JPH08211224A - Phase difference compensating plate and manufacturing method thereof - Google Patents
Phase difference compensating plate and manufacturing method thereofInfo
- Publication number
- JPH08211224A JPH08211224A JP8378695A JP8378695A JPH08211224A JP H08211224 A JPH08211224 A JP H08211224A JP 8378695 A JP8378695 A JP 8378695A JP 8378695 A JP8378695 A JP 8378695A JP H08211224 A JPH08211224 A JP H08211224A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- weight
- compensating plate
- solvent
- retardation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Polarising Elements (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、F−STN方式の液晶
表示装置などにて使用される位相差補償板及びその製造
方法に関し、特にキャスト法で作製した高分子フィルム
を延伸することにより複屈折性を持たせた位相差補償板
及びその製造方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a retardation compensating plate used in F-STN type liquid crystal display devices and the like, and a method for manufacturing the same, and more particularly to a retardation compensating plate prepared by stretching a polymer film prepared by a casting method. The present invention relates to a retardation compensating plate having a refractive property and a manufacturing method thereof.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、パーソナルコンピュータやワープ
ロの液晶表示装置に、表示容量の増大、画面の大型化に
対応でき、高コントラストを実現できるSTN液晶が用
いられてきている。STN液晶を用いた液晶表示装置
は、STN液晶の複屈折性による楕円偏光によって表示
色が主として青色や黄色に着色するから、これを白黒表
示装置として使用する場合には、STN液晶の複屈折に
よる位相差を補償して表示色を白黒にすることが行われ
る。2. Description of the Related Art In recent years, STN liquid crystals capable of accommodating an increase in display capacity and a large screen and realizing high contrast have been used in liquid crystal display devices for personal computers and word processors. The liquid crystal display device using the STN liquid crystal has a display color mainly blue or yellow due to the elliptically polarized light due to the birefringence of the STN liquid crystal. The display color is changed to black and white by compensating for the phase difference.
【0003】この位相差を補償する手段の違いにより、
STN方式の液晶表示素子には、液晶表示セルと同じ構
成で位相差のみを逆位相とした補償液晶セルを液晶表示
セルと重ねて用いるD−STN方式のものと、補償液晶
セルに代えて複屈折性フィルムによる位相差補償板を用
いるF−STN方式のものとがある。このうちF−ST
N方式は、補償液晶セルを必要としないことから、D−
STN方式に比べて、軽量化、薄型化に関して優れ、コ
ストメリットも含めて好ましい表示装置である。Due to the difference in means for compensating for this phase difference,
The STN type liquid crystal display device includes a D-STN type liquid crystal display device in which a compensating liquid crystal cell having the same configuration as the liquid crystal display cell but having only a phase difference as an opposite phase is used in combination with the liquid crystal display cell, and a compensating liquid crystal cell instead of There is an F-STN system using a retardation compensator made of a refractive film. Of these, F-ST
Since the N method does not require a compensating liquid crystal cell, D-
Compared with the STN system, the display device is excellent in weight reduction and thinning, and is a preferable display device in consideration of cost merit.
【0004】一般的なF−STN方式の液晶表示素子の
セル構成は、平行ニコル状態の2枚の偏光板の間に液晶
セルと1枚ないし2枚の位相差補償板がサンドイッチ構
造をもって組み合わせられたものであり、偏光板、位相
差補償板、液晶セルのガラス面のそれぞれの界面を接着
剤層を介して接着することにより液晶表示素子が形成さ
れる。The cell structure of a general F-STN type liquid crystal display device is such that a liquid crystal cell and one or two retardation compensating plates are combined in a sandwich structure between two polarizing plates in a parallel Nicol state. That is, the liquid crystal display element is formed by adhering the respective interfaces of the polarizing plate, the retardation compensating plate, and the glass surface of the liquid crystal cell via the adhesive layer.
【0005】F−STN方式の液晶表示素子の位相差補
償板として使用される複屈折性フィルムは、従来一般
に、ポリカーボネート系樹脂、セルロース系樹脂、塩化
ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリ
エステル系樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリエーテルサル
ホン樹脂、ポリアリレート樹脂などの非結晶性の熱可塑
性樹脂をキャスト法、カレンダー法、溶融押出法等によ
りフィルムもしくはシートに成形してなる高分子フィル
ムにより構成され、この高分子フィルムを縦方向、横方
向に延伸することにより複屈折性を有する位相差補償板
が得られる。Birefringent films used as retardation compensating plates for F-STN type liquid crystal display elements have generally been conventionally made of polycarbonate resins, cellulose resins, vinyl chloride resins, acrylic resins, styrene resins, Consists of a polymer film formed by molding a non-crystalline thermoplastic resin such as polyester resin, polysulfone resin, polyether sulfone resin, polyarylate resin, etc. into a film or sheet by the casting method, calendering method, melt extrusion method, etc. Then, by stretching this polymer film in the machine direction and the transverse direction, a retardation compensating plate having birefringence can be obtained.
【0006】位相差補償板として使用される複屈折性フ
ィルムは、透明性の他に、フィルム面内において均一な
位相差補償性能を有し、位相差むらのないことが品質
上、重要な項目である。この位相差補償性能はリターデ
ーション値で表され、これは位相差補償板の複屈折率
(Δn)と厚み(d)の積で定義される。フィルム面内
において位相差むらがないためには、複屈折率および膜
厚が均一であることが必要とされる。そこで、高分子フ
ィルムの成形方法として、膜厚の均一性の高いキャスト
法が一般的に用いられている。The birefringent film used as a retardation compensator has not only transparency but also uniform retardation compensation in the film plane, and it is an important item in terms of quality that there is no retardation unevenness. Is. The retardation compensation performance is represented by a retardation value, which is defined by the product of the birefringence (Δn) and the thickness (d) of the retardation compensation plate. It is necessary that the birefringence and the film thickness are uniform so that there is no retardation unevenness in the film plane. Therefore, as a method for molding a polymer film, a casting method having a high film thickness uniformity is generally used.
【0007】しかしながら、高分子フィルムの延伸時に
おいて位相差むらが発生することも多く、この対策とし
て特開平4−204503号公報には、延伸時の高分子
フィルム中の溶媒(溶剤)含有量を2〜10重量%にし
て延伸することにより位相差むらのない位相差補償板を
製造する方法が開示されている。However, unevenness of retardation often occurs during stretching of the polymer film, and as a countermeasure against this, JP-A-4-204503 discloses the content of a solvent (solvent) in the polymer film during stretching. A method for producing a retardation compensating plate having no retardation unevenness by stretching it at 2 to 10% by weight is disclosed.
【0008】しかしながら、特開平4−204503号
公報に開示されているように、延伸時の高分子フィルム
中の溶媒含有量を2〜10重量%にして延伸しても、ポ
リサルホン樹脂等においては、延伸によって得られる位
相差補償板の位相差むらの低減は不十分であった。However, as disclosed in Japanese Unexamined Patent Publication No. 4-204503, even if the solvent content in the polymer film at the time of stretching is set to 2 to 10% by weight and stretched, the polysulfone resin, etc. The reduction of the retardation unevenness of the retardation compensator obtained by stretching was insufficient.
【0009】又、F−STN方式の液晶表示素子におい
ては、偏光板と位相差補償板、位相差補償板と液晶セル
ガラス面の各々の接着界面において、熱や湿気による経
時的な変化あるいはショックにより剥離や気泡が発生す
ることが品質上の問題点となっており、このことは、高
分子フィルム中の溶媒含有量が2〜10重量%である位
相差補償板においても解決されない。Further, in the F-STN type liquid crystal display element, a change or a shock with time due to heat or moisture is caused at each bonding interface between the polarizing plate and the phase difference compensating plate and between the phase difference compensating plate and the liquid crystal cell glass surface. As a result, peeling and air bubbles are a problem in terms of quality, and this cannot be solved even in a retardation compensating plate having a solvent content of 2 to 10% by weight in a polymer film.
【0010】又、有機溶剤に溶解した高分子溶液をキャ
スト基板上に流延し、膜状物とした後、基板上で延伸時
に位相差ムラが発生しないような溶媒含有量にまで乾燥
するには、乾燥温度を上げるか、もしくは乾燥時間を長
くする必要がある。乾燥温度を高くすると上記膜状物に
発泡が起き易くなり、穏やかな乾燥温度で乾燥時間を長
くすると、巨大な乾燥設備を導入するか、又は生産速度
を低下させるしかない。Further, a polymer solution dissolved in an organic solvent is cast on a cast substrate to form a film, and then dried to a solvent content such that phase difference unevenness does not occur during stretching on the substrate. Need to raise the drying temperature or lengthen the drying time. When the drying temperature is raised, foaming of the film is likely to occur, and when the drying time is extended at a moderate drying temperature, a huge drying facility is introduced or the production rate is reduced.
【0011】このようなキャスト法による位相差膜の製
造方法として、特開平4−282212号公報に、有機
溶剤に溶解された高分子溶液を、走行するエンドレスの
金属板の支持体上に流延し膜状物とした後、乾燥を行
い、該支持体上より剥ぎ取り、膜として更に後乾燥を行
う位相差膜の製造方法において、前記膜の有する、残留
溶媒と温度によって決定される膜の降伏値以下の条件で
膜にかける張力と乾燥温度を規制する方法が開示されて
いる。As a method for producing a retardation film by such a casting method, Japanese Patent Laid-Open No. 4-282212 discloses a method of casting a polymer solution dissolved in an organic solvent on a support of a running endless metal plate. In the method for producing a retardation film, which is formed into a film-like material, is dried, is peeled off from the support, and is further dried as a film. A method is disclosed in which the tension applied to the film and the drying temperature are regulated under the yield value or less.
【0012】しかしながら、上記の方法では、乾燥を行
う前の残留溶剤の量が多ければ全面緩徐な乾燥しかでき
ず、目標の残留溶剤量にするためには乾燥設備の巨大化
又は著しい生産速度の低下が避けられない。However, in the above-mentioned method, if the amount of the residual solvent before the drying is large, only the entire surface can be dried slowly, and in order to achieve the target residual solvent amount, the drying equipment becomes huge or the production rate is significantly increased. The decline is inevitable.
【0013】[0013]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述のよう
な問題点に着目してなされたものであり、位相差むらが
充分に少なく、しかも偏光板や液晶セルガラス面との接
着面において剥離や気泡を発生することがなく、高性能
で耐久性に優れた位相差補償板及びその生産性の高い製
造方法を提供することを目的としている。DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention has been made by paying attention to the above-mentioned problems, and has a sufficiently small unevenness in phase difference, and moreover, in terms of a bonding surface with a polarizing plate or a liquid crystal cell glass surface. It is an object of the present invention to provide a retardation compensating plate which does not generate peeling or bubbles and has high performance and excellent durability, and a manufacturing method having high productivity.
【0014】[0014]
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記問題点
を検討した結果、延伸工程における位相差むらの発生
は、キャストフィルムの溶媒含有量がフィルム面内にお
いて不均一で、溶媒含有量によって部分的に延伸性に差
が生じ、これにより延伸後の膜厚、及び樹脂の配向性、
即ち、複屈折性にむらが生じることが原因であることを
見い出した。Means for Solving the Problems As a result of studying the above-mentioned problems, the present inventors have found that the unevenness of retardation in the stretching step occurs because the solvent content of the cast film is non-uniform in the film plane. Due to the partial difference in stretchability, the film thickness after stretching, the orientation of the resin,
That is, it was found that the cause was unevenness in birefringence.
【0015】又、本発明者らは上記問題点を検討した結
果、位相差補償板或いは液晶セルガラス面と偏光板の接
触面における熱や湿気による経時的な変化或いはショッ
クによる剥離や気泡の発生は、位相差補償板に含まれる
有機溶媒が接着剤層に拡散し、接着剤層の力学的強度を
低下させると共に、接着剤層の端面からの雰囲気中の水
分の浸入を促進し、接着強度が低下することが原因であ
ることもつきとめた。そして有機溶媒が位相差補償板か
ら接着剤層への拡散することにより、位相差補償板の収
縮が起こり、これにより発生する応力が剥離を拡大する
ことも見い出した。Further, as a result of studying the above-mentioned problems, the present inventors have found that the contact surface between the retardation compensating plate or the liquid crystal cell glass surface and the polarizing plate changes with time due to heat or moisture, or peels off or bubbles occur due to shock. Means that the organic solvent contained in the retardation compensator diffuses into the adhesive layer, lowers the mechanical strength of the adhesive layer, promotes the infiltration of moisture in the atmosphere from the end surface of the adhesive layer, and improves the adhesive strength. It was also found that the cause was a decrease in. It was also found that the organic solvent diffuses from the retardation compensating plate to the adhesive layer to cause contraction of the retardation compensating plate, and the stress generated thereby expands the peeling.
【0016】本発明者らは更に検討を行い、予め位相差
補償板内の有機溶媒を或るレベル以下に規制することに
よって有機溶媒の影響を除去し、上述の位相差むらの発
生を解消し、又、剥離、気泡の問題も解消することがで
きるという知見を得て本発明に至った。即ち、上述の目
的は、本発明によれば、キャスト法によって作製された
高分子フィルムを延伸することにより複屈折性を持たせ
た位相差補償板において、前記高分子フィルムの溶媒含
有量が2重量%未満であることを特徴とする位相差補償
板によって達成される。The inventors of the present invention conducted further studies to eliminate the influence of the organic solvent by regulating the organic solvent in the retardation compensating plate to a certain level or less in advance, and to eliminate the above-mentioned occurrence of the retardation unevenness. Further, the present invention has been accomplished by finding that the problems of peeling and bubbles can be solved. That is, according to the present invention, the above-mentioned object is that in a retardation compensating plate having birefringence by stretching a polymer film produced by a casting method, the solvent content of the polymer film is 2 It is achieved by a retardation compensating plate characterized by being less than wt%.
【0017】又、上述の如き目的を達成するため、本発
明による位相差補償板の製造方法は、キャスト法によっ
て作製された高分子フィルムを延伸することにより複屈
折を持たせた位相差補償板の製造方法において、前記高
分子フィルムの溶媒含有量を2重量%未満にして延伸す
ることを特徴としている。In order to achieve the above object, the method for producing a retardation compensating plate according to the present invention is a retardation compensating plate having birefringence obtained by stretching a polymer film produced by a casting method. In the production method of, the polymer film is stretched with a solvent content of less than 2% by weight.
【0018】本発明において、キャスト法によって製膜
された高分子フィルムの溶媒含有量を2重量%未満、好
ましくは0.5〜1.5重量%の範囲にすることによ
り、フィルム面内の各部における溶媒含有量の分布幅を
狭くし、フィルム面内の溶媒含有量を均一に近づけるこ
とができる。残留溶媒量が2重量%以上ではフィルム面
内における溶媒含有量の分布幅が大きくなり、延伸時に
位相差むらが発生しやすい。In the present invention, the solvent content of the polymer film formed by the casting method is set to less than 2% by weight, preferably 0.5 to 1.5% by weight, so that each part in the film plane is The distribution width of the solvent content in can be narrowed, and the solvent content in the film plane can be made close to uniform. When the residual solvent amount is 2% by weight or more, the distribution width of the solvent content in the film plane becomes large, and uneven retardation is likely to occur during stretching.
【0019】又、位相差補償板の溶媒含有量を2重量%
未満にすることにより、偏光板或いは液晶セルガラス面
との接着界面における接着剤層の接着強度及び耐湿性が
ほとんど低下せず、溶媒の拡散及び揮散による位相差補
償板の収縮応力の発生を抑制できる。これにより、位相
差補償板と偏光板或いは液晶セルガラス面との接着面に
おいて剥離や気泡が起こらない耐久性に優れた液晶表示
セルが得られる。The solvent content of the retardation compensating plate is 2% by weight.
When it is less than 1, the adhesive strength and moisture resistance of the adhesive layer at the adhesive interface with the polarizing plate or the liquid crystal cell glass surface are hardly reduced, and the generation of contraction stress of the retardation compensating plate due to the diffusion and volatilization of the solvent is suppressed. it can. As a result, a liquid crystal display cell having excellent durability can be obtained in which peeling or bubbles do not occur on the bonding surface between the retardation compensation plate and the polarizing plate or the liquid crystal cell glass surface.
【0020】溶媒含有量が2重量%以上では、位相差補
償板とセルガラス面の接着界面或いは位相差板と偏光板
の接着界面において剥離や気泡が発生し易く、更に溶媒
含有量が10重量%以上では高分子フィルムのガラス転
移温度(以下、Tgと略称する。)の低下により耐熱性
の評価試験等において配向が熱によって緩和され、位相
差値(Re)が低下するといった問題も生じる。When the solvent content is 2% by weight or more, peeling and bubbles are likely to occur at the bonding interface between the retardation compensating plate and the cell glass surface or the bonding interface between the retardation plate and the polarizing plate, and the solvent content is 10% by weight. If it is more than 0.1%, the glass transition temperature (hereinafter abbreviated as Tg) of the polymer film is lowered, so that the orientation is relaxed by heat in a heat resistance evaluation test and the like, which causes a problem that the retardation value (Re) is lowered.
【0021】猶、本発明における溶媒含有量とは、キャ
スト法によって製膜したフィルムの重量が溶質(固形
分)Wgと含有溶媒wgの和(W+w)gであるとき、
w/W×100(%)で表される。The solvent content in the present invention means that when the weight of the film formed by the casting method is the sum of the solute (solid content) Wg and the contained solvent wg (W + w) g,
It is represented by w / W × 100 (%).
【0022】又、本発明においてキャスト法によって高
分子フィルムを作製する際に、可塑剤を含有させること
により、溶媒を効率よく乾燥できる。高分子フィルム中
の溶剤を乾燥させるために必要な乾燥温度は高分子フィ
ルムのTgに依存しており、高分子フィルムをTg以上
に加熱することにより溶剤分子の拡散が容易となり、乾
燥が速やかに進行する。そこで可塑剤の添加によりTg
を低下させることにより、乾燥温度を低下させ乾燥時間
を短縮できる。When a polymer film is produced by the casting method in the present invention, the solvent can be efficiently dried by containing a plasticizer. The drying temperature required to dry the solvent in the polymer film depends on the Tg of the polymer film, and heating the polymer film to a temperature above Tg facilitates diffusion of solvent molecules, resulting in quick drying. proceed. Therefore, by adding a plasticizer, Tg
By lowering the temperature, the drying temperature can be lowered and the drying time can be shortened.
【0023】可塑剤の含有量は、高分子フィルムに対し
て10重量%以下、好ましくは3〜5重量%である。1
0重量%より多いと延伸時の応力緩和が著しくなり、延
伸による位相差の付与が困難となる。The content of the plasticizer is 10% by weight or less, preferably 3 to 5% by weight, based on the polymer film. 1
If it is more than 0% by weight, stress relaxation during stretching becomes remarkable, and it becomes difficult to impart a retardation by stretching.
【0024】本発明で使用される可塑剤としては、樹脂
との相溶性がよく相分離やブリードアウトを生じないも
のであり、且つ、着色の生じないものであれば特に限定
されるものではない。このような可塑剤としては、例え
ば、フタル酸系可塑剤、りん酸系可塑剤、アジピン酸系
可塑剤、クエン酸系可塑剤、グリコール酸系可塑剤等が
適用でき、具体的には、特にフタル酸ジエチル、フタル
酸ジシクロヘキシル、フタル酸ブチルベンジル、りん酸
トリクレジル、メチルフタル・エチルグリコレート等が
好適である。又、2種類以上のこれらの可塑剤を混合し
て使用してもよい。The plasticizer used in the present invention is not particularly limited as long as it has good compatibility with the resin and does not cause phase separation or bleed-out, and does not cause coloring. . As such a plasticizer, for example, a phthalic acid-based plasticizer, a phosphoric acid-based plasticizer, an adipic acid-based plasticizer, a citric acid-based plasticizer, a glycolic acid-based plasticizer, or the like can be applied. Diethyl phthalate, dicyclohexyl phthalate, butylbenzyl phthalate, tricresyl phosphate, methyl phthal / ethyl glycolate and the like are preferable. Further, two or more kinds of these plasticizers may be mixed and used.
【0025】又、本発明による位相差補償板の製造方法
は、有機溶剤に溶解した高分子溶液をキャスト基板上に
流延し、膜状物とした後、乾燥を行い、溶媒含有量15
重量%以下の高分子フィルムを形成し、次いで該高分子
フィルムを剥ぎ取り、2次乾燥を行い、溶媒含有量2重
量%未満にして延伸することを特徴としている。In the method for producing a retardation compensating plate according to the present invention, a polymer solution dissolved in an organic solvent is cast on a cast substrate to form a film, which is then dried to obtain a solvent content of 15
It is characterized in that a polymer film of not more than wt% is formed, then the polymer film is peeled off and secondary drying is carried out, and the solvent content is made less than 2 wt% and stretched.
【0026】本発明において、キャスト基板上で乾燥さ
れ、形成される高分子フィルムの溶剤含有量は15重量
%以下であるが、2次乾燥工程で上記高分子フィルムは
支持体なしで乾燥されるため、溶剤含有量が15重量%
を超えると、高分子フィルムに伸びが発生し、本発明の
目的とする高品位の位相差補償板を与えないからであ
る。In the present invention, the polymer film dried and formed on the cast substrate has a solvent content of 15% by weight or less, but the polymer film is dried without a support in the secondary drying step. Therefore, the solvent content is 15% by weight
If it exceeds the range, elongation occurs in the polymer film and the high-quality retardation compensating plate aimed at by the present invention is not provided.
【0027】本発明に用いる高分子フィルムは、ポリカ
ーボネート系樹脂の他、ポリスチレン、スチレン−アク
リロニトリル共重合体等のスチレン系樹脂、ポリメタク
リル酸メチル、ポリアクリル酸ブチル等のアクリル系樹
脂、塩化ビニル系樹脂、ポリエチレン等のオレフィン系
樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹
脂、ポリフォニレンオキサイド系樹脂等のエンジニアリ
ングプラスチック類、ジアセチルセルロース、トリアセ
チルセルロース等の繊維素系樹脂等が例示できる。The polymer film to be used in the present invention includes, in addition to polycarbonate resins, styrene resins such as polystyrene and styrene-acrylonitrile copolymers, acrylic resins such as polymethyl methacrylate and polybutyl acrylate, and vinyl chloride resins. Examples thereof include resins, olefin resins such as polyethylene, polysulfone resins, polyethersulfone resins, engineering plastics such as polyphenylene oxide resins, and fibrin resins such as diacetyl cellulose and triacetyl cellulose.
【0028】延伸された上記高分子フィルムによる位相
差の波長分布は、該高分子フィルムが有する複屈折率に
依存し、リターデーションで評価されるが、上記高分子
フィルムの内、就中、ポリサルホンがこれらの性能から
判断して、位相差補償板として好ましいものである。The wavelength distribution of retardation due to the stretched polymer film depends on the birefringence of the polymer film and is evaluated by retardation. Among the polymer films, polysulfone is particularly preferable. Judging from these performances, is preferable as the phase difference compensating plate.
【0029】上記ポリサルホンとは、分子内にスルホン
基を有するポリマーであり、例えば、4−フェノキシス
ルホニルクロリド等のスルホニルクロリド化合物類の縮
重合によって得られるポリアリルサルホン、4,4’−
ジクロロジフェニルサルホン等のジハロゲンジフェニル
サルホンとビスフェノールA等のジオールのナトリウム
塩の縮重合で得られるポリサルホン、4,4’−ジクロ
ロジフェニルサルホン等のジハロゲンジフェニルサルホ
ンとジフェニルエーテルの縮重合によって得られるポリ
エーテルサルホン等が好適に使用される。上記ポリサル
ホンのガラス転移温度は190℃であり、上記の他、透
明性、耐熱性等に優れた高分子フィルムを与える。The above-mentioned polysulfone is a polymer having a sulfone group in the molecule, for example, polyallylsulfone obtained by condensation polymerization of sulfonyl chloride compounds such as 4-phenoxysulfonyl chloride, 4,4'-.
Polysulfone obtained by condensation polymerization of dihalogen diphenyl sulfone such as dichlorodiphenyl sulfone and sodium salt of diol such as bisphenol A, obtained by condensation polymerization of dihalogen diphenyl sulfone and diphenyl ether such as 4,4′-dichlorodiphenyl sulfone Polyether sulfone is preferably used. The glass transition temperature of the polysulfone is 190 ° C., and in addition to the above, it gives a polymer film excellent in transparency, heat resistance and the like.
【0030】上記ポリサルホン系樹脂には、前記可塑剤
と同様にポリサルホンの低分子量重合体が含有されても
よい。これらの低分子量重合体は、前記高分子フィルム
に配合される可塑剤の作用を示し、キャスト法により製
膜されるポリサルホンの溶剤含有量未満におけるガラス
転移温度を100〜150℃、好ましくは、110〜1
45℃の範囲とすることにより、乾燥温度を低下させる
と共に乾燥時間を短縮できる。上記可塑剤とポリサルホ
ンの低分子量重合体は、それぞれ単独で添加されてもよ
く、又、両者が併用されてもよい。The polysulfone-based resin may contain a low molecular weight polymer of polysulfone as in the plasticizer. These low molecular weight polymers exhibit the action of a plasticizer compounded in the polymer film, and have a glass transition temperature of 100 to 150 ° C., preferably 110, at a solvent content of polysulfone formed by a casting method. ~ 1
By setting the temperature in the range of 45 ° C., the drying temperature can be lowered and the drying time can be shortened. The plasticizer and the low molecular weight polymer of polysulfone may be added alone or in combination.
【0031】又、溶媒としては、高分子を溶解し、キャ
スト時に結晶化による透明性の低下や膜厚の不均一化等
を起こさない溶媒であれば、特に限定されない。例え
ば、ポリサルホン樹脂をキャストする場合には、アニソ
ール、ジオキサン、テトラヒドロピラン、塩化メチレ
ン、N−メチルピロリドン、アセトフェノン等が溶媒と
して用いられる。特にアニソールは、ポリサルホン系樹
脂との相互作用が小さく、溶媒の乾燥除去に要するエネ
ルギーを低減できることから好適である。Further, the solvent is not particularly limited as long as it dissolves the polymer and does not cause a decrease in transparency due to crystallization during casting or an uneven film thickness. For example, when casting a polysulfone resin, anisole, dioxane, tetrahydropyran, methylene chloride, N-methylpyrrolidone, acetophenone or the like is used as a solvent. In particular, anisole is preferable because it has a small interaction with the polysulfone resin and can reduce the energy required for drying and removing the solvent.
【0032】又、上記高分子の流延用溶液を調製するに
際し、必要に応じ上記溶媒に加えて、これら溶媒に相溶
し、ポリサルホン系樹脂等の高分子溶液の透明性や保存
安定性を損なわない貧溶媒を併用し、溶液粘度調整を行
うことができる。上記高分子溶液粘度は、1×103 〜
1×105 CPSの範囲に調整することが、レベリング
による塗工外観を良好に保ち、塗膜の平滑性を得るため
には好ましい。又、使用する溶媒の沸点以下の沸点を有
する貧溶媒を使用すると乾燥時の温度を低下させること
ができる。In addition, when preparing a casting solution of the above-mentioned polymer, in addition to the above-mentioned solvent if necessary, it is compatible with these solvents to improve transparency and storage stability of the polymer solution such as polysulfone resin. Solution viscosity can be adjusted by using a poor solvent that does not impair the solution. The polymer solution viscosity is 1 × 10 3 to
It is preferable to adjust it in the range of 1 × 10 5 CPS in order to maintain a good coating appearance by leveling and to obtain smoothness of the coating film. If a poor solvent having a boiling point not higher than that of the solvent used is used, the temperature during drying can be lowered.
【0033】例えば、ポリサルホン系樹脂のアニソール
溶液を調製する場合、アニソールを単独で用いてもよい
が、アニソールの沸点(約154℃)を下げて乾燥時間
をより一層短くして塗工性を良好にするために、またア
ニソール溶液の粘度を低下せしめて塗工物の外観を良好
にするために貧溶媒、即ち、アニソールと相溶し、ポリ
サルホン系樹脂溶液の透明性や保存安定性を損なわず、
アニソールよりも低沸点であり、且つ、ポリサルホン系
樹脂の溶解度がアニソールよりも低い(1重量%未満)
溶媒を混合することができる。かかる貧溶媒として、例
えば、アセトン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、ト
ルエン及びフェノール等が挙げられ、これらの1種もし
くは2種以上を混合して使用できる。For example, in the case of preparing an anisole solution of polysulfone resin, anisole may be used alone, but the boiling point (about 154 ° C.) of anisole is lowered to further shorten the drying time and improve the coatability. In order to reduce the viscosity of the anisole solution and to improve the appearance of the coated product, it is compatible with the poor solvent, that is, anisole, and does not impair the transparency and storage stability of the polysulfone resin solution. ,
It has a lower boiling point than anisole and the solubility of polysulfone resin is lower than that of anisole (less than 1% by weight).
Solvents can be mixed. Examples of such a poor solvent include acetone, methyl ethyl ketone, ethyl acetate, toluene, phenol, and the like, and one kind or a mixture of two or more kinds thereof can be used.
【0034】アニソールに上記貧溶媒を混合する場合、
全溶媒量(アニソールと貧溶媒の混合物)の重量に対し
て貧溶媒を60重量%以下の範囲で使用する。貧溶媒が
60重量%を超えると、ポリサルホンの溶解性が悪化
し、フィッシュアイ等の発生の原因となるので好ましく
ない。When the above poor solvent is mixed with anisole,
The poor solvent is used in a range of 60% by weight or less based on the total weight of the solvent (mixture of anisole and the poor solvent). When the amount of the poor solvent exceeds 60% by weight, the solubility of polysulfone deteriorates, which causes generation of fish eyes and the like, which is not preferable.
【0035】又、ポリサルホン系樹脂のジオキサン溶液
を調製する場合、ジオキサンを単独で用いてもよいが、
ジオキサンの沸点(約102℃)を下げて乾燥時間をよ
り一層短くして塗工性を良好にするために、又、ジオキ
サン溶液の粘度を低下せしめて塗工物の外観を良好にす
るために貧溶媒、即ち、ジオキサンと相溶し、ポリサル
ホン系樹脂溶液の透明性や保存安定性を損なわず、ジオ
キサンよりも低沸点であり、且つ、ポリサルホン系樹脂
の溶解度がジオキサンよりも低い(1重量%未満)溶媒
を混合することができる。かかる貧溶媒として、例え
ば、アセトン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、トル
エン及びフェノール等が挙げられ、これらの1種もしく
は2種以上を混合して使用できる。When preparing a dioxane solution of a polysulfone resin, dioxane may be used alone,
In order to lower the boiling point of dioxane (about 102 ° C) and further shorten the drying time to improve the coatability, and to reduce the viscosity of the dioxane solution to improve the appearance of the coating. Poor solvent, that is, it is compatible with dioxane, does not impair the transparency and storage stability of the polysulfone resin solution, has a lower boiling point than dioxane, and the solubility of the polysulfone resin is lower than dioxane (1 wt% (Less than) solvents can be mixed. Examples of such a poor solvent include acetone, methyl ethyl ketone, ethyl acetate, toluene, phenol, and the like, and one kind or a mixture of two or more kinds thereof can be used.
【0036】ジオキサンに上記貧溶媒を混合する場合、
全溶媒量(ジオキサンと貧溶媒の混合物)の重量に対し
て貧溶媒を60重量%以下の範囲で使用する。貧溶媒が
60重量%を超えると、上記アニソールの場合と同様、
ポリサルホンの溶解性が悪化し、フィッシュアイ等の発
生の原因となるので好ましくない。When dioxane is mixed with the above poor solvent,
The poor solvent is used in the range of 60% by weight or less based on the weight of the total amount of the solvent (mixture of dioxane and poor solvent). When the poor solvent exceeds 60% by weight, as in the case of the above anisole,
This is not preferable because the solubility of polysulfone deteriorates and causes the generation of fish eyes and the like.
【0037】又、ポリサルホン系樹脂のテトラヒドロピ
ラン溶液を調製する場合、テトラヒドロピランを単独で
用いてもよいが、テトラヒドロピランの沸点(約88
℃)を下げて乾燥時間をより一層短くして塗工性を良好
にするために、又、テトラヒドロピラン溶液の粘度を低
下せしめて塗工物の外観を良好にするために貧溶媒、即
ち、テトラヒドロピランと相溶し、ポリサルホン系樹脂
溶液の透明性や保存安定性を損なわず、テトラヒドロピ
ランよりも低沸点であり、且つ、ポリサルホン系樹脂の
溶解度がテトラヒドロピランよりも低い(1重量%未
満)溶媒を混合することができる。かかる貧溶媒とし
て、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、酢酸エチ
ル、トルエン及びフェノール等が挙げられ、これらの1
種もしくは2種以上を混合して使用できる。When preparing a tetrahydropyran solution of a polysulfone resin, tetrahydropyran may be used alone, but the boiling point of tetrahydropyran (about 88
(° C) to further shorten the drying time to improve the coatability, and to reduce the viscosity of the tetrahydropyran solution to improve the appearance of the coating, a poor solvent, that is, It is compatible with tetrahydropyran, does not impair the transparency and storage stability of the polysulfone resin solution, has a lower boiling point than tetrahydropyran, and the solubility of the polysulfone resin is lower than tetrahydropyran (less than 1% by weight). Solvents can be mixed. Examples of such a poor solvent include acetone, methyl ethyl ketone, ethyl acetate, toluene and phenol.
One kind or a mixture of two or more kinds can be used.
【0038】テトラヒドロピランに上記貧溶媒を混合す
る場合、全溶媒量(テトラヒドロピランと貧溶媒の混合
物)の重量に対して貧溶媒を60重量%以下の範囲で使
用する。貧溶媒が60重量%を超えると、アニソールの
場合と同様、ポリサルホン系樹脂の溶解性が悪化し、フ
ィッシュアイ等の発生の原因となるので好ましくない。When tetrahydropyran is mixed with the poor solvent, the poor solvent is used in an amount of 60% by weight or less based on the total weight of the solvent (a mixture of tetrahydropyran and the poor solvent). When the amount of the poor solvent exceeds 60% by weight, the solubility of the polysulfone-based resin is deteriorated as in the case of anisole, which causes generation of fish eyes and is not preferable.
【0039】本発明におけるキャスト法については、バ
ンド式キャスト法を用いても、又、ドラム式キャスト法
を用いてもよい。又、長尺の支持フィルムもしくはシー
ト上にキャストしてもよい。As the casting method in the present invention, a band type casting method or a drum type casting method may be used. It may also be cast on a long support film or sheet.
【0040】本発明におけるキャスト法によって得られ
る高分子フィルムもしくはシートを延伸する方法として
は、ロールによる縦一軸延伸及びテンターによる横一軸
延伸のいずれの方法でも可能である。或いは、これらの
組み合わせによる逐次二軸延伸、同時二軸延伸によって
もよい。高分子フィルムの延伸は、キャスト製膜装置に
直結して延伸装置を備えたインラインで行う方法及びキ
ャスト製膜した後に一旦フィルム又はシートを巻取り、
改めて延伸装置に掛ける方法のいずれの方法を用いても
よい。As the method for stretching the polymer film or sheet obtained by the casting method in the present invention, either longitudinal uniaxial stretching with a roll or lateral uniaxial stretching with a tenter can be used. Alternatively, sequential biaxial stretching or simultaneous biaxial stretching by a combination of these may be used. The stretching of the polymer film is a method in which the film is directly connected to a cast film forming apparatus and is provided in-line with a stretching device, and the film or sheet is once wound after the cast film forming,
Any of the methods of applying the film to a stretching device anew may be used.
【0041】[0041]
【実施例】以下に、本発明の実施例を挙げて更に詳細に
説明するが、本発明は本実施例にのみ限られるものでは
ない。EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
【0042】(実施例1)ポリサルホン系樹脂をアニソ
ールに溶解して35重量%溶液とした。更に、該樹脂1
00重量部に対し可塑剤として3重量部のフタル酸ジエ
チルを配合した。得られた溶液をポリイミドの支持フィ
ルム上にコンマコーターを用いてキャストし、150
℃、180℃、210℃で各3分づつ乾燥した。乾燥後
のフィルムは厚さ75μm、残留溶剤量は1.9重量%
であった。こうして得られたフィルムを130℃に加熱
された横一軸テンター延伸機にかけ、幅方向に1.4倍
に延伸して位相差補償板を得た。得られた位相差補償板
の性能は、表1及び表5に示した。Example 1 A polysulfone resin was dissolved in anisole to prepare a 35 wt% solution. Further, the resin 1
3 parts by weight of diethyl phthalate was mixed as a plasticizer with respect to 00 parts by weight. The resulting solution was cast on a polyimide support film using a comma coater,
It was dried at 3 ° C, 180 ° C and 210 ° C for 3 minutes each. The dried film has a thickness of 75 μm and the residual solvent amount is 1.9% by weight.
Met. The film thus obtained was applied to a transverse uniaxial tenter stretching machine heated to 130 ° C. and stretched 1.4 times in the width direction to obtain a retardation compensating plate. The performance of the obtained retardation compensator is shown in Tables 1 and 5.
【0043】(比較例1)ポリサルホン系樹脂の35重
量%アニソール溶液をポリイミドの支持フィルム上にコ
ンマコーターを用いてキャストし、150℃、180
℃、210℃で各3分づつ乾燥した。乾燥後のフィルム
は厚さ75μm、残留溶剤量は5.3重量%であった。
こうして得られたフィルムを130℃に加熱された横一
軸テンター延伸機にかけ、幅方向に1.4倍に延伸して
位相差補償板を得た。得られた位相差補償板の性能は、
表1及び表5に示した。(Comparative Example 1) A 35 wt% anisole solution of polysulfone resin was cast on a polyimide support film using a comma coater, and the temperature was kept at 150 ° C for 180 ° C.
It was dried at 3 ° C and 210 ° C for 3 minutes each. The dried film had a thickness of 75 μm and the residual solvent amount was 5.3% by weight.
The film thus obtained was applied to a transverse uniaxial tenter stretching machine heated to 130 ° C. and stretched 1.4 times in the width direction to obtain a retardation compensating plate. The performance of the obtained phase difference compensator is
The results are shown in Table 1 and Table 5.
【0044】(実施例2)ポリサルホン系樹脂の35重
量%アニソール溶液を調製した。更に、樹脂に対し可塑
剤として5重量部のフタル酸ジオクチルを配合した。得
られた溶液をポリイミドの支持フィルム上にコンマコー
ターを用いてキャストし、150℃、180℃、210
℃で各5分づつ乾燥した。乾燥後のフィルムは厚さ75
μm、残留溶剤量は0.7重量%であった。こうして得
られたフィルムを130℃に加熱された横一軸テンター
延伸機にかけ、幅方向に1.4倍に延伸して位相差補償
板を得た。得られた位相差補償板の性能は、表1及び表
5に示した。Example 2 A 35 wt% solution of polysulfone-based resin in anisole was prepared. Further, 5 parts by weight of dioctyl phthalate was added to the resin as a plasticizer. The resulting solution was cast on a polyimide support film using a comma coater, and then heated at 150 ° C, 180 ° C, 210 ° C.
It was dried at 5 ° C for 5 minutes each. The thickness of the film after drying is 75
μm, and the residual solvent amount was 0.7% by weight. The film thus obtained was applied to a transverse uniaxial tenter stretching machine heated to 130 ° C. and stretched 1.4 times in the width direction to obtain a retardation compensating plate. The performance of the obtained retardation compensator is shown in Tables 1 and 5.
【0045】(比較例2)ポリサルホン系樹脂の35重
量%アニソール溶液をポリイミドの支持フィルム上にコ
ンマコーターを用いてキャストし、150℃、180
℃、210℃で各5分づつ乾燥した。乾燥後のフィルム
は厚さ75μm、残留溶剤量は2重量%であった。こう
して得られたフィルムを90℃に加熱された横一軸テン
ター延伸機にかけ、幅方向に1.7倍に延伸して位相差
補償板を得た。得られた位相差補償板の性能は、表1及
び表5に示した。(Comparative Example 2) A 35% by weight solution of polysulfone-based resin in anisole was cast on a polyimide supporting film using a comma coater, and the temperature was kept at 150 ° C for 180 ° C.
It was dried at 5 ° C. and 210 ° C. for 5 minutes each. The dried film had a thickness of 75 μm and the residual solvent amount was 2% by weight. The film thus obtained was applied to a transverse uniaxial tenter stretching machine heated at 90 ° C. and stretched 1.7 times in the width direction to obtain a retardation compensating plate. The performance of the obtained retardation compensator is shown in Tables 1 and 5.
【0046】[0046]
【表1】 [Table 1]
【0047】(実施例3、4)ポリサルホン系樹脂のア
ニソール溶液(35重量%)をコンマコータを用いてポ
リイミドの支持フィルム上にキャストし、溶媒含有量
(0.8重量%と1.6重量%)の異なるポリサルホン
系樹脂フィルムを得た。(Examples 3 and 4) Anisole solution (35% by weight) of polysulfone resin was cast on a polyimide supporting film using a comma coater, and solvent content (0.8% by weight and 1.6% by weight) was cast. ) Different polysulfone-based resin films were obtained.
【0048】(実施例5、6)ポリサルホン系樹脂のジ
オキサン溶液(25重量%)をコンマコータを用いてポ
リイミドの支持フィルム上にキャストし、溶媒含有量
(0.8重量%と1.6重量%)の異なるポリサルホン
系樹脂フィルムを得た。(Examples 5 and 6) A solution of polysulfone-based resin in dioxane (25% by weight) was cast on a polyimide support film using a comma coater to obtain a solvent content (0.8% by weight and 1.6% by weight). ) Different polysulfone-based resin films were obtained.
【0049】(比較例3〜6)ポリサルホン系樹脂のア
ニソール溶液(35重量%)をコンマコータを用いてポ
リイミドの支持フィルム上にキャストし、溶媒含有量が
各々2.5重量%と4.5重量%と7.3重量%と1
2.2重量%のポリサルホン系樹脂フィルムを得た。(Comparative Examples 3 to 6) Anisole solutions (35% by weight) of polysulfone resin were cast on a polyimide support film using a comma coater, and the solvent contents were 2.5% by weight and 4.5% by weight, respectively. % And 7.3% by weight and 1
A 2.2 wt% polysulfone-based resin film was obtained.
【0050】(比較例7〜10)ポリサルホン系樹脂の
ジオキサン溶液(25重量%)をコンマコータを用いて
ポリイミドの支持フィルム上にキャストし、溶媒含有量
が各々2.5重量%と4.5重量%と7.3重量%と1
2.2重量%のポリサルホン系樹脂フィルムを得た。(Comparative Examples 7 to 10) A dioxane solution (25% by weight) of a polysulfone resin was cast on a polyimide supporting film using a comma coater, and the solvent contents were 2.5% by weight and 4.5% by weight, respectively. % And 7.3% by weight and 1
A 2.2 wt% polysulfone-based resin film was obtained.
【0051】実施例3〜7、比較例3〜10のそれぞれ
のポリサルホンフィルムを延伸機において縦一軸延伸を
行った。延伸前においては、それぞれのフィルムの膜厚
のばらつきは同程度であり、複屈折性は有していなかっ
た。これに対して、延伸後の位相差補償性能は、表2に
示す通りであった。The polysulfone films of Examples 3 to 7 and Comparative Examples 3 to 10 were longitudinally uniaxially stretched by a stretching machine. Before stretching, the film thicknesses of the respective films were almost the same, and they did not have birefringence. On the other hand, the retardation compensation performance after stretching was as shown in Table 2.
【0052】[0052]
【表2】 [Table 2]
【0053】(実施例7)4,4’−ジクロロフェニル
サルホンとビスフェノールAのナトリウム塩の共縮重合
によって得られたスチレン換算で重量平均分子量が7×
104 のポリサルホン系樹脂をアニソールに溶解して3
5重量%溶液とした。更に、該溶液に上記樹脂100重
量部に対し、可塑剤としてフタル酸ジエチル3重量部を
配合した。得られた上記溶液をポリイミドの支持フィル
ム上にコンマコーターを用いてキャストし、150℃、
180℃、210℃で各3分づつ乾燥した。乾燥後のフ
ィルムは厚さ75μm、残留溶剤量は1.9重量%であ
り、残留溶剤量1.9重量%におけるTgは、126℃
であった。こうして得られたフィルムを130℃に加熱
された横一軸テンター延伸機にかけ、幅方向に1.4倍
に延伸して位相差補償板を得た。得られた位相差補償板
の性能は、表3に示した。(Example 7) The weight average molecular weight in terms of styrene obtained by copolycondensation of 4,4'-dichlorophenylsulfone and sodium salt of bisphenol A was 7 ×.
Dissolve 10 4 polysulfone-based resin in anisole 3
A 5 wt% solution was prepared. Further, 3 parts by weight of diethyl phthalate was added as a plasticizer to 100 parts by weight of the above resin in the solution. The resulting solution was cast on a polyimide support film using a comma coater,
It was dried at 180 ° C. and 210 ° C. for 3 minutes each. The film after drying had a thickness of 75 μm and the residual solvent amount was 1.9 wt%, and the Tg at the residual solvent amount of 1.9 wt% was 126 ° C.
Met. The film thus obtained was applied to a transverse uniaxial tenter stretching machine heated to 130 ° C. and stretched 1.4 times in the width direction to obtain a retardation compensating plate. The performance of the obtained retardation compensation plate is shown in Table 3.
【0054】(比較例11)実施例7と同様にして調製
したポリサルホン系樹脂の35重量%アニソール溶液を
ポリイミドの支持フィルム上にコンマコーターを用いて
キャストし、150℃、180℃、210℃で各3分づ
つ乾燥した。乾燥後のフィルムは厚さ75μm、残留溶
剤量は5.3重量%であった。こうして得られたフィル
ムを130℃に加熱された横一軸テンター延伸機にか
け、幅方向に1.4倍に延伸して位相差補償板を得た。
得られた位相差補償板の性能は、表3に示した。(Comparative Example 11) A 35 wt% anisole solution of polysulfone resin prepared in the same manner as in Example 7 was cast on a polyimide support film using a comma coater at 150 ° C, 180 ° C and 210 ° C. It was dried for 3 minutes each. The dried film had a thickness of 75 μm and the residual solvent amount was 5.3% by weight. The film thus obtained was applied to a transverse uniaxial tenter stretching machine heated to 130 ° C. and stretched 1.4 times in the width direction to obtain a retardation compensating plate.
The performance of the obtained retardation compensation plate is shown in Table 3.
【0055】(比較例12)実施例7と同様にして調製
したポリサルホン系樹脂の35重量%アニソール溶液を
ポリイミドの支持フィルム上にコンマコーターを用いて
キャストし、150℃、180℃、210℃で各3分づ
つ乾燥した。乾燥後のフィルムは厚さ75μm、残留溶
剤量は3.6重量%であった。こうして得られたフィル
ムを140℃に加熱された横一軸テンター延伸機にか
け、幅方向に1.4倍に延伸して位相差補償板を得た。
得られた位相差補償板の性能は、表3に示した。Comparative Example 12 A 35 wt% anisole solution of a polysulfone resin prepared in the same manner as in Example 7 was cast on a polyimide support film using a comma coater, and the temperature was 150 ° C., 180 ° C. and 210 ° C. It was dried for 3 minutes each. The dried film had a thickness of 75 μm and a residual solvent amount of 3.6% by weight. The film thus obtained was applied to a transverse uniaxial tenter stretching machine heated to 140 ° C. and stretched 1.4 times in the width direction to obtain a retardation compensating plate.
The performance of the obtained retardation compensation plate is shown in Table 3.
【0056】(実施例8)実施例7と同様にして調製し
たポリサルホン系樹脂の35重量%アニソール溶液に、
更に、上記樹脂100重量部に対し可塑剤として3重量
部のフタル酸ジオクチルを添加した。得られた溶液をポ
リイミドの支持フィルム上にコンマコーターを用いてキ
ャストし、150℃、180℃、210℃で各5分づつ
乾燥した。乾燥後のフィルムは厚さ75μm、残留溶剤
量は0.7重量%であり、残留溶剤量1.9重量%にお
けるTgは、125℃であった。こうして得られたフィ
ルムを150℃に加熱された横一軸テンター延伸機にか
け、幅方向に1.4倍に延伸して位相差補償板を得た。
得られた位相差補償板の性能は、表3に示した。(Example 8) A 35% by weight anisole solution of a polysulfone resin prepared in the same manner as in Example 7 was added.
Furthermore, 3 parts by weight of dioctyl phthalate was added as a plasticizer to 100 parts by weight of the above resin. The obtained solution was cast on a polyimide support film using a comma coater and dried at 150 ° C., 180 ° C. and 210 ° C. for 5 minutes each. The dried film had a thickness of 75 μm, the residual solvent amount was 0.7% by weight, and the Tg at the residual solvent amount of 1.9% by weight was 125 ° C. The film thus obtained was applied to a transverse uniaxial tenter stretching machine heated to 150 ° C. and stretched 1.4 times in the width direction to obtain a retardation compensation plate.
The performance of the obtained retardation compensation plate is shown in Table 3.
【0057】(比較例13)実施例7と同様にして調製
したポリサルホン系樹脂の35重量%アニソール溶液を
ポリイミドの支持フィルム上にコンマコーターを用いて
キャストし、150℃、180℃、210℃で各10分
づつ乾燥した。乾燥後のフィルムは厚さ75μm、残留
溶剤量は1.9重量%であった。こうして得られたフィ
ルムを160℃に加熱された横一軸テンター延伸機にか
け、幅方向に1.3倍に延伸して位相差補償板を得た。
得られた位相差補償板の性能は、表3に示した。Comparative Example 13 A 35 wt% anisole solution of a polysulfone-based resin prepared in the same manner as in Example 7 was cast on a polyimide support film using a comma coater, and the temperature was changed to 150 ° C., 180 ° C. and 210 ° C. It was dried for 10 minutes each. The dried film had a thickness of 75 μm and the residual solvent amount was 1.9% by weight. The film thus obtained was applied to a transverse uniaxial tenter stretching machine heated to 160 ° C. and stretched 1.3 times in the width direction to obtain a retardation compensating plate.
The performance of the obtained retardation compensation plate is shown in Table 3.
【0058】(実施例9)実施例7と同様にして調製し
たポリサルホン系樹脂の35重量%アニソール溶液に、
更に、上記樹脂100重量部に対し可塑剤として5重量
部のフタル酸ジエチルを添加した。得られた溶液をポリ
イミドの支持フィルム上にコンマコーターを用いてキャ
ストし、150℃で10分間乾燥した。乾燥後のフィル
ムは厚さ75μm、残留溶剤量は1.9重量%であり、
Tgは、110℃であった。こうして得られたフィルム
を110℃に加熱された横一軸テンター延伸機にかけ、
幅方向に1.7倍に延伸して位相差補償板を得た。得ら
れた位相差補償板の性能は、表3に示した。Example 9 A 35 wt% anisole solution of a polysulfone resin prepared in the same manner as in Example 7 was added,
Further, 5 parts by weight of diethyl phthalate was added as a plasticizer to 100 parts by weight of the above resin. The resulting solution was cast on a polyimide support film using a comma coater and dried at 150 ° C for 10 minutes. The film after drying had a thickness of 75 μm and the residual solvent amount was 1.9% by weight.
Tg was 110 ° C. The film thus obtained is subjected to a horizontal uniaxial tenter stretching machine heated to 110 ° C.,
It was stretched 1.7 times in the width direction to obtain a retardation compensation plate. The performance of the obtained retardation compensation plate is shown in Table 3.
【0059】(比較例14)実施例7と同様にして調製
したポリサルホン系樹脂の35重量%アニソール溶液を
ポリイミドの支持フィルム上にコンマコーターを用いて
キャストし、180℃で10分間乾燥した。乾燥後のフ
ィルムは厚さ75μm、残留溶剤量は4.2重量%であ
った。こうして得られたフィルムを130℃に加熱され
た横一軸テンター延伸機にかけ、幅方向に1.7倍に延
伸して位相差補償板を得た。得られた位相差補償板の性
能は、表3に示した。Comparative Example 14 A 35 wt% anisole solution of polysulfone resin prepared in the same manner as in Example 7 was cast on a polyimide support film using a comma coater and dried at 180 ° C. for 10 minutes. The dried film had a thickness of 75 μm and the residual solvent amount was 4.2% by weight. The film thus obtained was applied to a transverse uniaxial tenter stretching machine heated to 130 ° C. and stretched 1.7 times in the width direction to obtain a retardation compensation plate. The performance of the obtained retardation compensation plate is shown in Table 3.
【0060】(比較例15)実施例7と同様にして調製
したポリサルホン系樹脂の35重量%アニソール溶液
に、更に、上記樹脂100重量部に対し可塑剤として1
0重量部のフタル酸ジエチルを添加した。得られた溶液
をポリイミドの支持フィルム上にコンマコーターを用い
てキャストし、150℃で6分間乾燥した。乾燥後のフ
ィルムは厚さ75μm、残留溶剤量は2重量%であっ
た。こうして得られたフィルムを90℃に加熱された横
一軸テンター延伸機にかけ、幅方向に1.7倍に延伸し
て位相差補償板を得た。得られた位相差補償板の性能
は、表3に示した。(Comparative Example 15) A 35 wt% anisole solution of a polysulfone resin prepared in the same manner as in Example 7 was further added as a plasticizer to 100 parts by weight of the above resin.
0 parts by weight of diethyl phthalate were added. The resulting solution was cast on a polyimide support film using a comma coater and dried at 150 ° C for 6 minutes. The dried film had a thickness of 75 μm and the residual solvent amount was 2% by weight. The film thus obtained was applied to a transverse uniaxial tenter stretching machine heated at 90 ° C. and stretched 1.7 times in the width direction to obtain a retardation compensating plate. The performance of the obtained retardation compensation plate is shown in Table 3.
【0061】[0061]
【表3】 [Table 3]
【0062】表3に示すように、ポリサルホン系樹脂に
可塑剤の添加によりTgを100〜150℃とすること
により、残存溶剤量を2重量%未満に乾燥するのに必要
な時間を短縮或いは乾燥温度を低温化することができ
る。かくの如く可塑剤の添加することにより、位相差ム
ラの極めて少ない位相差板が得られる。As shown in Table 3, by adding a plasticizer to the polysulfone resin, the Tg was set to 100 to 150 ° C. to shorten the time required to dry the residual solvent amount to less than 2% by weight or to dry the resin. The temperature can be lowered. By thus adding the plasticizer, it is possible to obtain a retardation plate having extremely little unevenness in retardation.
【0063】(実施例10)ポリサルホン系樹脂のアニ
ソール溶液(35重量%)をコンマコータを用いてポリ
エチレンテレフタレートの支持フィルム上にキャスト
し、140℃の熱風で乾燥して溶媒含有量が10重量%
のキャストフィルムを得た。次いで、上記支持フィルム
上から伸びを抑えながら上記キャストフィルムを剥離
し、乾燥温度が150−170−200℃の順に勾配を
設けられた乾燥機にて移送キャストフィルムの張力を3
kg/mに保持しながら2次乾燥を行った。2次乾燥後
のキャストフィルムの溶媒含有量は1.5重量%であっ
た。得られた位相差補償板の性能は、表4に示した。Example 10 Anisole solution (35% by weight) of polysulfone resin was cast on a supporting film of polyethylene terephthalate using a comma coater and dried by hot air at 140 ° C. to have a solvent content of 10% by weight.
I got a cast film of. Then, the cast film was peeled off from the support film while suppressing the elongation, and the tension of the transfer cast film was set to 3 by a dryer provided with a gradient of a drying temperature of 150-170-200 ° C.
Secondary drying was carried out while maintaining at kg / m. The solvent content of the cast film after the secondary drying was 1.5% by weight. The performance of the obtained retardation compensation plate is shown in Table 4.
【0064】(比較例16)実施例5と同じポリサルホ
ン系樹脂のアニソール溶液を用い、コンマコータによる
塗工速度を高めて、1次乾燥により溶媒含有量が19重
量%のキャストフィルムを得、次いで2次乾燥により溶
媒含有量が6.0重量%のキャストフィルムを得たが、
2次乾燥時、移送キャストフィルムの伸びが大きく、フ
ィルム幅も狭まり縦しわが発生して、得られたキャスト
フィルムは製品として使用することができなかった。表
4に示した。(Comparative Example 16) Using the same polysulfone-based resin anisole solution as in Example 5, the coating speed was increased by a comma coater and primary drying was performed to obtain a cast film having a solvent content of 19% by weight. Subsequent drying gave a cast film having a solvent content of 6.0% by weight.
During the secondary drying, the transfer cast film had a large elongation, the film width was narrowed, and vertical wrinkles were generated, and the obtained cast film could not be used as a product. The results are shown in Table 4.
【0065】(比較例17)実施例5と同じポリサルホ
ン系樹脂のアニソール溶液を用いて、1次乾燥温度を1
20℃とし、溶媒含有量が19重量%のキャストフィル
ムを得、次いで、2次乾燥温度を90−100−100
℃の温度勾配に変更し、移送キャストフィルムの張力を
1kg/mに下げて2次乾燥を行った。2次乾燥後の溶
媒含有量は8.2重量%であり、殆ど延伸されていない
キャストフィルムが得られた。表4に示した。Comparative Example 17 Using the same polysulfone-based resin anisole solution as in Example 5, the primary drying temperature was adjusted to 1
A cast film having a solvent content of 19% by weight was obtained at 20 ° C., and then the secondary drying temperature was 90-100-100.
The temperature was changed to a temperature gradient of ° C and the tension of the transfer cast film was lowered to 1 kg / m for secondary drying. The solvent content after secondary drying was 8.2% by weight, and a cast film that was hardly stretched was obtained. The results are shown in Table 4.
【0066】[0066]
【表4】 [Table 4]
【0067】このように、溶媒含有量が2重量%未満で
あると、位相差にむらがないか、あるいはむらが極めて
少ない位相差補償性能が得られる。As described above, when the content of the solvent is less than 2% by weight, the retardation compensating performance having no or very little retardation can be obtained.
【0068】そして実施例1〜9の位相差補償板および
比較例1〜16の位相差補償板を全て同一の接着条件に
よる接着剤層を介して偏光板と貼り合わせ、さらにこの
位相差補償板と偏光板の積層体の位相差板面を全て同一
の接着条件による接着剤層を介してガラス面に貼り合わ
せた。これら偏光板−位相差板−ガラス積層体の耐熱
性、耐湿性促進試験を行なった結果を表5及び表6に示
す。Then, the retardation compensating plates of Examples 1 to 9 and the retardation compensating plates of Comparative Examples 1 to 16 were all bonded to a polarizing plate via an adhesive layer under the same adhesive condition, and the retardation compensating plate was further bonded. All the retardation plate surfaces of the laminate of the polarizing plate and the polarizing plate were bonded to the glass surface via the adhesive layer under the same bonding conditions. Tables 5 and 6 show the results of the heat resistance and moisture resistance accelerated tests of these polarizing plates-retarders-glass laminates.
【0069】[0069]
【表5】 [Table 5]
【0070】[0070]
【表6】 [Table 6]
【0071】猶、表2において、○…なし、△…わずか
に発生、×…著しく発生、である。In Table 2, ◯ ... None, Δ ... Slight occurrence, X ... Significant occurrence.
【0072】[0072]
【発明の効果】以上の説明から理解される如く、本発明
による位相差補償板及びその製造方法によれば、位相差
補償板を構成する高分子フィルムの溶媒含有量が2重量
%未満に限定されていることで、位相差むらが充分に少
なく、しかも偏光板や液晶セルガラス面との接着面にお
いて剥離や気泡を発生することがなく、高性能で耐久性
に優れた位相差補償板を提供することができる。As can be understood from the above description, according to the retardation compensating plate and the manufacturing method thereof according to the present invention, the solvent content of the polymer film constituting the retardation compensating plate is limited to less than 2% by weight. As a result, a phase difference compensator with high performance and excellent durability, which has sufficiently little phase difference unevenness, and does not cause peeling or bubbles on the bonding surface with the polarizing plate or the liquid crystal cell glass surface. Can be provided.
【0073】又、本発明による位相差補償板及びその製
造方法によれば、位相差補償板を構成する高分子フィル
ムが可塑剤を含有し、且つ、溶媒含有量が2重量%未満
に限定されていることで、溶媒をより低温で、且つ、効
率よく乾燥でき、位相差むらが充分に少なく、しかも偏
光板や液晶セルガラス面との接着面において剥離や気泡
を発生することがなく、高性能で耐久性に優れた位相差
補償板を提供することができる。Further, according to the retardation compensating plate and the method for producing the same according to the present invention, the polymer film constituting the retardation compensating plate contains the plasticizer, and the solvent content is limited to less than 2% by weight. By so doing, the solvent can be dried at a lower temperature and efficiently, the phase difference unevenness is sufficiently small, and further, peeling or bubbles are not generated on the adhesive surface with the polarizing plate or the liquid crystal cell glass surface, It is possible to provide a retardation compensator having excellent performance and durability.
【0074】又、本発明による位相差補償板及びその製
造方法によれば、位相差補償板を構成する高分子フィル
ムの溶媒含有量が2重量%未満で、且つ、溶媒含有量2
重量%未満でのガラス転移温度(Tg)が100〜15
0℃に限定されていることで、溶媒をより低温で、且
つ、効率よく乾燥でき、位相差むらが充分に少なく、し
かも偏光板や液晶セルガラス面との接着面において剥離
や気泡を発生することがなく、高性能で耐久性に優れた
位相差補償板を提供することができる。Further, according to the retardation compensating plate and the method for producing the same according to the present invention, the polymer film constituting the retardation compensating plate has a solvent content of less than 2% by weight and a solvent content of 2%.
Glass transition temperature (Tg) of less than 100% by weight is 100 to 15
By limiting the temperature to 0 ° C., the solvent can be dried at a lower temperature and efficiently, the phase difference unevenness is sufficiently small, and peeling or bubbles are generated on the bonding surface with the polarizing plate or the liquid crystal cell glass surface. It is possible to provide a phase difference compensator having high performance and excellent durability.
【0075】更に、上記高分子フィルムのキャスティン
グ工程において、叙上の如く、2段階の加熱手段を設け
ることにより、より位相差むらが少なく、しかも偏光板
や液晶セルガラス面との接着面において剥離や気泡を発
生することがなく、高性能で耐久性に優れた位相差補償
板を提供することができる。Further, in the casting process of the polymer film, by providing the two-step heating means as described above, the unevenness of the phase difference is further reduced, and the peeling is caused at the adhesive surface to the polarizing plate or the liquid crystal cell glass surface. It is possible to provide a phase difference compensating plate that does not generate air bubbles or bubbles and has high performance and excellent durability.
Claims (7)
ィルムを延伸することにより複屈折性を持たせた位相差
補償板において、 前記高分子フィルムの溶媒含有量が2重量%未満である
ことを特徴とする位相差補償板。1. A retardation compensating plate having birefringence obtained by stretching a polymer film produced by a casting method, wherein the polymer film has a solvent content of less than 2% by weight. And a phase difference compensator.
ィルムを延伸することにより複屈折性を持たせた位相差
補償板において、 前記高分子フィルムが可塑剤を含有し、かつ、溶媒含有
量が2重量%未満であることを特徴とする位相差補償
板。2. A retardation compensating plate having birefringence obtained by stretching a polymer film produced by a casting method, wherein the polymer film contains a plasticizer, and the solvent content is 2 A retardation compensating plate characterized by being less than weight%.
ィルムを延伸することにより複屈折を持たせた位相差補
償板の製造方法において、 前記高分子フィルムの溶媒含有量を2重量%未満にして
延伸することを特徴とする位相差補償板の製造方法。3. A method for producing a retardation compensating plate having birefringence by stretching a polymer film produced by a casting method, wherein the solvent content of the polymer film is less than 2% by weight and stretched. A method for manufacturing a phase difference compensating plate, comprising:
ィルムを延伸することにより複屈折を持たせた位相差補
償板の製造方法において、 前記高分子フィルムに可塑剤を含有させ、更に、溶媒含
有量を2重量%未満にして延伸することを特徴とする位
相差補償板の製造方法。4. A method for producing a retardation compensating plate having birefringence by stretching a polymer film produced by a casting method, comprising adding a plasticizer to the polymer film, and further comprising a solvent content. Of less than 2% by weight and stretching.
ホン系樹脂フィルムを延伸して位相差補償板を製造する
方法において、 ポリサルホン系樹脂フィルムの溶媒含有量が2重量%未
満で、かつ、溶媒含有量2重量%未満でのガラス転移温
度(Tg)が100〜150℃であることを特徴とする
位相差補償板の製造方法。5. A method for producing a retardation compensating plate by stretching a polysulfone-based resin film produced by a casting method, wherein the solvent content of the polysulfone-based resin film is less than 2% by weight and the solvent content is 2 A method for producing a retardation compensating plate, which has a glass transition temperature (Tg) of less than 100% by weight of 100 to 150 ° C.
ホン系樹脂フィルムが、ポリサルホン系樹脂のアニソー
ル溶液のキャスト法によって作製されるフィルムである
ことを特徴とする請求項6記載の位相差補償板の製造方
法。6. The method for producing a retardation compensating plate according to claim 6, wherein the polysulfone-based resin film produced by the casting method is a film produced by a casting method of an anisole solution of the polysulfone-based resin. .
ト基板上に流延し、膜状物とした後、乾燥を行い、溶媒
含有量15重量%以下の高分子フィルムを形成し、次い
で該高分子フィルムを剥ぎ取り、2次乾燥を行い、溶媒
含有量2重量%未満にして延伸することを特徴とする請
求項2、請求項4、請求項5及び請求項6記載の位相差
補償板の製造方法。7. A polymer solution dissolved in an organic solvent is cast on a cast substrate to form a film, and then dried to form a polymer film having a solvent content of 15% by weight or less, The retardation compensating plate according to claim 2, claim 4, claim 5 or claim 6, wherein the polymer film is peeled off, secondarily dried and stretched with a solvent content of less than 2% by weight. Manufacturing method.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8378695A JPH08211224A (en) | 1994-09-30 | 1995-04-10 | Phase difference compensating plate and manufacturing method thereof |
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23753694 | 1994-09-30 | ||
| JP6-304808 | 1994-12-08 | ||
| JP6-237536 | 1994-12-08 | ||
| JP30480894 | 1994-12-08 | ||
| JP8378695A JPH08211224A (en) | 1994-09-30 | 1995-04-10 | Phase difference compensating plate and manufacturing method thereof |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08211224A true JPH08211224A (en) | 1996-08-20 |
Family
ID=27304336
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8378695A Pending JPH08211224A (en) | 1994-09-30 | 1995-04-10 | Phase difference compensating plate and manufacturing method thereof |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08211224A (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998022839A1 (en) * | 1996-11-22 | 1998-05-28 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | Phase difference film and its manufacturing method |
| US7582339B2 (en) | 2004-11-15 | 2009-09-01 | Lg Chem, Ltd. | Biaxial-optical polynorbornene-based film and method of manufacturing the same, integrated optical compensation polarizer having the film and method of manufacturing the polarizer, and liquid crystal display panel containing the film and/or polarizer |
| JP2012128144A (en) * | 2010-12-15 | 2012-07-05 | Nitto Denko Corp | Production method of optical film |
| JP2019151092A (en) * | 2017-10-31 | 2019-09-12 | 住友化学株式会社 | Method for producing resin film |
-
1995
- 1995-04-10 JP JP8378695A patent/JPH08211224A/en active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998022839A1 (en) * | 1996-11-22 | 1998-05-28 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | Phase difference film and its manufacturing method |
| US7582339B2 (en) | 2004-11-15 | 2009-09-01 | Lg Chem, Ltd. | Biaxial-optical polynorbornene-based film and method of manufacturing the same, integrated optical compensation polarizer having the film and method of manufacturing the polarizer, and liquid crystal display panel containing the film and/or polarizer |
| US8440117B2 (en) | 2004-11-15 | 2013-05-14 | Lg Chem, Ltd. | Biaxial-optical polynorbornene-based film and method of manufacturing the same, integrated optical compensation polarizer having the film and method of manufacturing the polarizer, and liquid crystal display panel containing the film and/or polarizer |
| JP2012128144A (en) * | 2010-12-15 | 2012-07-05 | Nitto Denko Corp | Production method of optical film |
| JP2019151092A (en) * | 2017-10-31 | 2019-09-12 | 住友化学株式会社 | Method for producing resin film |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5472538A (en) | Process for producing phase retarder film | |
| CN1946776B (en) | Biaxial-optical polynorbornene-based film and method of manufacturing the same, integrated optical compensation polarizer having the film and method of manufacturing the polarizer, and liquid crystal | |
| JP5120379B2 (en) | Production method of retardation film, retardation film, polarizing plate and liquid crystal display device | |
| TWI569967B (en) | A polarizing plate and a liquid crystal display device using the same | |
| TWI744551B (en) | Polarizer protective film, polarizer and liquid crystal display device | |
| CN101558054A (en) | Optical film and retardation sheet, and liquid crystal compound | |
| JP2011510352A (en) | Retardation film, method for producing the same, and liquid crystal display device including the same | |
| JPWO2015111474A1 (en) | Polarizing plate, liquid crystal display | |
| JP2000190385A (en) | Manufacturing method of optical film, optical film and liquid crystal display | |
| JP2014211601A (en) | Optical film, polarizing plate, and liquid crystal display apparatus | |
| JP2004177642A (en) | Phase difference film and its manufacturing method, optical compensating film, polarizing plate, and liquid crystal display device | |
| TW201940324A (en) | Electroluminescent display device | |
| JP2014225015A (en) | Optical film, polarizing plate, and liquid crystal display device | |
| JP2003073485A (en) | Cellulose ester film, method for producing the same, optical compensation film, polarizer and liquid crystal display device | |
| TW202122841A (en) | Phase contrast film and method for producing same | |
| JPH08211224A (en) | Phase difference compensating plate and manufacturing method thereof | |
| JP2017102436A (en) | Polyvinyl alcohol-based film, polarizing film using the same, polarizing plate, and manufacturing method for polyvinyl alcohol-based film | |
| JP5747464B2 (en) | Cellulose acylate laminated film, polarizing plate, and liquid crystal display device | |
| KR101188751B1 (en) | Acryl-based retardation film with positive birefringence and liquid crystal display comprising the same | |
| JP2002243942A (en) | Method for manufacturing elliptically polarizing plate for viewing angle compensation, elliptically polarizing plate for viewing angle compensation, and liquid crystal display device using the same | |
| KR101838494B1 (en) | Water-resisting panel | |
| JP4953876B2 (en) | Optical film manufacturing method, optical film, polarizing plate, and liquid crystal display device | |
| TWI393962B (en) | A method of manufacturing a retardation film and a retardation film produced by the method, and a polarizing plate obtained by using the polarizing plate and the liquid crystal display device | |
| JP2001013324A (en) | Manufacturing method of retardation plate | |
| CN100462750C (en) | Method for producing retardation film, retardation film produced by the method, polarizing plate and liquid crystal display device using the same |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20040204 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |