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JPH08301615A - Method for producing synthetic quartz powder and method for producing molded quartz glass - Google Patents

Method for producing synthetic quartz powder and method for producing molded quartz glass

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Publication number
JPH08301615A
JPH08301615A JP7105889A JP10588995A JPH08301615A JP H08301615 A JPH08301615 A JP H08301615A JP 7105889 A JP7105889 A JP 7105889A JP 10588995 A JP10588995 A JP 10588995A JP H08301615 A JPH08301615 A JP H08301615A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
powder
silica gel
synthetic quartz
rotary kiln
quartz powder
Prior art date
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Granted
Application number
JP7105889A
Other languages
Japanese (ja)
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JP3735887B2 (en
Inventor
Yoshio Suguro
芳雄 勝呂
Shoji Oishi
昭二 大石
Yuji Maeda
裕司 前田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by Mitsubishi Chemical Corp filed Critical Mitsubishi Chemical Corp
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Priority to US08/945,318 priority patent/US6129899A/en
Priority to KR1019970707671A priority patent/KR19990008146A/en
Priority to DE69629111T priority patent/DE69629111T2/en
Priority to EP96912278A priority patent/EP0823403B1/en
Priority to PCT/JP1996/001176 priority patent/WO1996033950A1/en
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    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B19/00Other methods of shaping glass
    • C03B19/10Forming beads
    • C03B19/1005Forming solid beads
    • C03B19/106Forming solid beads by chemical vapour deposition; by liquid phase reaction
    • C03B19/1065Forming solid beads by chemical vapour deposition; by liquid phase reaction by liquid phase reactions, e.g. by means of a gel phase
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P40/00Technologies relating to the processing of minerals
    • Y02P40/50Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 溶融成形時に泡の発生のない合成石英粉の効
果的な製造。 【構成】 シリカゲル粉末を、流動させながら加熱処理
する工程を含む合成石英 粉の製造方法におい
て、シリカゲル粉末をロータリーキルンの片端より連続
的に 供給しつつ加熱処理を行うことを特徴とす
る合成石英粉の製造方法。 【効果】 溶融成形時に泡の発生のない合成石英粉を効
果的に製造できる。
(57) [Summary] [Purpose] Effective production of synthetic quartz powder without bubbles during melt molding. [Constitution] In a synthetic quartz powder manufacturing method including a step of heat-treating silica gel powder while flowing, the silica gel powder is heat-treated while being continuously supplied from one end of a rotary kiln. Production method. [Effect] It is possible to effectively produce synthetic quartz powder that does not generate bubbles during melt molding.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、合成石英粉及び石英ガ
ラス成形体の効率的な製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an efficient method for producing synthetic quartz powder and quartz glass moldings.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、光通信分野、半導体産業等で使用
されるガラス製品に於いてはその微量不純物及び製品中
の微小泡に関し非常に厳しい管理が行われている。この
ような高品質のガラスは主に、天然石英を精製する方
法、四塩化珪素の酸水素炎中での分解で発生したヒュ
ームを基体に付着・成長させる方法、シリコンアルコ
キシド等を加水分解・ゲル化して得たシリカゲルを焼成
して得られる合成石英粉を用い、これを溶融して成形体
とする方法等によって製造される。
2. Description of the Related Art In recent years, in glass products used in the fields of optical communication, semiconductor industry, etc., very strict control has been carried out regarding trace impurities and minute bubbles in the products. Such high quality glass is mainly used for refining natural quartz, for fume generated by decomposition of silicon tetrachloride in an oxyhydrogen flame to adhere to and grow on a substrate, and for hydrolysis and gel of silicon alkoxide. It is manufactured by using a synthetic quartz powder obtained by firing silica gel obtained by liquefying and melting it to obtain a molded body.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、の方
法では、微量不純物含有率の低減に限界があり、の方
法では、極めて製造コストが高い等の問題点がある。一
方、のシリカゲルの焼成による方法では、の方法に
比べると安価に微量不純物含有率が低い合成石英粉が得
られるが、要求レベルを必ずしも満足しているとは言え
ない。また、この方法では、最終製品である成形体中
に、微小泡が発生することがありこの微小泡が様々なト
ラブルの原因となることがある、という問題点がある。
However, the method (1) has a limit in reducing the content of trace impurities, and the method (2) has a problem that the manufacturing cost is extremely high. On the other hand, with the method of firing silica gel, synthetic quartz powder having a low content of trace impurities can be obtained at a lower cost than the method of 1, but it cannot be said that the required level is necessarily satisfied. In addition, this method has a problem that minute bubbles may be generated in the molded product as the final product, and the minute bubbles may cause various troubles.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記
の、シリカゲルの焼成による合成石英粉の製造方法にお
ける課題、すなわちこれを溶融して得られる成形体にお
ける微小泡の発生が極めて少ない合成石英粉の製造を行
うこと、更にはかかる製造を工業的に有利に行う方法を
見いだすべく鋭意検討した所、以下の点が判明した。即
ち、シリカゲルの焼成は、容器からの不純物のコンタミ
を排除するために、石英製の容器にシリカゲルを仕込
み、電気炉等で加熱する。特に、工業的に製造する場
合、大口径の石英るつぼが使用される。しかしながら、
シリカゲルは石英粉に比べ嵩密度が低いために、焼成に
用いる容器を効率的に利用できず、生産性が悪く、製造
コストが高くなっている。従って、生産性の向上にはる
つぼに仕込む粉体の嵩密度アップが重要な課題となる。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present inventors have found the above-mentioned problems in the method for producing synthetic quartz powder by firing silica gel, that is, the formation of fine bubbles in a molded product obtained by melting the synthetic silica powder is extremely small. As a result of earnest studies to find out a method for producing quartz powder and an industrially advantageous method for producing the quartz powder, the following points were found. That is, in the baking of silica gel, in order to eliminate contamination of impurities from the container, silica gel is charged in a container made of quartz and heated in an electric furnace or the like. Especially when industrially manufactured, a large-diameter quartz crucible is used. However,
Since silica gel has a lower bulk density than quartz powder, the container used for firing cannot be used efficiently, productivity is poor, and manufacturing costs are high. Therefore, increasing the bulk density of the powder charged in the crucible is an important issue for improving productivity.

【0005】また、石英粉を用いた成形体の製造におい
て、成形体を製造する際の微小泡の発生は、石英粉製造
時の焼成工程の昇温過程が影響を及ぼす。テトラアルコ
キシシランの加水分解により得たシリカゲル粉末は、乾
燥により副生したアルコールを除去しても未反応のアル
コキシ基及び副生したアルコールの一部が残存する。実
際、乾燥を施したシリカゲル粉末中のカーボン濃度を測
定すると、乾燥条件によっても異なるが、1〜3%であ
る。このシリカゲル粉末を酸素含有ガス中で焼成する
と、大部分のカーボンは、昇温過程で燃焼除去される
が、一部が未燃カーボンとして合成石英粉中に閉じ込め
られることがある。この未燃カーボンを含有する合成石
英粉を用いると、溶融成形の際にCOやCO2 ガスとな
り、泡発生の原因となる。従って、シリカゲルの封孔前
に、未燃カーボンを実質的に全量除去することが必要と
なり、昇温過程における昇温速度が重要となるわけであ
る。ところが、先述のように、合成石英粉の工業的な製
造を図る場合、大口径のるつぼを使用することになり、
昇温過程における、るつぼ内の温度が不均一となり、そ
の結果、場合によってはカーボンが残存した合成石英粉
が部分的に生成し、その合成石英粉を用いた成形体中
に、微小泡が発生するという現象が見られるのである。
Further, in the production of a molded body using quartz powder, the generation of fine bubbles during the production of the molded body is affected by the temperature rising process of the firing step during the production of the quartz powder. In the silica gel powder obtained by hydrolysis of tetraalkoxysilane, the unreacted alkoxy group and a part of the by-produced alcohol remain even if the alcohol by-produced by drying is removed. Actually, when the carbon concentration in the dried silica gel powder is measured, it is 1 to 3% though it varies depending on the drying conditions. When this silica gel powder is fired in an oxygen-containing gas, most of the carbon is burned and removed during the temperature rising process, but some of it may be trapped as unburned carbon in the synthetic quartz powder. When this synthetic quartz powder containing unburned carbon is used, it becomes CO or CO 2 gas at the time of melt molding and causes bubbles. Therefore, it is necessary to remove substantially all unburned carbon before the silica gel is sealed, and the rate of temperature rise in the temperature raising process is important. However, as mentioned above, when industrially producing synthetic quartz powder, a crucible with a large diameter is used,
During the heating process, the temperature inside the crucible became uneven, and as a result, synthetic quartz powder with residual carbon was partially generated in some cases, and micro bubbles were generated in the molded product using the synthetic quartz powder. The phenomenon of doing is seen.

【0006】このような問題を解決し効率的に良質の合
成石英粉を生成するために、回転円筒型加熱装置、いわ
ゆるロータリーキルンを用いた加熱をも試みた。しかし
ながら、コンタミを防ぐ目的から炉心管の材質は石英等
に限られるため、加熱処理における昇温工程が繰り返さ
れることによるヒートショックから、炉心管の寿命が短
くなってしまうという問題があった。また加熱処理によ
ってシリカゲルから大量のガスが発生し、しかもガス発
生量が時間とともに変化するため、ロータリーキルンで
は排ガス処理も難しく、またピーク時に合わせると装置
が大型となり、内部のシリカゲル粉末を吹き飛ばすこと
もある。
In order to solve such problems and efficiently produce high-quality synthetic quartz powder, heating using a rotary cylindrical heating device, a so-called rotary kiln, was also tried. However, since the material of the core tube is limited to quartz or the like for the purpose of preventing contamination, there is a problem that the life of the core tube is shortened due to heat shock caused by repeating the temperature raising step in the heat treatment. In addition, since a large amount of gas is generated from silica gel due to heat treatment, and the gas generation amount changes with time, it is difficult to treat exhaust gas with a rotary kiln, and when the peak time is set, the device becomes large and the silica gel powder inside may be blown off. .

【0007】またシリカゲルが次第に封孔する工程にお
いて、溶媒、付着水、残留有機基等の除去を充分且つ的
確に行い、目的とする高品質の合成石英粉を得るには、
加熱処理の条件、特に昇温工程を厳密に制御することを
要し、多量の粉体を仕込んだロータリーキルンでこれを
行うのは困難であり、更にロータリーキルンの軸方向に
加熱強度の強弱が生じやすく製品のバラつきに繋がる、
という問題もあった。更に、粉体の供給、取り出しの際
のコンタミ防止、バッチごとの品質の均一化も、充分に
は達成し難かった。
Further, in the step of gradually sealing the silica gel, the solvent, adhering water, residual organic groups, etc. are removed sufficiently and accurately to obtain the desired high-quality synthetic quartz powder.
It is difficult to do this with a rotary kiln charged with a large amount of powder, since it is necessary to strictly control the conditions of heat treatment, especially the temperature raising step, and moreover, the strength of heating tends to increase in the axial direction of the rotary kiln. Leading to product variations,
There was also a problem. Further, it was difficult to sufficiently prevent contamination at the time of supplying and taking out the powder and uniforming the quality of each batch.

【0008】本発明者らは、上記課題に鑑み、更に鋭意
検討を行った結果、シリカゲルを適当な条件及び操作で
加熱処理して得られた粉体は、嵩密度が焼成後の石英粉
と同等とすることができ、なおかつ、アルコキシ基及び
水酸基を充分に除去されたものとすることができるた
め、かかる粉体を更に高温での焼成に供するのにも好都
合であること、更に、かかる加熱処理方法により、合成
石英粉製造に要するスペース、人手、加熱時の供給ガス
量をも軽減でき、また加熱時のエアレーションも容易に
行うことができ、生産性を大きく向上できることを見い
だし、本発明を完成するに至った。即ち、本発明は、シ
リカゲル粉末を流動させながら加熱処理する工程を含む
合成石英粉の製造方法において、シリカゲル粉末をロー
タリーキルンの片端より連続的に供給しつつ加熱処理す
ることを特徴とする合成石英粉の製造方法、等にある。
In view of the above-mentioned problems, the present inventors have made further studies, and as a result, the powder obtained by heat-treating silica gel under appropriate conditions and operations has a bulk density of quartz powder after firing. It is possible to make them equivalent, and since the alkoxy group and the hydroxyl group can be sufficiently removed, it is convenient to subject such powder to calcination at a higher temperature. By the treatment method, it was found that the space required for the production of synthetic quartz powder, manpower, the amount of gas supplied during heating can be reduced, aeration during heating can be easily performed, and the productivity can be greatly improved. It came to completion. That is, the present invention is a method for producing synthetic quartz powder, which comprises a step of performing heat treatment while flowing silica gel powder, wherein the silica gel powder is heat treated while being continuously supplied from one end of the rotary kiln. Manufacturing method, etc.

【0009】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
合成石英粉は、アルコキシシラン等の加水分解・ゲル化
等により得られるシリカゲル粉末を、焼成することによ
り無孔化してなる合成石英粉である。シリカゲル粉末の
製造法は特に限定されず、種々の公知技術によればよい
が、高純度を容易に達成できる等の点からアルコキシシ
ラン等の加水分解・ゲル化による、いわゆるゾルゲル法
によるものが好ましい。ゾルゲル法によるアルコキシシ
ランの加水分解は、公知の方法に従って、アルコキシシ
ランと水とを反応させることによって行われる。
The present invention will be described in detail below. The synthetic quartz powder of the present invention is a synthetic quartz powder obtained by firing silica gel powder obtained by hydrolysis and gelation of alkoxysilane etc. to make it non-porous. The method for producing the silica gel powder is not particularly limited, and various known techniques may be used, but from the viewpoint of easily achieving high purity, the so-called sol-gel method by hydrolysis / gelation of alkoxysilane or the like is preferable. . Hydrolysis of alkoxysilane by the sol-gel method is performed by reacting alkoxysilane with water according to a known method.

【0010】原料として用いられるアルコキシシランと
しては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン
等のC1〜C4の低級アルコキシシラン或いはそのオリ
ゴマーが好ましい。水の使用量は、通常、アルコキシシ
ラン中のアルコキシ基の1倍当量以上から10倍当量以
下の範囲から選択される。この際、必要に応じて、水と
相溶性のあるアルコール類やエーテル類等の有機溶媒を
混合して使用してもよい。使用されるアルコールの代表
例としては、メタノール、エタノール等の低脂肪族アル
コールが挙げられる。
The alkoxysilane used as a raw material is preferably a C1-C4 lower alkoxysilane such as tetramethoxysilane or tetraethoxysilane or an oligomer thereof. The amount of water used is usually selected from the range of 1 to 10 equivalents of the alkoxy groups in the alkoxysilane. At this time, organic solvents such as alcohols and ethers which are compatible with water may be mixed and used, if necessary. Typical examples of the alcohol used include low aliphatic alcohols such as methanol and ethanol.

【0011】この加水分解反応には、触媒として塩酸、
酢酸等の酸や、アンモニア等のアルカリを添加してもよ
い。なお、当然のことながら、ここで使用する水、触媒
等の、反応系に導入される物質はすべて高純度とする。
加水分解生成物のゲル化は、加熱下あるいは常温で実施
することができる。加熱を行うと、ゲル化の速度を向上
することができるので、加熱の程度を調節することによ
り、ゲル化時間を調節することができる。
For this hydrolysis reaction, hydrochloric acid as a catalyst,
An acid such as acetic acid or an alkali such as ammonia may be added. It should be understood that all substances introduced into the reaction system such as water and catalyst used here are of high purity.
Gelation of the hydrolysis product can be carried out under heating or at room temperature. When heating is performed, the rate of gelation can be improved, and thus the gelling time can be adjusted by adjusting the degree of heating.

【0012】得られたゲルは、細分化してから乾燥して
もよいし、乾燥してから細分化してもよい。いずれにし
ても、乾燥後の粒径が、10〜1000μm、好ましく
は、100〜600μmとなるように細分化を行う。乾
燥は、常圧、あるいは、減圧下で加熱しつつ行うのが効
率的である。加熱温度は、条件によつても異なるが、通
常、50〜200℃である。また、操作は、回分、連続
のいずれによつても行うことができる。乾燥の程度は、
通常、湿量標準水分で表した水の含有量で、1〜30重
量%まで行われる。
The obtained gel may be subdivided and then dried, or may be dried and subdivided. In any case, the particles are subdivided so that the particle diameter after drying is 10 to 1000 μm, preferably 100 to 600 μm. It is efficient to carry out the drying while heating at atmospheric pressure or under reduced pressure. The heating temperature varies depending on the conditions, but is usually 50 to 200 ° C. The operation can be performed either batchwise or continuously. The degree of drying is
Usually, the content of water expressed by the standard moisture content is 1 to 30% by weight.

【0013】このようにして得られた乾燥シリカゲル粉
末を、以下に述べる特定の条件下で加熱処理する。すな
わち、シリカゲル粉末を流動させながら、加熱処理す
る。そして、この際にシリカゲル粉末をロータリーキル
ンの片端より連続的に供給しつつ加熱処理を行うことが
本発明の要件である。
The dried silica gel powder thus obtained is heat-treated under the specific conditions described below. That is, heat treatment is performed while flowing the silica gel powder. Then, at this time, it is a requirement of the present invention to perform the heat treatment while continuously supplying the silica gel powder from one end of the rotary kiln.

【0014】すなわち、ロータリーキルンの炉心管の片
端より連続的に乾燥シリカゲルを供給しつつ、炉心管内
で加熱処理を行い、処理が終了した粉を連続的に炉心管
から排出する。炉心管の材質は、処理を行った粉への材
質のコンタミが発生しないものを選択する必要があり、
特に石英製が好ましい。石英製の場合、製作上、炉心管
のサイズに限界があるので、条件によっては、複数のロ
ータリーキルンを直列に並べて加熱処理を行うこともで
きる。
That is, while the dry silica gel is continuously supplied from one end of the core tube of the rotary kiln, the heat treatment is carried out in the core tube, and the powder after the treatment is continuously discharged from the core tube. It is necessary to select a material for the core tube that does not cause contamination of the treated powder.
Particularly, quartz is preferable. In the case of quartz, since there is a limit in the size of the core tube in manufacturing, it is possible to arrange a plurality of rotary kilns in series and perform heat treatment depending on conditions.

【0015】加熱処理を行う温度領域は、200〜11
00℃である。特に、300〜600℃の領域で、主
に、シリカゲル中の残存カーボンの除去が進行するの
で、慎重に操作を行う。600℃以上となるとシリカゲ
ルの封孔が開始するので、粉体温度がこの温度領域に到
達するまでに、残存するカーボンのほぼ全量を消失させ
ておかなければならない。さもなければ、得られた合成
石英粉中に未燃カーボンが残存し、溶融成形の際に泡が
発生する。
The temperature range for heat treatment is 200 to 11
It is 00 ° C. In particular, the removal of residual carbon in silica gel mainly proceeds in the region of 300 to 600 ° C., so that the operation is performed carefully. When the temperature exceeds 600 ° C., the silica gel starts to be sealed. Therefore, it is necessary to eliminate almost all the remaining carbon before the powder temperature reaches this temperature range. Otherwise, unburned carbon remains in the obtained synthetic quartz powder and bubbles are generated during melt molding.

【0016】このように操作を連続で行うに際しては、
炉心管の加熱ゾーンを複数個に分割し、処理粉体の進行
方向に従い粉体の温度が所定の勾配で上昇するように加
熱強度を制御する必要がある。供給した粉体がロータリ
ーキルン内を進行方向に移動するに従い昇温させるので
ある。従って、粉体の昇温速度は、ロータリーキルン内
の温度分布と粉体の進行方向に対する移動速度から自ず
と求められる。例えば、温度測定点間の距離が1mで温
度差が200℃であり、粉体の進行方向に対する移動速
度が0.5m/Hrであると、昇温速度は400℃/H
rとなる。 シリカゲル中の残存カーボンの除去が進行
する領域の昇温速度は1000℃/Hr以下、好ましく
は、500℃/Hr以下とするのがよい。また、450
〜600℃の領域で、温度変化のほとんどないゾーンを
設け、そのゾーンの通過時間を0.5〜5時間とするの
も効果的である。例えば、ヒーターをロータリーキルン
の軸方向に複数個に分割して、軸方向の加熱強度を制御
することができる。この場合室温付近から水の蒸発する
温度、及び水の蒸発する温度領域では加熱強度を比較的
強め、ゾーン範囲を狭くするのが望ましい。次に、シリ
カゲルの顕熱見合いの熱を供給し、粉体の温度を上げる
温度領域では、極端な加熱は行わず、ゆっくりと粉体の
温度が上昇するように制御するのが望ましい。
When performing the operations continuously in this way,
It is necessary to divide the heating zone of the furnace core tube into a plurality of zones and control the heating intensity so that the temperature of the powder rises in a predetermined gradient in accordance with the traveling direction of the treated powder. The temperature of the supplied powder is raised as it moves in the rotary kiln in the traveling direction. Therefore, the temperature rising rate of the powder is naturally obtained from the temperature distribution in the rotary kiln and the moving speed of the powder in the traveling direction. For example, if the distance between the temperature measurement points is 1 m, the temperature difference is 200 ° C., and the moving speed of the powder in the traveling direction is 0.5 m / Hr, the heating rate is 400 ° C./H.
r. The rate of temperature rise in the region where the removal of residual carbon in silica gel proceeds is 1000 ° C./Hr or less, preferably 500 ° C./Hr or less. Also, 450
It is also effective to provide a zone where the temperature hardly changes in the region of up to 600 ° C. and set the passage time of the zone to 0.5 to 5 hours. For example, the heater can be divided into a plurality of heaters in the axial direction of the rotary kiln to control the heating intensity in the axial direction. In this case, it is desirable to relatively increase the heating strength and narrow the zone range in the temperature range where the water evaporates from around room temperature and the temperature range where the water evaporates. Next, it is desirable to control so that the temperature of the powder slowly rises without extreme heating in a temperature range where the heat of the sensible heat of silica gel is supplied to raise the temperature of the powder.

【0017】一方、シリカゲル粉末のロータリーキルン
への供給速度は一定とするのが望ましい。粉体の加熱処
理条件が一定でないと得られる処理粉体の品質にバラつ
きが生じることになるので、供給速度を一定とするのが
望ましい。この為には、例えばテーブルフィーダー、ロ
ータリーバルブ、チョークバルブ等の、定量性のある装
置により供給するのが望ましい。
On the other hand, it is desirable that the supply rate of the silica gel powder to the rotary kiln be constant. If the heat treatment conditions for the powder are not constant, the quality of the treated powder obtained will vary, so it is desirable to keep the supply rate constant. For this purpose, it is desirable to supply by a quantitative device such as a table feeder, a rotary valve, a choke valve or the like.

【0018】加熱処理の雰囲気は、清浄な空気あるいは
酸素含有ガス雰囲気下とする。具体的には、炉心管の片
端より清浄な空気あるいは、酸素含有ガスを供給し、他
端より排出する方法をとることができる。ガスの供給方
法は、特に限定されないが、シリカゲルに含有される水
分が蒸発する領域の加熱処理においては、ガスをシリカ
ゲル粉末と同一の片端より供給し、これらを他端より排
出するのが望ましい。粉体を供給する片端の温度は室温
に近いので、向流で供給した場合、粉体の供給口近傍で
水蒸気が凝縮し粉体がブック化し、流動性が悪化するお
それがあるからである。ガスの供給をノズル等で行う場
合、ガス供給ノズルを粉体供給ノズルより上方に設け、
ノズル方向を炉心管の軸と水平または上向きとするのが
望ましい。同時に粉体の供給ノズルを炉心管の軸と水平
または下向きとすれば、炉心管内での粉体のショートパ
スを防ぐことができるからである。供給ガスの炉心管内
での線速を1m/s以下、好ましくは0.5m/s以下
とし、転動する粉体が巻き上げられて気層部をショート
パスすることを防ぐのが望ましい。
The atmosphere for the heat treatment is clean air or an oxygen-containing gas atmosphere. Specifically, a method of supplying clean air or oxygen-containing gas from one end of the core tube and discharging it from the other end can be used. The method of supplying the gas is not particularly limited, but in the heat treatment in the region where the water content contained in the silica gel evaporates, it is desirable to supply the gas from the same one end as the silica gel powder and discharge them from the other end. This is because the temperature of one end of supplying the powder is close to room temperature, and therefore, when the powder is supplied in a countercurrent, water vapor is condensed near the supply port of the powder and the powder becomes a book, which may deteriorate the fluidity. When gas is supplied by a nozzle or the like, the gas supply nozzle is provided above the powder supply nozzle,
It is desirable that the nozzle direction be horizontal or upward with respect to the axis of the core tube. At the same time, if the powder supply nozzle is made horizontal or downward with respect to the axis of the core tube, it is possible to prevent the powder short path in the core tube. It is desirable that the linear velocity of the supply gas in the core tube is set to 1 m / s or less, preferably 0.5 m / s or less to prevent the rolling powder from being rolled up and short-passing the gas layer.

【0019】加熱処理を経た処理粉体は、供給ガスとと
もに炉心管より排出されるので、処理粉体と供給ガスと
の分離を行う。この際ガスの線速を1m/s以下、好ま
しくは0.5m/s以下となるようにサイクロン等のセ
パレーターを設計し、処理粉体の一部が排ガス中に同伴
されることによる歩留り低下を防ぐのが望ましい。な
お、製品へのコンタミ防止のため、供給ガスを予め精製
しておくのが望ましい。特に、0.02μm以下をカッ
トできるフィルターを通すのが望ましい。
The treated powder that has undergone the heat treatment is discharged from the core tube together with the supply gas, so that the treated powder and the supply gas are separated. At this time, a separator such as a cyclone is designed so that the linear velocity of the gas is 1 m / s or less, preferably 0.5 m / s or less, to reduce the yield due to a part of the treated powder being entrained in the exhaust gas. It is desirable to prevent it. In order to prevent contamination of the product, it is desirable to refine the supply gas in advance. In particular, it is desirable to pass a filter capable of cutting 0.02 μm or less.

【0020】ガスの供給量は、通常、連続的に供給する
粉体1kg当たり、酸素換算で30〜300リットル/
Hrである。尚、かかる連続操作によるシリカゲルの加
熱処理を実現するため、本発明においてはロータリーキ
ルンの傾斜角を3°以下、好ましくは1°以下として行
うのが好適である。意外なことに、シリカゲル粉末の加
熱処理に際しては、傾斜角が実質的に0°、すなわち全
く水平としても、連続加熱処理に支障がないばかりか、
かえって望ましいことが判明した。この際、ドーナツ型
堰等を設け、供給口の口径を、排出口の口径より小さく
しておくのが望ましい。ロータリーキルンの傾斜角が3
°を超すと、加熱処理を受けるシリカゲルがバックフロ
ーを生ずることがある。すなわちシリカゲルがロータリ
ーキルン内を進行方向に対しピストンフロー的に移動し
ない。このような場合、シリカゲルの上滑り、ショート
カット、及びこれらを原因とするシリカゲルの生焼けを
生じやすい。
The gas supply rate is usually 30 to 300 liters / oxygen equivalent per 1 kg of powder continuously supplied.
It is Hr. In order to realize the heat treatment of silica gel by such a continuous operation, in the present invention, it is suitable to perform the inclination angle of the rotary kiln at 3 ° or less, preferably 1 ° or less. Surprisingly, in the heat treatment of the silica gel powder, even if the inclination angle is substantially 0 °, that is, it is completely horizontal, it does not hinder the continuous heat treatment.
On the contrary, it turned out to be desirable. At this time, it is desirable to provide a donut type weir or the like and make the diameter of the supply port smaller than the diameter of the discharge port. The angle of inclination of the rotary kiln is 3
Above 0 ° C, silica gel that has undergone heat treatment may cause backflow. That is, the silica gel does not move in the rotary kiln as a piston flow in the traveling direction. In such a case, slippage of the silica gel, short-cut, and the burnt-out of the silica gel due to these are likely to occur.

【0021】上述した本発明の態様により、ロータリー
キルン内の各点で、実質的に定常状態とすることができ
る。すなわち各点における処理粉体の物性が、時間に対
し変化せず、物性は、ロータリーキルンの軸方向の関数
となるのである。そして、上述した本発明の目的を達成
することができるのである。
The above-described aspect of the present invention allows for substantially steady state at each point in the rotary kiln. That is, the physical properties of the treated powder at each point do not change with time, and the physical properties become a function in the axial direction of the rotary kiln. Then, the above-mentioned object of the present invention can be achieved.

【0022】また本発明においては、ロータリーキルン
内でシリカゲル粉末を流動させつつ加熱処理する。ここ
で粉体が「流動する」とは、例えば粉体を仕込んだ回転
状態のロータリーキルンの断面を示す図2を用い静止状
態のロータリーキルンの断面を示す図1と比較して説明
すると、粉体(1)と炉心管(2)壁の接粉面(3)と
の間には実質的に滑りが生じておらず、粉体が炉心管壁
で持ち上げられ、安息角以上で粉体が壁面を離れて炉心
管壁下部に流下している(図2中の黒矢印方向)状態を
いう。ロータリーキルンにシリカゲル粉末を連続的に供
給し、これを流動させつつ加熱処理を行うことにより、
カーボンの減少が促進されるとともに、均質な処理粉体
が得られる。かかる加熱処理により、シリカゲル中のカ
ーボン濃度は、50〜1000ppm程度に減少する。
Further, in the present invention, heat treatment is carried out while flowing silica gel powder in a rotary kiln. Here, when the powder “flows”, for example, will be described with reference to FIG. 2 showing a cross section of a rotary kiln in a rotating state in which the powder is charged, in comparison with FIG. 1 showing a cross section of the rotary kiln in a stationary state, the powder ( There is substantially no slippage between 1) and the powder contact surface (3) of the wall of the core tube (2), the powder is lifted by the wall of the core tube, and the powder falls on the wall surface above the repose angle. It refers to the state where they are separated and flow down to the bottom of the core tube wall (in the direction of the black arrow in FIG. 2). By continuously supplying silica gel powder to the rotary kiln and performing heat treatment while flowing this,
The reduction of carbon is promoted and a homogeneous treated powder is obtained. By such heat treatment, the carbon concentration in silica gel is reduced to about 50 to 1000 ppm.

【0023】残存するカーボンがほぼ消失した処理粉体
は、引き続き加熱され、最終的な粉体の温度は、900
〜1100℃、好ましくは950〜1050℃まで高め
られる。この際の昇温速度は通常、100〜1000℃
/Hrである。この温度領域における加熱処理も、ロー
タリーキルンの片端よりシリカゲル粉末を連続的に供給
しつつ行う。この際も、清浄な空気あるいは酸素含有ガ
ス雰囲気下で加熱処理を行う。具体的には、炉心管の片
端より清浄な空気あるいは酸素含有ガスを供給し、他端
より排出する方法がとられる。ガスの供給量は、通常、
連続的に供給する粉体1kg当たり、酸素換算で3〜5
0リットル/Hrである。またこの温度領域における加
熱処理もロータリーキルンを用い、粉体を流動させつつ
行う。ロータリーキルンを用い、粉体を流動させつつ加
熱処理を行うことにより、均一な加熱が行われ、均一な
処理粉体が得られる。この処理により、シリカゲルの封
孔はほぼ終了し、0.7〜0.8g/ml程度であった
粉体の嵩密度(以下、「嵩密度」と称す)は、1.0〜
1.2g/ml程度まで上昇する。
The treated powder from which the residual carbon has almost disappeared is continuously heated, and the final temperature of the powder is 900
~ 1100 ° C, preferably raised to 950-1050 ° C. The heating rate at this time is usually 100 to 1000 ° C.
/ Hr. The heat treatment in this temperature range is also performed while continuously supplying silica gel powder from one end of the rotary kiln. Also in this case, the heat treatment is performed in a clean air or oxygen-containing gas atmosphere. Specifically, a method of supplying clean air or oxygen-containing gas from one end of the core tube and discharging it from the other end is adopted. The gas supply is usually
3 to 5 in terms of oxygen per 1 kg of powder continuously supplied
It is 0 liter / Hr. The heat treatment in this temperature range is also performed using a rotary kiln while flowing the powder. By using a rotary kiln to perform heat treatment while flowing the powder, uniform heating is performed, and uniform treated powder is obtained. By this treatment, the sealing of the silica gel was almost completed, and the bulk density (hereinafter referred to as "bulk density") of the powder, which was about 0.7 to 0.8 g / ml, was 1.0 to
It rises to about 1.2 g / ml.

【0024】本発明に従いシリカゲル粉末に加熱処理を
施すと合成石英粉が得られるが、通常、シラノールが1
000ppm以上残存している。そこで、通常は更に高
められた温度領域での焼成を行う。焼成に用いる容器
は、合成石英粉への不純物のコンタミを発生させない材
質、例えば、石英のるつぼを用いる。この焼成において
は、すでに、焼成を施す粉体中のカーボンは実質的に全
量除去されているので、昇温速度に特別な注意を払う必
要はない。従って、容器内での昇温速度のばらつきが品
質に影響を与えないので、均質な製品が得られ、従来に
比べ、大容量の容器の使用も可能となる。また、予め、
粉体の嵩密度が充分に高められており、焼成前の粉体と
焼成後の粉体の嵩密度に大きな変化がなく、容器を効率
的に利用出来るので、生産性の向上が図られる。
When silica gel powder is subjected to heat treatment according to the present invention, synthetic quartz powder is obtained.
000 ppm or more remains. Therefore, usually, firing is performed in a temperature range further increased. For the container used for firing, a material that does not generate contamination of synthetic quartz powder with impurities, for example, a quartz crucible is used. In this firing, since carbon in the powder to be fired has been substantially completely removed, it is not necessary to pay particular attention to the heating rate. Therefore, since the variation in the temperature rising rate in the container does not affect the quality, a homogeneous product can be obtained, and a container having a large capacity can be used as compared with the conventional product. Also, in advance,
The bulk density of the powder is sufficiently increased, the bulk density of the powder before firing and the powder after firing do not significantly change, and the container can be efficiently used, so that the productivity can be improved.

【0025】焼成温度は、通常、1100〜1300℃
である。昇温速度は特に限定されず、100〜2000
℃/Hrの範囲から適宜選択される。焼成時間は、焼成
温度にもよるが、通常10〜100時間で、合成石英中
のシラノール濃度が100ppm以下、好ましくは60
ppm以下となるまで継続される。また、加熱の際に実
質的に水分を含有しない空気、あるいは、不活性ガスを
流通しつつ行うとシラノール基の減少速度が加速される
ので好ましい。当然ながら、焼成後の合成石英粉中に
は、実質的にカーボンは存在しない。
The firing temperature is usually 1100 to 1300 ° C.
Is. The temperature rising rate is not particularly limited, and is 100 to 2000
It is appropriately selected from the range of ° C / Hr. Although the firing time depends on the firing temperature, it is usually 10 to 100 hours, and the silanol concentration in the synthetic quartz is 100 ppm or less, preferably 60.
It is continued until it becomes below ppm. Further, it is preferable that the heating is carried out while flowing air containing substantially no water or an inert gas, because the rate of reduction of silanol groups is accelerated. As a matter of course, substantially no carbon is present in the synthetic quartz powder after firing.

【0026】このようにして得られた合成石英粉は、成
形体に成形することができる。その成形方法は、成形体
の用途によっても異なるが、例えば、用途がるつぼであ
る場合にはアークメルト法が、IC用治具である場合に
は、一旦、酸水素炎によるベルヌーイ法でインゴットに
成形する方法や、炭素製の鋳型を用い真空下で加熱溶融
するフュージョン法等が挙げられる。いずれの場合も、
本発明によって得られた合成石英粉を用いることによ
り、泡の発生が極めて少ない成形体が得られるので、成
形体の品質及び製品歩留りが大きく向上する。
The synthetic quartz powder thus obtained can be molded into a compact. The forming method varies depending on the use of the formed body. For example, when the use is a crucible, the arc melt method is used, and when the use is an IC jig, the ingot is once produced by the Bernoulli method using an oxyhydrogen flame. Examples thereof include a molding method and a fusion method in which a carbon mold is used to heat and melt under vacuum. In either case,
By using the synthetic quartz powder obtained by the present invention, it is possible to obtain a molded product with extremely few bubbles, so that the quality of the molded product and the product yield are greatly improved.

【0027】[0027]

【実施例】以下実施例により本発明を具体的に説明する
が、本発明はその要旨をこえない限り実施例に制約され
るものではない。 実施例1 (ドライシリカゲル粉末の製造)高純度テトラメトキシ
シランを水と反応させ、塊状の、水分含有量30重量%
以上のシリカゲル(以下「ウェットシリカゲル」とい
う)を得た。この塊状のウェットシリカゲルを網式粉砕
機で粉砕した後、減圧下で加熱乾燥し、粉状のドライシ
リカゲルを得た。この粉状のドライシリカゲルを、振動
篩別機で分級し500μm以下100μm以上のものを
取得した。この分級後のドライシリカゲル(以下「ドラ
イシリカゲル粉末」という)を分析したところ、含水率
は19.5重量%で、カーボン濃度は1.1重量%であ
った。また、この粉体の嵩密度は、0.92g/mlで
あった。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to the examples unless it exceeds the gist. Example 1 (Production of dry silica gel powder) High-purity tetramethoxysilane was reacted with water to give a lumpy water content of 30% by weight.
The above silica gel (hereinafter referred to as "wet silica gel") was obtained. The lump-shaped wet silica gel was crushed with a net crusher and then dried by heating under reduced pressure to obtain powdery dry silica gel. The powdery dry silica gel was classified by a vibration sieving machine to obtain particles of 500 μm or less and 100 μm or more. When the dry silica gel (hereinafter referred to as "dry silica gel powder") after the classification was analyzed, the water content was 19.5% by weight and the carbon concentration was 1.1% by weight. The bulk density of this powder was 0.92 g / ml.

【0028】(加熱処理)こうして得られたドライシリ
カゲル粉末を用い、図1に示すロータリーキルンを用い
加熱処理を行った。図1中6は、ドライゲルホッパー、
7はテーブルフィーダー、8は炉心管、9は供給口、1
0は供給口ドーナツ状堰、11は空気供給管、12は排
出口、13は排出口ドーナツ状堰、14は処理粉受器、
15は第1加熱ヒーター、16は第2加熱ヒーター、1
7は第3加熱ヒーター、18は第4加熱ヒーター、19
は第5加熱ヒーター、20はドライシリカゲル粉末であ
る。
(Heat Treatment) Using the dry silica gel powder thus obtained, heat treatment was carried out using the rotary kiln shown in FIG. 1 in FIG. 1 is a dry gel hopper,
7 is a table feeder, 8 is a core tube, 9 is a supply port, 1
0 is a supply port donut-shaped weir, 11 is an air supply pipe, 12 is an outlet, 13 is an outlet donut-shaped weir, 14 is a treated powder receiver,
Reference numeral 15 is a first heater, 16 is a second heater, 1
7 is a third heater, 18 is a fourth heater, 19
Is a fifth heater and 20 is dry silica gel powder.

【0029】炉心管(3)は材質が石英で、長さ(加熱
ゾーン):2m、内径:200mm、供給口ドーナツ状
堰開口径:40mm、排出口ドーナツ状開口径:40m
mの寸法を有する。また炉心管は、傾斜角度が0.5°
になるように調節した。まず、各加熱ヒーターを500
℃に昇温し、炉心管を4rpmで回転させつつ、ドライ
シリカゲル粉末を6.2kg/Hrで、空気を4500
リットル/Hrで供給口より供給し加熱処理を行った。
供給操作開始後、4、6、8時間目に排出された粉を分
析したところ、表1に示す値であった。
The core tube (3) is made of quartz and has a length (heating zone) of 2 m, an inner diameter of 200 mm, a donut-shaped weir opening diameter of the supply port: 40 mm, a donut-shaped opening diameter of the discharge port: 40 m.
It has a dimension of m. The core tube has an inclination angle of 0.5 °.
Adjusted so that First, set each heater to 500
The temperature was raised to ℃, while rotating the core tube at 4 rpm, dry silica gel powder at 6.2 kg / Hr and air at 4500.
It was supplied from the supply port in liter / Hr and heat-treated.
The powder discharged at 4, 6 and 8 hours after the start of the feeding operation was analyzed and found to have the values shown in Table 1.

【0030】[0030]

【表1】 [Table 1]

【0031】次に、同様のロータリーキルンを用い、上
記操作で得られた処理粉を、以下に示す条件で加熱処理
した。第1加熱ヒーター:600℃、第2加熱ヒータ
ー:700℃、第3加熱ヒーター:850℃、第4加熱
ヒーター:1000℃、第5加熱ヒーター:1060℃
に昇温し、炉心管を4rpmで回転させつつ、粉体を
6.5kg/Hrで、空気を1000リットル/Hrで
供給口より供給した。供給操作開始後、4、6、8時間
目に排出された合成石英粉を分析したところ、表2に示
す値であった。
Next, using the same rotary kiln, the treated powder obtained by the above operation was heat-treated under the following conditions. First heating heater: 600 ° C, second heating heater: 700 ° C, third heating heater: 850 ° C, fourth heating heater: 1000 ° C, fifth heating heater: 1060 ° C
The temperature was raised to 1, and while the core tube was rotated at 4 rpm, powder was supplied at 6.5 kg / Hr and air was supplied at 1000 liter / Hr from the supply port. When the synthetic quartz powder discharged 4, 6 and 8 hours after the start of the feeding operation was analyzed, the values were as shown in Table 2.

【0032】[0032]

【表2】 [Table 2]

【0033】(焼成) 加熱処理で得られた合成石英粉
60kgを直径560mmの石英製るつぼに仕込み、電
気炉内で加熱し焼成を行った。炉は昇温速度240℃/
Hrで、到達温度1200℃まで昇温後、同温度で60
時間保持した。この際、るつぼ上部に、露点が−50℃
の清浄な乾燥空気を1900リットル/Hrで流通し
た。保持終了後、加熱を停止し、室温まで冷却した。冷
却の際にも、清浄な空気を流通した。焼成後に得られた
合成石英粉は、59kgであった。得られた合成石英粉
を、サンプリング場所毎に分析したところ表3に示す値
であった。
(Baking) 60 kg of synthetic quartz powder obtained by the heat treatment was placed in a quartz crucible having a diameter of 560 mm, and heated in an electric furnace to be fired. Furnace heating rate 240 ℃ /
With Hr, after raising the ultimate temperature to 1200 ° C, 60 at the same temperature
Held for hours. At this time, the dew point was -50 ° C above the crucible.
Of clean dry air of 1900 liters / Hr. After the end of the holding, heating was stopped and the temperature was cooled to room temperature. Clean air was also circulated during cooling. The synthetic quartz powder obtained after firing was 59 kg. When the obtained synthetic quartz powder was analyzed at each sampling location, the values shown in Table 3 were obtained.

【0034】[0034]

【表3】 [Table 3]

【0035】(成形) 焼成で得られた合成石英粉を、
各々のサンプリング場所毎に、ベルヌーイ法で、インゴ
ットに成形した。インゴット中に、泡の発生は見られな
かった。
(Molding) The synthetic quartz powder obtained by firing was
An ingot was formed by the Bernoulli method at each sampling location. No bubbling was observed in the ingot.

【0036】比較例1 実施例1の(ドライシリカゲル粉末の作成)で得られた
ドライシリカゲル粉末60kgを、加熱処理を施すこと
なく、直接るつぼに仕込み、電気炉内で加熱し、実施例
1の(焼成)と同様の操作で焼成を行った。こうして得
られた合成石英粉は、47kgであった。この合成石英
粉を、サンプリング場所毎に分析したところ表4に示す
値であった。この合成石英粉を、各々のサンプリング場
所毎に、ベルヌーイ法で、インゴットに成形した。イン
ゴット内の発泡状態を表4に示す。
Comparative Example 1 60 kg of the dry silica gel powder obtained in (Preparation of dry silica gel powder) of Example 1 was directly charged into a crucible and heated in an electric furnace without being subjected to heat treatment. Firing was performed by the same operation as (firing). The synthetic quartz powder thus obtained was 47 kg. When this synthetic quartz powder was analyzed at each sampling location, the values were as shown in Table 4. This synthetic quartz powder was molded into ingots by the Bernoulli method at each sampling location. Table 4 shows the foaming state in the ingot.

【0037】[0037]

【表4】 [Table 4]

【0038】[0038]

【発明の効果】本発明により、溶融成形時に発泡のない
合成石英粉を効率的に製造することができる。
Industrial Applicability According to the present invention, it is possible to efficiently produce synthetic quartz powder that does not foam during melt molding.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】粉体を仕込んだ静止状態のロータリーキルンの
断面図
[Fig. 1] Cross-sectional view of a rotary kiln in a stationary state charged with powder.

【図2】仕込んだ粉体が流動状態にある、回転状態のロ
ータリーキルンの断面
[Fig. 2] Cross section of a rotary kiln in a rotating state in which the charged powder is in a fluid state.

【図3】本発明で用いられるロータリーキルンの一例を
示す図。
FIG. 3 is a diagram showing an example of a rotary kiln used in the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 粉体 2 炉心管 3 接粉面 4 炉心管内の空隙 5 粉体面 6 ドライゲルホッパー 7 テーブルフィーダー 8 炉心管 9 供給口 10 供給口ドーナツ状堰 11 空気供給管 12 排出口 13 排出口ドーナツ状堰 15 第1加熱ヒーター 16 第2加熱ヒーター 17 第3加熱ヒーター 18 第4加熱ヒーター 19 第5加熱ヒーター 1 powder 2 core tube 3 powder contact surface 4 void in core tube 5 powder surface 6 dry gel hopper 7 table feeder 8 core tube 9 supply port 10 supply port donut shaped weir 11 air supply pipe 12 discharge port 13 discharge port donut shape Weir 15 1st heater 16 2nd heater 17 3rd heater 18 4th heater 19 5th heater

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 シリカゲル粉末を、流動させながら加熱
処理する工程を含む合成石英粉の製造方法において、シ
リカゲル粉末をロータリーキルンの片端より連続的に供
給しつつ加熱処理することを特徴とする合成石英粉の製
造方法。
1. A synthetic quartz powder comprising a step of heat-treating silica gel powder while flowing, wherein the silica gel powder is heat-treated while being continuously supplied from one end of a rotary kiln. Manufacturing method.
【請求項2】 加熱処理の最終温度が900〜1100
℃である請求項1記載の合成石英粉の製造方法。
2. The final temperature of the heat treatment is 900 to 1100.
The method for producing a synthetic quartz powder according to claim 1, wherein the temperature is 0 ° C.
【請求項3】 加熱処理を1100℃以下で行った後更
に1100℃を超える温度で焼成することを特徴とする
請求項1又は2記載の合成石英粉の製造方法。
3. The method for producing synthetic quartz powder according to claim 1, wherein the heat treatment is performed at 1100 ° C. or lower and then firing is performed at a temperature higher than 1100 ° C.
【請求項4】 ロータリーキルンの傾斜角が3°以下で
あることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載
の合成石英粉の製造方法。
4. The method for producing synthetic quartz powder according to claim 1, wherein the inclination angle of the rotary kiln is 3 ° or less.
【請求項5】 多段のロータリーキルンを用いて行う請
求項1〜4のいずれかに記載の合成石英粉の製造方法。
5. The method for producing synthetic quartz powder according to claim 1, which is carried out using a multistage rotary kiln.
【請求項6】 ロータリーキルンの炉心管の材質が石英
である請求項1〜5のいずれかに記載の合成石英粉の製
造方法。
6. The method for producing synthetic quartz powder according to claim 1, wherein the material of the core tube of the rotary kiln is quartz.
【請求項7】 シリカゲル粉末がテトラアルコキシシラ
ンの加水分解により得られたものである請求項1〜6の
いずれかに記載の合成石英粉の製造方法。
7. The method for producing synthetic quartz powder according to claim 1, wherein the silica gel powder is obtained by hydrolysis of tetraalkoxysilane.
【請求項8】 ヒーターをロータリーキルンの軸方向に
複数個設けることによりロータリーキルンの軸方向の加
熱強度を制御することを特徴とする請求項1〜7のいず
れかに記載の合成石英粉の製造方法。
8. The method for producing synthetic quartz powder according to claim 1, wherein the heating strength in the axial direction of the rotary kiln is controlled by providing a plurality of heaters in the axial direction of the rotary kiln.
【請求項9】 シリカゲル粉末がテトラアルコキシシラ
ンの加水分解により得られたものである請求項1〜8の
いずれかに記載の合成石英粉の製造方法。
9. The method for producing synthetic quartz powder according to claim 1, wherein the silica gel powder is obtained by hydrolysis of tetraalkoxysilane.
【請求項10】 シリカゲル粉末を、流動させながら加
熱処理する際シリカゲル粉末をロータリーキルンの片端
より連続的に供給しつつ加熱処理を行うことにより得ら
れた合成石英粉を、更に溶融することを特徴とする石英
ガラス成形体の製造方法。
10. A synthetic quartz powder obtained by performing heat treatment while continuously supplying silica gel powder from one end of a rotary kiln during heat treatment while flowing the silica gel powder is further melted. A method for producing a molded quartz glass body.
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