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JPH0817294B2 - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

Semiconductor integrated circuit

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Publication number
JPH0817294B2
JPH0817294B2 JP63084610A JP8461088A JPH0817294B2 JP H0817294 B2 JPH0817294 B2 JP H0817294B2 JP 63084610 A JP63084610 A JP 63084610A JP 8461088 A JP8461088 A JP 8461088A JP H0817294 B2 JPH0817294 B2 JP H0817294B2
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JP
Japan
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differential amplifier
amplifier circuit
input terminal
phase input
integrated circuit
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Application number
JP63084610A
Other languages
Japanese (ja)
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JPH01256205A (en
Inventor
徹 伊藤
Original Assignee
松下電子工業株式会社
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Filing date
Publication date
Application filed by 松下電子工業株式会社 filed Critical 松下電子工業株式会社
Priority to JP63084610A priority Critical patent/JPH0817294B2/en
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Publication of JPH0817294B2 publication Critical patent/JPH0817294B2/en
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、高入力抵抗増幅回路を含む半導体集積回路
に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit including a high input resistance amplifier circuit.

従来の技術 第4図は従来の高入力抵抗増幅回路を含む半導体集積
回路の回路図である。第4図において、1は電界効果ト
ランジスタ(以下、FETという)入力の差動増幅回路、
2,3,4はそれぞれ差動増幅回路1の正相入力端、逆相入
力端および出力端である。5,6はそれぞれ差動増幅回路
1の増幅率を定めるための帰還抵抗である。実際の半導
体集積回路では、それぞれの端は半導体集積回路の外部
に取り出されている場合や、半導体集積回路内部で結線
されている場合などがあるが、以下、正相入力端2と出
力端4のみが外部に取り出されている半導体集積回路に
ついて説明する。正相入力端2は通常、差動増幅回路1
の動作を正常に保つために、抵抗7などを通して適当な
直流電位に保たれていることが必要である。ここでは、
直流電圧発生回路(以下、直流バイアス回路という)8
により、抵抗7を介して直流電位が印加されている。9,
10はそれぞれ外部より正相入力端2に信号を与えるため
の結合容量と信号源である。
2. Description of the Related Art FIG. 4 is a circuit diagram of a semiconductor integrated circuit including a conventional high input resistance amplifier circuit. In FIG. 4, reference numeral 1 is a differential amplifier circuit for inputting a field effect transistor (hereinafter referred to as FET),
Reference numerals 2, 3 and 4 denote a positive phase input terminal, a negative phase input terminal and an output terminal of the differential amplifier circuit 1, respectively. Reference numerals 5 and 6 are feedback resistors for determining the amplification factor of the differential amplifier circuit 1. In an actual semiconductor integrated circuit, each end may be taken out of the semiconductor integrated circuit or may be connected inside the semiconductor integrated circuit. However, hereinafter, the positive phase input end 2 and the output end 4 will be described. A semiconductor integrated circuit whose only part is taken out will be described. The positive phase input terminal 2 is normally the differential amplifier circuit 1.
In order to maintain the normal operation of (1), it is necessary to maintain an appropriate DC potential through the resistor 7 or the like. here,
DC voltage generation circuit (hereinafter referred to as DC bias circuit) 8
As a result, a DC potential is applied via the resistor 7. 9,
Reference numerals 10 are a coupling capacitor and a signal source for applying a signal to the positive phase input terminal 2 from the outside.

この差動増幅回路1は、高入力抵抗増幅器では第5図
で一例を示したようなFET入力差動増幅回路で構成され
る場合が多い。第5図において、11,12はそれぞれ差動
増幅器回路1の正相入力端2および逆相入力端3に接続
された入力FETを示し、13は出力抵抗を小さくするため
のNPNトランジスタであり、出力信号が差動増幅回路1
の出力端4に出力される。15および16は電流源、17,18
は入力段の負荷抵抗であり、電源ライン19に接続されて
いる。第5図に示される入力FET11,12として、N型半導
体内の比較的深いP形領域(以下、Pウエルという)内
に作られ、Nチヤンネルの上下のP形領域を共にゲート
として用いることができるNチヤンネルの接合形FET
(以下、JEETという)が用いられる。以下、特にことわ
らない場合は、この構造のJFETを例として説明する。第
5図の差動増幅回路を構成要素として第4図のように接
続された半導体集積回路では、外部から見た正相入力端
2の入力抵抗はほぼ直流バイアス回路8と正相入力端2
とを結ぶ抵抗(以下、バイアス抵抗という)7の抵抗値
で定まり、数MΩ以上の入力抵抗が必要な場合には、通
常の半導体集積回路で用いられているような抵抗形成と
同一の手法では、実現が困難である。
This differential amplifier circuit 1 is often a FET input differential amplifier circuit as shown in FIG. 5 as a high input resistance amplifier. In FIG. 5, reference numerals 11 and 12 denote input FETs connected to the positive phase input terminal 2 and the negative phase input terminal 3 of the differential amplifier circuit 1, and 13 is an NPN transistor for reducing the output resistance, Output signal is differential amplifier circuit 1
Is output to the output terminal 4. 15 and 16 are current sources, 17,18
Is a load resistance of the input stage and is connected to the power supply line 19. The input FETs 11 and 12 shown in FIG. 5 are formed in a relatively deep P-type region (hereinafter referred to as P-well) in an N-type semiconductor, and the P-type regions above and below the N channel can both be used as gates. Possible N-channel junction type FET
(Hereinafter referred to as JEET) is used. Unless otherwise specified, a JFET having this structure will be described below as an example. In the semiconductor integrated circuit in which the differential amplifier circuit of FIG. 5 is connected as a constituent element as shown in FIG. 4, the input resistance of the positive phase input terminal 2 when viewed from the outside is almost equal to the DC bias circuit 8 and the positive phase input terminal 2.
It is determined by the resistance value of a resistor (hereinafter, referred to as a bias resistor) 7 that connects with, and when an input resistance of several MΩ or more is required, the same method as the resistance formation used in a normal semiconductor integrated circuit is used. , Difficult to achieve.

これを解決して高入力抵抗を実現するために、従来、
FET入力差動増幅回路を含む半導体集積回路で用いられ
ている手法を、第6図を用いて説明する。第6図におい
て、入力バイアス抵抗は第5図のFETと同一手法で作ら
れるFET20で構成され、このFET20のチヤンネル部の形状
として、幅が狭く、ソース・ドレイン間距離の長いチヤ
ンネルを構成し、これにより、高抵抗を実現している。
この場合、FET20のゲートには、第6図に示したような
別のバイアス回路21に接続されているか、FETの特性に
よつては、接地電位または入力バイアス回路8に接続さ
れている。たとえばFETのしきい値電圧0.7Vのプロセス
で、チヤンネル幅6μm、ソース・ドレイン間距離15mm
のFETのチヤンネルを構成し、ゲートを入力バイアス回
路21に接続した場合、100MΩ程度の高抵抗が得られる。
In order to solve this and realize high input resistance,
A method used in a semiconductor integrated circuit including a FET input differential amplifier circuit will be described with reference to FIG. In FIG. 6, the input bias resistor is composed of the FET20 made by the same method as the FET of FIG. 5, and the channel portion of the FET20 has a narrow width and a long source-drain distance. This realizes high resistance.
In this case, the gate of the FET 20 is connected to another bias circuit 21 as shown in FIG. 6 or to the ground potential or the input bias circuit 8 depending on the characteristics of the FET. For example, in the process of FET threshold voltage 0.7V, channel width 6μm, source-drain distance 15mm
When the channel of the FET is configured and the gate is connected to the input bias circuit 21, a high resistance of about 100 MΩ can be obtained.

発明が解決しようとする課題 上記従来の半導体集積回路の構成で高入力抵抗増幅器
を実現でき、信号源の内部インピーダンスが、ほぼ純粋
の抵抗とみなし得る条件では、良好な増幅特性が得られ
る。ところが、このような従来の半導体集積回路の構成
では、誘電体の圧電素子に発生する交流信号のように、
信号源の内部インピーダンスが容量性である場合には、
この入力信号の周波数によつて出力信号の振幅が変化す
るという問題が発生する。たとえば、FETを入力バイア
ス抵抗として使用する半導体集積回路で、第6図に示す
結合容量9として10PFを用いた場合、信号源10の周波数
が100Hzの場合では、5KHZの場合と比較して、半導体集
積回路の出力端4で6dBも出力信号が小さくなつてしま
うという問題を有していた。
Problems to be Solved by the Invention A high input resistance amplifier can be realized with the configuration of the conventional semiconductor integrated circuit described above, and good amplification characteristics can be obtained under the condition that the internal impedance of the signal source can be regarded as a substantially pure resistance. However, in the configuration of such a conventional semiconductor integrated circuit, like the AC signal generated in the dielectric piezoelectric element,
If the internal impedance of the signal source is capacitive, then
There is a problem that the amplitude of the output signal changes depending on the frequency of the input signal. For example, in a semiconductor integrated circuit that uses a FET as an input bias resistor, when 10PF is used as the coupling capacitance 9 shown in FIG. 6, when the frequency of the signal source 10 is 100 Hz, the semiconductor is compared with the case of 5 KHZ. The output signal 4 of the integrated circuit has a problem that the output signal is reduced by 6 dB.

本発明は、上記従来の問題を解決するものであり、FE
Tのチヤンネルを入力直流バイアス印加用抵抗として用
いる高入力抵抗増幅回路であつて、容量性の信号源に対
しても良好な周波数特性を有する差動増幅回路を含む半
導体集積回路を提供することを目的とするものである。
The present invention solves the above-mentioned conventional problems.
It is an object of the present invention to provide a semiconductor integrated circuit including a differential amplifier circuit having a good frequency characteristic even for a capacitive signal source, which is a high input resistance amplifier circuit using a T channel as a resistance for applying an input DC bias. It is intended.

課題を解決するための手段 上記課題を解決するための本発明の半導体集積回路の
第1の発明は、差動対を成す入力用の第1,第2の電界効
果トランジスタで構成された差動増幅回路(1)と、前
記差動増幅回路の正相入力端(+)と直流バイアス電位
点との間に接続された直流バイアス用の第3の電界効果
トランジスタ(22)とを具備した半導体集積回路であっ
て、前記差動増幅回路の出力端と逆相入力端(−)との
間に接続された第1の抵抗(5)と、前記逆相入力端と
接地点との間に直列接続された第2,第3の抵抗(23a,23
b)とを備え、前記差動増幅回路(1)の正相入力端に
信号源(10)の入力信号を与えると共に、前記第3の電
界効果トランジスタ(22)のゲートを前記第2,第3の抵
抗の中間接続点に接続したものである。
Means for Solving the Problems A first invention of a semiconductor integrated circuit of the present invention for solving the above problems is a differential circuit composed of first and second field effect transistors for input forming a differential pair. Semiconductor comprising an amplifier circuit (1) and a third field effect transistor (22) for DC bias connected between a positive phase input terminal (+) of the differential amplifier circuit and a DC bias potential point An integrated circuit, comprising: a first resistor (5) connected between an output terminal of the differential amplifier circuit and a negative phase input terminal (-), and between the negative phase input terminal and a ground point. Second and third resistors (23a, 23) connected in series
b) is provided, the input signal of the signal source (10) is applied to the positive phase input terminal of the differential amplifier circuit (1), and the gate of the third field effect transistor (22) is connected to the second and second gates. 3 is connected to the intermediate connection point of the resistor.

さらに、第2の発明は、差動対を成す入力用の第1,第
2の電界効果トランジスタで構成された差動増幅回路
(1)と、半導体基板(29)に形成された一導電型のウ
エル領域(28)と、前記ウエル領域内に離間して形成さ
れた逆導電型の第1,第2の拡散領域と、前記第1,第2の
拡散領域に挟まれた前記ウエル上に形成されたゲート領
域(31)とで構成された直流バイアス用の第3の電界効
果トランジスタ(30)とを具備した半導体集積回路であ
って、前記差動増幅回路の出力端と逆相入力端(−)と
の間に接続された第1の抵抗(5)と、前記逆相入力端
と接地点との間に直列接続された第2,第3の抵抗(23a,
23b)とを備え、前記差動増幅回路の正相入力端(+)
に前記第1の拡散領域を接続して信号源(10)の入力信
号を与えると共に、前記第2の拡散領域を直流バイアス
電位点に接続し、前記ウエル領域(28)および前記ゲー
ト領域(31)を前記第2,第3の抵抗の中間接続点に共通
接続したものである。
Further, a second invention is a differential amplifier circuit (1) composed of first and second field effect transistors for input which form a differential pair, and one conductivity type formed on a semiconductor substrate (29). A well region (28), first and second diffusion regions of opposite conductivity type formed separately in the well region, and on the well sandwiched by the first and second diffusion regions. A semiconductor integrated circuit comprising a third field effect transistor (30) for direct current bias composed of the formed gate region (31), the output terminal of the differential amplifier circuit and the negative phase input terminal. A first resistor (5) connected to (-) and a second and a third resistor (23a, 23a, 23a, 23b connected in series between the negative-phase input terminal and the ground point.
23b) and a positive phase input terminal (+) of the differential amplifier circuit.
Is connected to the first diffusion region to supply the input signal of the signal source (10), the second diffusion region is connected to a DC bias potential point, and the well region (28) and the gate region (31) are connected. ) Is commonly connected to the intermediate connection point of the second and third resistors.

作用 上記構成により、差動増幅回路(1)の負帰還路を構
成する第1〜第3の抵抗(5,23a,23b)によって、入力
信号と同相の出力信号の一部が、第3の電界効果トラン
ジスタ(22)のゲートに与えられ、差動増幅回路(1)
の正相入力端に入力信号が与えられた時、第3の電界効
果トランジスタ(22)のチャンネル部とゲートとの間の
電位変化量が少なくなり、信号源(10)側からみた入力
容量の実効的な値が小さくなり、内部インピーダンスの
高い容量性信号源からの信号を周波数依存性なしに増幅
することができる。
With the above configuration, the first to third resistors (5, 23a, 23b) forming the negative feedback path of the differential amplifier circuit (1) cause a part of the output signal having the same phase as the input signal to output the third signal. Differential amplifier circuit (1) given to the gate of field effect transistor (22)
When an input signal is applied to the positive phase input terminal of, the amount of potential change between the channel portion and the gate of the third field effect transistor (22) is reduced, and the input capacitance of the signal source (10) side is reduced. The effective value becomes small, and the signal from the capacitive signal source with high internal impedance can be amplified without frequency dependency.

さらに、第2の発明は、直流バイアス用の第3の電界
効果トランジスタ(30)のゲート領域(31)とウエル領
域(28)を共通接続して、第2,第3の抵抗(23a,23b)
の中間接続点に接続するから、トランジスタ動作する第
3の電界効果トランジスタ(30)のチャンネル領域を最
も狭くすることができ、同一の入力容量値で最も高いバ
イアス用の高抵抗が得られる構造となり、形状を小さく
すれば同一の抵抗値で入力容量を最も小さくできる。
Furthermore, a second aspect of the invention is that the gate region (31) and the well region (28) of the third field effect transistor (30) for direct current bias are connected in common, and the second and third resistors (23a, 23b) are connected. )
Since it is connected to the intermediate connection point of, the channel region of the third field effect transistor (30) which operates as a transistor can be made the narrowest, and the structure can obtain the highest resistance for bias with the same input capacitance value. By reducing the shape, the input capacitance can be minimized with the same resistance value.

実施例 以下、本発明の一実施例について図面を参照しながら
説明する。
Embodiment An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図は本発明の一実施例を示す半導体集積回路の回
路図であり、従来例と同一の部品に対しては同一の符号
を付し、その説明を省略する。第1図において、22は、
第4図の従来のものと同様、直流バイアス回路8と差動
増幅回路1の正相入力端の間に接続された直流バイアス
印加用FETであり、このFET22のゲートを、差動増幅回路
1の出力端4が帰還抵抗5を介して接続される差動増幅
回路1の逆相入力端3と接地間に接続された帰還抵抗23
a,23bの中間点に接続している。
FIG. 1 is a circuit diagram of a semiconductor integrated circuit showing an embodiment of the present invention. The same parts as those in the conventional example are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted. In FIG. 1, 22 is
4 is a DC bias application FET connected between the DC bias circuit 8 and the positive phase input terminal of the differential amplifier circuit 1, and the gate of this FET 22 is connected to the differential amplifier circuit 1 The feedback resistor 23 connected between the negative phase input terminal 3 of the differential amplifier circuit 1 whose output terminal 4 is connected via the feedback resistor 5 and the ground
It is connected to the midpoint between a and 23b.

以上のように構成された半導体集積回路について、以
下、その動作を説明する。第1図において、信号源10に
より差動増幅回路1の正相入力端2に信号が入力され、
差動増幅回路1により増幅されて、その出力端4に信号
が出力される。その際、出力信号は帰還抵抗5,23aを介
してFET22のゲートに入力される。このとき、FET22のゲ
ートに、差動増幅回路1の正相入力端2に入力される正
相入力信号と同相の信号が加えられることになり、この
正相入力信号により充放電するための電流が小さくなる
ので、第2図に示すような、FET22の高抵抗であるFETチ
ヤンネル部24とFET22のゲート25との間に存在する容量2
6が小さくなる。したがつて、正相入力端2からみた実
効容量が小さくなり、内部インピーダンスの高い容量性
信号源からの信号を周波数依存性なしに増幅することが
できる。
The operation of the semiconductor integrated circuit configured as described above will be described below. In FIG. 1, the signal source 10 inputs a signal to the positive phase input terminal 2 of the differential amplifier circuit 1,
The signal is amplified by the differential amplifier circuit 1 and output to the output terminal 4. At that time, the output signal is input to the gate of the FET 22 via the feedback resistors 5 and 23a. At this time, a signal in phase with the positive phase input signal input to the positive phase input terminal 2 of the differential amplifier circuit 1 is added to the gate of the FET 22, and the current for charging / discharging by this positive phase input signal. As shown in FIG. 2, the capacitance 2 existing between the FET channel portion 24, which has a high resistance of the FET 22, and the gate 25 of the FET 22, as shown in FIG.
6 becomes smaller. Therefore, the effective capacitance seen from the positive-phase input terminal 2 becomes small, and the signal from the capacitive signal source with high internal impedance can be amplified without frequency dependency.

第1図で、入力結合容量9が10PFの条件で、帰還抵抗
5を1.5KΩ、帰還抵抗23aと23bをそれぞれ1.8KΩと8.4K
Ωに設定することにより、同一回路定数で高抵抗のFET2
2のゲートを直流電位に接続した従来の第6図の場合の
回路では出力端4の出力信号の変化は、入力信号の周波
数が100HZから5KHZにおいて6dBであつたが第1図のもの
では出力信号の変化を±0.5dB以内におさえることがで
きた。
In Fig. 1, under the condition that the input coupling capacitance 9 is 10PF, the feedback resistor 5 is 1.5KΩ and the feedback resistors 23a and 23b are 1.8KΩ and 8.4K, respectively.
High resistance FET2 with the same circuit constant by setting to Ω
In the case of the conventional circuit of FIG. 6 in which the gate of 2 is connected to the DC potential, the change of the output signal of the output terminal 4 is 6 dB when the frequency of the input signal is 100 HZ to 5 KHZ, but it is output in the case of FIG. The signal change could be suppressed within ± 0.5 dB.

さらに、以上本実施例ではFET22のNチヤンネル上下
のP形領域をともにゲートとして用いた例を説明してき
たが、このFET22を含むPウエルを直流電位に固定し、
Nチヤンネル上部のP形領域のみをゲートとして使用
し、第1図のように接続をした場合でも、上記と同様の
条件での出力信号の変化は、±2.5dB以内となり、上下
ゲートでない場合でも本実施例の効果は認められた。
Further, in the present embodiment, the example in which the P-type regions above and below the N channel of the FET 22 are both used as gates has been described. However, the P well including the FET 22 is fixed to a DC potential,
Even when only the P-type region above the N channel is used as a gate and the connection is made as shown in Fig. 1, the change in the output signal under the same conditions as above is within ± 2.5 dB, and even when it is not the upper and lower gates. The effect of this example was confirmed.

さらに、本実施例ではFETとしてJEETを例に用いて説
明してきたが、FETとして絶縁ゲート電界効果トランジ
スタ(以下、MISFETという)を用いる場合でも同様の効
果が得られることは当然である。この場合、たとえばN
基板中のPウエルの中に作られたNチヤンネルMISFETを
考え、第3図に示すように通常、動作時の最低直流電位
に固定する必要のあるPウエル27の領域とは独立に別電
位を印加し得るPウエル28の領域内に構成したMISFET、
具体的には、たとえばN形半導体基板29中の独立したP
ウエル28内に作られたNチヤンネルMISFET30を、高抵抗
用FETとして第1図の直流バイアス印加用FET22に用い、
このFETを含む領域のPウエル28とゲート31とを接続す
ることにより、入力容量が小さくて最も高い値のバイア
ス抵抗を実現でき、最も効果的にすることができる。
Further, in the present embodiment, JEET is used as an example for explanation, but it is natural that the same effect can be obtained even when an insulated gate field effect transistor (hereinafter referred to as MISFET) is used as FET. In this case, for example, N
Considering the N-channel MISFET formed in the P-well in the substrate, as shown in FIG. 3, a different potential is usually set independently of the region of the P-well 27 which needs to be fixed to the lowest DC potential during operation. A MISFET constructed in the region of the p-well 28 that can be applied,
Specifically, for example, an independent P in the N-type semiconductor substrate 29 is used.
The N channel MISFET 30 made in the well 28 is used as the high resistance FET in the DC bias applying FET 22 of FIG.
By connecting the P well 28 and the gate 31 in the region including the FET, it is possible to realize the bias resistance having the smallest input capacitance and the highest value, and the most effective.

発明の効果 以上のように本発明によれば、差動増幅回路の負帰還
路を構成する第1〜第3の抵抗によって、入力信号と同
相の出力信号の一部が、第3の電界効果トランジスタの
ゲートに与えられ、差動増幅回路の正相入力端に入力信
号が与えられた時、第3の電界効果トランジスタのチヤ
ンネル部とゲート間の電位変化量が少なくなり、信号源
側からみた入力容量の実効的な値を小さくすることがで
きる。
EFFECTS OF THE INVENTION As described above, according to the present invention, the first to third resistors forming the negative feedback path of the differential amplifier circuit cause a part of the output signal in phase with the input signal to cause the third electric field effect. When applied to the gate of the transistor and applied to the positive phase input terminal of the differential amplifier circuit, the amount of potential change between the channel section and the gate of the third field effect transistor is reduced, which is viewed from the signal source side. The effective value of the input capacitance can be reduced.

また、直流バイアス用の第3の電界効果トランジスタ
のゲート領域とウエル領域を共通接続して、第2,第3の
抵抗の中間接続点に接続すると、トランジスタ動作する
チャンネル領域を最も狭くすることができ、同一の入力
容量値でも最も高いバイアス用の高抵抗が得られる構造
にすることができ、最も効果的である。
Further, if the gate region and the well region of the third field effect transistor for DC bias are commonly connected and connected to the intermediate connection point of the second and third resistors, the channel region in which the transistor operates can be made the narrowest. The structure is the most effective because the structure can obtain the highest biasing high resistance even with the same input capacitance value.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の一実施例を示す半導体集積回路の回路
図、第2図は同直流バイアス電解効果トランジスタを等
価回路で示した半導体集積回路の回路図、第3図は同半
導体集積回路の電界効果トランジスタの一例を示す構成
図、第4図は従来の半導体集積回路の回路図、第5図は
半導体集積回路の電界効果トランジスタ入力の差動増幅
回路の回路図、第6図は第4図の半導体集積回路を改善
した半導体集積回路の回路図である。 1……差動増幅回路、2……正相入力端、3……逆相入
力端、4……出力端、5,23,23a,23b……帰還抵抗、8…
…直流バイアス回路、11,12……入力FET、22,30……直
流バイアス印加用FET、24……FETチヤンネル部、27……
入力FETのPウエル、28……直流バイアス印加用FETのP
ウエル、31……直流バイアス印加用FETのゲート。
FIG. 1 is a circuit diagram of a semiconductor integrated circuit showing an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a circuit diagram of the semiconductor integrated circuit showing the DC bias field effect transistor in an equivalent circuit, and FIG. 3 is the same semiconductor integrated circuit. FIG. 4 is a circuit diagram of a conventional semiconductor integrated circuit, FIG. 5 is a circuit diagram of a field effect transistor input differential amplifier circuit of the semiconductor integrated circuit, and FIG. 5 is a circuit diagram of a semiconductor integrated circuit obtained by improving the semiconductor integrated circuit of FIG. 1 ... Differential amplifier circuit, 2 ... Positive phase input terminal, 3 ... Reverse phase input terminal, 4 ... Output terminal, 5,23, 23a, 23b ... Feedback resistor, 8 ...
… DC bias circuit, 11,12 …… Input FET, 22,30 …… DC bias applying FET, 24 …… FET channel section, 27 ……
P well of input FET, 28 ... P of FET for applying DC bias
Well, 31 ... Gate of FET for DC bias application.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】差動対を成す入力用の第1,第2の電界効果
トランジスタで構成された差動増幅回路と、前記差動増
幅回路の正相入力端と直流バイアス電位点との間に接続
された直流バイアス用の第3の電界効果トランジスタと
を具備した半導体集積回路であって、前記差動増幅回路
の出力端と逆相入力端との間に接続された第1の抵抗
と、前記逆相入力端と接地点との間に直列接続された第
2,第3の抵抗とを備え、前記差動増幅回路の正相入力端
に信号源の入力信号を与えると共に、前記第3の電界効
果トランジスタのゲートを前記第2,第3の抵抗の中間接
続点に接続した半導体集積回路。
1. A differential amplifier circuit composed of input first and second field effect transistors forming a differential pair, and between a positive phase input terminal of the differential amplifier circuit and a DC bias potential point. A third field effect transistor for direct current bias connected to the first integrated circuit, comprising: a first resistor connected between the output terminal and the negative phase input terminal of the differential amplifier circuit. , A series connection between the negative-phase input terminal and the ground point
And a third resistor, which supplies an input signal of a signal source to the positive phase input terminal of the differential amplifier circuit, and which connects the gate of the third field effect transistor to the middle of the second and third resistors. A semiconductor integrated circuit connected to a connection point.
【請求項2】差動対を成す入力用の第1,第2の電界効果
トランジスタで構成された差動増幅回路と、半導体基板
に形成された一導電型のウエル領域と、前記ウエル領域
内に離間して形成された逆導電型の第1,第2の拡散領域
と、前記第1,第2の拡散領域に挟まれた前記ウエル上に
形成されたゲート領域とで構成された直流バイアス用の
第3の電界効果トランジスタとを具備した半導体集積回
路であって、前記差動増幅回路の出力端と逆相入力端と
の間に接続された第1の抵抗と、前記逆相入力端と接地
点との間に直列接続された第2,第3の抵抗とを備え、前
記差動増幅回路の正相入力端に前記第1の拡散領域を接
続して信号源の入力信号を与えると共に、前記第2の拡
散領域を直流バイアス電位点に接続し、前記ウエル領域
および前記ゲート領域を前記第2,第3の抵抗の中間接続
点に共通接続した半導体集積回路。
2. A differential amplifier circuit composed of first and second field effect transistors for input forming a differential pair, a well region of one conductivity type formed on a semiconductor substrate, and the inside of the well region. DC bias composed of first and second diffusion regions of opposite conductivity type spaced apart from each other and a gate region formed on the well sandwiched between the first and second diffusion regions A third field effect transistor for use in a semiconductor integrated circuit, comprising: a first resistor connected between an output terminal of the differential amplifier circuit and a negative-phase input terminal; and the negative-phase input terminal. A second and a third resistance connected in series between the differential amplifier circuit and a ground point, and the first diffusion region is connected to the positive phase input terminal of the differential amplifier circuit to provide an input signal of a signal source. At the same time, the second diffusion region is connected to a DC bias potential point, and the well region and the gate region are connected. The second semiconductor integrated circuit are commonly connected to the intermediate connection point of the third resistor.
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