JPH08281810A - 光造形装置 - Google Patents
光造形装置Info
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- JPH08281810A JPH08281810A JP7116441A JP11644195A JPH08281810A JP H08281810 A JPH08281810 A JP H08281810A JP 7116441 A JP7116441 A JP 7116441A JP 11644195 A JP11644195 A JP 11644195A JP H08281810 A JPH08281810 A JP H08281810A
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- crystal mask
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
- B29C64/10—Processes of additive manufacturing
- B29C64/106—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material
- B29C64/124—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified
- B29C64/129—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified characterised by the energy source therefor, e.g. by global irradiation combined with a mask
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Heating, Cooling, Or Curing Plastics Or The Like In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 その主たる目的は、比較的短時間で、かつ高
い精度で造形物を造形することができる光造形装置を提
供することにある。 【構成】 光源部からの光を、目的形状に応じた形状デ
ータに基づいて駆動した液晶マスク26の透光部を通し
て光硬化樹脂12に照射し、照射した部分を硬化させて
目的形状の造形物を造形する光造形装置1において、液
晶マスク26に対して平行に光源部を移動する移動手段
4と、液晶マスク26と光硬化樹脂12との間に配設さ
れ、液晶マスク26の透光部を透過した光を結像する結
像素子27とを備え、光源部は、光源部の移動方向に対
して直角でかつ液晶マスク26に平行に延びている実質
的に長尺な光源21と、光源21からの光を液晶マスク
26に向けて反射するレフレクタ22とを備えて構成し
た。
い精度で造形物を造形することができる光造形装置を提
供することにある。 【構成】 光源部からの光を、目的形状に応じた形状デ
ータに基づいて駆動した液晶マスク26の透光部を通し
て光硬化樹脂12に照射し、照射した部分を硬化させて
目的形状の造形物を造形する光造形装置1において、液
晶マスク26に対して平行に光源部を移動する移動手段
4と、液晶マスク26と光硬化樹脂12との間に配設さ
れ、液晶マスク26の透光部を透過した光を結像する結
像素子27とを備え、光源部は、光源部の移動方向に対
して直角でかつ液晶マスク26に平行に延びている実質
的に長尺な光源21と、光源21からの光を液晶マスク
26に向けて反射するレフレクタ22とを備えて構成し
た。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光造形装置に関し、詳
しくは、光を照射して光硬化樹脂を硬化させることによ
り、目的形状の造形物を製造する光造形装置に関する。
しくは、光を照射して光硬化樹脂を硬化させることによ
り、目的形状の造形物を製造する光造形装置に関する。
【0002】
【従来の技術】この種の光造形装置として、特開平4−
301431号公報に記載されたものがある。この光造
形装置は、移動手段によって移動可能でかつ目的形状に
応じた形状データに基づいて駆動された液晶マスクの透
光部を通して、面光源からの光を光硬化樹脂に照射し、
当該照射した部分を硬化させて目的形状の造形物を造形
するように構成されている。この従来の光造形装置で
は、移動手段が液晶マスクを所定位置まで移動させ、そ
の位置で、面光源からの光によって、光硬化樹脂が硬化
される。次いで、移動手段が液晶マスクを次の所定位置
に移動させて、同じような工程が繰り返される結果、目
的形状の造形物が造形される。
301431号公報に記載されたものがある。この光造
形装置は、移動手段によって移動可能でかつ目的形状に
応じた形状データに基づいて駆動された液晶マスクの透
光部を通して、面光源からの光を光硬化樹脂に照射し、
当該照射した部分を硬化させて目的形状の造形物を造形
するように構成されている。この従来の光造形装置で
は、移動手段が液晶マスクを所定位置まで移動させ、そ
の位置で、面光源からの光によって、光硬化樹脂が硬化
される。次いで、移動手段が液晶マスクを次の所定位置
に移動させて、同じような工程が繰り返される結果、目
的形状の造形物が造形される。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、この従来の光
造形装置は、液晶マスク全体に面光源の光を一度に照射
する構成のため、液晶マスク全体が常時熱線に晒され
る。このため、正常に動作する温度以上に、液晶マスク
が過熱されてしまい、液晶マスクの変形や誤動作により
造形精度が下がってしまうという問題がある。
造形装置は、液晶マスク全体に面光源の光を一度に照射
する構成のため、液晶マスク全体が常時熱線に晒され
る。このため、正常に動作する温度以上に、液晶マスク
が過熱されてしまい、液晶マスクの変形や誤動作により
造形精度が下がってしまうという問題がある。
【0004】また、面光源からの光は、作動した液晶マ
スクの透光部をあらゆる方向から透過するため、透光部
を斜めに透過した光によって、本来照射すべきでない部
分を照射してしまう結果、高い造形精度を得ることがで
きないという問題がある。
スクの透光部をあらゆる方向から透過するため、透光部
を斜めに透過した光によって、本来照射すべきでない部
分を照射してしまう結果、高い造形精度を得ることがで
きないという問題がある。
【0005】さらに、面光源は、必要以上に発散し、液
晶マスクの周辺も照射してしまうため、無駄が多く、光
源の光利用効率が極めて低い。このため、光硬化樹脂の
照射面において所定の照度を保つためには、大量の電力
を必要とするという問題点がある。
晶マスクの周辺も照射してしまうため、無駄が多く、光
源の光利用効率が極めて低い。このため、光硬化樹脂の
照射面において所定の照度を保つためには、大量の電力
を必要とするという問題点がある。
【0006】一方、造形精度および光利用効率が高い光
造形装置として、形状データに基づいて、レーザービー
ムを光硬化樹脂に照射するものが知られている。しか
し、この光造形装置では、レーザービームを光硬化樹脂
にスポット的に照射するものであるため、1つの造形物
を造形するために、長時間を必要とする問題点がある。
造形装置として、形状データに基づいて、レーザービー
ムを光硬化樹脂に照射するものが知られている。しか
し、この光造形装置では、レーザービームを光硬化樹脂
にスポット的に照射するものであるため、1つの造形物
を造形するために、長時間を必要とする問題点がある。
【0007】本発明は、このような問題点に鑑みなされ
たものであり、その主たる目的は、比較的短時間で、か
つ高い精度で造形物を造形することができる光造形装置
を提供することにある。
たものであり、その主たる目的は、比較的短時間で、か
つ高い精度で造形物を造形することができる光造形装置
を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】かかる目的を達成するた
めに、請求項1に係る光造形装置は、光源部からの光
を、目的形状に応じた形状データに基づいて駆動した液
晶マスクの透光部を通して光硬化樹脂に照射し、照射し
た部分を硬化させて目的形状の造形物を造形する光造形
装置において、液晶マスクに対して平行に光源部を移動
する移動手段と、液晶マスクと光硬化樹脂との間に配設
され、液晶マスクの透光部を透過した光を結像する結像
素子とを備え、光源部は、光源部の移動方向に対して直
角でかつ液晶マスクに平行に延びている実質的に長尺な
光源と、光源からの光を液晶マスクに向けて反射させる
レフレクタとを備えていることを特徴とする。
めに、請求項1に係る光造形装置は、光源部からの光
を、目的形状に応じた形状データに基づいて駆動した液
晶マスクの透光部を通して光硬化樹脂に照射し、照射し
た部分を硬化させて目的形状の造形物を造形する光造形
装置において、液晶マスクに対して平行に光源部を移動
する移動手段と、液晶マスクと光硬化樹脂との間に配設
され、液晶マスクの透光部を透過した光を結像する結像
素子とを備え、光源部は、光源部の移動方向に対して直
角でかつ液晶マスクに平行に延びている実質的に長尺な
光源と、光源からの光を液晶マスクに向けて反射させる
レフレクタとを備えていることを特徴とする。
【0009】請求項2に係る光造形装置は、請求項1記
載の光造形装置において、光源部と液晶マスクとの間に
熱線を減衰させる熱線減衰フィルタが配設されているこ
とを特徴とする。
載の光造形装置において、光源部と液晶マスクとの間に
熱線を減衰させる熱線減衰フィルタが配設されているこ
とを特徴とする。
【0010】請求項3に係る光造形装置は、請求項2記
載の光造形装置において、熱線減衰フィルタとの間で送
風路を構成する耐熱ガラスと、送風路に送風する送風手
段とを備えたことを特徴とする。
載の光造形装置において、熱線減衰フィルタとの間で送
風路を構成する耐熱ガラスと、送風路に送風する送風手
段とを備えたことを特徴とする。
【0011】請求項4に係る光造形装置は、請求項1か
ら3のいずれかに記載の光造形装置において、光源から
の光を集光して液晶マスクを照射する耐熱性で長尺な第
1の円柱レンズを光源と平行に配設したことを特徴とす
る。
ら3のいずれかに記載の光造形装置において、光源から
の光を集光して液晶マスクを照射する耐熱性で長尺な第
1の円柱レンズを光源と平行に配設したことを特徴とす
る。
【0012】請求項5に係る光造形装置は、請求項1か
ら4のいずれかに記載の光造形装置において、光源から
の光を集光して液晶マスクを照射する、耐熱性で長尺な
第2の円柱レンズを光源と直角に配設したことを特徴と
する。
ら4のいずれかに記載の光造形装置において、光源から
の光を集光して液晶マスクを照射する、耐熱性で長尺な
第2の円柱レンズを光源と直角に配設したことを特徴と
する。
【0013】請求項6に係る光造形装置は、請求項1か
ら5のいずれかに記載の光造形装置において、光源は、
メタルハライドランプで構成されていることを特徴とす
る。
ら5のいずれかに記載の光造形装置において、光源は、
メタルハライドランプで構成されていることを特徴とす
る。
【0014】請求項7に係る光造形装置は、請求項1か
ら6のいずれかに記載の光造形装置において、光源は、
複数のランプを液晶マスクと平行に並設したことを特徴
とする。
ら6のいずれかに記載の光造形装置において、光源は、
複数のランプを液晶マスクと平行に並設したことを特徴
とする。
【0015】
【作用】請求項1から7に係る光造形装置では、液晶マ
スクが、形状データに基づいて駆動され、液晶マスクが
作動すると、透光部を通して光が光硬化樹脂に照射され
る。照射された光硬化樹脂は、硬化して目的形状の造形
物の一部を構成する。次いで、移動手段が、液晶マスク
に対して平行に光源部を移動させ、その位置で、同じよ
うに光硬化樹脂を照射する。このように、光源部が連続
して移動し、光硬化樹脂を硬化させることによって、光
硬化樹脂が切れ目なく硬化して、目的形状の造形物の1
層目が造形される。このプロセスを2層目以降も繰り返
して、立体的な造形物が造形される。この場合、液晶マ
スクを部分的に照射すればよいので、照射光による熱の
発生を少なくすることができる結果、液晶マスクの過度
の温度上昇を防止することができ、熱による変形や誤動
作によって造形精度を低下させることがない。また、光
源が実質的に長尺のため、同時にある程度広い領域を照
射することができるので、レーザービームでスポット的
に照射する場合に比較して、短時間で目的形状の造形物
を造形する。さらに、レフレクタが、光源からの光を液
晶マスクに向けて反射させるため、不要になる光が少な
くなる。この結果、光利用効率が向上し、同時に省電力
化が図られる。
スクが、形状データに基づいて駆動され、液晶マスクが
作動すると、透光部を通して光が光硬化樹脂に照射され
る。照射された光硬化樹脂は、硬化して目的形状の造形
物の一部を構成する。次いで、移動手段が、液晶マスク
に対して平行に光源部を移動させ、その位置で、同じよ
うに光硬化樹脂を照射する。このように、光源部が連続
して移動し、光硬化樹脂を硬化させることによって、光
硬化樹脂が切れ目なく硬化して、目的形状の造形物の1
層目が造形される。このプロセスを2層目以降も繰り返
して、立体的な造形物が造形される。この場合、液晶マ
スクを部分的に照射すればよいので、照射光による熱の
発生を少なくすることができる結果、液晶マスクの過度
の温度上昇を防止することができ、熱による変形や誤動
作によって造形精度を低下させることがない。また、光
源が実質的に長尺のため、同時にある程度広い領域を照
射することができるので、レーザービームでスポット的
に照射する場合に比較して、短時間で目的形状の造形物
を造形する。さらに、レフレクタが、光源からの光を液
晶マスクに向けて反射させるため、不要になる光が少な
くなる。この結果、光利用効率が向上し、同時に省電力
化が図られる。
【0016】また、液晶マスクと光硬化樹脂との間に配
設されている結像素子が、液晶マスクの透光部を透過し
た光を集光し、集光した光を光硬化樹脂の上に結像す
る。この場合、結像素子は、当該結像素子の画角内から
入射した光のみを結像すると共に、その画角外から入射
した光を反射するため、光硬化樹脂のうち、液晶マスク
の透光部に対応する部分のみを照射する。この結果、照
射すべき部分と照射すべきでない部分との境界が明らか
になるので、造形精度が向上する。
設されている結像素子が、液晶マスクの透光部を透過し
た光を集光し、集光した光を光硬化樹脂の上に結像す
る。この場合、結像素子は、当該結像素子の画角内から
入射した光のみを結像すると共に、その画角外から入射
した光を反射するため、光硬化樹脂のうち、液晶マスク
の透光部に対応する部分のみを照射する。この結果、照
射すべき部分と照射すべきでない部分との境界が明らか
になるので、造形精度が向上する。
【0017】請求項2および3に係る光造形装置では、
光源部と液晶マスクとの間に配設されている熱線減衰フ
ィルタが、光源からの光のうち熱線を減衰させるため、
液晶マスクは、変形や誤動作がより防止されて適正な環
境下で作動するので、造形精度の低下を防止することが
できる。また、熱線減衰フィルタと耐熱ガラスの間を送
風路にし、送風手段が、送風路に向けて送風すること
で、光源の光が集中する熱線減衰フィルタを重点的に冷
却する。このため、熱線減衰フィルタからの輻射熱によ
る液晶マスクの変形や誤動作をより防止して、造形精度
の低下を防止することができる。しかも、送風路が予め
形成されているので、風の通りが良くなる結果、装置全
体を送風する場合に比較して少ない送風量で、効率良く
熱線減衰フィルタを冷却することができる。
光源部と液晶マスクとの間に配設されている熱線減衰フ
ィルタが、光源からの光のうち熱線を減衰させるため、
液晶マスクは、変形や誤動作がより防止されて適正な環
境下で作動するので、造形精度の低下を防止することが
できる。また、熱線減衰フィルタと耐熱ガラスの間を送
風路にし、送風手段が、送風路に向けて送風すること
で、光源の光が集中する熱線減衰フィルタを重点的に冷
却する。このため、熱線減衰フィルタからの輻射熱によ
る液晶マスクの変形や誤動作をより防止して、造形精度
の低下を防止することができる。しかも、送風路が予め
形成されているので、風の通りが良くなる結果、装置全
体を送風する場合に比較して少ない送風量で、効率良く
熱線減衰フィルタを冷却することができる。
【0018】請求項4および5に係る光造形装置では、
長尺な光源と平行に配設されている第1の円柱レンズ、
および、光源と直角に配設されている第2の円柱レンズ
が、それぞれ、光源の軸に対して直角および平行に発散
する光を集光して液晶マスクを照射するため、光源の光
利用効率が向上する。この場合、第1および第2の円柱
レンズは、耐熱性であるため変形などすることがないの
で、光の屈折率が変わらず、この結果、造形精度を低下
させることがない。また、両円柱レンズは、長尺にそれ
ぞれ形成されているので、広い領域の光を集光すること
ができ、両者を共に用いることで、光源に平行および直
角な両方光に対しての広い領域の光を集光することがで
きるので、より光利用効率が高くなり、紫外線硬化樹脂
を短時間で硬化させることができる。
長尺な光源と平行に配設されている第1の円柱レンズ、
および、光源と直角に配設されている第2の円柱レンズ
が、それぞれ、光源の軸に対して直角および平行に発散
する光を集光して液晶マスクを照射するため、光源の光
利用効率が向上する。この場合、第1および第2の円柱
レンズは、耐熱性であるため変形などすることがないの
で、光の屈折率が変わらず、この結果、造形精度を低下
させることがない。また、両円柱レンズは、長尺にそれ
ぞれ形成されているので、広い領域の光を集光すること
ができ、両者を共に用いることで、光源に平行および直
角な両方光に対しての広い領域の光を集光することがで
きるので、より光利用効率が高くなり、紫外線硬化樹脂
を短時間で硬化させることができる。
【0019】請求項6に係る光造形装置では、光源は、
メタルハライドランプで構成されているので、内部の金
属蒸気の量や成分を変えることにより、容易に、光硬化
樹脂の特性に合った波長、すなわち、光硬化樹脂が硬化
するのに適した波長の光を出射することができる。この
ため、光硬化樹脂を短時間で硬化させることができる。
また、メタルハライドランプを用いることにより、それ
自体で長尺な光源として使用することができる。
メタルハライドランプで構成されているので、内部の金
属蒸気の量や成分を変えることにより、容易に、光硬化
樹脂の特性に合った波長、すなわち、光硬化樹脂が硬化
するのに適した波長の光を出射することができる。この
ため、光硬化樹脂を短時間で硬化させることができる。
また、メタルハライドランプを用いることにより、それ
自体で長尺な光源として使用することができる。
【0020】
【実施例】以下、本発明の好適な一実施例を、図面を参
照しながら、詳細に説明する。図1は、本発明を適用し
た光造形装置1の構成を示している。この光造形装置1
は、紫外線硬化樹脂(光硬化樹脂)を硬化させることに
より、おもちゃのひな形などを製造することができるよ
うになっている。
照しながら、詳細に説明する。図1は、本発明を適用し
た光造形装置1の構成を示している。この光造形装置1
は、紫外線硬化樹脂(光硬化樹脂)を硬化させることに
より、おもちゃのひな形などを製造することができるよ
うになっている。
【0021】光造形装置1は、光造形部2、樹脂槽3、
光源スキャン用Xステージ4、第1コントローラ5、エ
レベータ用Zステージ6、第2コントローラ7、液晶駆
動用ドライバー8、シャッター駆動部9、CPU10お
よびファン(送風手段)11を備えている。
光源スキャン用Xステージ4、第1コントローラ5、エ
レベータ用Zステージ6、第2コントローラ7、液晶駆
動用ドライバー8、シャッター駆動部9、CPU10お
よびファン(送風手段)11を備えている。
【0022】光造形部2は、後に詳述するが、樹脂槽3
内に貯留された粘性を有し液状の紫外線硬化樹脂12の
液面に紫外線を照射することによって、紫外線硬化樹脂
12を硬化させる。
内に貯留された粘性を有し液状の紫外線硬化樹脂12の
液面に紫外線を照射することによって、紫外線硬化樹脂
12を硬化させる。
【0023】光源スキャン用Xステージ4は、同図に示
す矢印X方向に光造形部2を移動するように構成されて
おり、第1コントローラ5が、CPU10から出力され
るX方向移動データに基づいて光源スキャン用Xステー
ジ4を駆動する。エレベータ用Zステージ6は、硬化し
た硬化性樹脂層により造形された造形物を保持するステ
ージ14を備えると共に同図に示す矢印Z方向にステー
ジ14を移動する。第2コントローラ7は、CPU10
から出力されるZ方向移動データに基づいてエレベータ
用Zステージ6の移動を制御する。液晶駆動用ドライバ
ー8は、後述する液晶マスク26の各画素のオン/オフ
を、CPU10から出力される1層毎の平面形状データ
に基づいて制御する。シャッター駆動部9は、液晶マス
ク26への照射光を遮断するシャッター28を駆動す
る。CPU10は、図示しないCAD(Computer Aided
Design )装置から出力されるCADデータに基づい
て、目的形状に応じた平面形状データを液晶駆動用ドラ
イバー8に出力すると共に、第1コントローラ5にX方
向移動データを出力すると共に、第2コントローラ7に
Z方向移動データを出力する。
す矢印X方向に光造形部2を移動するように構成されて
おり、第1コントローラ5が、CPU10から出力され
るX方向移動データに基づいて光源スキャン用Xステー
ジ4を駆動する。エレベータ用Zステージ6は、硬化し
た硬化性樹脂層により造形された造形物を保持するステ
ージ14を備えると共に同図に示す矢印Z方向にステー
ジ14を移動する。第2コントローラ7は、CPU10
から出力されるZ方向移動データに基づいてエレベータ
用Zステージ6の移動を制御する。液晶駆動用ドライバ
ー8は、後述する液晶マスク26の各画素のオン/オフ
を、CPU10から出力される1層毎の平面形状データ
に基づいて制御する。シャッター駆動部9は、液晶マス
ク26への照射光を遮断するシャッター28を駆動す
る。CPU10は、図示しないCAD(Computer Aided
Design )装置から出力されるCADデータに基づい
て、目的形状に応じた平面形状データを液晶駆動用ドラ
イバー8に出力すると共に、第1コントローラ5にX方
向移動データを出力すると共に、第2コントローラ7に
Z方向移動データを出力する。
【0024】次に、光造形部2について詳細に説明す
る。光造形部2は、図2に示すように、メタルハライド
ランプ(光源)21と、ダイクロイック楕円ミラー(レ
フレクタ)22と、熱線減衰フィルタ23と、石英板
(耐熱ガラス)25と、液晶マスク26と、等倍結像素
子(結像素子)27と、シャッター28(図1参照)
と、スキージ13とを備えている。
る。光造形部2は、図2に示すように、メタルハライド
ランプ(光源)21と、ダイクロイック楕円ミラー(レ
フレクタ)22と、熱線減衰フィルタ23と、石英板
(耐熱ガラス)25と、液晶マスク26と、等倍結像素
子(結像素子)27と、シャッター28(図1参照)
と、スキージ13とを備えている。
【0025】メタルハライドランプ21は、光源として
機能する長尺の高輝度放電ランプである。メタルハライ
ドランプ21は、内部に封入する金属蒸気の量や成分を
変えることによって、出射する光の波長を変えることが
できるように構成されており、使用する紫外線硬化樹脂
12を硬化するのに適した波長の光を出射することがで
きる。
機能する長尺の高輝度放電ランプである。メタルハライ
ドランプ21は、内部に封入する金属蒸気の量や成分を
変えることによって、出射する光の波長を変えることが
できるように構成されており、使用する紫外線硬化樹脂
12を硬化するのに適した波長の光を出射することがで
きる。
【0026】ダイクロイック楕円ミラー22は、メタル
ハライドランプ21が出射した光のうち紫外線近辺の波
長の光を反射し、他の波長の光(熱線)を透過するよう
に構成されている。ダイクロイック楕円ミラー22は、
その縦断面が楕円の一部を切り欠いた形状になってい
る。そして、その楕円の一方の焦点の近辺には、メタル
ハライドランプ21が配設され、他方の焦点近辺には、
樹脂槽3の液面が位置するようになっている。このた
め、メタルハライドランプ21が出射した光のうちダイ
クロイック楕円ミラー22によって反射される光は、他
方の焦点近辺である樹脂槽3の液面側に導かれる。な
お、ダイクロイック楕円ミラー22の上部には、切欠き
部22aが設けられており、ダイクロイック楕円ミラー
22の内側にこもった熱気は切欠き部22aから排気さ
れる。
ハライドランプ21が出射した光のうち紫外線近辺の波
長の光を反射し、他の波長の光(熱線)を透過するよう
に構成されている。ダイクロイック楕円ミラー22は、
その縦断面が楕円の一部を切り欠いた形状になってい
る。そして、その楕円の一方の焦点の近辺には、メタル
ハライドランプ21が配設され、他方の焦点近辺には、
樹脂槽3の液面が位置するようになっている。このた
め、メタルハライドランプ21が出射した光のうちダイ
クロイック楕円ミラー22によって反射される光は、他
方の焦点近辺である樹脂槽3の液面側に導かれる。な
お、ダイクロイック楕円ミラー22の上部には、切欠き
部22aが設けられており、ダイクロイック楕円ミラー
22の内側にこもった熱気は切欠き部22aから排気さ
れる。
【0027】熱線減衰フィルタ23は、熱線(赤外線成
分)だけを反射して紫外線を透過する。これにより、熱
線が遮断されて液晶マスク26等の過度の加熱が防止さ
れる。なお、熱線減衰フィルタ23の上部には、複数の
反射フィン24,24・・がメタルハライドランプ21
の軸方向に沿って立設されている。反射フィン24・・
は、メタルハライドランプ21の軸方向に発散した光を
熱線減衰フィルタ23側に反射することにより、光利用
効率を向上させる。
分)だけを反射して紫外線を透過する。これにより、熱
線が遮断されて液晶マスク26等の過度の加熱が防止さ
れる。なお、熱線減衰フィルタ23の上部には、複数の
反射フィン24,24・・がメタルハライドランプ21
の軸方向に沿って立設されている。反射フィン24・・
は、メタルハライドランプ21の軸方向に発散した光を
熱線減衰フィルタ23側に反射することにより、光利用
効率を向上させる。
【0028】石英板25は、熱線減衰フィルタ23との
間で送風路30を構成している。そして、送風手段11
が送風路30に冷気を送風することにより、メタルハラ
イドランプ21から出射された光によって発熱した熱線
減衰フィルタ23などを冷却する。
間で送風路30を構成している。そして、送風手段11
が送風路30に冷気を送風することにより、メタルハラ
イドランプ21から出射された光によって発熱した熱線
減衰フィルタ23などを冷却する。
【0029】液晶マスク26は、造形物の造形精度に適
した画素数を有しており、光シャッターとして機能す
る。液晶マスク26の画素は、CPU10が出力する平
面形状データに基づいて、液晶用ドライバー8によって
駆動されて透光部および遮蔽部を構成し、透光部がメタ
ルハライドランプ21の光を透過する。
した画素数を有しており、光シャッターとして機能す
る。液晶マスク26の画素は、CPU10が出力する平
面形状データに基づいて、液晶用ドライバー8によって
駆動されて透光部および遮蔽部を構成し、透光部がメタ
ルハライドランプ21の光を透過する。
【0030】等倍結像素子27は、円柱状の屈折率分布
型レンズを格子状に複数配列することにより構成されて
いる。また、等倍率結像素子27は、入射した像の大き
さに対し、結像エリア上に投影された像の大きさがほぼ
等しくなるような関係で、つまり等倍率で照射するよう
に配置され、上面側から所定の画角で入射した光のみを
集光して紫外線硬化樹脂12に照射すると共に、その所
定画角外から入射した光を反射させる。
型レンズを格子状に複数配列することにより構成されて
いる。また、等倍率結像素子27は、入射した像の大き
さに対し、結像エリア上に投影された像の大きさがほぼ
等しくなるような関係で、つまり等倍率で照射するよう
に配置され、上面側から所定の画角で入射した光のみを
集光して紫外線硬化樹脂12に照射すると共に、その所
定画角外から入射した光を反射させる。
【0031】スキージ13は、造形部2の下側の前後端
部に取り付けられており、造形部2が移動する際に、図
1の矢印X方向に移動させられることで、樹脂槽3の液
面を平坦にする。
部に取り付けられており、造形部2が移動する際に、図
1の矢印X方向に移動させられることで、樹脂槽3の液
面を平坦にする。
【0032】次に、光造形装置1の動作について説明す
る。
る。
【0033】CPU10は、内蔵のインターフェース回
路を介してCAD装置から入力されたCADデータを予
めストアする。次いで、エレベータ用Zステージ6をZ
方向に移動させるためのZ方向移動データを第2コント
ローラ7に出力して、1層分の紫外線硬化樹脂、つま
り、1回の照射により紫外線硬化樹脂12を硬化する厚
さ分だけ、ステージ14を樹脂槽3内に沈める。次に、
CPU10は、第1コントローラにX方向移動データを
出力し、造形部2をX方向に往復動させることによっ
て、スキージ13で樹脂層3の液面を平坦にした後、C
ADデータに基づいた平面形状データを液晶駆動用ドラ
イバー8に出力する。液晶駆動用ドライバー8は、平面
形状データに基づいて、液晶マスク26を駆動する。
路を介してCAD装置から入力されたCADデータを予
めストアする。次いで、エレベータ用Zステージ6をZ
方向に移動させるためのZ方向移動データを第2コント
ローラ7に出力して、1層分の紫外線硬化樹脂、つま
り、1回の照射により紫外線硬化樹脂12を硬化する厚
さ分だけ、ステージ14を樹脂槽3内に沈める。次に、
CPU10は、第1コントローラにX方向移動データを
出力し、造形部2をX方向に往復動させることによっ
て、スキージ13で樹脂層3の液面を平坦にした後、C
ADデータに基づいた平面形状データを液晶駆動用ドラ
イバー8に出力する。液晶駆動用ドライバー8は、平面
形状データに基づいて、液晶マスク26を駆動する。
【0034】その後、CPU10は、シャッター駆動デ
ータをシャッター駆動部9に出力して、シャッター28
を開いて、メタルハライドランプ21が液晶マスク26
を照射できるようにする。次いで、CPU10は、ファ
ン11を駆動すると共に、メタルハライドランプ21を
点灯させる。これにより、メタルハライドランプ21か
らの光が液晶マスク26を照射する。
ータをシャッター駆動部9に出力して、シャッター28
を開いて、メタルハライドランプ21が液晶マスク26
を照射できるようにする。次いで、CPU10は、ファ
ン11を駆動すると共に、メタルハライドランプ21を
点灯させる。これにより、メタルハライドランプ21か
らの光が液晶マスク26を照射する。
【0035】この場合、図3に示すように、メタルハラ
イドランプ21が出射した光のうちの一部は、熱線減衰
フィルタ23を透過して液晶マスク26を直接照射し、
他の一部は、メタルハライドランプ22の内壁によって
反射された後、熱線減衰フィルタ23を透過して液晶マ
スク26を照射する。また、図4に示すように、メタル
ハライドランプ21の軸方向に発散する光は、反射フィ
ン24によって下向きに反射して、熱線減衰フィルタ2
3を透過して液晶マスク26を照射する。
イドランプ21が出射した光のうちの一部は、熱線減衰
フィルタ23を透過して液晶マスク26を直接照射し、
他の一部は、メタルハライドランプ22の内壁によって
反射された後、熱線減衰フィルタ23を透過して液晶マ
スク26を照射する。また、図4に示すように、メタル
ハライドランプ21の軸方向に発散する光は、反射フィ
ン24によって下向きに反射して、熱線減衰フィルタ2
3を透過して液晶マスク26を照射する。
【0036】液晶マスク26に照射された光のうち、平
面形状データに基づいて作動した液晶マスク26の透光
部を照射する光のみが、等倍率素子27の上面に入射す
る。等倍結像素子27は、液晶マスク26の透光部を透
過した光のうち所定の画角で入射した光のみを集光して
紫外線硬化樹脂12を照射するため、光硬化樹脂12の
うち、液晶マスク26の遮光部に対応する部分のみが照
射される。この結果、照射すべき部分と照射すべきでな
い部分との境界が明らかになるので、造形精度を向上さ
せることができる。
面形状データに基づいて作動した液晶マスク26の透光
部を照射する光のみが、等倍率素子27の上面に入射す
る。等倍結像素子27は、液晶マスク26の透光部を透
過した光のうち所定の画角で入射した光のみを集光して
紫外線硬化樹脂12を照射するため、光硬化樹脂12の
うち、液晶マスク26の遮光部に対応する部分のみが照
射される。この結果、照射すべき部分と照射すべきでな
い部分との境界が明らかになるので、造形精度を向上さ
せることができる。
【0037】等倍率素子27から出射した光はステージ
14上の紫外線硬化樹脂12を照射し、これにより、紫
外線硬化樹脂12が硬化して、光硬化性樹脂層が形成さ
れる。
14上の紫外線硬化樹脂12を照射し、これにより、紫
外線硬化樹脂12が硬化して、光硬化性樹脂層が形成さ
れる。
【0038】CPU10は、光造形部2を連続して移動
させるように、第1コントローラ5にX方向移動データ
を出力する。なお、この際、液晶マスク26を除く、光
造形部2の他のすべての構成要素が一体的に移動する。
これにより、1層分の光硬化性樹脂層が形成される。
させるように、第1コントローラ5にX方向移動データ
を出力する。なお、この際、液晶マスク26を除く、光
造形部2の他のすべての構成要素が一体的に移動する。
これにより、1層分の光硬化性樹脂層が形成される。
【0039】次に、CPU10は、メタルハライドラン
プ21からの光が樹脂槽3内の紫外線硬化樹脂12を照
射しないように、シャッター28を閉じさせて光の照射
路を遮断する。次に、CPU10は、第2コントローラ
7にZ方向移動データを出力して、更に一層分だけステ
ージ14を樹脂槽3内に沈める。次いで、CPU10
は、シャッター28を開いて光の照射路を開放した後、
前述した一連のプロセスを繰り返す。これにより、2層
目の硬化性樹脂層が形成される。以上のプロセスを繰り
返すことにより、立体的形状の造形物がステージ28上
に造形される。
プ21からの光が樹脂槽3内の紫外線硬化樹脂12を照
射しないように、シャッター28を閉じさせて光の照射
路を遮断する。次に、CPU10は、第2コントローラ
7にZ方向移動データを出力して、更に一層分だけステ
ージ14を樹脂槽3内に沈める。次いで、CPU10
は、シャッター28を開いて光の照射路を開放した後、
前述した一連のプロセスを繰り返す。これにより、2層
目の硬化性樹脂層が形成される。以上のプロセスを繰り
返すことにより、立体的形状の造形物がステージ28上
に造形される。
【0040】以上のように、第1実施例では、液晶マス
ク26を部分的に照射すればよいので、照射光による熱
の発生を少なくすることができる結果、液晶マスク26
の過度の温度上昇を防止することができるので、液晶マ
スク26の変形や誤動作を有効に防止することができ、
造形精度を低下させることがない。さらに、ダイクロイ
ック楕円ミラー22が、メタルハライドランプ21から
の光を液晶マスク26に向けて反射するので、不要にな
る光が少なくなり、この結果、光利用効率が向上し、同
時に省電力化を図り、紫外線硬化樹脂12の硬化時間を
短縮することができる。さらに、熱線減衰フィルタ23
が、光源からの光のうち熱線を減衰させるため、液晶マ
スク26は、過度に加熱されることがなく、より適正な
環境下で作動する。
ク26を部分的に照射すればよいので、照射光による熱
の発生を少なくすることができる結果、液晶マスク26
の過度の温度上昇を防止することができるので、液晶マ
スク26の変形や誤動作を有効に防止することができ、
造形精度を低下させることがない。さらに、ダイクロイ
ック楕円ミラー22が、メタルハライドランプ21から
の光を液晶マスク26に向けて反射するので、不要にな
る光が少なくなり、この結果、光利用効率が向上し、同
時に省電力化を図り、紫外線硬化樹脂12の硬化時間を
短縮することができる。さらに、熱線減衰フィルタ23
が、光源からの光のうち熱線を減衰させるため、液晶マ
スク26は、過度に加熱されることがなく、より適正な
環境下で作動する。
【0041】また、光源は、メタルハライドランプ21
で構成されているので、内部の金属蒸気の量や成分を変
えることにより、容易に、紫外線硬化樹脂12の特性に
合った波長、すなわち、紫外線硬化樹脂12が硬化する
のに適した波長の光を出射することができる。このた
め、紫外線硬化樹脂を短時間で硬化させることができ
る。また、メタルハライドランプ21を用いることによ
り、それ自体で長尺な光源として使用することができ、
一時にある程度広い領域を照射することができるため、
レーザーブームにより照射する場合に比較して、短時間
で目的形状の造形物を造形することができる。
で構成されているので、内部の金属蒸気の量や成分を変
えることにより、容易に、紫外線硬化樹脂12の特性に
合った波長、すなわち、紫外線硬化樹脂12が硬化する
のに適した波長の光を出射することができる。このた
め、紫外線硬化樹脂を短時間で硬化させることができ
る。また、メタルハライドランプ21を用いることによ
り、それ自体で長尺な光源として使用することができ、
一時にある程度広い領域を照射することができるため、
レーザーブームにより照射する場合に比較して、短時間
で目的形状の造形物を造形することができる。
【0042】さらに、等倍率素子27によって、造形物
の造形精度を高めることができる。なお、等倍結像素子
27は、1枚の集光レンズによって構成してもよい。ま
た、送風路30に送風することで、メタルハライドラン
プ21の光が集中する熱線減衰フィルタ23を重点的に
冷却することができる。このため、熱線減衰フィルタ2
3からの輻射熱による液晶マスク26の変形や誤動作を
防止して、造形精度の低下をより防止することができ
る。しかも、送風路30が予め形成されているので風の
通りが良くなる結果、装置全体を送風する場合に比較し
て少ない送風量で、効率良く熱線減衰フィルタ23を冷
却することができる。
の造形精度を高めることができる。なお、等倍結像素子
27は、1枚の集光レンズによって構成してもよい。ま
た、送風路30に送風することで、メタルハライドラン
プ21の光が集中する熱線減衰フィルタ23を重点的に
冷却することができる。このため、熱線減衰フィルタ2
3からの輻射熱による液晶マスク26の変形や誤動作を
防止して、造形精度の低下をより防止することができ
る。しかも、送風路30が予め形成されているので風の
通りが良くなる結果、装置全体を送風する場合に比較し
て少ない送風量で、効率良く熱線減衰フィルタ23を冷
却することができる。
【0043】次に、第2実施例について、図5を参照し
て説明する。第2実施例が第1実施例と異なる点は、シ
リンドリカルレンズ(第1の円柱レンズ)41をさらに
備え、石英ガラス25の代わりに多配列シリンドリカル
レンズ(第2の円柱レンズ)42を用いていること、お
よび等倍率素子27を複数備えたことである。なお、第
1実施例と同じ構成要素については、同一の符号を使用
し、その説明を省略する。
て説明する。第2実施例が第1実施例と異なる点は、シ
リンドリカルレンズ(第1の円柱レンズ)41をさらに
備え、石英ガラス25の代わりに多配列シリンドリカル
レンズ(第2の円柱レンズ)42を用いていること、お
よび等倍率素子27を複数備えたことである。なお、第
1実施例と同じ構成要素については、同一の符号を使用
し、その説明を省略する。
【0044】シリンドリカルレンズ41は、断面が半円
形状で長尺の耐熱レンズであり、メタルハライドランプ
21と平行に配設されている。多配列シリンドリカルレ
ンズ42は、シリンドリカルレンズ41よりも断面積が
小さい複数のシリンドリカルレンズを、メタルハライド
ランプ21の軸方向と直角に並設して構成されている。
形状で長尺の耐熱レンズであり、メタルハライドランプ
21と平行に配設されている。多配列シリンドリカルレ
ンズ42は、シリンドリカルレンズ41よりも断面積が
小さい複数のシリンドリカルレンズを、メタルハライド
ランプ21の軸方向と直角に並設して構成されている。
【0045】この第2実施例によれば、図6に示すよう
に、メタルハライドランプ21から出射された光は、シ
リンドリカルレンズ41によって発散角を狭められ、熱
線減衰フィルタ23および多配列シリンドリカルレンズ
42を透過して、液晶マスク26を照射する。この場
合、シリンドリカルレンズ41は、メタルハライドラン
プ21の軸に対して直角に発散して液晶マスク26の脇
を本来通過してしまうメタルハライドランプ21の出射
光を、液晶マスク26を照射するように集光することに
より、液晶マスク26を照射する光の照度を強めてい
る。これにより、メタルハライドランプ21の光利用効
率が向上する。また、シリンドリカルレンズ41は、耐
熱性であるため、変形などすることがないので、光の屈
折率が変わらずこの結果、造形精度を低下させることが
ない。また、シリンドリカルレンズ41は、長尺に形成
されているので、広い領域の光を集光することができ、
この結果、光利用効率が高くなり、紫外線硬化樹脂を短
時間で硬化させることができるる。なお、同図に、レン
ズの径を大きくしたシリンドリカルレンズ43を点線で
示しているが、この場合には、シリンドリカルレンズ4
3に入射する光量が大きくなるため、メタルハライドラ
ンプ21の光利用効率がより向上する。
に、メタルハライドランプ21から出射された光は、シ
リンドリカルレンズ41によって発散角を狭められ、熱
線減衰フィルタ23および多配列シリンドリカルレンズ
42を透過して、液晶マスク26を照射する。この場
合、シリンドリカルレンズ41は、メタルハライドラン
プ21の軸に対して直角に発散して液晶マスク26の脇
を本来通過してしまうメタルハライドランプ21の出射
光を、液晶マスク26を照射するように集光することに
より、液晶マスク26を照射する光の照度を強めてい
る。これにより、メタルハライドランプ21の光利用効
率が向上する。また、シリンドリカルレンズ41は、耐
熱性であるため、変形などすることがないので、光の屈
折率が変わらずこの結果、造形精度を低下させることが
ない。また、シリンドリカルレンズ41は、長尺に形成
されているので、広い領域の光を集光することができ、
この結果、光利用効率が高くなり、紫外線硬化樹脂を短
時間で硬化させることができるる。なお、同図に、レン
ズの径を大きくしたシリンドリカルレンズ43を点線で
示しているが、この場合には、シリンドリカルレンズ4
3に入射する光量が大きくなるため、メタルハライドラ
ンプ21の光利用効率がより向上する。
【0046】また、図7に示すように、多配列シリンド
リカルレンズ42は、メタルハライドランプ21の軸方
向に対して平行な方向に発散して液晶マスク26の脇を
本来通過してしまうメタルハライドランプ21の出射光
を、液晶マスク26を照射するように集光することによ
り、液晶マスク26を照射する光の照度を強めている。
これにより、メタルハライドランプ21に平行方向およ
び直角方向に対して広い領域の光を集光することができ
るので、メタルハライドランプ21の光利用効率がさら
に向上する。
リカルレンズ42は、メタルハライドランプ21の軸方
向に対して平行な方向に発散して液晶マスク26の脇を
本来通過してしまうメタルハライドランプ21の出射光
を、液晶マスク26を照射するように集光することによ
り、液晶マスク26を照射する光の照度を強めている。
これにより、メタルハライドランプ21に平行方向およ
び直角方向に対して広い領域の光を集光することができ
るので、メタルハライドランプ21の光利用効率がさら
に向上する。
【0047】さらに、等倍率素子27を3つ備えている
ので、より広い範囲の紫外線硬化樹脂12を一時に硬化
させることができるので、より短時間で造形物を造形す
ることができる。
ので、より広い範囲の紫外線硬化樹脂12を一時に硬化
させることができるので、より短時間で造形物を造形す
ることができる。
【0048】次に、第3実施例について、図8を参照し
て説明する。第3実施例が第2実施例と異なる点は、シ
リンドリカルレンズ(耐熱ガラス)41の代わりに多配
列シリンドリカルレンズ44を、多配列シリンドリカル
レンズ42の下側に備えたことである。なお、第1実施
例と同じ構成要素については、同一の符号を使用し、そ
の説明を省略する。
て説明する。第3実施例が第2実施例と異なる点は、シ
リンドリカルレンズ(耐熱ガラス)41の代わりに多配
列シリンドリカルレンズ44を、多配列シリンドリカル
レンズ42の下側に備えたことである。なお、第1実施
例と同じ構成要素については、同一の符号を使用し、そ
の説明を省略する。
【0049】第3実施例によれば、多配列シリンドリカ
ルレンズ42,44が共に熱線減衰フィルタ23の下側
に位置しているため、照射光による温度上昇が少なくな
る結果、変形などすることがないので、光の屈折率が変
わらず、造形精度を低下させることがない。また、第2
実施例に比較して、メタルハライドランプ21の軸方向
と直角に発散する光を、より多く集光することができる
ので、紫外線硬化樹脂12をより早く硬化させることが
できる。
ルレンズ42,44が共に熱線減衰フィルタ23の下側
に位置しているため、照射光による温度上昇が少なくな
る結果、変形などすることがないので、光の屈折率が変
わらず、造形精度を低下させることがない。また、第2
実施例に比較して、メタルハライドランプ21の軸方向
と直角に発散する光を、より多く集光することができる
ので、紫外線硬化樹脂12をより早く硬化させることが
できる。
【0050】次に、第4実施例について、図9(a),
(b)を参照して説明する。第4実施例が第2実施例と
異なる点は、シリンドリカルレンズ41および多配列シ
リンドリカルレンズ42の代わりに、同図(b)に示す
ようなハニカム状多配列レンズ(耐熱ガラス)45を備
えたことである。なお、第1実施例と同じ構成要素につ
いては、同一の符号を使用し、その説明を省略する。
(b)を参照して説明する。第4実施例が第2実施例と
異なる点は、シリンドリカルレンズ41および多配列シ
リンドリカルレンズ42の代わりに、同図(b)に示す
ようなハニカム状多配列レンズ(耐熱ガラス)45を備
えたことである。なお、第1実施例と同じ構成要素につ
いては、同一の符号を使用し、その説明を省略する。
【0051】第4実施例によれば、ハニカム状多配列レ
ンズ45が、メタルハライドランプ21の軸方向および
それとは直角方向にそれぞれ発散するメタルハライドラ
ンプ21の出射光を同時に集光して液晶マスク26を照
射するため、メタルハライドランプ21の光利用効率が
向上して紫外線硬化樹脂12をより早く硬化させると共
に、第2実施例と比較して1枚のハニカム状多配列レン
ズ45を光造形部2に取り付ければよいため、構造が簡
単になりコストダウンを図ることができる。
ンズ45が、メタルハライドランプ21の軸方向および
それとは直角方向にそれぞれ発散するメタルハライドラ
ンプ21の出射光を同時に集光して液晶マスク26を照
射するため、メタルハライドランプ21の光利用効率が
向上して紫外線硬化樹脂12をより早く硬化させると共
に、第2実施例と比較して1枚のハニカム状多配列レン
ズ45を光造形部2に取り付ければよいため、構造が簡
単になりコストダウンを図ることができる。
【0052】次に、第5実施例について、図10を参照
して説明する。第5実施例が上述した第1〜第4実施例
と異なる点は、メタルハライドランプ21の代わりに、
光導伝ロッド51を用いて、実質的に長尺な光源を構成
していることである。なお、第1〜第4実施例と同じ構
成要素については、同一の符号を使用し、その説明を省
略する。同図に示すように、第5実施例では、メタルハ
ライドランプ(図示せず)の光を集光して伝導させるラ
イトガイドファイバー52,52と、ライトガイドファ
イバー52,52から出射される光をそれぞれ集光する
集光レンズ53,53と、石英材で長尺な円柱状に形成
され、集光レンズ53,53から出射された光を伝導さ
せる光導伝ロッド51と、光導伝ロッド51の外周面か
ら出射される光を光導伝ロッド51側に反射させる反射
鏡筒54と、集光レンズ53から下方向(液晶マスク2
6方向)に出射された光を光導伝ロッド51内に反射さ
せるための反射板55とを備えている。
して説明する。第5実施例が上述した第1〜第4実施例
と異なる点は、メタルハライドランプ21の代わりに、
光導伝ロッド51を用いて、実質的に長尺な光源を構成
していることである。なお、第1〜第4実施例と同じ構
成要素については、同一の符号を使用し、その説明を省
略する。同図に示すように、第5実施例では、メタルハ
ライドランプ(図示せず)の光を集光して伝導させるラ
イトガイドファイバー52,52と、ライトガイドファ
イバー52,52から出射される光をそれぞれ集光する
集光レンズ53,53と、石英材で長尺な円柱状に形成
され、集光レンズ53,53から出射された光を伝導さ
せる光導伝ロッド51と、光導伝ロッド51の外周面か
ら出射される光を光導伝ロッド51側に反射させる反射
鏡筒54と、集光レンズ53から下方向(液晶マスク2
6方向)に出射された光を光導伝ロッド51内に反射さ
せるための反射板55とを備えている。
【0053】光導伝ロッド51は、上部の一部が軸方向
に沿って面取りされており、面取りされた部分には、薄
肉直方体状に形成され、下側部分に複数の波状の突起部
56,56・・を設けた拡散シート57が貼り付けられ
ている。拡散シート57は、同図に示すように、集光レ
ンズ53から出射されて直接到達した光や、集光レンズ
53から出射され、反射板55で反射して到達した光
を、光導伝ロッド51を介して下方向に反射させる。
に沿って面取りされており、面取りされた部分には、薄
肉直方体状に形成され、下側部分に複数の波状の突起部
56,56・・を設けた拡散シート57が貼り付けられ
ている。拡散シート57は、同図に示すように、集光レ
ンズ53から出射されて直接到達した光や、集光レンズ
53から出射され、反射板55で反射して到達した光
を、光導伝ロッド51を介して下方向に反射させる。
【0054】反射鏡筒54は、ほぼ円筒状の形状で、光
伝導ロッド51の外周を覆い、下部が軸方向に沿って所
定幅で切り欠かれており、その内面は、光を反射するよ
うになっている。
伝導ロッド51の外周を覆い、下部が軸方向に沿って所
定幅で切り欠かれており、その内面は、光を反射するよ
うになっている。
【0055】この第5実施例によれば、ライトガイドフ
ァイバー52,52を伝導してきたメタルハライドラン
プの光は、集光レンズ53,53によってそれぞれ集光
され、所定の画角で拡散される。集光レンズ53から直
接入射し、または反射板55で反射した後に光導伝ロッ
ド51に入射し、拡散シート57の突起部56で反射さ
れた光は、光導伝ロッド51内をその軸に対して斜め下
方向に透過してシリンドリカルレンズ41に入射する。
このように、光導伝ロッド51の両側から光を入射させ
る結果、光導伝ロッド51に入射したメタルハライドラ
ンプ光は、シリンドリカルレンズ41をほぼ均一に照射
するため、光導伝ロッド51は実質的に長尺な光源とし
て機能する。また、反射鏡筒54および反射ミラー55
が、光導伝ロッド51内に光を反射させるので、ライト
ガイドファイバー52から出射される光のロスが少なく
なる。
ァイバー52,52を伝導してきたメタルハライドラン
プの光は、集光レンズ53,53によってそれぞれ集光
され、所定の画角で拡散される。集光レンズ53から直
接入射し、または反射板55で反射した後に光導伝ロッ
ド51に入射し、拡散シート57の突起部56で反射さ
れた光は、光導伝ロッド51内をその軸に対して斜め下
方向に透過してシリンドリカルレンズ41に入射する。
このように、光導伝ロッド51の両側から光を入射させ
る結果、光導伝ロッド51に入射したメタルハライドラ
ンプ光は、シリンドリカルレンズ41をほぼ均一に照射
するため、光導伝ロッド51は実質的に長尺な光源とし
て機能する。また、反射鏡筒54および反射ミラー55
が、光導伝ロッド51内に光を反射させるので、ライト
ガイドファイバー52から出射される光のロスが少なく
なる。
【0056】次に、第6実施例について、図11を参照
して説明する。第6実施例が上述した第1〜第5実施例
と異なる点は、メタルハライドランプ21の代わりに、
複数のランプを用いて、実質的に長尺な光源を構成して
いることである。なお、第1〜第5実施例と同じ構成要
素については、同一の符号を使用し、その説明を省略す
る。同図に示すように、第6実施例では、ランプベース
61に並設された複数の水銀キセノンランプ62,62
・・と、レンズベース63に並設され、水銀キセノンラ
ンプ62,62・・が発する光を集光する複数の集光レ
ンズ64,64・・と、集光レンズ64,64・・のレ
ンズ面以外を照射した光が液晶マスク26側を照射する
のを防止する光遮断マスク65と、集光レンズ64,6
4・・が出射した光を拡散させるディフューザ66とを
備えている。
して説明する。第6実施例が上述した第1〜第5実施例
と異なる点は、メタルハライドランプ21の代わりに、
複数のランプを用いて、実質的に長尺な光源を構成して
いることである。なお、第1〜第5実施例と同じ構成要
素については、同一の符号を使用し、その説明を省略す
る。同図に示すように、第6実施例では、ランプベース
61に並設された複数の水銀キセノンランプ62,62
・・と、レンズベース63に並設され、水銀キセノンラ
ンプ62,62・・が発する光を集光する複数の集光レ
ンズ64,64・・と、集光レンズ64,64・・のレ
ンズ面以外を照射した光が液晶マスク26側を照射する
のを防止する光遮断マスク65と、集光レンズ64,6
4・・が出射した光を拡散させるディフューザ66とを
備えている。
【0057】第6実施例では、同図に示すように、水銀
キセノンランプ62が出射した光は、石英板25を介し
て集光レンズ64,64・・に入射すると共に、光遮断
マスク65を照射した光は、そこで遮光される。集光レ
ンズ64に入射した光は所定の画角でディフューザ66
を照射し、そこで拡散されることにより均一化された
後、液晶マスク26を照射する。
キセノンランプ62が出射した光は、石英板25を介し
て集光レンズ64,64・・に入射すると共に、光遮断
マスク65を照射した光は、そこで遮光される。集光レ
ンズ64に入射した光は所定の画角でディフューザ66
を照射し、そこで拡散されることにより均一化された
後、液晶マスク26を照射する。
【0058】この第6実施例によれば、並設された複数
の水銀キセノンランプ62が出射する光を集光レンズ6
4で集光し、ディフューザ66によって拡散した後に、
液晶マスク26を照射するため、実質的に長尺な光源と
して機能させることができる。なお、水銀キセノンラン
プ62に限らず、メタルハライドランプやキセノンラン
プなどを用いてもよい。
の水銀キセノンランプ62が出射する光を集光レンズ6
4で集光し、ディフューザ66によって拡散した後に、
液晶マスク26を照射するため、実質的に長尺な光源と
して機能させることができる。なお、水銀キセノンラン
プ62に限らず、メタルハライドランプやキセノンラン
プなどを用いてもよい。
【0059】また、等倍率結像素子27は、倍率を変え
るように配置することにより、任意の大きさの造形物を
造形することができ、倍率を小さくするように配置する
ことによって、さらに高い造形精度を得ることもでき
る。さらに、等倍率結像素子27は、円柱状の屈折率分
布型レンズに限定されず、一対の平凸レンズなどであっ
てもよい。
るように配置することにより、任意の大きさの造形物を
造形することができ、倍率を小さくするように配置する
ことによって、さらに高い造形精度を得ることもでき
る。さらに、等倍率結像素子27は、円柱状の屈折率分
布型レンズに限定されず、一対の平凸レンズなどであっ
てもよい。
【0060】その他、構成要素は、本発明の要旨を変更
しない範囲で任意に変更することができる。
しない範囲で任意に変更することができる。
【0061】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、光源部
を移動する移動手段を備え、光源部が、光源部の移動方
向に対して直角でかつ液晶マスクに平行に延びている実
質的に長尺な光源と、光源からの光を液晶マスクに向け
て反射するレフレクタとを備えたので、液晶マスクの過
度の温度上昇を防止することができる結果、液晶マスク
の変形や誤動作を防止して造形精度を低下させることが
ない。また、光利用効率を向上させることができるた
め、紫外線硬化樹脂の硬化時間を短縮することができる
と共に、省電力化を図ることができる。さらに、長尺な
光源で照射するため、同時にある程度広い領域を照射す
ることができるので、レーザービームによって造形する
場合に比較して、短時間で目的形状の造形物を造形する
ことができる。
を移動する移動手段を備え、光源部が、光源部の移動方
向に対して直角でかつ液晶マスクに平行に延びている実
質的に長尺な光源と、光源からの光を液晶マスクに向け
て反射するレフレクタとを備えたので、液晶マスクの過
度の温度上昇を防止することができる結果、液晶マスク
の変形や誤動作を防止して造形精度を低下させることが
ない。また、光利用効率を向上させることができるた
め、紫外線硬化樹脂の硬化時間を短縮することができる
と共に、省電力化を図ることができる。さらに、長尺な
光源で照射するため、同時にある程度広い領域を照射す
ることができるので、レーザービームによって造形する
場合に比較して、短時間で目的形状の造形物を造形する
ことができる。
【0062】また、結像素子が、液晶マスクの透光部を
透過した光のうち、当該結像素子の画角内から入射した
光のみを結像すると共に、その画角外から入射した光を
反射するため、光硬化樹脂のうち、液晶マスクの遮光部
に対応する部分のみを照射する。この結果、照射すべき
部分と照射すべきでない部分との境界が明らかになるの
で、造形精度が向上する。
透過した光のうち、当該結像素子の画角内から入射した
光のみを結像すると共に、その画角外から入射した光を
反射するため、光硬化樹脂のうち、液晶マスクの遮光部
に対応する部分のみを照射する。この結果、照射すべき
部分と照射すべきでない部分との境界が明らかになるの
で、造形精度が向上する。
【図1】本発明に係る光造形装置の模式的構成図であ
る。
る。
【図2】第1実施例に係る光造形部の斜視図である。
【図3】第1実施例における作用を説明するための図で
ある。
ある。
【図4】第1実施例における作用を説明するための図で
ある。
ある。
【図5】第2実施例に係る光造形部の斜視図である。
【図6】第2実施例における作用を説明するための図で
ある。
ある。
【図7】第2実施例における作用を説明するための図で
ある。
ある。
【図8】(a)は、第3実施例に係る光造形部の斜視図
である。(b)は、ハニカム状多配列シリンドリカルレ
ンズの平面図である。
である。(b)は、ハニカム状多配列シリンドリカルレ
ンズの平面図である。
【図9】第4実施例に係る光造形部の斜視図である。
【図10】第5実施例に係る光造形部の側面図である。
【図11】第6実施例に係る光造形部の側面図である。
1 光造形装置 4 光源スキャン用Xステージ 11 紫外線硬化樹脂 21 メタルハライドランプ 22 ダイクロイック楕円ミラー 23 熱線減衰フィルタ 25 石英板 26 液晶マスク 27 等倍率素子 41 シリンドリカルレンズ 42 多配列シリンドリカルレンズ 43 シリンドリカルレンズ 44 多配列シリンドリカルレンズ 45 ハニカム状多配列シリンドリカルレンズ 51 光導伝ロッド 62 水銀キセノンランプ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 // B29K 105:24
Claims (7)
- 【請求項1】 光源部からの光を、目的形状に応じた形
状データに基づいて駆動した液晶マスクの透光部を通し
て光硬化樹脂に照射し、当該照射した部分を硬化させて
目的形状の造形物を造形する光造形装置において、 前記液晶マスクに対して平行に前記光源部を移動する移
動手段と、 前記液晶マスクと前記光硬化樹脂との間に配設され、当
該液晶マスクの透光部を透過した光を結像する結像素子
とを備え、 前記光源部は、当該光源部の移動方向に対して直角でか
つ前記液晶マスクに平行に延びている実質的に長尺な光
源と、当該光源からの光を前記液晶マスクに向けて反射
させるレフレクタとを備えていることを特徴とする光造
形装置。 - 【請求項2】 前記光源部と前記液晶マスクとの間に熱
線を減衰させる熱線減衰フィルタが配設されていること
を特徴とする請求項1記載の光造形装置。 - 【請求項3】 前記熱線減衰フィルタとの間で送風路を
構成する耐熱ガラスと、当該送風路に送風する送風手段
とを備えたことを特徴とする請求項2記載の光造形装
置。 - 【請求項4】 前記光源からの光を集光して前記液晶マ
スクを照射する耐熱性で長尺な第1の円柱レンズを前記
光源と平行に配設したことを特徴とする請求項1から3
のいずれかに記載の光造形装置。 - 【請求項5】 前記光源からの光を集光して前記液晶マ
スクを照射する、耐熱性で長尺な第2の円柱レンズを前
記光源と直角に配設したことを特徴とする請求項1から
4のいずれかに記載の光造形装置。 - 【請求項6】 前記光源は、メタルハライドランプで構
成されていることを特徴とする請求項1から5のいずれ
かに記載の光造形装置。 - 【請求項7】 前記光源は、複数のランプを前記液晶マ
スクと平行に並設したことを特徴とする請求項1から6
のいずれかに記載の光造形装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7116441A JPH08281810A (ja) | 1995-04-18 | 1995-04-18 | 光造形装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7116441A JPH08281810A (ja) | 1995-04-18 | 1995-04-18 | 光造形装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08281810A true JPH08281810A (ja) | 1996-10-29 |
Family
ID=14687189
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7116441A Pending JPH08281810A (ja) | 1995-04-18 | 1995-04-18 | 光造形装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08281810A (ja) |
Cited By (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0999036A1 (en) * | 1998-10-19 | 2000-05-10 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Light source device and lamination molding method using the same |
| EP1344633A1 (en) * | 2002-03-12 | 2003-09-17 | Teijin Seiki Co., Ltd. | Three-dimensional stereolithographic method and apparatus |
| JP2005349806A (ja) * | 2004-06-14 | 2005-12-22 | Nabtesco Corp | 光造形方法および装置 |
| JP2006142491A (ja) * | 2004-11-16 | 2006-06-08 | Nabtesco Corp | 光造形方法および装置 |
| JP2006326970A (ja) * | 2005-05-25 | 2006-12-07 | Cmet Inc | 光学的立体造形装置 |
| JP2008523451A (ja) * | 2004-12-14 | 2008-07-03 | ラドーフ ゲーエムベーハー | フォトリソグラフィ転写用のコリメートされたuv光線を生成するプロセスおよび装置 |
| JP2008281996A (ja) * | 2007-04-04 | 2008-11-20 | Korea Advanced Inst Of Sci Technol | 物質のパターン、それを利用した金型、金属薄膜パターン、金属パターン、および、それらの形成方法 |
| JP2009021354A (ja) * | 2007-07-11 | 2009-01-29 | Harison Toshiba Lighting Corp | 照射装置 |
| JP2011051332A (ja) * | 2009-06-23 | 2011-03-17 | Cmet Inc | 光造形装置および光造形方法 |
| JP2015096315A (ja) * | 2013-11-15 | 2015-05-21 | 株式会社東芝 | 三次元造形ヘッド、及び三次元造形装置 |
| WO2015072921A1 (en) | 2013-11-14 | 2015-05-21 | Structo Pte. Ltd | Additive manufacturing device and method |
| US20150355553A1 (en) * | 2013-01-09 | 2015-12-10 | Prodways | Production of a volume object by lithography, having improved spatial resolution |
| KR101682883B1 (ko) * | 2016-03-15 | 2016-12-06 | 주식회사 베이직스 | 3차원 프린터 |
| WO2020002753A1 (en) * | 2018-06-28 | 2020-01-02 | Planmeca Oy | Stereolithography apparatus equipped with shutter cooling channel |
| WO2020002775A1 (en) | 2018-06-28 | 2020-01-02 | Planmeca Oy | Stereolithography apparatus |
| JP2020501946A (ja) * | 2017-02-10 | 2020-01-23 | ヒューレット−パッカード デベロップメント カンパニー エル.ピー.Hewlett‐Packard Development Company, L.P. | 融着モジュール |
| GB2580040A (en) * | 2018-12-19 | 2020-07-15 | Xaar 3D Ltd | Heater arrangements and apparatus for layer-by-layer formation of three-dimensional objects |
-
1995
- 1995-04-18 JP JP7116441A patent/JPH08281810A/ja active Pending
Cited By (33)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0999036A1 (en) * | 1998-10-19 | 2000-05-10 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Light source device and lamination molding method using the same |
| EP1344633A1 (en) * | 2002-03-12 | 2003-09-17 | Teijin Seiki Co., Ltd. | Three-dimensional stereolithographic method and apparatus |
| US7137801B2 (en) | 2002-03-12 | 2006-11-21 | Teijin Seiki Co., Ltd. | Three-dimensional stereolithographic apparatus |
| CN1443636B (zh) | 2002-03-12 | 2010-12-08 | 帝人制机株式会社 | 光学立体造型方法及装置 |
| JP2005349806A (ja) * | 2004-06-14 | 2005-12-22 | Nabtesco Corp | 光造形方法および装置 |
| JP2006142491A (ja) * | 2004-11-16 | 2006-06-08 | Nabtesco Corp | 光造形方法および装置 |
| JP2008523451A (ja) * | 2004-12-14 | 2008-07-03 | ラドーフ ゲーエムベーハー | フォトリソグラフィ転写用のコリメートされたuv光線を生成するプロセスおよび装置 |
| JP2006326970A (ja) * | 2005-05-25 | 2006-12-07 | Cmet Inc | 光学的立体造形装置 |
| JP2008281996A (ja) * | 2007-04-04 | 2008-11-20 | Korea Advanced Inst Of Sci Technol | 物質のパターン、それを利用した金型、金属薄膜パターン、金属パターン、および、それらの形成方法 |
| JP2009021354A (ja) * | 2007-07-11 | 2009-01-29 | Harison Toshiba Lighting Corp | 照射装置 |
| JP2011051332A (ja) * | 2009-06-23 | 2011-03-17 | Cmet Inc | 光造形装置および光造形方法 |
| US9632420B2 (en) * | 2013-01-09 | 2017-04-25 | Prodways | Production of a volume object by lithography, having improved spatial resolution |
| US20150355553A1 (en) * | 2013-01-09 | 2015-12-10 | Prodways | Production of a volume object by lithography, having improved spatial resolution |
| AU2014349268B2 (en) * | 2013-11-14 | 2019-01-31 | Structo Pte. Ltd. | Additive manufacturing device and method |
| EP3068610A4 (en) * | 2013-11-14 | 2017-03-01 | Structo Pte. Ltd | Additive manufacturing device and method |
| WO2015072921A1 (en) | 2013-11-14 | 2015-05-21 | Structo Pte. Ltd | Additive manufacturing device and method |
| US11628616B2 (en) | 2013-11-14 | 2023-04-18 | Structo Pte Ltd | Additive manufacturing device and method |
| US11400645B2 (en) | 2013-11-14 | 2022-08-02 | Structo Pte Ltd | Additive manufacturing device and method |
| JP2020121569A (ja) * | 2013-11-14 | 2020-08-13 | ストラクト ピーティーイー.エルティーディーStructo Pte. Ltd | 付加製造装置及び方法 |
| US10792859B2 (en) | 2013-11-14 | 2020-10-06 | Structo Pte Ltd | Additive manufacturing device and method |
| JP2015096315A (ja) * | 2013-11-15 | 2015-05-21 | 株式会社東芝 | 三次元造形ヘッド、及び三次元造形装置 |
| US9776363B2 (en) | 2013-11-15 | 2017-10-03 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Three-dimensional modeling head and three-dimensional modeling device |
| KR101682883B1 (ko) * | 2016-03-15 | 2016-12-06 | 주식회사 베이직스 | 3차원 프린터 |
| JP2020501946A (ja) * | 2017-02-10 | 2020-01-23 | ヒューレット−パッカード デベロップメント カンパニー エル.ピー.Hewlett‐Packard Development Company, L.P. | 融着モジュール |
| US11358332B2 (en) | 2017-02-10 | 2022-06-14 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Fusing module |
| EP3814113A4 (en) * | 2018-06-28 | 2022-03-02 | Planmeca OY | STEREOLITHOGRAPHY DEVICE |
| CN112638627A (zh) * | 2018-06-28 | 2021-04-09 | 普兰梅卡有限公司 | 配备有遮蔽器冷却通道的立体印刷设备 |
| WO2020002775A1 (en) | 2018-06-28 | 2020-01-02 | Planmeca Oy | Stereolithography apparatus |
| WO2020002753A1 (en) * | 2018-06-28 | 2020-01-02 | Planmeca Oy | Stereolithography apparatus equipped with shutter cooling channel |
| US11667079B2 (en) * | 2018-06-28 | 2023-06-06 | Planmeca Oy | Stereolithography apparatus equipped with shutter cooling channel |
| US12053928B2 (en) | 2018-06-28 | 2024-08-06 | Planmeca Oy | Stereolithography apparatus |
| GB2580040B (en) * | 2018-12-19 | 2022-01-19 | Stratasys Powder Production Ltd | Heater arrangements and apparatus for layer-by-layer formation of three-dimensional objects |
| GB2580040A (en) * | 2018-12-19 | 2020-07-15 | Xaar 3D Ltd | Heater arrangements and apparatus for layer-by-layer formation of three-dimensional objects |
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