JPH08304732A - Slit light irradiation optical system - Google Patents
Slit light irradiation optical systemInfo
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- JPH08304732A JPH08304732A JP10491995A JP10491995A JPH08304732A JP H08304732 A JPH08304732 A JP H08304732A JP 10491995 A JP10491995 A JP 10491995A JP 10491995 A JP10491995 A JP 10491995A JP H08304732 A JPH08304732 A JP H08304732A
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- Japan
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- cylindrical
- integrator
- generatrix
- slit light
- optical system
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- Laser Beam Processing (AREA)
- Recrystallisation Techniques (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 簡単な構成で均一なレーザスリット光を生成
でき、広い物質表面を均一なスリット光で照射できるス
リット光照射光学系を提供する。
【構成】 シリンドリカルインテグレータ2は、その表
面に短冊状のシリンドリカルレンズ面2aを有し入射す
るレーザ光1を分割集光させたのち互いに重ね合わせ
る。その後レーザ光は、シリンドリカルインテグレータ
母線2b方向に直交する母線5bを有するシリンドリカ
ルレンズ5に入射される。各母線2b、5bは直交して
いるので、各レーザ光は、シリンドリカルインテグレー
タの母線方向には、シリンドリカルレンズにより一点F
5に絞られるように集光され、また母線5b方向には互
いに同一面に重ね合わされて集光される。従って、長手
方向並びに幅方向に均一なパワー分布P1、P2を有する
スリット光が形成される。
(57) [Summary] [Object] To provide a slit light irradiation optical system capable of generating uniform laser slit light with a simple configuration and irradiating a wide material surface with uniform slit light. [Structure] The cylindrical integrator 2 has a strip-shaped cylindrical lens surface 2a on the surface thereof, and splits and condenses the incident laser light 1 and then superimposes them. After that, the laser light is incident on the cylindrical lens 5 having the generatrix 5b orthogonal to the direction of the cylindrical integrator generatrix 2b. Since the respective bus lines 2b and 5b are orthogonal to each other, each laser beam is directed to a single point F by the cylindrical lens in the bus line direction of the cylindrical integrator.
The light is focused so as to be narrowed down to 5, and is also focused on the same plane in the direction of the generatrix 5b. Therefore, slit light having uniform power distributions P1 and P2 in the longitudinal direction and the width direction is formed.
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、スリット光照射光学
系、更に詳細には、レーザ光を均一なスリット光に整形
して照射するスリット光照射光学系に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a slit light irradiation optical system, and more particularly to a slit light irradiation optical system for shaping a laser light into uniform slit light and irradiating the slit light.
【0002】[0002]
【従来の技術】レーザ光を照射して物質表面の化学的あ
るいは物理的性質を変える方法が各種分野で応用されて
いる。この場合、物質表面にレーザ光を照射する方法と
しては、レーザ光を微小スポット状にして照射する方法
が用いられており、このスポット状のレーザ光をミラー
等によって2次元的に偏向させ物質表面を走査する方法
が知られている。しかしこの方法ではレーザ光がスポッ
ト状のため広い物質表面を走査するには時間がかかると
いう欠点があった。2. Description of the Related Art A method of irradiating a laser beam to change the chemical or physical property of a material surface is applied in various fields. In this case, as a method of irradiating the material surface with laser light, a method of irradiating the laser light in the form of minute spots is used. There is known a method of scanning the. However, this method has a drawback that it takes time to scan a wide material surface because the laser beam is spot-shaped.
【0003】また、スリット状のレーザ光を用いて走査
すれば、走査時間は短縮されるが、均一な分布を有する
スリット光を得るのが困難である、という問題があっ
た。Further, if scanning is performed using a slit-shaped laser beam, the scanning time is shortened, but there is a problem that it is difficult to obtain slit light having a uniform distribution.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明は、こ
のような点に鑑みてなされたもので、簡単な構成で均一
なレーザスリット光を生成でき、広い物質表面を均一な
スリット光で照射できるスリット光照射光学系を提供す
ることを課題とする。SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, the present invention has been made in view of the above points, and can generate uniform laser slit light with a simple structure and irradiate a wide material surface with uniform slit light. It is an object of the present invention to provide a slit light irradiation optical system that can be performed.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明は、この課題を解
決するために、短冊状のシリンドリカルレンズ面を有
し、入射するレーザ光を各シリンドリカルレンズ面で分
割集光させたあと重ね合わせるシリンドリカルインテグ
レータと、前記シリンドリカルインテグレータの母線方
向に直交する母線を有し、シリンドリカルインテグレー
タからのレーザ光を集光してシリンドリカルインテグレ
ータの母線方向に直交する方向にスリット光を生成する
シリンドリカル光学素子とからなる構成を採用した。In order to solve this problem, the present invention has a cylindrical lens surface in the form of a strip, in which incident laser light is divided and condensed at each cylindrical lens surface and then superposed. An integrator, having a busbar orthogonal to the busbar direction of the cylindrical integrator, a configuration comprising a cylindrical optical element that collects laser light from the cylindrical integrator and generates slit light in a direction orthogonal to the busbar direction of the cylindrical integrator. It was adopted.
【0006】[0006]
【作用】このような構成では、シリンドリカルインテグ
レータは、その表面に短冊状のシリンドリカルレンズ面
を有し、各シリンドリカルレンズ面に入射するレーザ光
を分割集光させたあと互いに重ね合わせる。このように
シリンドリカルインテグレータにより形成されたレーザ
光は、シリンドリカルインテグレータの母線方向に直交
する母線を有するシリンドリカル光学素子に入射され
る。このシリンドリカル光学素子の母線は、シリンドリ
カルインテグレータの母線方向と直交しているので、レ
ーザ光は、シリンドリカルインテグレータの母線方向に
おいては、シリンドリカル光学素子により一点に絞られ
るように集光され、一方シリンドリカルインテグレータ
の母線と直交する方向においては、同一面に重ね合わせ
て集光されるので、シリンドリカル光学素子の母線方向
に均一に延びるスリット光が形成される。このスリット
光は、長手方向に台形状の、また幅方向に尖状の均一な
パワー分布を有し、スピードアップの図れるスリット光
照射光学系が実現される。In such a structure, the cylindrical integrator has a strip-shaped cylindrical lens surface on its surface, and the laser beams incident on the respective cylindrical lens surfaces are divided and condensed and then superposed on each other. The laser light thus formed by the cylindrical integrator is incident on the cylindrical optical element having a generatrix orthogonal to the generatrix direction of the cylindrical integrator. Since the generatrix of this cylindrical optical element is orthogonal to the generatrix direction of the cylindrical integrator, the laser light is condensed in the generatrix direction of the cylindrical integrator so that it is focused by the cylindrical optical element, while the laser light of the cylindrical integrator is condensed. In the direction orthogonal to the generatrix, the light is superimposed and condensed on the same surface, so that slit light that extends uniformly in the generatrix direction of the cylindrical optical element is formed. This slit light has a uniform power distribution that is trapezoidal in the longitudinal direction and pointed in the width direction, and realizes a slit light irradiation optical system capable of speeding up.
【0007】[0007]
【実施例】以下、図面に示す実施例に従って本発明を詳
細に説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described in detail below with reference to the embodiments shown in the drawings.
【0008】図1には本発明の第1の実施例が図示され
ている。同図において、1はエキシマレーザ光である。
このエキシマレーザ光1は、各母線が垂直方向に平行に
配置された複数の短冊状のシリンドリカルレンズ面から
構成されたシリンドリカルインテグレータ2に入射され
る。シリンドリカルインテグレータ2からのレーザ光
は、ミラー3および4でその光路が折り曲げられ、全体
の装置を小型化にしている。ミラー4で偏向されたレー
ザ光は、シリンドリカルインテグレータ2のレンズ面の
母線と直角方向になるように母線が配置されたスリット
光生成シリンドリカルレンズ5に入射され、表面改質を
しようとする物質6に入射される。FIG. 1 shows a first embodiment of the present invention. In the figure, 1 is an excimer laser beam.
The excimer laser light 1 is incident on a cylindrical integrator 2 composed of a plurality of strip-shaped cylindrical lens surfaces in which each generatrix is arranged in parallel in the vertical direction. The optical path of the laser light from the cylindrical integrator 2 is bent by the mirrors 3 and 4, so that the entire device is downsized. The laser light deflected by the mirror 4 is incident on the slit light generating cylindrical lens 5 whose generatrix is arranged so as to be in a direction perpendicular to the generatrix of the lens surface of the cylindrical integrator 2, and is made to enter the substance 6 to be surface-modified. It is incident.
【0009】図2には、図1の実施例についてミラー
4、5を省略した光学系が概念図として図示されてい
る。図2の(A)から明らかなように、シリンドリカル
インテグレータ2は複数のシリンドリカルレンズ素子か
らなりそのレーザ光入射面には短冊状のシリンドリカル
レンズ面2aが形成されている。また、シリンドリカル
インテグレータ2の母線2b(図2の(B))は、シリ
ンドリカルレンズ5の母線5bと直交していることが理
解される。FIG. 2 is a conceptual diagram showing an optical system in which the mirrors 4 and 5 are omitted in the embodiment shown in FIG. As is clear from FIG. 2A, the cylindrical integrator 2 is composed of a plurality of cylindrical lens elements, and a strip-shaped cylindrical lens surface 2a is formed on the laser light incident surface thereof. Further, it is understood that the generatrix 2b of the cylindrical integrator 2 ((B) of FIG. 2) is orthogonal to the generatrix 5b of the cylindrical lens 5.
【0010】以上のような構成の光学系における機能に
ついて説明する。The function of the optical system having the above configuration will be described.
【0011】一般に物質の表面改質には紫外域のエキシ
マレーザが用いられる。そして、エキシマレーザは概ね
図3に示すようなビームプロファィルを有している。す
なわち、ビーム断面形状は丸みを帯びた矩形状であり、
長辺方向(A)のパワー分布は台形状、短辺方向(B)
はガウス分布に類似している。Generally, an excimer laser in the ultraviolet region is used for surface modification of a substance. The excimer laser has a beam profile as shown in FIG. That is, the beam cross-sectional shape is a rounded rectangular shape,
The power distribution in the long side direction (A) is trapezoidal, and the short side direction (B)
Is similar to the Gaussian distribution.
【0012】このエキシマレーザを短辺方向をシリンド
リカルインテグレータ2の母線2bの方向に一致させて
入射させる。図2の(A)に示したように、エキシマレ
ーザからの入射光1は短冊状の各シリンドリカルレンズ
面2aにより分割されてそれぞれが一旦焦点F2に集光
したのち発散し互いに重なり合うようになる。焦点F2
に集光したレーザビームは図2の紙面に垂直に線状に延
びる。一方レーザビーム1は、図2の(B)に示したよ
うに、シリンドリカルインテグレータ2の母線2bの方
向には、集光されないので、シリンドリカルインテグレ
ータ2の後方では幅はほぼ入射状態のままで延びていく
ことになる。The excimer laser is made incident with its short side direction aligned with the direction of the generatrix 2b of the cylindrical integrator 2. As shown in FIG. 2A, the incident light 1 from the excimer laser is split by each of the strip-shaped cylindrical lens surfaces 2a and once condensed at the focal point F2, they are diverged and overlap each other. Focus F2
The laser beam focused on the laser beam linearly extends perpendicularly to the paper surface of FIG. On the other hand, as shown in FIG. 2B, since the laser beam 1 is not focused in the direction of the generatrix 2b of the cylindrical integrator 2, the laser beam 1 extends behind the cylindrical integrator 2 with its width substantially unchanged. I will go.
【0013】このレーザビームがミラー3、4を経たの
ち通過する所定の位置にはその長さおよび幅をカバーす
る大きさのスリット光生成シリンドリカルレンズ5が配
置される。このシリンドリカルレンズの母線5bは、シ
リンドリカルインテグレータの母線方向と直交している
ので、レーザビームはシリンドリカルインテグレータの
母線方向に延びる方向では、シリンドリカルレンズ5に
より焦点F5に絞られるように集光され、一方シリンド
リカルインテグレータの母線方向に直交する方向では、
互いに同一面に重ね合わされて集光されるので、シリン
ドリカルレンズ5に入射したレーザビームはほぼシリン
ドリカルレンズ5の焦点位置F5に長い焦線Fを形成す
る。At a predetermined position where the laser beam passes through the mirrors 3 and 4 and passes therethrough, a slit light generating cylindrical lens 5 having a size covering the length and width thereof is arranged. Since the generatrix 5b of this cylindrical lens is orthogonal to the generatrix direction of the cylindrical integrator, the laser beam is condensed so that it is focused by the cylindrical lens 5 to the focal point F5 in the direction extending in the generatrix direction of the cylindrical integrator. In the direction orthogonal to the integrator bus direction,
Since the laser beams incident on the cylindrical lens 5 are superposed and condensed on the same plane, a long focal line F is formed substantially at the focal point F5 of the cylindrical lens 5.
【0014】ここでシリンドリカルインテグレータの各
エレメント(レンズ面2a)の幅とその焦点距離の比
は、生成しようとするスリット長とシリンドリカルイン
テグレータの焦点位置F2とスリット光生成シリンドリ
カルレンズの焦点位置F5の間隔の比と概ね一致するよ
うにしてある。したがってこの焦線は、シリンドリカル
インテグレータ2で分割されたレーザビームがほぼ同じ
位置で重ね合わされており、長手方向に均一なパワー分
布P1を、またその幅方向に尖状のパワー分布P2をもつ
スリット光となる。このスリット光の幅はシリンドリカ
ルインテグレータ2の位置と焦点距離を適切に選択すれ
ぼ0.3mm程度のシャープなものにすることができ
る。Here, the ratio between the width of each element (lens surface 2a) of the cylindrical integrator and the focal length thereof is the distance between the slit length to be generated and the focal position F2 of the cylindrical integrator and the focal position F5 of the slit light producing cylindrical lens. The ratio is almost the same. Therefore, this focal line is formed by overlapping the laser beams divided by the cylindrical integrator 2 at substantially the same position, and has a uniform power distribution P1 in the longitudinal direction and a slit-shaped power distribution P2 in the width direction. Becomes The width of this slit light can be made as sharp as about 0.3 mm by appropriately selecting the position and focal length of the cylindrical integrator 2.
【0015】このようにして得られたエキシマレーザの
スリット光を物質6表面にパルス状に断続的に照射し、
物質6をパルスの周期に合わせて移動させることによっ
て、物質6表面に均一なエネルギーを与えることがで
き、表面改質を実現することができる。なお、この実施
例において、シリンドリカルレンズ5に替えてシリンド
リカルミラーを配置することも可能である。The surface of the substance 6 is intermittently irradiated with the slit light of the excimer laser thus obtained in a pulsed manner,
By moving the substance 6 in synchronization with the pulse period, it is possible to apply uniform energy to the surface of the substance 6 and realize surface modification. In this embodiment, it is possible to arrange a cylindrical mirror instead of the cylindrical lens 5.
【0016】図4〜図6には本発明の他の実施例が示さ
れている。各図において図2と同一の部分には同一の符
号が付されており、その詳細な説明は省略する。4 to 6 show another embodiment of the present invention. In each figure, the same parts as those in FIG. 2 are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.
【0017】図4に示す実施例では、シリンドリカルイ
ンテグレータ2の後方にその母線2bと平行な方向に母
線7bをもつシリンドリカルレンズ7が配置されてい
る。このシリンドリカルレンズ7はシリンドリカルイン
テグレータ2の各レンズ面2aを通過したレーザビーム
を物質表面上で一致させられるようにその焦点F7がス
リット光中央にほぼ一致させてあり、スリット光の長手
方向の重ね合わせを極めて有効におこなう機能をもつも
ので、図4の(A)に示したように、長手方向にパワー
分布P3の立上りおよび立下がりを急峻なものにするこ
とができる。これによって、より有効にエキシマレーザ
のエネルギーを利用することができる。このシリンドリ
カルレンズ7はシリンドリカルインテグレータ2の前方
に配置することもできる。In the embodiment shown in FIG. 4, a cylindrical lens 7 having a generatrix 7b in a direction parallel to the generatrix 2b is arranged behind the cylindrical integrator 2. This cylindrical lens 7 has its focal point F7 substantially aligned with the slit light center so that the laser beam that has passed through each lens surface 2a of the cylindrical integrator 2 can be aligned on the material surface, and the slit light is superposed in the longitudinal direction. 4A, the power distribution P3 can have a sharp rise and fall in the longitudinal direction as shown in FIG. This allows the energy of the excimer laser to be used more effectively. This cylindrical lens 7 can also be arranged in front of the cylindrical integrator 2.
【0018】図5に示す実施例では、シリンドリカルイ
ンテグレータ2の後方にもう一つのシリンドリカルイン
テグレータ8が配置されている。このシリンドリカルイ
ンテグレータ8の母線8bはシリンドリカルインテグレ
ータ2の母線2bと直交する方向になっている。そし
て、シリンドリカルインテグレータ8の焦点F8とスリ
ット光生成シリンドリカルレンズ5の前側焦点F5’と
はほぼ一致するように配置されており、各エレメントを
通過したレーザビームは照射面上で幅方向の重ね合わせ
がなされる。これによって幅方向にも台形状のエネルギ
ー分布P4を有する均一なスリット光を生成することが
できる。このシリンドリカルインテグレータ8もまたシ
リンドリカルインテグレータ2の前方に配置することも
できる。In the embodiment shown in FIG. 5, another cylindrical integrator 8 is arranged behind the cylindrical integrator 2. The busbar 8b of the cylindrical integrator 8 is orthogonal to the busbar 2b of the cylindrical integrator 2. The focus F8 of the cylindrical integrator 8 and the front focus F5 ′ of the slit light generation cylindrical lens 5 are arranged so as to substantially coincide with each other, and the laser beam passing through each element is overlapped in the width direction on the irradiation surface. Done. This makes it possible to generate uniform slit light having a trapezoidal energy distribution P4 in the width direction. This cylindrical integrator 8 can also be arranged in front of the cylindrical integrator 2.
【0019】図6に示す実施例では、図5の光学系に図
4で示したシリンドリカルレンズ7を付加したもので、
図4と同様に、シリンドリカルレンズ7の母線7bはシ
リンドリカルインテグレータの母線2bと平行に配置さ
れる。この実施例では、焦線F方向並びに幅方向にエッ
ジが急峻で均一な台形状のパワー分布P5、P6を有する
効率の良いスリット光照射光学系を実現している。In the embodiment shown in FIG. 6, the cylindrical lens 7 shown in FIG. 4 is added to the optical system shown in FIG.
Similar to FIG. 4, the generatrix 7b of the cylindrical lens 7 is arranged parallel to the generatrix 2b of the cylindrical integrator. In this embodiment, an efficient slit light irradiation optical system having a trapezoidal power distribution P5, P6 with a sharp edge in the focal line F direction and the width direction is realized.
【0020】[0020]
【発明の効果】以上の説明から明かなように、本発明に
よれば、シリンドリカルインテグレータにより短冊状に
分割され集光されたレーザ光は、シリンドリカルインテ
グレータの母線方向に直交する母線を有するシリンドリ
カル光学素子によりシリンドリカルインテグレータの母
線方向においては、一点に絞られるように集光され、ま
たシリンドリカル光学素子の母線方向においては互いに
同一面に重ね合わせて集光されるので、長手方向に並び
に幅方向に均一なパワー分布を有するスリット光が形成
され、スピードアップの図れるスリット光照射光学系が
実現される。As is apparent from the above description, according to the present invention, the laser light divided into the strip shape by the cylindrical integrator and condensed is a cylindrical optical element having a generatrix orthogonal to the generatrix direction of the cylindrical integrator. Due to this, in the generatrix direction of the cylindrical integrator, the light is condensed so as to be constricted to one point, and in the generatrix direction of the cylindrical optical element, the lights are superimposed and condensed on the same plane, so that it is uniform in the longitudinal direction and the width direction. Slit light having a power distribution is formed, and a slit light irradiation optical system capable of speeding up is realized.
【図1】本発明のスリット光照射光学系の光学配置を示
した光学配置図である。FIG. 1 is an optical layout diagram showing an optical layout of a slit light irradiation optical system of the present invention.
【図2】(A)は図1のスリット光照射光学系の原理構
成を示した上面図、(B)はその側面図である。2A is a top view showing the principle configuration of the slit light irradiation optical system in FIG. 1, and FIG. 2B is a side view thereof.
【図3】レーザ光の互いに直交する方向のパワー分布を
示した説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram showing power distributions of laser light in directions orthogonal to each other.
【図4】(A)は本発明のスリット光照射光学系の他の
実施例の原理構成を示した上面図、(B)はその側面図
である。FIG. 4A is a top view showing a principle configuration of another embodiment of the slit light irradiation optical system of the present invention, and FIG. 4B is a side view thereof.
【図5】(A)は本発明のスリット光照射光学系の更に
他の実施例の原理構成を示した上面図、(B)はその側
面図である。5A is a top view showing the principle configuration of still another embodiment of the slit light irradiation optical system of the present invention, and FIG. 5B is a side view thereof.
【図6】(A)は本発明のスリット光照射光学系の更に
他の実施例の原理構成を示した上面図、(B)はその側
面図である。6A is a top view showing the principle configuration of still another embodiment of the slit light irradiation optical system of the present invention, and FIG. 6B is a side view thereof.
1 レーザ光 2 シリンドリカルインテグレータ 5 シリンドリカルレンズ 6 物質表面 7 シリンドリカルレンズ 8 シリンドリカルインテグレータ 1 Laser light 2 Cylindrical integrator 5 Cylindrical lens 6 Material surface 7 Cylindrical lens 8 Cylindrical integrator
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 安藤 和徳 千葉県千葉市美浜区中瀬1丁目8番地 セ イコー電子工業株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (72) Inventor Kazunori Ando 1-8 Nakase, Nakase, Mihama-ku, Chiba, Chiba Seiko Electronics Co., Ltd.
Claims (5)
し、入射するレーザ光を各シリンドリカルレンズ面で分
割集光させたあと重ね合わせるシリンドリカルインテグ
レータと、 前記シリンドリカルインテグレータの母線方向に直交す
る母線を有し、シリンドリカルインテグレータからのレ
ーザ光を集光してシリンドリカルインテグレータの母線
方向に直交する方向にスリット光を生成するシリンドリ
カル光学素子と、 からなることを特徴とするスリット光照射光学系。1. A cylindrical integrator having a strip-shaped cylindrical lens surface, which splits and condenses incident laser light at each cylindrical lens surface and then superimposes the laser light, and a generatrix orthogonal to a generatrix direction of the cylindrical integrator. A slit light irradiation optical system comprising: a cylindrical optical element that collects laser light from the cylindrical integrator and generates slit light in a direction orthogonal to the generatrix direction of the cylindrical integrator.
方あるいは後方近傍にシリンドリカルインテグレータの
母線方向に平行な母線を有するシリンドリカルレンズが
配置されることを特徴とする請求項1に記載のスリット
光照射光学系。2. The slit light irradiation optical system according to claim 1, wherein a cylindrical lens having a generatrix parallel to a generatrix direction of the cylindrical integrator is arranged in the vicinity of the front or the rear of the cylindrical integrator.
るいは後方近傍にシリンドリカルインテグレータの母線
方向と直交する方向に母線を有する他のシリンドリカル
インテグレータが配置されることを特徴とする請求項1
に記載のスリット光照射光学系。3. Another cylindrical integrator having a busbar in the direction orthogonal to the busbar direction of the cylindrical integrator is arranged near the front or rear of the cylindrical integrator.
The slit light irradiation optical system described in.
の後方近傍に他のシリンドリカルインテグレータの母線
方向と直交する方向に母線を有するシリンドリカルレン
ズが配置されることを特徴とする請求項3に記載のスリ
ット光照射光学系。4. The slit light irradiation optics according to claim 3, wherein a cylindrical lens having a generatrix in a direction orthogonal to a generatrix direction of the other cylindrical integrator is arranged in the vicinity of the rear of the other cylindrical integrator. system.
複数のミラーによって折り曲げられ、該光軸が前記光軸
と交差するようにして、該光軸上にシリンドリカル光学
素子が配置されることを特徴とする請求項1に記載のス
リット光照射光学系。5. An optical axis of the cylindrical integrator is bent by a plurality of mirrors, and a cylindrical optical element is arranged on the optical axis such that the optical axis intersects the optical axis. Item 1. The slit light irradiation optical system according to Item 1.
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10491995A JPH08304732A (en) | 1995-04-28 | 1995-04-28 | Slit light irradiation optical system |
| KR1019960013319A KR100377317B1 (en) | 1995-04-28 | 1996-04-27 | Slit light irradiation optical system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10491995A JPH08304732A (en) | 1995-04-28 | 1995-04-28 | Slit light irradiation optical system |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08304732A true JPH08304732A (en) | 1996-11-22 |
Family
ID=14393519
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10491995A Pending JPH08304732A (en) | 1995-04-28 | 1995-04-28 | Slit light irradiation optical system |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08304732A (en) |
| KR (1) | KR100377317B1 (en) |
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