JPH08211B2 - 密閉空間の清浄方法及び装置 - Google Patents
密閉空間の清浄方法及び装置Info
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- JPH08211B2 JPH08211B2 JP2295422A JP29542290A JPH08211B2 JP H08211 B2 JPH08211 B2 JP H08211B2 JP 2295422 A JP2295422 A JP 2295422A JP 29542290 A JP29542290 A JP 29542290A JP H08211 B2 JPH08211 B2 JP H08211B2
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B03—SEPARATION OF SOLID MATERIALS USING LIQUIDS OR USING PNEUMATIC TABLES OR JIGS; MAGNETIC OR ELECTROSTATIC SEPARATION OF SOLID MATERIALS FROM SOLID MATERIALS OR FLUIDS; SEPARATION BY HIGH-VOLTAGE ELECTRIC FIELDS
- B03C—MAGNETIC OR ELECTROSTATIC SEPARATION OF SOLID MATERIALS FROM SOLID MATERIALS OR FLUIDS; SEPARATION BY HIGH-VOLTAGE ELECTRIC FIELDS
- B03C3/00—Separating dispersed particles from gases or vapour, e.g. air, by electrostatic effect
- B03C3/02—Plant or installations having external electricity supply
- B03C3/16—Plant or installations having external electricity supply wet type
Landscapes
- Electrostatic Separation (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、密閉された被処理空間の清浄方法及び装置
に係り、密閉された被処理空間即ち、作業空間中に存在
する微粒子（粒子）を直接荷電により捕集、除去する清
浄方法及び装置に関する。
に係り、密閉された被処理空間即ち、作業空間中に存在
する微粒子（粒子）を直接荷電により捕集、除去する清
浄方法及び装置に関する。
本発明の清浄方法及び装置は、家庭、事務所、病院、
あるいは半導体工業、薬品工業、食品工業、農林産業、
医薬、精密機械工業等各種産業におけるクリーンルー
ム、無菌室等における密閉された被処理空間、例えば安
全キャビネット、クリーンボックス、貴重品の保管庫、
ウェハ保管庫、貴重品の密閉搬送空間、クリーンな密閉
空間（各種気体の存在下あるいは真空中）、CVD装置に
おける空間、成膜装置関連の空間、ロボットにおける空
間の清浄に用いることができる。
あるいは半導体工業、薬品工業、食品工業、農林産業、
医薬、精密機械工業等各種産業におけるクリーンルー
ム、無菌室等における密閉された被処理空間、例えば安
全キャビネット、クリーンボックス、貴重品の保管庫、
ウェハ保管庫、貴重品の密閉搬送空間、クリーンな密閉
空間（各種気体の存在下あるいは真空中）、CVD装置に
おける空間、成膜装置関連の空間、ロボットにおける空
間の清浄に用いることができる。
従来の技術を、半導体分野におけるウェハ保管庫中の
気体の清浄を例に、第２図を用いて説明する。
気体の清浄を例に、第２図を用いて説明する。
第２図において、密閉空間であるウェハ保管庫１中の
気体２の清浄は、ファン３と高性能フィルタ４で実施さ
れる。すなわち、ウェハ保管庫１中の気体２は、ファン
３の吸引により高性能フィルタ４に通され、気体２中の
微粒子は捕集除去され、気体の浄化が行われる（清浄化
したい空間（場所）１と清浄のための集じんの場所４が
離れている）。
気体２の清浄は、ファン３と高性能フィルタ４で実施さ
れる。すなわち、ウェハ保管庫１中の気体２は、ファン
３の吸引により高性能フィルタ４に通され、気体２中の
微粒子は捕集除去され、気体の浄化が行われる（清浄化
したい空間（場所）１と清浄のための集じんの場所４が
離れている）。
このように構成されているため、気体の浄化のために
気体をファンで流動化する必要がある。
気体をファンで流動化する必要がある。
上記のような方法では、気体の清浄能力に限界があ
り、高清浄のためには気体２の高性能フィルタ４への循
環回数を多くする必要があるための動力費が高く課題で
あった。
り、高清浄のためには気体２の高性能フィルタ４への循
環回数を多くする必要があるための動力費が高く課題で
あった。
また、清浄化したい空間（場所）１と清浄のための集
じんの場所４が離れているため気体の流動化が必要であ
り、流動化に伴う粒子の発生等の課題があった。
じんの場所４が離れているため気体の流動化が必要であ
り、流動化に伴う粒子の発生等の課題があった。
また、真空状態の密閉空間では、発生した微粒子は系
内が真空状態であるため、迅速なる微粒子の捕集・除去
が出来ない課題があった。
内が真空状態であるため、迅速なる微粒子の捕集・除去
が出来ない課題があった。
そこで、本発明は、上記のような課題を解決し、運転
費が安価で、真空状態の空間でも容易に浄化できる密閉
された被処理空間の清浄方法及び装置を提供することを
目的とする。
費が安価で、真空状態の空間でも容易に浄化できる密閉
された被処理空間の清浄方法及び装置を提供することを
目的とする。
上記目的を達成するために、本発明では、電場におい
て、光電子放出材に紫外線及び／又は放射線を照射する
ことにより密閉された被処理空間中に光電子を放出せし
め、該光電子により密閉された被処理空間中に含まれて
いる微粒子（粒子）を荷電させた後、荷電した微粒子を
荷電を行っている空間内で前記電場用の電極材を用いて
除去することを特徴とする密閉された被処理空間の清浄
方法及び装置としたものである。
て、光電子放出材に紫外線及び／又は放射線を照射する
ことにより密閉された被処理空間中に光電子を放出せし
め、該光電子により密閉された被処理空間中に含まれて
いる微粒子（粒子）を荷電させた後、荷電した微粒子を
荷電を行っている空間内で前記電場用の電極材を用いて
除去することを特徴とする密閉された被処理空間の清浄
方法及び装置としたものである。
すなわち、密閉された被処理空間における微粒子の除
去において、光電子による該微粒子の荷電と、荷電微粒
子の捕集、除去を同じ被処理空間（作業空間）で行う方
法及び装置である。
去において、光電子による該微粒子の荷電と、荷電微粒
子の捕集、除去を同じ被処理空間（作業空間）で行う方
法及び装置である。
次に、本発明の夫々の構成を詳細に説明する。
光電子放出材は、紫外線照射により光電子を放出する
ものであれば何れでも良く、光電的な仕事関数の小さな
もの程好ましい、効果や経済性の面から、Ba,Sr,Ca,Y,G
d,La,Ce,Nd,Th,Pr,Be,Zr,Fe,Ni,Zn,Cu,Ag,Pt,Cd,Pb,Al,
C,Mg,Au,In,Bi,Nb,Si,Ta,Ti,U,B,Eu,Sn,Pのいずれか又
はこれらの化合物又は合金又は混合物が好ましく、これ
らは単独で又は二種以上を複合して用いられる。複合材
としては、アマルガムの如く物理的な複合材も用いう
る。
ものであれば何れでも良く、光電的な仕事関数の小さな
もの程好ましい、効果や経済性の面から、Ba,Sr,Ca,Y,G
d,La,Ce,Nd,Th,Pr,Be,Zr,Fe,Ni,Zn,Cu,Ag,Pt,Cd,Pb,Al,
C,Mg,Au,In,Bi,Nb,Si,Ta,Ti,U,B,Eu,Sn,Pのいずれか又
はこれらの化合物又は合金又は混合物が好ましく、これ
らは単独で又は二種以上を複合して用いられる。複合材
としては、アマルガムの如く物理的な複合材も用いう
る。
例えば、化合物としては酸化物、ほう化物、炭化物が
あり、酸化物にはBaO,SrO,CaO,Y2O5,Gd2O3,Nd2O3,ThO2,
ZrO2,Fe2O3,ZnO,CuO,Ag2O,La2O3,PtO,PbO,Al2O3,MgO,In
2O3,BiO,NbO,BeOなどがあり、またほう化物には、YB6,G
dB6,LaB5,NdB6,CeB6,EuB6,PrB6,ZrB2などがあり、さら
に炭化物としてはUC,ZrC,TaC,TiC,NbC,WCなどがある。
あり、酸化物にはBaO,SrO,CaO,Y2O5,Gd2O3,Nd2O3,ThO2,
ZrO2,Fe2O3,ZnO,CuO,Ag2O,La2O3,PtO,PbO,Al2O3,MgO,In
2O3,BiO,NbO,BeOなどがあり、またほう化物には、YB6,G
dB6,LaB5,NdB6,CeB6,EuB6,PrB6,ZrB2などがあり、さら
に炭化物としてはUC,ZrC,TaC,TiC,NbC,WCなどがある。
また、合金としては黄銅、青銅、リン青銅、AgとMgと
の合金（Mgが２〜20wt％）、CuとBeとの合金（Beが１〜
10wt％）及びBaとAlとの合金を用いることができ、上記
AgとMgとの合金、CuとBeとの合金及びBaとAlとの合金が
好ましい。酸化物は金属表面のみを空気中で加熱した
り、或いは薬品で酸化することによっても得ることがで
きる。
の合金（Mgが２〜20wt％）、CuとBeとの合金（Beが１〜
10wt％）及びBaとAlとの合金を用いることができ、上記
AgとMgとの合金、CuとBeとの合金及びBaとAlとの合金が
好ましい。酸化物は金属表面のみを空気中で加熱した
り、或いは薬品で酸化することによっても得ることがで
きる。
さらに他の方法としては使用前に加熱し、表面に酸化
層を形成して長期にわたって安定な酸化層を得ることも
できる。この例としてはMgとAgとの合金を水蒸気中で30
0〜400℃の温度の条件下でその表面に酸化膜を形成させ
ることができ、この酸化薄膜は長期間にわたって安定な
ものである。
層を形成して長期にわたって安定な酸化層を得ることも
できる。この例としてはMgとAgとの合金を水蒸気中で30
0〜400℃の温度の条件下でその表面に酸化膜を形成させ
ることができ、この酸化薄膜は長期間にわたって安定な
ものである。
また、本発明者が、すでに提案したように光電子放出
材を多重構造としたものも好適に使用できる（特願平１
−155857号）。
材を多重構造としたものも好適に使用できる（特願平１
−155857号）。
また、適宜の母材上に薄膜状に光電子放出し得る物質
を付加し、使用することもできる。この例として、紫外
線透過性物質（母材）としての石英ガラス上に光電子を
放出し得る物質としてAuを薄膜状に付加したものがあ
る。
を付加し、使用することもできる。この例として、紫外
線透過性物質（母材）としての石英ガラス上に光電子を
放出し得る物質としてAuを薄膜状に付加したものがあ
る。
これらの材料の使用形状は、板状、プリーツ状、曲面
状、網状等何れの形状でもよいが、紫外線の照射面積及
び処理空間との接触面積の大きな形状のものが好まし
い。
状、網状等何れの形状でもよいが、紫外線の照射面積及
び処理空間との接触面積の大きな形状のものが好まし
い。
光電子放出材からの光電子の放出は、本発明者がすで
に提案したように、反射面、曲面状の反射面等を適宜用
いることで効果的に実施することが出来る（特開昭63−
100955号公報）。
に提案したように、反射面、曲面状の反射面等を適宜用
いることで効果的に実施することが出来る（特開昭63−
100955号公報）。
光電子放出材や反射面の形状は、装置の形状、構造あ
るいは希望する効率等により異なり、適宜決めることが
できる。
るいは希望する効率等により異なり、適宜決めることが
できる。
紫外線の種類は、その照射により光電子放出材が光電
子を放出しうるものであれば何れでも良く、適用分野に
よっては、殺菌（滅菌）作用を併せてもつものが好まし
い。紫外線の種類は、適用分野、作業内容、用途、経済
性などにより適宜決めることができる。例えば、バイオ
ロジカル分野においては、殺菌作用、効率の面から遠赤
外線を併用するのが好ましい。
子を放出しうるものであれば何れでも良く、適用分野に
よっては、殺菌（滅菌）作用を併せてもつものが好まし
い。紫外線の種類は、適用分野、作業内容、用途、経済
性などにより適宜決めることができる。例えば、バイオ
ロジカル分野においては、殺菌作用、効率の面から遠赤
外線を併用するのが好ましい。
該紫外線源としては、紫外線を発するものであれば何
れでも使用でき、適用分野、装置の形状、構造、効果、
経済性等により適宜選択し用いることができる。例え
ば、水銀灯、水素放電管、キセノン放電管、ライマン放
電管などを適宜使用できる。バイオロジカル分野では、
殺菌（滅菌）波長254nmを有する紫外線を用いると、殺
菌（滅菌）効果が併用でき好ましい。
れでも使用でき、適用分野、装置の形状、構造、効果、
経済性等により適宜選択し用いることができる。例え
ば、水銀灯、水素放電管、キセノン放電管、ライマン放
電管などを適宜使用できる。バイオロジカル分野では、
殺菌（滅菌）波長254nmを有する紫外線を用いると、殺
菌（滅菌）効果が併用でき好ましい。
密閉空間中微粒子は、電場で光電子放出材に紫外線照
射することで、効率良く荷電される。
射することで、効率良く荷電される。
電場における荷電については、本発明者等がすでに提
案している（例、特開昭61−178050号、特開昭62−2444
59号各公報、特願平１−120563号）。
案している（例、特開昭61−178050号、特開昭62−2444
59号各公報、特願平１−120563号）。
本発明に用いる電場電圧は、本発明においては気体が
流動していないので、弱い電場でも効果があり、該電場
電圧は0.1V/cm〜2KV/cmである。好適な電場の強さは、
利用分野、条件、装置形状、規模、効果、経済性等で適
宜予備試験や検討を行い決めることが出来る。
流動していないので、弱い電場でも効果があり、該電場
電圧は0.1V/cm〜2KV/cmである。好適な電場の強さは、
利用分野、条件、装置形状、規模、効果、経済性等で適
宜予備試験や検討を行い決めることが出来る。
電場用電極材は、通常の荷電装置に使用されているも
のが好適に使用できる。すなわち、周知のものが好適に
使用できる。
のが好適に使用できる。すなわち、周知のものが好適に
使用できる。
電場用電極材は、荷電微粒子捕集材（集じん材）と兼
ねてあるいは一体化して用いるのがよい。
ねてあるいは一体化して用いるのがよい。
例えば、荷電微粒子捕集材の内、集じん板や集じん電
極あるいはスチールウール電極、タングステンウール電
極のようなウール状電極材等の各種電極材は、電場用電
極と、荷電微粒子の捕集を兼ねてできる。
極あるいはスチールウール電極、タングステンウール電
極のようなウール状電極材等の各種電極材は、電場用電
極と、荷電微粒子の捕集を兼ねてできる。
また、上述適宜の電場用電極材にエレクトレット材あ
るいはイオン交換フィルタなど電極材以外の材料（微粒
子の捕集に特徴がある材料）を一体化し用いることがで
きる。
るいはイオン交換フィルタなど電極材以外の材料（微粒
子の捕集に特徴がある材料）を一体化し用いることがで
きる。
光電子放出材からの光電子放出のための照射源は、照
射により光電子を放出するものであればいずれでも良
い。本例で述べた紫外線の他に電磁波、レーザ、放射線
が適宜に適用分野、装置規模、形状、効果等で選択し、
使用できる。この内、効果、操作性の面で、紫外線及び
／又は放射線が通常好ましい。
射により光電子を放出するものであればいずれでも良
い。本例で述べた紫外線の他に電磁波、レーザ、放射線
が適宜に適用分野、装置規模、形状、効果等で選択し、
使用できる。この内、効果、操作性の面で、紫外線及び
／又は放射線が通常好ましい。
紫外線を照射する代りに放射線の照射によっても、同
様に微粒子に荷電せしめ、同様の効果を得ることができ
る。
様に微粒子に荷電せしめ、同様の効果を得ることができ
る。
放射線の照射については、本発明者がすでに提案して
いる（特開昭62−24459号公報）。
いる（特開昭62−24459号公報）。
荷電及び荷電微粒子の捕集における各構成材、器具等
（照射源、光電子放出材、電極、荷電微粒子捕集材）
は、適用分野、装置規模等により適宜の位置に設置でき
る。
（照射源、光電子放出材、電極、荷電微粒子捕集材）
は、適用分野、装置規模等により適宜の位置に設置でき
る。
また、密閉された被処理空間内の一部に撹拌（混合）
部例えば小動力のファンの設置を行うと、該空間内が撹
拌（混合）されるので、効果が高まり好ましい。
部例えば小動力のファンの設置を行うと、該空間内が撹
拌（混合）されるので、効果が高まり好ましい。
本発明において、密閉された被処理空間中に存在する
気体は、空気以外に窒素やアルゴン等他の気体中あるい
は真空中でも同様に実施でき、適用分野、装置種類、規
模等で適宜用いることができる。
気体は、空気以外に窒素やアルゴン等他の気体中あるい
は真空中でも同様に実施でき、適用分野、装置種類、規
模等で適宜用いることができる。
本発明は、密閉された被処理空間（静止空間）の清浄
についてであるが、僅少量の気体の流動がある場合も同
様に実施できることは言うまでもない。
についてであるが、僅少量の気体の流動がある場合も同
様に実施できることは言うまでもない。
以下、本発明の実施例を図面を用いて説明するが、本
発明はこれに限定されるものではない。
発明はこれに限定されるものではない。
実施例１ 半導体工場のウェハ保管庫における空気清浄を、第１
図に示した本発明の基本構成図を用いて説明する。
図に示した本発明の基本構成図を用いて説明する。
密閉された被処理空間（気体が流動せず、静止状態と
みなせる空間、作業空間）であるウェハ保管庫10の空気
清浄は、ウェハ保管庫10の外側に設置された紫外線ラン
プ11、紫外線の反射面12、光電子放出材13、電場設置の
ための電極と兼用した荷電微粒子の捕集材14にて実施さ
れる。
みなせる空間、作業空間）であるウェハ保管庫10の空気
清浄は、ウェハ保管庫10の外側に設置された紫外線ラン
プ11、紫外線の反射面12、光電子放出材13、電場設置の
ための電極と兼用した荷電微粒子の捕集材14にて実施さ
れる。
すなわち、ウェハ保管庫10中の微粒子（粒子）15は、
紫外線ランプ11が照射された光電子放出材13から放出さ
れる光電子16により荷電され、荷電微粒子17となり（荷
電部）、該荷電微粒子17は荷電微粒子の捕集材14に捕集
（捕集部）される。すなわち、微粒子を荷電している空
間で、同時に荷電微粒子の捕集・除去を行っている。な
お、18は紫外線透過性ガラス窓である。
紫外線ランプ11が照射された光電子放出材13から放出さ
れる光電子16により荷電され、荷電微粒子17となり（荷
電部）、該荷電微粒子17は荷電微粒子の捕集材14に捕集
（捕集部）される。すなわち、微粒子を荷電している空
間で、同時に荷電微粒子の捕集・除去を行っている。な
お、18は紫外線透過性ガラス窓である。
このようにして、ウェハ保管庫10中の微粒子（粒子状
物質）は捕集・除去され、ウェハ保管庫は清浄空気とな
る。
物質）は捕集・除去され、ウェハ保管庫は清浄空気とな
る。
上記において、光電子放出材への紫外線の照射は、曲
面状の反射面12を用い、紫外線ランプ11から紫外線を板
状の光電子放出材に効率よく照射している。
面状の反射面12を用い、紫外線ランプ11から紫外線を板
状の光電子放出材に効率よく照射している。
電極14は、荷電微粒子の捕集と微粒子15の荷電を電場
で行うために設置している。すなわち、光電子放出材13
と電極14の間に電場を形成している。
で行うために設置している。すなわち、光電子放出材13
と電極14の間に電場を形成している。
微粒子の荷電は、電場において光電子放出材13に紫外
線照射することにより効率よく実施される。
線照射することにより効率よく実施される。
ここでの電場の電圧は20V/cmである。
また、荷電粒子の捕集は、集じん板14を用いて行って
いる。
いる。
本例における紫外線ランプ11は殺菌ランプ（主波長:2
54nm）、紫外線透過性ガラス窓材18は石英ガラス、光電
子放出材13は、Cu−Zn（母材）上にAuを薄膜状に付加し
たものである。
54nm）、紫外線透過性ガラス窓材18は石英ガラス、光電
子放出材13は、Cu−Zn（母材）上にAuを薄膜状に付加し
たものである。
実施例２ 第１図に示した構成の清浄器に下記試料ガスを入れ、
紫外線照射を行い、粒子測定器（パーティクルカウンタ
ー）を用い微粒子の残存率を調べた。
紫外線照射を行い、粒子測定器（パーティクルカウンタ
ー）を用い微粒子の残存率を調べた。
清浄器大きさ:10、 光電子放出材:Cu−Zn板に薄膜状にAuを付加したもの 電極材:Cu−Zn板 荷電微粒子捕集材：電極材で兼用 紫外線ランプ：殺菌灯 電場電圧:40V/cm 試料ガス（入口ガス）： 照射時間:30分 0.1μｍ以上の微粒子濃度を測定器で測定した。
結果 尚、ブランクとして、紫外線照射しない場合の30分放
置後の清浄器内の微粒子濃度を調べたところ、初期濃度
（入口濃度）に対し90％が認められた（測定された）。
置後の清浄器内の微粒子濃度を調べたところ、初期濃度
（入口濃度）に対し90％が認められた（測定された）。
密閉された被処理空間（静止空間）の清浄に対し、紫
外線及び／又は放射線照射による荷電と、該荷電微粒子
の該空間からの捕集除去を行うことにより、 密閉状態すなわち基本的に気体の流動化のない静止
状態で、清浄にできるので、高清浄な空間が効果的にで
きた。
外線及び／又は放射線照射による荷電と、該荷電微粒子
の該空間からの捕集除去を行うことにより、 密閉状態すなわち基本的に気体の流動化のない静止
状態で、清浄にできるので、高清浄な空間が効果的にで
きた。
密閉された被処理空間（静止空間）そのままの取扱
い（処理）で良いので、取扱い（操作）が容易となり、
コンパクトでコストが安価な清浄法及び装置となった。
い（処理）で良いので、取扱い（操作）が容易となり、
コンパクトでコストが安価な清浄法及び装置となった。
密閉空間で発生する微粒子も効果的に捕集できるの
で、実用性が一層向上した。
で、実用性が一層向上した。
窒素やアルゴン等の各種気体中あるいは真空中又は
真空に近い状態でも同様に実施できるので、実用上有効
である。
真空に近い状態でも同様に実施できるので、実用上有効
である。
により各種分野の密閉空間の清浄化に幅広く適用
できた。
できた。
荷電部で同時に荷電微粒子の捕集ができる（荷電の
空間で同時に荷電微粒子の捕集ができる）ので、装置が
コンパクトで安価な清浄法及び装置となった。
空間で同時に荷電微粒子の捕集ができる）ので、装置が
コンパクトで安価な清浄法及び装置となった。
電場用電極材が荷電微粒子捕集材を兼ねること又は
一体化することができるので、装置がコンパクトになっ
た。
一体化することができるので、装置がコンパクトになっ
た。
第１図は、本発明の清浄方法を説明する基本構成図、第
２図は、従来のウェハ保管庫の概略構成図を示す。 １……ウェハ保管庫、２……気体、３……ファン、４…
…高性能フィルタ、11……紫外線ランプ、12……反射
面、13……光電子放出材、14……捕集材（電極と兼
用）、15……微粒子、16……光電子、17……荷電微粒
子、18……紫外線透過窓材
２図は、従来のウェハ保管庫の概略構成図を示す。 １……ウェハ保管庫、２……気体、３……ファン、４…
…高性能フィルタ、11……紫外線ランプ、12……反射
面、13……光電子放出材、14……捕集材（電極と兼
用）、15……微粒子、16……光電子、17……荷電微粒
子、18……紫外線透過窓材
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小榑 直明 神奈川県藤沢市本藤沢４丁目２番１号 株 式会社荏原総合研究所内 (72)発明者 坂本 和彦 埼玉県浦和市南元宿２―４―１
Claims (6)
- 【請求項１】電場において、光電子放出材に紫外線及び
／又は放射線を照射することにより密閉された被処理空
間中に光電子を放出せしめ、該光電子により密閉された
被処理空間中に含まれている微粒子を荷電させた後、荷
電した微粒子を荷電を行っている空間内で前記電場用の
電極材を用いて除去することを特徴とする密閉された被
処理空間の清浄方法。 - 【請求項２】前記光電子放出材が、光電的な仕事関数の
小さい物質より成る請求項１記載の密閉された被処理空
間の清浄方法。 - 【請求項３】前記光電子放出材が、Ba,Sr,Ca,Y,Gd,La,C
e,Nd,Th,Pr,Be,Zr,Fe,Ni,Zn,Cu,Ag,Pt,Cd,Pb,Al,C,Mg,A
u,In,Bi,Nb,Si,Ta,Ti,U,B,Eu,Sn,P及びその化合物から
選ばれた材料の１つよりなる請求項２記載の密閉された
被処理空間の清浄方法。 - 【請求項４】前記光電子放出材が、Ba,Sr,Ca,Y,Gd,La,C
e,Nd,Th,Pr,Be,Zr,Fe,Ni,Zn,Cu,Ag,Pt,Cd,Pb,Al,C,Mg,A
u,In,Bi,Nb,Si,Ta,Ti,U,B,Eu,Sn,P及びその化合物から
選ばれた材料の少なくとも二種以上の合金又は混合物又
は複合材よりなる請求項２記載の密閉された被処理空間
の清浄方法。 - 【請求項５】前記電場は、電圧が0.1V/cm〜2KV/cmであ
る請求項１記載の密閉された被処理空間の清浄方法。 - 【請求項６】密閉された被処理空間内に、紫外線及び／
又は放射線源と、該線源により光電子を放出する光電子
放出材と、光電子により荷電された荷電微粒子を捕集す
る荷電微粒子捕集材を兼ねた又は一体化した電場用電極
材とを設けたことを特徴とする密閉された被処理空間の
清浄装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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