JPH0833521B2 - 光照射装置 - Google Patents
光照射装置Info
- Publication number
- JPH0833521B2 JPH0833521B2 JP61300638A JP30063886A JPH0833521B2 JP H0833521 B2 JPH0833521 B2 JP H0833521B2 JP 61300638 A JP61300638 A JP 61300638A JP 30063886 A JP30063886 A JP 30063886A JP H0833521 B2 JPH0833521 B2 JP H0833521B2
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- JP
- Japan
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- rectangular
- triangular prism
- cylindrical lens
- beams
- prism
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- Laser Beam Processing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光照射装置に関する。
本発明は、光照射装置において、 ４個のレンズと３個のプリズムから構成された光学系
を有することにより、 １つの入射ビームから２個の矩形ビームを所望の矩形
形状で得ることができるようにしたものである。
を有することにより、 １つの入射ビームから２個の矩形ビームを所望の矩形
形状で得ることができるようにしたものである。
光、例えばレーザ光は、フラットパッケージIC（FPI
C）といった電子部品の半田付け加工の際に、半田溶融
用エネルギーとして使用されている。このようなレーザ
加工の対象となる電子部品は被加工部の形状が多くの場
合矩形（長方形）であり、円形基本ビームをもったレー
ザ光は矩形化して照射させる必要がある。
C）といった電子部品の半田付け加工の際に、半田溶融
用エネルギーとして使用されている。このようなレーザ
加工の対象となる電子部品は被加工部の形状が多くの場
合矩形（長方形）であり、円形基本ビームをもったレー
ザ光は矩形化して照射させる必要がある。
従来、このレーザ光を２個の矩形ビームに変換する手
段として、第７図に示すように、矩形開口部33を有する
マスクプレート32があり、円形レザービーム31は開口部
33を通って基板30上に２個の矩形ビーム34を形成する。
また、先に、コリメータレンズで平行にしたレーザビー
ムを凹シリンドリカルレンズで楕円ビームに変形し、次
に凸シリンドリカルレンズで平行楕円ビームとした後、
ハーフミラーと全反射ミラーとによって２本のビームと
し、それぞれのビームを２個の三角プリズムを通過させ
て、２個の矩形ビームを形成するようにした光照射装置
が提案された。（特願昭61-224559号） 〔発明が解決しようとする問題点〕 前記のマスクプレートの場合、ビームの矩形形状の各
寸法Ｇ、Ｈ、Ｉを変えるために、矩形開口部の各寸法を
変化させるか、マスクプレートを変換するなどの方法が
あるが、前記矩形形状の各寸法Ｇ、Ｈ、Ｉを互いに独立
に調整するためには複雑な機構が必要となる。さらに、
円形基本ビームの一部が矩形ビームを作るのに用いられ
るためにエネルギーロスが大きく、また、矩形ビームの
エネルギー密度が不均一となる。
段として、第７図に示すように、矩形開口部33を有する
マスクプレート32があり、円形レザービーム31は開口部
33を通って基板30上に２個の矩形ビーム34を形成する。
また、先に、コリメータレンズで平行にしたレーザビー
ムを凹シリンドリカルレンズで楕円ビームに変形し、次
に凸シリンドリカルレンズで平行楕円ビームとした後、
ハーフミラーと全反射ミラーとによって２本のビームと
し、それぞれのビームを２個の三角プリズムを通過させ
て、２個の矩形ビームを形成するようにした光照射装置
が提案された。（特願昭61-224559号） 〔発明が解決しようとする問題点〕 前記のマスクプレートの場合、ビームの矩形形状の各
寸法Ｇ、Ｈ、Ｉを変えるために、矩形開口部の各寸法を
変化させるか、マスクプレートを変換するなどの方法が
あるが、前記矩形形状の各寸法Ｇ、Ｈ、Ｉを互いに独立
に調整するためには複雑な機構が必要となる。さらに、
円形基本ビームの一部が矩形ビームを作るのに用いられ
るためにエネルギーロスが大きく、また、矩形ビームの
エネルギー密度が不均一となる。
２個の三角プリズムを用いて矩形ビームを形成する前
記光照射装置は、矩形ビームのエネルギー効率が良く、
かつエネルギー密度も均一であるが、２個の矩形ビーム
を作るのにハーフミラーを用いているために分光精度の
調整ができないこと、光源から２個の矩形ビームまでの
距離が等しくないために両ビームに焦点を合わせること
ができないこと及び矩形ビームの形状が固定されていて
汎用性がないことが欠点である。
記光照射装置は、矩形ビームのエネルギー効率が良く、
かつエネルギー密度も均一であるが、２個の矩形ビーム
を作るのにハーフミラーを用いているために分光精度の
調整ができないこと、光源から２個の矩形ビームまでの
距離が等しくないために両ビームに焦点を合わせること
ができないこと及び矩形ビームの形状が固定されていて
汎用性がないことが欠点である。
前記問題点を解決するための手段を、実施例に対応す
る第１図を用いて以下に説明する。
る第１図を用いて以下に説明する。
本発明は、２個の矩形ビームを形成するための光照射
装置であって、 （ａ）、第１平行ビーム12′を得るためのコリメータレ
ンズ12、 （ｂ）、前記第１平行ビーム12′を一方向のみに拡散す
るビーム14に変える第１凹シリンドリカルレンズ13、 （ｃ）、前記拡散するビーム14を第２平行ビーム15′に
変える凸シリンドリカルレンズ15、 （ｄ）、前記第２平行ビーム15′を分割して２分光ビー
ム18に変える第１三角プリズム17、 （ｅ）、前記２分光ビーム18の間隔を調整する第２三角
プリズム19、 （ｆ）、前記第２三角プリズム19を透過したビーム21を
矩形形状の長手方向のみに拡散する第２凹シリンドリカ
ルレンズ22及び （ｇ）、前記第２凹シリンドリカルレンズ22を透過した
ビーム23を矩形形状の長手方向で２分割した後に互いに
重ね合わせて矩形ビーム27を形成する第３三角プリズム
24 が光軸上で直線的に順次に配置され、前記凸シリンド
リカルレンズ15、前記第２三角プリズム19及び前記第３
三角プリズム24が光軸上を移動可能であるように構成さ
れた光照射装置に係る。
装置であって、 （ａ）、第１平行ビーム12′を得るためのコリメータレ
ンズ12、 （ｂ）、前記第１平行ビーム12′を一方向のみに拡散す
るビーム14に変える第１凹シリンドリカルレンズ13、 （ｃ）、前記拡散するビーム14を第２平行ビーム15′に
変える凸シリンドリカルレンズ15、 （ｄ）、前記第２平行ビーム15′を分割して２分光ビー
ム18に変える第１三角プリズム17、 （ｅ）、前記２分光ビーム18の間隔を調整する第２三角
プリズム19、 （ｆ）、前記第２三角プリズム19を透過したビーム21を
矩形形状の長手方向のみに拡散する第２凹シリンドリカ
ルレンズ22及び （ｇ）、前記第２凹シリンドリカルレンズ22を透過した
ビーム23を矩形形状の長手方向で２分割した後に互いに
重ね合わせて矩形ビーム27を形成する第３三角プリズム
24 が光軸上で直線的に順次に配置され、前記凸シリンド
リカルレンズ15、前記第２三角プリズム19及び前記第３
三角プリズム24が光軸上を移動可能であるように構成さ
れた光照射装置に係る。
以下に、本発明の一実施例を図面について説明する。
本実施例の光照射装置は、第１図に示すように、レー
ザ発振器（図示せず）に接続した光ファイバ10から出射
したレーザビーム11の光軸上で直線的に順次、コリメー
タレンズ12、第１凹シリンドリカルレンズ13、凸シリン
ドリカルレンズ15、第１三角プリズム17、第２三角プリ
ズム19、第２凹シリンドリカルレンズ22及び第３三角プ
リズム24が配置された光学系からなる。
ザ発振器（図示せず）に接続した光ファイバ10から出射
したレーザビーム11の光軸上で直線的に順次、コリメー
タレンズ12、第１凹シリンドリカルレンズ13、凸シリン
ドリカルレンズ15、第１三角プリズム17、第２三角プリ
ズム19、第２凹シリンドリカルレンズ22及び第３三角プ
リズム24が配置された光学系からなる。
凸シリンドリカルレンズ15は光の変化する方向が第１
凹シリンドリカルレンズ13と同じになる様な方向に配置
されている。第１三角プリズム17は稜が上側にあってビ
ームセンターとなる位置に配置され、第２三角プリズム
19は稜が下側にありかつ第１三角プリズム17の稜に平行
となるように配置されている。第２凹シリンドリカルレ
ンズ22は光の変化方向が凸シリンドリカルレンズ15の場
合と直交する角度に配置されている。第３三角プリズム
24は稜が下側にありかつ第２凹シリンドリカルレンズ22
の母線と平行となるように配置されている。
凹シリンドリカルレンズ13と同じになる様な方向に配置
されている。第１三角プリズム17は稜が上側にあってビ
ームセンターとなる位置に配置され、第２三角プリズム
19は稜が下側にありかつ第１三角プリズム17の稜に平行
となるように配置されている。第２凹シリンドリカルレ
ンズ22は光の変化方向が凸シリンドリカルレンズ15の場
合と直交する角度に配置されている。第３三角プリズム
24は稜が下側にありかつ第２凹シリンドリカルレンズ22
の母線と平行となるように配置されている。
凸シリンドリカルレンズ15、第２三角プリズム19及び
第３三角プリズム24は光軸と平行にそれぞれ矢印16、2
0、25に沿って移動が可能である。
第３三角プリズム24は光軸と平行にそれぞれ矢印16、2
0、25に沿って移動が可能である。
本実施例の光照射装置によれば、次のようにして２個
の矩形ビーム27が形成される。
の矩形ビーム27が形成される。
光ファイバー10から出射したレーザビーム11は円形
で、エネルギー密度がガウス分布をなす一般的なもので
ある。ビーム11はコリメータレンズ12により平行円形ビ
ーム12′になり、さらに第１凹シリンドリカルレンズ13
により出射軸に対し直角方向に一方向のみに広がった楕
円ビーム14となる。このビーム14は凸シリンドリカルレ
ンズ15により平行楕円ビーム15′となり、第１三角プリ
ズム17に入射する。平行楕円ビーム15′の短軸とプリズ
ム17の稜とが一致するようにプリズム17が配置されてい
るので、平行楕円ビーム15′は、まず、その短軸に沿っ
て、楕円の二分の一の形状を有する２分光ビーム18に分
割される。そして、これら２個のビーム18の各々は、平
行楕円ビーム15′の長軸方向において他方のビーム18と
交差する角度でプリズム17から出射する。ビーム18は次
に第２三角プリズム19を透過し、このプリズム19は前記
プリズム17で角度のついた２個のビーム18を逆方向の角
度に修正する。前記プリズム19を透過したビーム21は第
２凹シリンドリカルレンズ22により矩形形状の長手方向
に対応する方向のみに拡散するビーム23となり、次いで
第３三角プリズム24に入射する。楕円の二分の一の形状
を有するビーム23における直線の辺方向の中心をプリズ
ム24の稜が通るようにプリズム24が配置されているの
で、１個のビーム23は、まず、その直線の辺方向の中心
位置において、楕円の四分の一の形状を有する２個のビ
ーム26に分割される。そして、これら２個のビーム26の
各々は、ビーム23の直線の辺方向において他方のビーム
26と重なりが生じる角度でプリズム24から出射する。１
個のビーム23から分割された２個のビーム26はプリズム
24から遠ざかるにつれて互いの重なり率が大きくなるの
で、楕円の四分の一の形状を有する２個のビーム26の直
線の辺が矩形の三辺になる点、つまり重なり率が最大に
近くなって矩形の長手方向におけるエネルギー密度がほ
ぼ均一になる点で矩形ビーム27を得る。
で、エネルギー密度がガウス分布をなす一般的なもので
ある。ビーム11はコリメータレンズ12により平行円形ビ
ーム12′になり、さらに第１凹シリンドリカルレンズ13
により出射軸に対し直角方向に一方向のみに広がった楕
円ビーム14となる。このビーム14は凸シリンドリカルレ
ンズ15により平行楕円ビーム15′となり、第１三角プリ
ズム17に入射する。平行楕円ビーム15′の短軸とプリズ
ム17の稜とが一致するようにプリズム17が配置されてい
るので、平行楕円ビーム15′は、まず、その短軸に沿っ
て、楕円の二分の一の形状を有する２分光ビーム18に分
割される。そして、これら２個のビーム18の各々は、平
行楕円ビーム15′の長軸方向において他方のビーム18と
交差する角度でプリズム17から出射する。ビーム18は次
に第２三角プリズム19を透過し、このプリズム19は前記
プリズム17で角度のついた２個のビーム18を逆方向の角
度に修正する。前記プリズム19を透過したビーム21は第
２凹シリンドリカルレンズ22により矩形形状の長手方向
に対応する方向のみに拡散するビーム23となり、次いで
第３三角プリズム24に入射する。楕円の二分の一の形状
を有するビーム23における直線の辺方向の中心をプリズ
ム24の稜が通るようにプリズム24が配置されているの
で、１個のビーム23は、まず、その直線の辺方向の中心
位置において、楕円の四分の一の形状を有する２個のビ
ーム26に分割される。そして、これら２個のビーム26の
各々は、ビーム23の直線の辺方向において他方のビーム
26と重なりが生じる角度でプリズム24から出射する。１
個のビーム23から分割された２個のビーム26はプリズム
24から遠ざかるにつれて互いの重なり率が大きくなるの
で、楕円の四分の一の形状を有する２個のビーム26の直
線の辺が矩形の三辺になる点、つまり重なり率が最大に
近くなって矩形の長手方向におけるエネルギー密度がほ
ぼ均一になる点で矩形ビーム27を得る。
凸シリンドリカルレンズ15は矩形ビーム27の焦点を調
整すると共に、矢印16に沿って移動することにより矩形
ビーム27の巾寸法Ｋの調整を行う。第２三角プリズム19
は矢印20に沿って移動することにより矩形ビーム27の間
隔Ｌを調整する。第３三角プリズム24は矢印25に沿って
移動することにより矩形ビーム27の長さ方向の寸法Ｊを
調整する。
整すると共に、矢印16に沿って移動することにより矩形
ビーム27の巾寸法Ｋの調整を行う。第２三角プリズム19
は矢印20に沿って移動することにより矩形ビーム27の間
隔Ｌを調整する。第３三角プリズム24は矢印25に沿って
移動することにより矩形ビーム27の長さ方向の寸法Ｊを
調整する。
次に、第２図に示す基板５にFPIC1をそのICリード２
を介して半田付けするために必要な短辺矩形ビーム３と
長辺矩形ビーム４とを本実施例の光照射装置で形成する
例を第３〜６図について説明する。
を介して半田付けするために必要な短辺矩形ビーム３と
長辺矩形ビーム４とを本実施例の光照射装置で形成する
例を第３〜６図について説明する。
矩形ビーム間隔の調整： 第２図における矩形ビーム３、３及び４、４の各間隔
Ｆ及びＣは第３図の第２三角プリズム19の移動によって
調整される。第１三角プリズム17で分割されたビーム18
は互いに交わる方向に進み、第２三角プリズム19に入射
する。プリズム19はビーム18を第１三角プリズム17で曲
げられた角度より小さいか等しい角度で逆方向に曲げ、
ビーム21として出射する。ビーム21の間隔はプリズム19
の位置を変えることにより変化し、最終的に矩形ビーム
の間隔も変化する。即ち、第３図のプリズム19を第４図
のプリズム19の位置までＭだけの距離を移動させること
により、ビーム間隔をＣからＦに変えることができる。
Ｆ及びＣは第３図の第２三角プリズム19の移動によって
調整される。第１三角プリズム17で分割されたビーム18
は互いに交わる方向に進み、第２三角プリズム19に入射
する。プリズム19はビーム18を第１三角プリズム17で曲
げられた角度より小さいか等しい角度で逆方向に曲げ、
ビーム21として出射する。ビーム21の間隔はプリズム19
の位置を変えることにより変化し、最終的に矩形ビーム
の間隔も変化する。即ち、第３図のプリズム19を第４図
のプリズム19の位置までＭだけの距離を移動させること
により、ビーム間隔をＣからＦに変えることができる。
矩形ビームの長さ方向の調整： 第２図における矩形ビーム３、４の各長さＤ、Ａの調
整は、第５図の第３三角プリズム24を光軸方向（第１図
の矢印25の方向）に移動させて行う。プリズム24は第２
凹シリンドリカルレンズ22で拡散したビーム23の受光位
置により合成ビーム26の幅を変化させる。
整は、第５図の第３三角プリズム24を光軸方向（第１図
の矢印25の方向）に移動させて行う。プリズム24は第２
凹シリンドリカルレンズ22で拡散したビーム23の受光位
置により合成ビーム26の幅を変化させる。
矩形ビーム長さを第５図のＤから第６図のＡに変化さ
せるためには第５図のプリズム24を第６図のプリズム24
の位置までＮだけ移動させる。
せるためには第５図のプリズム24を第６図のプリズム24
の位置までＮだけ移動させる。
矩形ビームの幅方向の調整： 第２図における矩形ビーム３、４の各幅Ｅ、Ｂは凸シ
リンドリカルレンズ15と第１凹シリンドリカルレンズ13
との間隔により結像位置が変わりビーム26の幅方向の広
がり角も変化するため、ビーム26は任意の位置で幅が変
わることになる。
リンドリカルレンズ15と第１凹シリンドリカルレンズ13
との間隔により結像位置が変わりビーム26の幅方向の広
がり角も変化するため、ビーム26は任意の位置で幅が変
わることになる。
エネルギー密度の調整： 第５図及び第６図において、第３三角プリズム24によ
って中央から分割合成されたビーム26はプリズム24から
の距離によって重なり率を変化させながら進んでゆく。
加工に必要なエネルギーの密度は矩形ビームの長さＤ及
びＡの区間にわたって均一でなければならず、ガウス分
布をなすビームをビーム11に用いた場合にはほぼ重なり
率が最大に近くなる位置でエネルギー密度の均一な矩形
ビームが得られる。第５図のＰ及び第６図のＱは大きさ
の異なる矩形ビームでのエネルギー密度均一点を表わし
ていて、それぞれ光学系全体からの距離を調整すること
によって得られる。
って中央から分割合成されたビーム26はプリズム24から
の距離によって重なり率を変化させながら進んでゆく。
加工に必要なエネルギーの密度は矩形ビームの長さＤ及
びＡの区間にわたって均一でなければならず、ガウス分
布をなすビームをビーム11に用いた場合にはほぼ重なり
率が最大に近くなる位置でエネルギー密度の均一な矩形
ビームが得られる。第５図のＰ及び第６図のＱは大きさ
の異なる矩形ビームでのエネルギー密度均一点を表わし
ていて、それぞれ光学系全体からの距離を調整すること
によって得られる。
以上述べたように、本発明の光照射装置により次の効
果が得られる：（１）１つの入射ビームから２個の矩形
ビームが得られ、この矩形ビームはビーム間隔及び矩形
形状を変化させることができ、汎用化が可能となった。
（２）２個の矩形ビームは光学的条件が等しくなってい
るため精度がよく、かつ分光精度は第１三角プリズム17
の位置により調整可能である。（３）矩形ビームの長手
方向のエネルギー密度は第３三角プリズム24によりビー
ムを２分割した後に互いに重ね合わせているので均一に
なり、かつ重なり率の調整が可能である。（４）矩形ビ
ーム化にあたり入射ビームをすべてレンズ系に取り入れ
て透過のみで処理するためエネルギー効率が高い。
（５）複雑な形状のレンズ、プリズムを用いていないた
めにコストが安い。（６）レンズ系の配置が直線的であ
り、精度が高く、信頼性も高い。
果が得られる：（１）１つの入射ビームから２個の矩形
ビームが得られ、この矩形ビームはビーム間隔及び矩形
形状を変化させることができ、汎用化が可能となった。
（２）２個の矩形ビームは光学的条件が等しくなってい
るため精度がよく、かつ分光精度は第１三角プリズム17
の位置により調整可能である。（３）矩形ビームの長手
方向のエネルギー密度は第３三角プリズム24によりビー
ムを２分割した後に互いに重ね合わせているので均一に
なり、かつ重なり率の調整が可能である。（４）矩形ビ
ーム化にあたり入射ビームをすべてレンズ系に取り入れ
て透過のみで処理するためエネルギー効率が高い。
（５）複雑な形状のレンズ、プリズムを用いていないた
めにコストが安い。（６）レンズ系の配置が直線的であ
り、精度が高く、信頼性も高い。
第１図は本発明の光照射装置の一実施例を示す斜視図、
第２図はFPICと基板とを示す斜視図、第３図と第４図は
いずれも実施例の光学系の側面図、第５図と第６図はい
ずれも実施例の光学系の正面図、第７図は従来例の斜視
図である。 なお図面に用いた符号において、 11……レーザビーム 12……コリメータレンズ 13……第１凹シリンドリカルレンズ 15……凸シリンドリカルレンズ 17……第１三角プリズム 19……第２三角プリズム 22……第２凹シリンドリカルレンズ 24……第３三角プリズム 27……矩形ビーム である。
第２図はFPICと基板とを示す斜視図、第３図と第４図は
いずれも実施例の光学系の側面図、第５図と第６図はい
ずれも実施例の光学系の正面図、第７図は従来例の斜視
図である。 なお図面に用いた符号において、 11……レーザビーム 12……コリメータレンズ 13……第１凹シリンドリカルレンズ 15……凸シリンドリカルレンズ 17……第１三角プリズム 19……第２三角プリズム 22……第２凹シリンドリカルレンズ 24……第３三角プリズム 27……矩形ビーム である。
Claims (1)
- 【請求項１】２個の矩形ビームを形成するための光照射
装置であって、 （ａ）、第１平行ビームを得るためのコリメータレン
ズ、 （ｂ）、前記第１平行ビームを一方向にのみ拡散するビ
ームに変える第１凹シリンドリカルレンズ、 （ｃ）、前記拡散するビームを第２平行ビームに変える
凸シリンドリカルレンズ、 （ｄ）、前記第２平行ビームを分割して２分光ビームに
変える第１三角プリズム、 （ｅ）、前記２分光ビームの間隔を調整する第２三角プ
リズム、 （ｆ）、前記第２三角プリズムを透過したビームを矩形
形状の長手方向のみに拡散する第２凹シリンドリカルレ
ンズ及び （ｇ）、前記第２凹シリンドリカルレンズを透過したビ
ームを矩形形状の長手方向で２分割した後に互いに重ね
合わせて矩形ビームを形成する第３三角プリズム が光軸上で直線的に順次に配置され、前記凸シリンドリ
カルレンズ、前記第２三角プリズム及び前記第３三角プ
リズムが光軸上を移動可能であるように構成された光照
射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61300638A JPH0833521B2 (ja) | 1986-12-17 | 1986-12-17 | 光照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61300638A JPH0833521B2 (ja) | 1986-12-17 | 1986-12-17 | 光照射装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63153514A JPS63153514A (ja) | 1988-06-25 |
| JPH0833521B2 true JPH0833521B2 (ja) | 1996-03-29 |
Family
ID=17887273
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61300638A Expired - Fee Related JPH0833521B2 (ja) | 1986-12-17 | 1986-12-17 | 光照射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0833521B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0433791A (ja) * | 1990-05-29 | 1992-02-05 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | レーザ加工装置 |
| US5557475A (en) * | 1994-07-12 | 1996-09-17 | Coherent, Inc. | Optical system for improving the symmetry of the beam emitted from a broad area laser diode |
| WO2004025704A2 (en) | 2002-09-12 | 2004-03-25 | Visotek, Inc. | Contact lens package and storage case, holder, and system and method of making and using |
| JP5300544B2 (ja) * | 2009-03-17 | 2013-09-25 | 株式会社ディスコ | 光学系及びレーザ加工装置 |
| RU183887U1 (ru) * | 2017-11-14 | 2018-10-08 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Московский государственный технологический университет "СТАНКИН" (ФГБОУ ВО "МГТУ "СТАНКИН") | Устройство для лазерной обработки материалов |
| JP7744017B2 (ja) * | 2022-05-26 | 2025-09-25 | マイクロエッヂプロセス株式会社 | ツインビーム半田付け装置 |
| CN115121943B (zh) * | 2022-06-13 | 2025-11-21 | 中国人民解放军空军工程大学 | 斜入射激光冲击强化的光斑动态矫形装置、系统及方法 |
-
1986
- 1986-12-17 JP JP61300638A patent/JPH0833521B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63153514A (ja) | 1988-06-25 |
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