現状では、o−ク
レゾールノボラックのグリシジルエーテル化物やテトラ
メチルビフェノールのグリシジルエーテル化物等のエポ
キシ化合物を通常使用する。これらの化合物にシリカ等
の無機充填材を加えて封止材とするが、近年の技術動向
として充填材の含有量を上げる検討がなされている。例
えばシリカ系充填材の含量を増すことにより樹脂に由来
する吸湿量を低減させ、かつシリコンチップと半導体パ
ッケージとの熱膨張率を近づけることで熱時の発生応力
を緩和する手法でパッケージクラックや剥離の発生を回
避する方策が有効とされてきている。
半導体の封止には、経済的に有用なエポキシ樹脂組成物
のトランスファーモールドが行われている。特に、最近
では、LSIの表面実装が行われており、半導体の基盤
への実装時に半導体パッケージが直接半田浴中に浸漬さ
れる場合が増えてきている。この時、封止パッケージが
200℃以上の高温にさらされるため、封止パッケージ
中に吸湿していた水分が膨張してクラックが入ったり、
熱ストレスによる応力のため素子や金属フレームと封止
材界面との間に剥離を生じる。クラックや剥離界面から
侵入した湿気等の影響により、素子の不良が発生するこ
とが問題となっている。このため樹脂封止材には低吸湿
性および耐クラック性が要求される。現状では、o−ク
レゾールノボラックのグリシジルエーテル化物やテトラ
メチルビフェノールのグリシジルエーテル化物等のエポ
キシ化合物を通常使用する。これらの化合物にシリカ等
の無機充填材を加えて封止材とするが、近年の技術動向
として充填材の含有量を上げる検討がなされている。例
えばシリカ系充填材の含量を増すことにより樹脂に由来
する吸湿量を低減させ、かつシリコンチップと半導体パ
ッケージとの熱膨張率を近づけることで熱時の発生応力
を緩和する手法でパッケージクラックや剥離の発生を回
避する方策が有効とされてきている。
【0003】上記技術動向からすればシリカ系充填材の
含量を極力増加させる手法が有効となるが、実際には上
限がある。例えば、理想的単一分散状態に近い単一球状
充填材を用いた場合、エポキシ樹脂封止材の場合では充
填材の含量をおよそ80重量%とした時に封止材の加熱
溶融時のフローは極端に短くなる。84重量%では事実
上流動性は無くなり、金型内の素子を封止することは不
可能となる。これを回避するため通常充填材は多成分系
のものが用いられる。しかしながらフィラーを高充填し
た場合には充填量を数%増加させるだけで実際のフロー
が半分以下に減少し実用不能となる場合がでる等の問題
があった。
含量を極力増加させる手法が有効となるが、実際には上
限がある。例えば、理想的単一分散状態に近い単一球状
充填材を用いた場合、エポキシ樹脂封止材の場合では充
填材の含量をおよそ80重量%とした時に封止材の加熱
溶融時のフローは極端に短くなる。84重量%では事実
上流動性は無くなり、金型内の素子を封止することは不
可能となる。これを回避するため通常充填材は多成分系
のものが用いられる。しかしながらフィラーを高充填し
た場合には充填量を数%増加させるだけで実際のフロー
が半分以下に減少し実用不能となる場合がでる等の問題
があった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、流れ
性が優れ、低吸湿性、低熱膨張率の成形物を与える成形
用樹脂組成物を提供することである。
性が優れ、低吸湿性、低熱膨張率の成形物を与える成形
用樹脂組成物を提供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討を
重ねた結果、特定配合の充填材を配合した樹脂組成物が
本発明の目的を達成することを見出し、本発明を完成す
るに至った。すなわち本発明は以下の通りである。
重ねた結果、特定配合の充填材を配合した樹脂組成物が
本発明の目的を達成することを見出し、本発明を完成す
るに至った。すなわち本発明は以下の通りである。
【0006】(1)樹脂中に、平均粒径0.1μm以上
1.5μm未満の球状粉末(x成分)と、平均粒径2μ
m以上10μm未満の球状粉末(y成分)と、平均粒径
が20μm以上70μm未満の球状粉末(z成分)から
なる充填材を含有してなり、x、y、z成分の合計体積
に占める各x、y、z成分の割合が、それぞれ10体積
%以上22体積%以下、21体積%以上66体積%以
下、24体積%以上57体積%以下であり、かつ全組成
物に占める充填材の割合が70重量%以上94重量%以
下であることを特徴とする成形用樹脂組成物。
1.5μm未満の球状粉末(x成分)と、平均粒径2μ
m以上10μm未満の球状粉末(y成分)と、平均粒径
が20μm以上70μm未満の球状粉末(z成分)から
なる充填材を含有してなり、x、y、z成分の合計体積
に占める各x、y、z成分の割合が、それぞれ10体積
%以上22体積%以下、21体積%以上66体積%以
下、24体積%以上57体積%以下であり、かつ全組成
物に占める充填材の割合が70重量%以上94重量%以
下であることを特徴とする成形用樹脂組成物。
【0007】(2)樹脂中に、平均粒径0.1μm以上
1.5μm未満の球状粉末(x成分)と、平均粒径2μ
m以上10μm未満の球状粉末(y成分)と、平均粒径
が20μm以上70μm未満の球状粉末(z成分)と、
破砕状粉末(m成分)からなる充填材を含有してなり、
x、y、z成分の合計体積に占める各x、y、z成分の
割合が、それぞれ10体積%以上22体積%以下、21
体積%以上66体積%以下、24体積%以上57体積%
以下であり、m成分の充填材中に占める割合が1重量%
以上30重量%未満であり、全組成物に占める充填材の
割合が70重量%以上94重量%以下である成形用樹脂
組成物。
1.5μm未満の球状粉末(x成分)と、平均粒径2μ
m以上10μm未満の球状粉末(y成分)と、平均粒径
が20μm以上70μm未満の球状粉末(z成分)と、
破砕状粉末(m成分)からなる充填材を含有してなり、
x、y、z成分の合計体積に占める各x、y、z成分の
割合が、それぞれ10体積%以上22体積%以下、21
体積%以上66体積%以下、24体積%以上57体積%
以下であり、m成分の充填材中に占める割合が1重量%
以上30重量%未満であり、全組成物に占める充填材の
割合が70重量%以上94重量%以下である成形用樹脂
組成物。
【0008】(3)エポキシ樹脂、フェノール系硬化
剤、硬化促進剤ならびにx、y、zおよびm成分からな
るシリカ粉末充填材を必須成分とし、該充填材を全組成
物に対し83重量%以上93重量%以下含有してなり、
EMMI−1−66の規格に準じて175℃×70kg
/cm2 で測定したスパイラルフローが20インチ以上
である上記(2)記載の成形用樹脂組成物。
剤、硬化促進剤ならびにx、y、zおよびm成分からな
るシリカ粉末充填材を必須成分とし、該充填材を全組成
物に対し83重量%以上93重量%以下含有してなり、
EMMI−1−66の規格に準じて175℃×70kg
/cm2 で測定したスパイラルフローが20インチ以上
である上記(2)記載の成形用樹脂組成物。
【0009】以下に本発明の内容を具体的に説明する。
本発明で使用される球状粉末としては、例えば、シリ
カ、アルミナ、窒化アルミニウム、窒化珪素、炭化珪
素、珪砂、珪石粉末、タルク、ホワイトカーボン、アエ
ロジル、ウォラストナイト、マイカ、クレー、ガラス
球、金属球等があり、熱膨張率および高純度の面から溶
融シリカ粉末、結晶シリカ粉末、アルミナ粉末等からな
る球状粉末が好ましい。
本発明で使用される球状粉末としては、例えば、シリ
カ、アルミナ、窒化アルミニウム、窒化珪素、炭化珪
素、珪砂、珪石粉末、タルク、ホワイトカーボン、アエ
ロジル、ウォラストナイト、マイカ、クレー、ガラス
球、金属球等があり、熱膨張率および高純度の面から溶
融シリカ粉末、結晶シリカ粉末、アルミナ粉末等からな
る球状粉末が好ましい。
【0010】球状粉末の形状は鋭利な角を持たないアス
ペクト比1.0〜1.2の実質的な球形であれば良い。
溶射法やゾル−ゲル法で作製された市販球状シリカ粉末
程度の球形度を持つものが好ましいが、これらより真球
に近い物はさらに好ましい。また、球形化処理が困難な
場合には微粉末化してからメカノケミカル的手法により
バインダを加えて球形化することによっても球状粉末が
得られる。
ペクト比1.0〜1.2の実質的な球形であれば良い。
溶射法やゾル−ゲル法で作製された市販球状シリカ粉末
程度の球形度を持つものが好ましいが、これらより真球
に近い物はさらに好ましい。また、球形化処理が困難な
場合には微粉末化してからメカノケミカル的手法により
バインダを加えて球形化することによっても球状粉末が
得られる。
【0011】破砕状粉末の形状は角を持つ多面体等の異
形体であれば良い。中でも合成あるいは天然の石英塊を
粉砕して得られる非晶性または結晶性の石英破砕状粉末
が適し、具体的には溶融破砕シリカ等が好適である。
形体であれば良い。中でも合成あるいは天然の石英塊を
粉砕して得られる非晶性または結晶性の石英破砕状粉末
が適し、具体的には溶融破砕シリカ等が好適である。
【0012】本発明で用いる球状粉末はx、y、z成分
の三群からなる。x、y、z成分はそれぞれ平均粒径
0.1μm以上1.5μm未満、平均粒径2μm以上1
0μm未満、平均粒径20μm以上70μm未満であ
る。本発明で用いる各球状粉末の粒径分散は狭い方が好
ましく、さらには単一分散に近いものが適している。こ
のためx、y、z成分共に分級操作で粒径を揃える操作
を行ったものを使用することが好ましい。なお、本発明
での平均粒径とはレーザー散乱粒度分布計等の粒度分布
測定装置を用いて粒子径分布を測定した場合の、重量累
積50%の時の粒径値で定義される。
の三群からなる。x、y、z成分はそれぞれ平均粒径
0.1μm以上1.5μm未満、平均粒径2μm以上1
0μm未満、平均粒径20μm以上70μm未満であ
る。本発明で用いる各球状粉末の粒径分散は狭い方が好
ましく、さらには単一分散に近いものが適している。こ
のためx、y、z成分共に分級操作で粒径を揃える操作
を行ったものを使用することが好ましい。なお、本発明
での平均粒径とはレーザー散乱粒度分布計等の粒度分布
測定装置を用いて粒子径分布を測定した場合の、重量累
積50%の時の粒径値で定義される。
【0013】球状粉末x、y、z成分の配合比は、xと
yとz成分の合計体積に対するx、y、z成分の体積の
割合でそれぞれ10体積%以上22体積%未満、21体
積%以上66体積%未満、24体積%以上57体積%未
満である。
yとz成分の合計体積に対するx、y、z成分の体積の
割合でそれぞれ10体積%以上22体積%未満、21体
積%以上66体積%未満、24体積%以上57体積%未
満である。
【0014】本発明での上記の体積%は、x、y、z成
分のそれぞれの重量を各成分の真比重で割った値をそれ
ぞれの成分の体積として計算したものである。一般に、
粒子径分布を持つ粒子の見掛けの体積は、測定容器への
充填の仕方、異種の粒子の集合体を混合する場合にはそ
の混合の前後等で変化する。従って、本発明では粒子集
合体の各成分の体積%の計算に見掛けの体積を使わな
い。
分のそれぞれの重量を各成分の真比重で割った値をそれ
ぞれの成分の体積として計算したものである。一般に、
粒子径分布を持つ粒子の見掛けの体積は、測定容器への
充填の仕方、異種の粒子の集合体を混合する場合にはそ
の混合の前後等で変化する。従って、本発明では粒子集
合体の各成分の体積%の計算に見掛けの体積を使わな
い。
【0015】本発明で使用される破砕状粉末(m成分)
は平均粒径が1μm以上70μm未満、好ましくは1μ
m以上30μm未満のものが用いられる。破砕状粉末
(m成分)の配合比は球状粉末x、y、z成分および破
砕状粉末m成分の合計重量に対するm成分の重量の割合
が1重量%以上30重量%未満で規定される。配合量が
この範囲未満であると樹脂の種類、封止装置や金型の形
状によって発生するバリやフラッシュ(樹脂分の滲み出
しによる樹脂薄膜)の低減効果に乏しく、この範囲を超
えると樹脂組成物の流れ性が低下する。
は平均粒径が1μm以上70μm未満、好ましくは1μ
m以上30μm未満のものが用いられる。破砕状粉末
(m成分)の配合比は球状粉末x、y、z成分および破
砕状粉末m成分の合計重量に対するm成分の重量の割合
が1重量%以上30重量%未満で規定される。配合量が
この範囲未満であると樹脂の種類、封止装置や金型の形
状によって発生するバリやフラッシュ(樹脂分の滲み出
しによる樹脂薄膜)の低減効果に乏しく、この範囲を超
えると樹脂組成物の流れ性が低下する。
【0016】本発明で使用する充填材は予め十分混合し
ておくことが好ましい。具体的には回転翼や空気を利用
するミキサーやコニーダー等の装置、容器を振動、震
盪、回転させる装置等を用いて混合することができる。
充填材が十分混合されているかどうかの判定には異なる
場所でのサンプルの粒度分布を測定し、それらが実質的
に同一であるかどうかを調べると良い。また、必要に応
じて充填材をカップリング剤や樹脂で予め処理して用い
ても良い。処理の方法としては溶媒を用いて混合した後
に溶媒を留去する方法や、直接充填材に配合し、混合機
を用いて処理する方法がある。
ておくことが好ましい。具体的には回転翼や空気を利用
するミキサーやコニーダー等の装置、容器を振動、震
盪、回転させる装置等を用いて混合することができる。
充填材が十分混合されているかどうかの判定には異なる
場所でのサンプルの粒度分布を測定し、それらが実質的
に同一であるかどうかを調べると良い。また、必要に応
じて充填材をカップリング剤や樹脂で予め処理して用い
ても良い。処理の方法としては溶媒を用いて混合した後
に溶媒を留去する方法や、直接充填材に配合し、混合機
を用いて処理する方法がある。
【0017】本発明の充填材の使用量は、全組成物に対
し70重量%以上94重量%以下であり、好ましくは8
3重量%以上93重量%以下である。この範囲未満では
樹脂に由来する吸湿率や熱膨張率の低減効果が薄く、こ
の範囲を超えると流れ性が損なわれる。
し70重量%以上94重量%以下であり、好ましくは8
3重量%以上93重量%以下である。この範囲未満では
樹脂に由来する吸湿率や熱膨張率の低減効果が薄く、こ
の範囲を超えると流れ性が損なわれる。
【0018】本発明で使用する樹脂としては熱可塑性、
または熱硬化性樹脂があげられる。特に充填材を高充填
する長所を活用できる半導体封止材用樹脂が適してお
り、中でも熱硬化性樹脂、特にエポキシ樹脂が好適であ
る。
または熱硬化性樹脂があげられる。特に充填材を高充填
する長所を活用できる半導体封止材用樹脂が適してお
り、中でも熱硬化性樹脂、特にエポキシ樹脂が好適であ
る。
【0019】エポキシ樹脂について具体的に例示する
と、フェノール、o−クレゾール、カテコール等のフェ
ノール類やヒドロキシナフタレン、ジヒドロキシナフタ
レン等のナフトール類とホルムアルデヒド等のアルデヒ
ド類との反応生成物であるポリフェノール系やポリナフ
トール系ノボラック樹脂類、フェノール、o−クレゾー
ル、メチル−t-ブチルフェノール等のフェノール類とヒ
ドロキシベンズアルデヒド等の芳香族アルデヒド類との
縮合により得られたトリチル骨格含有ポリフェノール
類、フェノール、o−クレゾール、カテコール等のフェ
ノール類やヒドロキシナフタレン、ジヒドロキシナフタ
レン等のナフトール類とキシリレンジクロリド類等との
反応生成物であるポリアラルキルフェノール樹脂類やポ
リアラルキルナフトール樹脂類、フェノール、o−クレ
ゾール、カテコール等のフェノール類やヒドロキシナフ
タレン、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール類と、
ジシクロペンタジエンやリモネン等の不飽和脂環式炭化
水素類との反応生成物である脂環式炭化水素含有ポリフ
ェノール樹脂類やポリナフトール樹脂類、フロログリシ
ン、トリス−(4−ヒドロキシフェニル)−メタン、1,
1,2,2,−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタ
ン、1,3 −ビス〔ビス(4 −ヒドロキシフェニル)メチ
ル〕ベンゼン、1,4 −ビス〔ビス(4 −ヒドロキシフェ
ニル)メチル〕ベンゼン等を基本骨格とする三価以上の
フェノール類やカリクサレン等の環状フェノール類から
誘導されるグリシジルエーテル化合物、
と、フェノール、o−クレゾール、カテコール等のフェ
ノール類やヒドロキシナフタレン、ジヒドロキシナフタ
レン等のナフトール類とホルムアルデヒド等のアルデヒ
ド類との反応生成物であるポリフェノール系やポリナフ
トール系ノボラック樹脂類、フェノール、o−クレゾー
ル、メチル−t-ブチルフェノール等のフェノール類とヒ
ドロキシベンズアルデヒド等の芳香族アルデヒド類との
縮合により得られたトリチル骨格含有ポリフェノール
類、フェノール、o−クレゾール、カテコール等のフェ
ノール類やヒドロキシナフタレン、ジヒドロキシナフタ
レン等のナフトール類とキシリレンジクロリド類等との
反応生成物であるポリアラルキルフェノール樹脂類やポ
リアラルキルナフトール樹脂類、フェノール、o−クレ
ゾール、カテコール等のフェノール類やヒドロキシナフ
タレン、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール類と、
ジシクロペンタジエンやリモネン等の不飽和脂環式炭化
水素類との反応生成物である脂環式炭化水素含有ポリフ
ェノール樹脂類やポリナフトール樹脂類、フロログリシ
ン、トリス−(4−ヒドロキシフェニル)−メタン、1,
1,2,2,−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタ
ン、1,3 −ビス〔ビス(4 −ヒドロキシフェニル)メチ
ル〕ベンゼン、1,4 −ビス〔ビス(4 −ヒドロキシフェ
ニル)メチル〕ベンゼン等を基本骨格とする三価以上の
フェノール類やカリクサレン等の環状フェノール類から
誘導されるグリシジルエーテル化合物、
【0020】ビスフェノールA、ビスフェノールF、ハ
イドロキノン、レゾルシン、ジヒドロキシナフタレン、
ビス(4 −ヒドロキシフェニル)メンタン、ビス(4 −
ヒドロキシフェニル)ジシクロペンタン、4,4'−ジヒド
ロキシベンゾフェノン、ビス(4 −ヒドロキシフェニ
ル)エーテル、ビス(4 −ヒドロキシ−3 −メチルフェ
ニル)エーテル、ビス(3,5 −ジメチル−4 −ヒドロキ
シフェニル)エーテル、ビス(4 −ヒドロキシフェニ
ル)スルフィド、ビス(4 −ヒドロキシ−3 −メチルフ
ェニル)スルフィド、ビス(3,5 −ジメチル−4 −ヒド
ロキシフェニル)スルフィド、ビス(4 −ヒドロキシフ
ェニル)スルホン、ビス(4 −ヒドロキシ−3 −メチル
フェニル)スルホン、ビス(3,5 −ジメチル−4 −ヒド
ロキシフェニル)スルホン、1,1 −ビス(4 −ヒドロキ
シフェニル)シクロヘキサン、1,1 −ビス(4 −ヒドロ
キシ−3 −メチルフェニル)シクロヘキサン、1,1 −ビ
ス(3,5 −ジメチル−4 −ヒドロキシフェニル)シクロ
ヘキサン、4,4'−ジヒドロキシビフェニル、4,4'−ジヒ
ドロキシ−3,3',5,5' −テトラメチルビフェニル、ビス
(ヒドロキシナフチル)メタン、1,1'−ビナフトール、
1,1'−ビス(3 −t −ブチル−6 −メチル−4 −ヒドロ
キシフェニル)ブタン等の二価フェノール類から誘導さ
れるグリシジルエーテル化合物またはテトラブロムビス
フェノールA等のハロゲン化ビスフェノール類から誘導
されるジグリシジルエーテル化合物、フェノール類と芳
香族カルボニル化合物との縮合反応により得られる多価
フェノールのグリシジルエーテル化合物、
イドロキノン、レゾルシン、ジヒドロキシナフタレン、
ビス(4 −ヒドロキシフェニル)メンタン、ビス(4 −
ヒドロキシフェニル)ジシクロペンタン、4,4'−ジヒド
ロキシベンゾフェノン、ビス(4 −ヒドロキシフェニ
ル)エーテル、ビス(4 −ヒドロキシ−3 −メチルフェ
ニル)エーテル、ビス(3,5 −ジメチル−4 −ヒドロキ
シフェニル)エーテル、ビス(4 −ヒドロキシフェニ
ル)スルフィド、ビス(4 −ヒドロキシ−3 −メチルフ
ェニル)スルフィド、ビス(3,5 −ジメチル−4 −ヒド
ロキシフェニル)スルフィド、ビス(4 −ヒドロキシフ
ェニル)スルホン、ビス(4 −ヒドロキシ−3 −メチル
フェニル)スルホン、ビス(3,5 −ジメチル−4 −ヒド
ロキシフェニル)スルホン、1,1 −ビス(4 −ヒドロキ
シフェニル)シクロヘキサン、1,1 −ビス(4 −ヒドロ
キシ−3 −メチルフェニル)シクロヘキサン、1,1 −ビ
ス(3,5 −ジメチル−4 −ヒドロキシフェニル)シクロ
ヘキサン、4,4'−ジヒドロキシビフェニル、4,4'−ジヒ
ドロキシ−3,3',5,5' −テトラメチルビフェニル、ビス
(ヒドロキシナフチル)メタン、1,1'−ビナフトール、
1,1'−ビス(3 −t −ブチル−6 −メチル−4 −ヒドロ
キシフェニル)ブタン等の二価フェノール類から誘導さ
れるグリシジルエーテル化合物またはテトラブロムビス
フェノールA等のハロゲン化ビスフェノール類から誘導
されるジグリシジルエーテル化合物、フェノール類と芳
香族カルボニル化合物との縮合反応により得られる多価
フェノールのグリシジルエーテル化合物、
【0021】p−アミノフェノール、m−アミノフェノ
ール、4 −アミノメタクレゾール、6 −アミノメタクレ
ゾール、4,4' −ジアミノジフェニルメタン、3,3' −ジア
ミノジフェニルメタン、4,4' −ジアミノジフェニルエー
テル、3,4'- ジアミノジフェニルエーテル、1,4−ビス
(4 −アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4 −ビス(3 −
アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3 −ビス(4 −アミノ
フェノキシ)ベンゼン、1,3 −ビス(3 −アミノフェノ
キシ)ベンゼン、2,2 −ビス(4 −アミノフェノキシフ
ェニル)プロパン、p−フェニレンジアミン、m−フェ
ニレンジアミン、2,4 −トルエンジアミン、2,6 −トル
エンジアミン、p−キシリレンジアミン、m−キシリレ
ンジアミン、1,4 −シクロヘキサンビス(メチルアミ
ン)、1,3 −シクロヘキサンビス(メチルアミン)等か
ら誘導されるアミン系エポキシ樹脂、
ール、4 −アミノメタクレゾール、6 −アミノメタクレ
ゾール、4,4' −ジアミノジフェニルメタン、3,3' −ジア
ミノジフェニルメタン、4,4' −ジアミノジフェニルエー
テル、3,4'- ジアミノジフェニルエーテル、1,4−ビス
(4 −アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4 −ビス(3 −
アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3 −ビス(4 −アミノ
フェノキシ)ベンゼン、1,3 −ビス(3 −アミノフェノ
キシ)ベンゼン、2,2 −ビス(4 −アミノフェノキシフ
ェニル)プロパン、p−フェニレンジアミン、m−フェ
ニレンジアミン、2,4 −トルエンジアミン、2,6 −トル
エンジアミン、p−キシリレンジアミン、m−キシリレ
ンジアミン、1,4 −シクロヘキサンビス(メチルアミ
ン)、1,3 −シクロヘキサンビス(メチルアミン)等か
ら誘導されるアミン系エポキシ樹脂、
【0022】p−オキシ安息香酸、m−オキシ安息香
酸、テレフタル酸、イソフタル酸等の芳香族カルボン酸
から誘導されるグリシジルエステル系化合物、5,5 −ジ
メチルヒダントイン等から誘導されるヒダントイン系エ
ポキシ化合物、2,2 −ビス(3,4 −エポキシシクロヘキ
シル)プロパン、2,2 −ビス〔4 −(2,3 −エポキシプ
ロピル)シクロヘキシル〕プロパン、ビニルシクロヘキ
センジオキサイド、3,4−エポキシシクロヘキシルメチ
ル−3,4 −エポキシシクロヘキサンカルボキシレート等
の脂環式エポキシ樹脂、ポリブタジエン等の不飽和炭化
水素化合物中の二重結合を酸化して得られる脂肪族エポ
キシ樹脂、N,N−ジグリシジルアニリン等があり、こ
れらのエポキシ樹脂の一種または二種以上が使用され
る。中でも、ポリフェノール系ノボラック樹脂類、トリ
チル骨格含有ポリフェノール類、ポリアラルキルフェノ
ール系樹脂、脂環式炭化水素含有ポリフェノール樹脂
類、フェノール類と芳香族カルボニル化合物との縮合反
応により得られる多価フェノールや多価ナフトール類等
のグリシジルエーテル化合物類がTg、接着性、強度の面
で好ましく、ジヒドロキシナフタレン、ビス(4 −ヒド
ロキシフェニル)エーテル、ビス(3,5 −ジメチル−4
−ヒドロキシフェニル)スルフィド、1,1 −ビス(4 −
ヒドロキシ−3 −メチルフェニル)シクロヘキサン、4,
4'−ジヒドロキシビフェニル、4,4'−ジヒドロキシ−3,
3',5,5' −テトラメチルビフェニル、ビス(4 −ヒドロ
キシフェニル)メンタン、ビス(4 −ヒドロキシフェニ
ル)ジシクロペンタンのジグリシジルエーテル化合物が
粘度、接着性、低吸湿性の点から好ましい。
酸、テレフタル酸、イソフタル酸等の芳香族カルボン酸
から誘導されるグリシジルエステル系化合物、5,5 −ジ
メチルヒダントイン等から誘導されるヒダントイン系エ
ポキシ化合物、2,2 −ビス(3,4 −エポキシシクロヘキ
シル)プロパン、2,2 −ビス〔4 −(2,3 −エポキシプ
ロピル)シクロヘキシル〕プロパン、ビニルシクロヘキ
センジオキサイド、3,4−エポキシシクロヘキシルメチ
ル−3,4 −エポキシシクロヘキサンカルボキシレート等
の脂環式エポキシ樹脂、ポリブタジエン等の不飽和炭化
水素化合物中の二重結合を酸化して得られる脂肪族エポ
キシ樹脂、N,N−ジグリシジルアニリン等があり、こ
れらのエポキシ樹脂の一種または二種以上が使用され
る。中でも、ポリフェノール系ノボラック樹脂類、トリ
チル骨格含有ポリフェノール類、ポリアラルキルフェノ
ール系樹脂、脂環式炭化水素含有ポリフェノール樹脂
類、フェノール類と芳香族カルボニル化合物との縮合反
応により得られる多価フェノールや多価ナフトール類等
のグリシジルエーテル化合物類がTg、接着性、強度の面
で好ましく、ジヒドロキシナフタレン、ビス(4 −ヒド
ロキシフェニル)エーテル、ビス(3,5 −ジメチル−4
−ヒドロキシフェニル)スルフィド、1,1 −ビス(4 −
ヒドロキシ−3 −メチルフェニル)シクロヘキサン、4,
4'−ジヒドロキシビフェニル、4,4'−ジヒドロキシ−3,
3',5,5' −テトラメチルビフェニル、ビス(4 −ヒドロ
キシフェニル)メンタン、ビス(4 −ヒドロキシフェニ
ル)ジシクロペンタンのジグリシジルエーテル化合物が
粘度、接着性、低吸湿性の点から好ましい。
【0023】本発明において使用される、エポキシ樹脂
以外の樹脂の例としては、次の様なものがあげられる。
熱硬化性樹脂として、アクリル酸基、メタクリル酸基、
ビニルベンジル基、マレイミド基等の不飽和結合を有す
る樹脂類、シアネート、イソシアネート基を有する樹脂
類、ベンゾシクロブテンと不飽和結合との組合わせ等、
Diels-Alder 反応を利用する樹脂類、白金触媒存在下、
ケイ化水素含有シロキサン類と不飽和結合との反応を利
用する樹脂類等があげられる。
以外の樹脂の例としては、次の様なものがあげられる。
熱硬化性樹脂として、アクリル酸基、メタクリル酸基、
ビニルベンジル基、マレイミド基等の不飽和結合を有す
る樹脂類、シアネート、イソシアネート基を有する樹脂
類、ベンゾシクロブテンと不飽和結合との組合わせ等、
Diels-Alder 反応を利用する樹脂類、白金触媒存在下、
ケイ化水素含有シロキサン類と不飽和結合との反応を利
用する樹脂類等があげられる。
【0024】熱可塑性樹脂として全芳香族ポリエステ
ル、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリエーテルイミ
ド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケト
ン等の耐熱性樹脂があげられる。
ル、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリエーテルイミ
ド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケト
ン等の耐熱性樹脂があげられる。
【0025】本発明において用いられるエポキシ硬化剤
は公知のものが使用できる。これらを例示すると、フェ
ノール、o−クレゾール、カテコール等のフェノール類
やヒドロキシナフタレン、ジヒドロキシナフタレン等の
ナフトール類とホルムアルデヒド等のアルデヒド類との
反応生成物であるポリフェノール系やポリナフトール系
ノボラック樹脂類、フェノール、o−クレゾール、メチ
ル−t-ブチルフェノール等のフェノール類とヒドロキシ
ベンズアルデヒド等の芳香族アルデヒド類との縮合によ
り得られたトリチル骨格含有ポリフェノール類、フェノ
ール、o−クレゾール、カテコール等のフェノール類や
ヒドロキシナフタレン、ジヒドロキシナフタレン等のナ
フトール類とキシリレンジクロリド類等との反応生成物
であるポリアラルキルフェノール樹脂類やポリアラルキ
ルナフトール樹脂類、フェノール、o−クレゾール、カ
テコール等のフェノール類やヒドロキシナフタレン、ジ
ヒドロキシナフタレン等のナフトール類と、ジシクロペ
ンタジエンやリモネン等の不飽和脂環式炭化水素類との
反応生成物である脂環式炭化水素含有ポリフェノール樹
脂類やポリナフトール樹脂類、
は公知のものが使用できる。これらを例示すると、フェ
ノール、o−クレゾール、カテコール等のフェノール類
やヒドロキシナフタレン、ジヒドロキシナフタレン等の
ナフトール類とホルムアルデヒド等のアルデヒド類との
反応生成物であるポリフェノール系やポリナフトール系
ノボラック樹脂類、フェノール、o−クレゾール、メチ
ル−t-ブチルフェノール等のフェノール類とヒドロキシ
ベンズアルデヒド等の芳香族アルデヒド類との縮合によ
り得られたトリチル骨格含有ポリフェノール類、フェノ
ール、o−クレゾール、カテコール等のフェノール類や
ヒドロキシナフタレン、ジヒドロキシナフタレン等のナ
フトール類とキシリレンジクロリド類等との反応生成物
であるポリアラルキルフェノール樹脂類やポリアラルキ
ルナフトール樹脂類、フェノール、o−クレゾール、カ
テコール等のフェノール類やヒドロキシナフタレン、ジ
ヒドロキシナフタレン等のナフトール類と、ジシクロペ
ンタジエンやリモネン等の不飽和脂環式炭化水素類との
反応生成物である脂環式炭化水素含有ポリフェノール樹
脂類やポリナフトール樹脂類、
【0026】フロログリシン、トリス−(4−ヒドロキ
シフェニル)−メタン、1,1,2,2,−テトラキス(4 −ヒ
ドロキシフェニル)エタン、1,3 −ビス〔ビス(4 −ヒ
ドロキシフェニル)メチル〕ベンゼン、1,4 −ビス〔ビ
ス(4 −ヒドロキシフェニル)メチル〕ベンゼン等を基
本骨格とする三価以上のフェノール類、カリクサレン等
の環状フェノール類、ビスフェノールA、ビスフェノー
ルF、ハイドロキノン、レゾルシン、ジヒドロキシナフ
タレン、ビス(4 −ヒドロキシフェニル)エタン、ビス
(4 −ヒドロキシフェニル)プロパン、ビス(4 −ヒド
ロキシフェニル)ブタン、ビス(4 −ヒドロキシフェニ
ル)ペンタン、ビス(4 −ヒドロキシフェニル)ヘキサ
ン、1,3,3 −トリメチル−1 −m−ヒドロキシフェニル
インダン−5 または7 −オール、ビス(4 −ヒドロキシ
フェニル)メンタン、ビス(4 −ヒドロキシフェニル)
ジシクロペンタン、4,4'−ジヒドロキシベンゾフェノ
ン、ビス(4 −ヒドロキシフェニル)エーテル、ビス
(4 −ヒドロキシ−3 −メチルフェニル)エーテル、ビ
ス(3,5 −ジメチル−4 −ヒドロキシフェニル)エーテ
ル、ビス(4 −ヒドロキシフェニル)スルフィド、ビス
(4 −ヒドロキシ−3 −メチルフェニル)スルフィド、
ビス(3,5 −ジメチル−4 −ヒドロキシフェニル)スル
フィド、ビス(4 −ヒドロキシフェニル)スルホン、ビ
ス(4 −ヒドロキシ−3 −メチルフェニル)スルホン、
ビス(3,5 −ジメチル−4 −ヒドロキシフェニル)スル
ホン、1,1 −ビス(4 −ヒドロキシフェニル)シクロヘ
キサン、1,1 −ビス(4 −ヒドロキシ−3 −メチルフェ
ニル)シクロヘキサン、1,1 −ビス(3,5 −ジメチル−
4 −ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、4,4'−ジヒ
ドロキシビフェニル、4,4'−ジヒドロキシ−3,3',5,5'
−テトラメチルビフェニル、ビス(ヒドロキシナフチ
ル)メタン、1,1'−ビナフトール、1,1'−ビス(3 −t
−ブチル−6 −メチル−4 −ヒドロキシフェニル)ブタ
ン等の二価フェノール類またはテトラブロムビスフェノ
ールA等のハロゲン化ビスフェノール類、
シフェニル)−メタン、1,1,2,2,−テトラキス(4 −ヒ
ドロキシフェニル)エタン、1,3 −ビス〔ビス(4 −ヒ
ドロキシフェニル)メチル〕ベンゼン、1,4 −ビス〔ビ
ス(4 −ヒドロキシフェニル)メチル〕ベンゼン等を基
本骨格とする三価以上のフェノール類、カリクサレン等
の環状フェノール類、ビスフェノールA、ビスフェノー
ルF、ハイドロキノン、レゾルシン、ジヒドロキシナフ
タレン、ビス(4 −ヒドロキシフェニル)エタン、ビス
(4 −ヒドロキシフェニル)プロパン、ビス(4 −ヒド
ロキシフェニル)ブタン、ビス(4 −ヒドロキシフェニ
ル)ペンタン、ビス(4 −ヒドロキシフェニル)ヘキサ
ン、1,3,3 −トリメチル−1 −m−ヒドロキシフェニル
インダン−5 または7 −オール、ビス(4 −ヒドロキシ
フェニル)メンタン、ビス(4 −ヒドロキシフェニル)
ジシクロペンタン、4,4'−ジヒドロキシベンゾフェノ
ン、ビス(4 −ヒドロキシフェニル)エーテル、ビス
(4 −ヒドロキシ−3 −メチルフェニル)エーテル、ビ
ス(3,5 −ジメチル−4 −ヒドロキシフェニル)エーテ
ル、ビス(4 −ヒドロキシフェニル)スルフィド、ビス
(4 −ヒドロキシ−3 −メチルフェニル)スルフィド、
ビス(3,5 −ジメチル−4 −ヒドロキシフェニル)スル
フィド、ビス(4 −ヒドロキシフェニル)スルホン、ビ
ス(4 −ヒドロキシ−3 −メチルフェニル)スルホン、
ビス(3,5 −ジメチル−4 −ヒドロキシフェニル)スル
ホン、1,1 −ビス(4 −ヒドロキシフェニル)シクロヘ
キサン、1,1 −ビス(4 −ヒドロキシ−3 −メチルフェ
ニル)シクロヘキサン、1,1 −ビス(3,5 −ジメチル−
4 −ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、4,4'−ジヒ
ドロキシビフェニル、4,4'−ジヒドロキシ−3,3',5,5'
−テトラメチルビフェニル、ビス(ヒドロキシナフチ
ル)メタン、1,1'−ビナフトール、1,1'−ビス(3 −t
−ブチル−6 −メチル−4 −ヒドロキシフェニル)ブタ
ン等の二価フェノール類またはテトラブロムビスフェノ
ールA等のハロゲン化ビスフェノール類、
【0027】フェノール類と芳香族カルボニル化合物と
の縮合反応により得られる多価フェノール、マレイン
酸、フタル酸、ナジク酸、メチル−テトラヒドロフタル
酸、メチルナジク酸等のポリカルボン酸およびその無水
物、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルス
ルホン、ジアミノジフェニルエーテル、フェニレンジア
ミン、ジアミノジシクロヘキシルメタン、キシリレンジ
アミン、トルエンジアミン、ジアミノジシクロシクロヘ
キサン、ジクロロジアミノジフェニルメタン(それぞれ
異性体を含む)、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジ
アミン等のポリアミン化合物、さらにはジシアンジアミ
ド、テトラメチルグアニジン等、エポキシ基と反応可能
な活性水素含有化合物が例示できる。なかでも、フェノ
ール系ノボラック樹脂、ナフトール系ノボラック樹脂、
フェノール系アラルキル樹脂、ナフトール系アラルキル
樹脂、脂環式炭化水素含有ポリフェノール樹脂、脂環式
炭化水素含有ポリナフトール樹脂が硬化性及び耐湿性の
点から好ましく用いられる。
の縮合反応により得られる多価フェノール、マレイン
酸、フタル酸、ナジク酸、メチル−テトラヒドロフタル
酸、メチルナジク酸等のポリカルボン酸およびその無水
物、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルス
ルホン、ジアミノジフェニルエーテル、フェニレンジア
ミン、ジアミノジシクロヘキシルメタン、キシリレンジ
アミン、トルエンジアミン、ジアミノジシクロシクロヘ
キサン、ジクロロジアミノジフェニルメタン(それぞれ
異性体を含む)、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジ
アミン等のポリアミン化合物、さらにはジシアンジアミ
ド、テトラメチルグアニジン等、エポキシ基と反応可能
な活性水素含有化合物が例示できる。なかでも、フェノ
ール系ノボラック樹脂、ナフトール系ノボラック樹脂、
フェノール系アラルキル樹脂、ナフトール系アラルキル
樹脂、脂環式炭化水素含有ポリフェノール樹脂、脂環式
炭化水素含有ポリナフトール樹脂が硬化性及び耐湿性の
点から好ましく用いられる。
【0028】本発明のエポキシ樹脂組成物において、エ
ポキシ樹脂に対するエポキシ硬化剤の配合割合は、0.
7〜1.2当量が良く、さらには当量配合が好ましい。
これらの配合が当量配合から極端にずれると、耐湿性、
硬化性等が低下するので好ましくない。
ポキシ樹脂に対するエポキシ硬化剤の配合割合は、0.
7〜1.2当量が良く、さらには当量配合が好ましい。
これらの配合が当量配合から極端にずれると、耐湿性、
硬化性等が低下するので好ましくない。
【0029】本発明のエポキシ樹脂組成物の熱硬化の方
法について述べると、硬化促進剤を用いることにより容
易に短時間で硬化せしめることが可能となる。特に封止
材に用いる場合は必須である。このような触媒について
例示すると、トリフェニルホスフィン、トリ−4−メチ
ルフェニルホスフィン、トリ−4−メトキシフェニルホ
スフィン、トリブチルホスフィン、トリオクチルホスフ
ィン、トリ−2−シアノエチルホスフィンなどの有機ホ
スフィン化合物、テトラフェニルホスホニウムテトラフ
ェニルボレート等の有機ホスホニウム塩、トリブチルア
ミン、トリエチルアミン、1,8−ジアザビシクロ
(5,4,0)ウンデセン−7、トリアミルアミン等の
三級アミン、塩化ベンジルトリメチルアンモニウム、水
酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、トリエチルアン
モニウムテトラフェニルボレート等の4級アンモニウム
塩、イミダゾール類、三弗化ホウ素錯体、遷移金属アセ
チルアセトナート、ベンゾイルパーオキシド、ジ−t−
ブチルパーオキシド、ジクミルパーオキシド、ラウロイ
ルパーオキシド、アセチルパーオキシド、メチルエチル
ケトンパーオキシド、シクロヘキサノンパーオキシド、
t−ブチルハイドロパーオキシド、アゾビスイソブチロ
ニトリル等のラジカル開始剤が例示されるが、これらに
限定されるものではない。これらの中でも、有機ホスフ
ィン化合物、イミダゾール類およびこれらの塩(具体的
には、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレ
ート、4−メチルイミダゾールテトラフェニルボレート
等)あるいはトリエチルアンモニウムテトラフェニルボ
レートが特に好ましい。
法について述べると、硬化促進剤を用いることにより容
易に短時間で硬化せしめることが可能となる。特に封止
材に用いる場合は必須である。このような触媒について
例示すると、トリフェニルホスフィン、トリ−4−メチ
ルフェニルホスフィン、トリ−4−メトキシフェニルホ
スフィン、トリブチルホスフィン、トリオクチルホスフ
ィン、トリ−2−シアノエチルホスフィンなどの有機ホ
スフィン化合物、テトラフェニルホスホニウムテトラフ
ェニルボレート等の有機ホスホニウム塩、トリブチルア
ミン、トリエチルアミン、1,8−ジアザビシクロ
(5,4,0)ウンデセン−7、トリアミルアミン等の
三級アミン、塩化ベンジルトリメチルアンモニウム、水
酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、トリエチルアン
モニウムテトラフェニルボレート等の4級アンモニウム
塩、イミダゾール類、三弗化ホウ素錯体、遷移金属アセ
チルアセトナート、ベンゾイルパーオキシド、ジ−t−
ブチルパーオキシド、ジクミルパーオキシド、ラウロイ
ルパーオキシド、アセチルパーオキシド、メチルエチル
ケトンパーオキシド、シクロヘキサノンパーオキシド、
t−ブチルハイドロパーオキシド、アゾビスイソブチロ
ニトリル等のラジカル開始剤が例示されるが、これらに
限定されるものではない。これらの中でも、有機ホスフ
ィン化合物、イミダゾール類およびこれらの塩(具体的
には、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレ
ート、4−メチルイミダゾールテトラフェニルボレート
等)あるいはトリエチルアンモニウムテトラフェニルボ
レートが特に好ましい。
【0030】硬化促進剤の使用量はエポキシ樹脂100
重量部に対して0.1〜10重量部が使用され、さらに
好ましくは0.5〜3重量部が使用される。使用量がこ
の範囲未満では短時間での成形が困難となり、成形物の
単位時間当たりの生産性が低下する。また、この範囲を
超えると高温での硬化性が必要以上に大きくなり、操作
性が難しくなったり、コンパウンドの保存安定性が低下
する等の問題点が生じる。
重量部に対して0.1〜10重量部が使用され、さらに
好ましくは0.5〜3重量部が使用される。使用量がこ
の範囲未満では短時間での成形が困難となり、成形物の
単位時間当たりの生産性が低下する。また、この範囲を
超えると高温での硬化性が必要以上に大きくなり、操作
性が難しくなったり、コンパウンドの保存安定性が低下
する等の問題点が生じる。
【0031】また、硬化速度を調整するために、公知の
重合禁止剤を併用することも可能である。例示すると、
2,6−ジ−t−ブチル−4 −メチルフェノール、2,2'−
メチレンビス(4 −エチル−6 −t−ブチルフェノー
ル)、4,4'−メチレンビス(2,6−ジ−t−ブチルフェ
ノール)、4,4'−チオビス(3 −メチル−6 −t−ブチ
ルフェノール)、ハイドロキノンモノメチルエーテル等
のフェノール類、ハイドロキノン、カテコール、p−t
−ブチルカテコール、2,5 −ジ−t−ブチルハイドロキ
ノン、メチルハイドロキノン、t−ブチルハイドロキノ
ン、ピロガロール等の多価フェノール、フェノチアジ
ン、ベンゾフェノチアジン、アセトアミドフェノチアジ
ン等のフェノチアジン系化合物、N−ニトロソジフェニ
ルアミン、N−ニトロソジメチルアミン等のN−ニトロ
ソアミン系化合物がある。
重合禁止剤を併用することも可能である。例示すると、
2,6−ジ−t−ブチル−4 −メチルフェノール、2,2'−
メチレンビス(4 −エチル−6 −t−ブチルフェノー
ル)、4,4'−メチレンビス(2,6−ジ−t−ブチルフェ
ノール)、4,4'−チオビス(3 −メチル−6 −t−ブチ
ルフェノール)、ハイドロキノンモノメチルエーテル等
のフェノール類、ハイドロキノン、カテコール、p−t
−ブチルカテコール、2,5 −ジ−t−ブチルハイドロキ
ノン、メチルハイドロキノン、t−ブチルハイドロキノ
ン、ピロガロール等の多価フェノール、フェノチアジ
ン、ベンゾフェノチアジン、アセトアミドフェノチアジ
ン等のフェノチアジン系化合物、N−ニトロソジフェニ
ルアミン、N−ニトロソジメチルアミン等のN−ニトロ
ソアミン系化合物がある。
【0032】本発明の樹脂組成物において、その他必要
に応じて天然ワックス、合成ワックス、高級脂肪酸及び
その金属塩類、若しくはパラフィン等の離型剤あるいは
カーボンブラックのような着色剤、さらに、シランカッ
プリング剤等の表面処理剤等を添加してもよい。また難
燃化のために三酸化アンチモン、リン化合物、ブロム化
エポキシ樹脂等の難燃剤を加えてもよい。難燃効果を出
すためにはブロム化エポキシ樹脂が特に好ましい。
に応じて天然ワックス、合成ワックス、高級脂肪酸及び
その金属塩類、若しくはパラフィン等の離型剤あるいは
カーボンブラックのような着色剤、さらに、シランカッ
プリング剤等の表面処理剤等を添加してもよい。また難
燃化のために三酸化アンチモン、リン化合物、ブロム化
エポキシ樹脂等の難燃剤を加えてもよい。難燃効果を出
すためにはブロム化エポキシ樹脂が特に好ましい。
【0033】また、例えば低応力化するには、各種エラ
ストマーを添加またはあらかじめ反応して用いてもよ
い。具体的には、ポリブタジエン、ブタジエン−アクリ
ロニトリル共重合体、シリコーンゴム、シリコーンオイ
ル等の添加型あるいは反応型のエラストマーが挙げられ
る。
ストマーを添加またはあらかじめ反応して用いてもよ
い。具体的には、ポリブタジエン、ブタジエン−アクリ
ロニトリル共重合体、シリコーンゴム、シリコーンオイ
ル等の添加型あるいは反応型のエラストマーが挙げられ
る。
【0034】このようにして得られた樹脂組成物はロー
ルあるいはコニーダー等の一般の混練機により、溶融混
合することによりコンパウンド化が可能である。
ルあるいはコニーダー等の一般の混練機により、溶融混
合することによりコンパウンド化が可能である。
【0035】本発明による樹脂組成物を用いて半導体
等、電子部品を封止するには、トランスファーモール
ド、コンプレッションモールド、インジェクションモー
ルド等の従来から公知の成形法により硬化成形すればよ
い。
等、電子部品を封止するには、トランスファーモール
ド、コンプレッションモールド、インジェクションモー
ルド等の従来から公知の成形法により硬化成形すればよ
い。
【0036】成形用樹脂組成物の流れ性を示す一つの指
標としてスパイラルフローが挙げられる。スパイラルフ
ローが20インチ以上との意味はEMMI−1−66の
規格に準じて175℃×70kg/ cm2 条件で測定を行っ
た時、成形用樹脂組成物の硬化物の先端が20インチ以
上の点まで到達していることを意味する(EMMIはE
poxy Molding Materials In
stituteの略。米国プラスチック工業協会規
格。)。この値が20インチより小さくなると汎用的に
使われているトランスファーモールド法では金型内への
組成物の未充填や一回当たりのコンパウンド使用量を過
剰に用いて高圧で成形を行わなければ製品が得られない
等の問題が生じる。また、この値が小さいと1ショット
当たりに成形できる金型内の製品個数が少なくなる。こ
れは単位時間当たりの生産性が低下することにつなが
り、工業的に不利となる。スパイラルフローの値が大き
いと1ショット当たりの製品個数が多くなるばかりでな
く、粘度上昇を招くことから通常では使用出来なかった
高性能化のための樹脂成分や改質剤の使用が可能となる
等、処方応用の範囲が広がることを意味する。この様に
成形用樹脂組成物において十分なスパイラルフローが確
保できることは実使用上大きな利点が得られることを意
味する。
標としてスパイラルフローが挙げられる。スパイラルフ
ローが20インチ以上との意味はEMMI−1−66の
規格に準じて175℃×70kg/ cm2 条件で測定を行っ
た時、成形用樹脂組成物の硬化物の先端が20インチ以
上の点まで到達していることを意味する(EMMIはE
poxy Molding Materials In
stituteの略。米国プラスチック工業協会規
格。)。この値が20インチより小さくなると汎用的に
使われているトランスファーモールド法では金型内への
組成物の未充填や一回当たりのコンパウンド使用量を過
剰に用いて高圧で成形を行わなければ製品が得られない
等の問題が生じる。また、この値が小さいと1ショット
当たりに成形できる金型内の製品個数が少なくなる。こ
れは単位時間当たりの生産性が低下することにつなが
り、工業的に不利となる。スパイラルフローの値が大き
いと1ショット当たりの製品個数が多くなるばかりでな
く、粘度上昇を招くことから通常では使用出来なかった
高性能化のための樹脂成分や改質剤の使用が可能となる
等、処方応用の範囲が広がることを意味する。この様に
成形用樹脂組成物において十分なスパイラルフローが確
保できることは実使用上大きな利点が得られることを意
味する。
【0037】
【実施例】以下に本発明の実施例を示すが、本発明はこ
れに限定されるものではない。 参考例1〜10 表1に示す平均粒径等の物性を持つ球状シリカおよび破
砕状溶融シリカを用いて、表2に示す体積%で配合後、
十分混合して参考例1〜10の充填材を得た。なお、表
1の平均粒径については、レーザー散乱粒度分布計(M
alvern社製、Master Sizer MS−
20を使用。)を用いて粒度分布を測定した時の重量累
積50%の粒径値をもって平均粒径とした。
れに限定されるものではない。 参考例1〜10 表1に示す平均粒径等の物性を持つ球状シリカおよび破
砕状溶融シリカを用いて、表2に示す体積%で配合後、
十分混合して参考例1〜10の充填材を得た。なお、表
1の平均粒径については、レーザー散乱粒度分布計(M
alvern社製、Master Sizer MS−
20を使用。)を用いて粒度分布を測定した時の重量累
積50%の粒径値をもって平均粒径とした。
【0038】
【表1】
【0039】
【表2】
【0040】実施例1〜5、比較例1〜5 エポキシ樹脂として4,4'- ヒドロキシ-3,3',5,5'- テト
ラメチルビフェニルのグリシジルエーテル化物(溶融粘
度0.1ポイズ/150℃、住友化学工業社製)、硬化
剤としてフェノールノボラック(商品名タマノール759
、荒川化学社製)、硬化促進剤としてトリフェニルホ
スフィン、離型剤としてカルナバワックス、カップリン
グ剤(商品名SH-6040 、東レダウコーニングシリコーン
社製)と参考例1〜20の充填材をそれぞれ表3および
表4に示した量(g )で配合し、ロールで加熱混練し、
プレス成形を行った。さらに、180 ℃オーブン中で5 時
間ポストキュアーを行い、硬化成形物を得た。この硬化
成形物のガラス転移温度、吸水率、曲げ強度、成形性を
測定した。成形性については成形品のバリや表面の荒れ
等の製品外観を○、△、×の三段階で表示した。○は実
用上問題のないレベル、△は使用可能であるが○には劣
るレベル、×は実用できないレベルであることを示す。
これらの結果を表3および表4に示す。
ラメチルビフェニルのグリシジルエーテル化物(溶融粘
度0.1ポイズ/150℃、住友化学工業社製)、硬化
剤としてフェノールノボラック(商品名タマノール759
、荒川化学社製)、硬化促進剤としてトリフェニルホ
スフィン、離型剤としてカルナバワックス、カップリン
グ剤(商品名SH-6040 、東レダウコーニングシリコーン
社製)と参考例1〜20の充填材をそれぞれ表3および
表4に示した量(g )で配合し、ロールで加熱混練し、
プレス成形を行った。さらに、180 ℃オーブン中で5 時
間ポストキュアーを行い、硬化成形物を得た。この硬化
成形物のガラス転移温度、吸水率、曲げ強度、成形性を
測定した。成形性については成形品のバリや表面の荒れ
等の製品外観を○、△、×の三段階で表示した。○は実
用上問題のないレベル、△は使用可能であるが○には劣
るレベル、×は実用できないレベルであることを示す。
これらの結果を表3および表4に示す。
【0041】硬化成形物の評価法は、以下の通りであ
る。 ・スパイラルフロー:EMMI−1−66の規格に準じ
て175℃×70kg/cm2 の条件で行った(単位は
inch)。 ・ガラス転移温度(Tg)、熱膨張率:熱機械的分析装
置(SHIMADZUDT−30)を用いて測定した。
る。 ・スパイラルフロー:EMMI−1−66の規格に準じ
て175℃×70kg/cm2 の条件で行った(単位は
inch)。 ・ガラス転移温度(Tg)、熱膨張率:熱機械的分析装
置(SHIMADZUDT−30)を用いて測定した。
【0042】・曲げ強度:JIS K−6911に従
い、インストロン万能材料試験機(SHIMADZU
IS−10T)で測定した。 ・吸水率:恒温恒湿糟(TABAI PR−2)を用
い、85℃/85%RHの条件で模擬素子を封止したパ
ッケージの重量変化を測定した。 ・クラック性試験:模擬素子を実装したパッケージ8個
を用いて、85℃/85%RH×72時間の条件で吸水
させてから直ちに240℃のハンダ浴に30秒間浸し、
パッケージクラックの発生の有無を調べた。
い、インストロン万能材料試験機(SHIMADZU
IS−10T)で測定した。 ・吸水率:恒温恒湿糟(TABAI PR−2)を用
い、85℃/85%RHの条件で模擬素子を封止したパ
ッケージの重量変化を測定した。 ・クラック性試験:模擬素子を実装したパッケージ8個
を用いて、85℃/85%RH×72時間の条件で吸水
させてから直ちに240℃のハンダ浴に30秒間浸し、
パッケージクラックの発生の有無を調べた。
【0043】
【表3】
【0044】
【表4】
【0045】
【発明の効果】本発明の成形用樹脂組成物は、優れた流
れ性を示し、充填材が高充填されていることから、硬化
物の樹脂に起因する吸湿性や熱膨張率の高さが低減され
ている。本発明の成形用樹脂組成物は特に半導体封止材
に適しているが、その他、充填材の高充填化が必要とさ
れる用途にも広く適用することができる。
れ性を示し、充填材が高充填されていることから、硬化
物の樹脂に起因する吸湿性や熱膨張率の高さが低減され
ている。本発明の成形用樹脂組成物は特に半導体封止材
に適しているが、その他、充填材の高充填化が必要とさ
れる用途にも広く適用することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 斉藤 憲明 茨城県つくば市北原6 住友化学工業株式 会社内
Claims (5)
- 【請求項1】樹脂中に、平均粒径0.1μm以上1.5
μm未満の球状粉末(x成分)と、平均粒径2μm以上
10μm未満の球状粉末(y成分)と、平均粒径が20
μm以上70μm未満の球状粉末(z成分)からなる充
填材を含有してなり、x、y、z成分の合計体積に占め
る各x、y、z成分の割合が、それぞれ10体積%以上
22体積%以下、21体積%以上66体積%以下、24
体積%以上57体積%以下であり、かつ全組成物に占め
る充填材の割合が70重量%以上94重量%以下である
ことを特徴とする成形用樹脂組成物。 - 【請求項2】樹脂中に、平均粒径0.1μm以上1.5
μm未満の球状粉末(x成分)と、平均粒径2μm以上
10μm未満の球状粉末(y成分)と、平均粒径が20
μm以上70μm未満の球状粉末(z成分)と、破砕状
粉末(m成分)からなる充填材を含有してなり、x、
y、z成分の合計体積に占める各x、y、z成分の割合
が、それぞれ10体積%以上22体積%以下、21体積
%以上66体積%以下、24体積%以上57体積%以下
であり、m成分の全充填材に占める割合が1重量%以上
30重量%以下であり、全組成物に占める充填材の割合
が70重量%以上94重量%以下である成形用樹脂組成
物。 - 【請求項3】球状粉末x、y、z成分が球状シリカから
なり、破砕状粉末m成分が平均粒径が1μm以上30μ
m以下のシリカである請求項2記載の成形用樹脂組成
物。 - 【請求項4】樹脂がエポキシ樹脂からなる請求項1,2
または3記載の成形用樹脂組成物。 - 【請求項5】エポキシ樹脂、フェノール系硬化剤、硬化
促進剤ならびにx、y、zおよびm成分からなるシリカ
粉末充填材を必須成分とし、該充填材を全組成物に対し
83重量部以上93重量部以下含有してなり、EMMI
−1−66の規格に準じて175℃×70kg/cm2
で測定したスパイラルフローが20インチ以上である請
求項2または3記載の成形用樹脂組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6137049A JPH083365A (ja) | 1994-06-20 | 1994-06-20 | 成形用樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6137049A JPH083365A (ja) | 1994-06-20 | 1994-06-20 | 成形用樹脂組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH083365A true JPH083365A (ja) | 1996-01-09 |
Family
ID=15189684
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6137049A Pending JPH083365A (ja) | 1994-06-20 | 1994-06-20 | 成形用樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH083365A (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6365269B1 (en) | 1997-11-20 | 2002-04-02 | Infineon Technologies Ag | Plastic compositions for sheathing a metal or semiconductor body |
| JP2002226681A (ja) * | 2001-02-02 | 2002-08-14 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 耐熱性樹脂組成物、これを用いたプリプレグ及び積層板 |
| JP2002226680A (ja) * | 2001-02-02 | 2002-08-14 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 耐熱性樹脂組成物、これを用いたプリプレグ及び積層板 |
| JP2003020364A (ja) * | 2001-07-05 | 2003-01-24 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 球状無機質粉末およびこれを充填した樹脂組成物 |
| JP2005519970A (ja) * | 2002-03-12 | 2005-07-07 | ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニー | 球状粉末構成成分及びそれを含む固体化粧品組成物 |
| WO2007119867A1 (ja) * | 2006-04-19 | 2007-10-25 | Kaneka Corporation | 硬化性樹脂組成物 |
| WO2007132771A1 (ja) | 2006-05-12 | 2007-11-22 | Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | セラミックス粉末及びその用途 |
| WO2007142262A1 (ja) * | 2006-06-07 | 2007-12-13 | Sumitomo Chemical Company, Limited | エポキシ樹脂組成物およびエポキシ樹脂硬化物 |
| JP2013129788A (ja) * | 2011-12-22 | 2013-07-04 | Shin Kobe Electric Mach Co Ltd | 熱硬化性樹脂組成物、加熱加圧成形用プリプレグ及び積層板 |
| WO2016136075A1 (ja) * | 2015-02-27 | 2016-09-01 | 株式会社日立製作所 | 電気絶縁樹脂組成物及びこれを用いた電気絶縁樹脂硬化物、受変電設備 |
| KR20230075447A (ko) | 2020-09-29 | 2023-05-31 | 덴카 주식회사 | 구상 알루미나 분말, 수지 조성물, 방열 재료 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03119051A (ja) * | 1989-10-02 | 1991-05-21 | Toray Ind Inc | エポキシ樹脂組成物 |
| JPH03177450A (ja) * | 1989-12-05 | 1991-08-01 | Hitachi Chem Co Ltd | 半導体用エポキシ樹脂組成物および半導体装置の製造法 |
| JPH05230284A (ja) * | 1992-02-19 | 1993-09-07 | Hitachi Ltd | 樹脂組成物その製造法並びに樹脂封止型半導体装置 |
-
1994
- 1994-06-20 JP JP6137049A patent/JPH083365A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03119051A (ja) * | 1989-10-02 | 1991-05-21 | Toray Ind Inc | エポキシ樹脂組成物 |
| JPH03177450A (ja) * | 1989-12-05 | 1991-08-01 | Hitachi Chem Co Ltd | 半導体用エポキシ樹脂組成物および半導体装置の製造法 |
| JPH05230284A (ja) * | 1992-02-19 | 1993-09-07 | Hitachi Ltd | 樹脂組成物その製造法並びに樹脂封止型半導体装置 |
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6365269B1 (en) | 1997-11-20 | 2002-04-02 | Infineon Technologies Ag | Plastic compositions for sheathing a metal or semiconductor body |
| JP2002226681A (ja) * | 2001-02-02 | 2002-08-14 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 耐熱性樹脂組成物、これを用いたプリプレグ及び積層板 |
| JP2002226680A (ja) * | 2001-02-02 | 2002-08-14 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 耐熱性樹脂組成物、これを用いたプリプレグ及び積層板 |
| JP2003020364A (ja) * | 2001-07-05 | 2003-01-24 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 球状無機質粉末およびこれを充填した樹脂組成物 |
| JP2005519970A (ja) * | 2002-03-12 | 2005-07-07 | ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニー | 球状粉末構成成分及びそれを含む固体化粧品組成物 |
| US7820749B2 (en) | 2006-04-19 | 2010-10-26 | Kaneka Corporation | Curable resin composition |
| WO2007119867A1 (ja) * | 2006-04-19 | 2007-10-25 | Kaneka Corporation | 硬化性樹脂組成物 |
| JP5254782B2 (ja) * | 2006-04-19 | 2013-08-07 | 株式会社カネカ | 硬化性樹脂組成物 |
| WO2007132771A1 (ja) | 2006-05-12 | 2007-11-22 | Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | セラミックス粉末及びその用途 |
| US8053495B2 (en) | 2006-05-12 | 2011-11-08 | Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Ceramic powder and applications thereof |
| US8476340B2 (en) | 2006-05-12 | 2013-07-02 | Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Ceramic powder and applications thereof |
| WO2007142262A1 (ja) * | 2006-06-07 | 2007-12-13 | Sumitomo Chemical Company, Limited | エポキシ樹脂組成物およびエポキシ樹脂硬化物 |
| JP2013129788A (ja) * | 2011-12-22 | 2013-07-04 | Shin Kobe Electric Mach Co Ltd | 熱硬化性樹脂組成物、加熱加圧成形用プリプレグ及び積層板 |
| WO2016136075A1 (ja) * | 2015-02-27 | 2016-09-01 | 株式会社日立製作所 | 電気絶縁樹脂組成物及びこれを用いた電気絶縁樹脂硬化物、受変電設備 |
| KR20230075447A (ko) | 2020-09-29 | 2023-05-31 | 덴카 주식회사 | 구상 알루미나 분말, 수지 조성물, 방열 재료 |
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