JPH0817783A - ダウンフロー型スピンドライヤ - Google Patents
ダウンフロー型スピンドライヤInfo
- Publication number
- JPH0817783A JPH0817783A JP6149319A JP14931994A JPH0817783A JP H0817783 A JPH0817783 A JP H0817783A JP 6149319 A JP6149319 A JP 6149319A JP 14931994 A JP14931994 A JP 14931994A JP H0817783 A JPH0817783 A JP H0817783A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rotor
- cradle
- spin dryer
- type spin
- downflow type
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F26—DRYING
- F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
- F26B5/00—Drying solid materials or objects by processes not involving the application of heat
- F26B5/08—Drying solid materials or objects by processes not involving the application of heat by centrifugal treatment
-
- H10P52/00—
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Drying Of Solid Materials (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 大気の吸入量が多く乾燥効率の良いダウンフ
ロー型スピンドライヤを提供する。 【構成】 クレイドル１１に取付け孔１１ａ，１１ｂを
互いに同じ高さに設け、ロータ１２に取付け孔１２ａ
と、取付け孔１２ａより低い位置に取付け孔１２ｂを設
け、取付け孔１１ａと１２ａ、取付け孔１１ｂと１２ｂ
をネジ止め等により固定することにより、クレイドル１
１をロータ１２の回転方向に対して前方より後方が低い
位置になるように取り付けてある。
ロー型スピンドライヤを提供する。 【構成】 クレイドル１１に取付け孔１１ａ，１１ｂを
互いに同じ高さに設け、ロータ１２に取付け孔１２ａ
と、取付け孔１２ａより低い位置に取付け孔１２ｂを設
け、取付け孔１１ａと１２ａ、取付け孔１１ｂと１２ｂ
をネジ止め等により固定することにより、クレイドル１
１をロータ１２の回転方向に対して前方より後方が低い
位置になるように取り付けてある。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体基板等の乾燥時
に使用するダウンフロー型スピンドライヤに関するもの
である。
に使用するダウンフロー型スピンドライヤに関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】ダウンフロー型スピンドライヤは、例え
ば、半導体チップの製造過程においてウェハを乾燥させ
る際に用いられている。このダウンフロー型スピンドラ
イヤは、図４に示したように、乾燥対象物を収納するク
レイドル４１がロータ４２に取り付けてあり、ロータ４
２を駆動手段（図示せず。）によって矢印Ａ方向に回転
させ、この回転による遠心力と、この回転に伴って吸気
口４３から吸入され、排気口４４から排出される大気と
によって上記乾燥対象物を乾燥させるものである。な
お、吸気口４３の全面にはほこりの進入を防止するため
にフィルタが取り付けてあり、乾燥対象物を乾燥させる
際には蓋４５を本体４６に取り付ける。
ば、半導体チップの製造過程においてウェハを乾燥させ
る際に用いられている。このダウンフロー型スピンドラ
イヤは、図４に示したように、乾燥対象物を収納するク
レイドル４１がロータ４２に取り付けてあり、ロータ４
２を駆動手段（図示せず。）によって矢印Ａ方向に回転
させ、この回転による遠心力と、この回転に伴って吸気
口４３から吸入され、排気口４４から排出される大気と
によって上記乾燥対象物を乾燥させるものである。な
お、吸気口４３の全面にはほこりの進入を防止するため
にフィルタが取り付けてあり、乾燥対象物を乾燥させる
際には蓋４５を本体４６に取り付ける。
【０００３】上記ダウンフロー型スピンドライヤの一部
を図５に示す。同図において、図４と同じ符号のものは
同じものを示す。ウェハを乾燥させる場合は、同図に示
したようにウェハｎ〜ｎをロータ４２の回転方向Ａと平
行の向きに収納する。クレイドル４１には取付け孔４１
ａ，４１ｂが設けてあり、ロータ４２には取付け孔４２
ａ，４２ｂが設けてある。取付け孔４１ａと４２ａ、取
付け孔４１ｂと４２ｂとがそれぞれ例えばネジ止めによ
り固定され、クレイドル４１がロータ４２に取り付けら
れている。
を図５に示す。同図において、図４と同じ符号のものは
同じものを示す。ウェハを乾燥させる場合は、同図に示
したようにウェハｎ〜ｎをロータ４２の回転方向Ａと平
行の向きに収納する。クレイドル４１には取付け孔４１
ａ，４１ｂが設けてあり、ロータ４２には取付け孔４２
ａ，４２ｂが設けてある。取付け孔４１ａと４２ａ、取
付け孔４１ｂと４２ｂとがそれぞれ例えばネジ止めによ
り固定され、クレイドル４１がロータ４２に取り付けら
れている。
【０００４】クレイドル４１がロータ４２に取り付けら
れている状態を図６に示す。同図に示した状態でロータ
４２が回転するのである。取付け孔４１ａと４１ｂ、４
２ａと４２ｂはそれぞれ同じ高さに設けられているの
で、クレイドル４１およびウェハｎ〜ｎは、ロータ４２
の回転時にはその回転方向Ａと平行に配設されて回転す
るのである。
れている状態を図６に示す。同図に示した状態でロータ
４２が回転するのである。取付け孔４１ａと４１ｂ、４
２ａと４２ｂはそれぞれ同じ高さに設けられているの
で、クレイドル４１およびウェハｎ〜ｎは、ロータ４２
の回転時にはその回転方向Ａと平行に配設されて回転す
るのである。
【０００５】なお、クレイドル４１に対して乾燥対象物
を出入れする際は、クレイドル４１を各取付け孔を支点
として矢印Ｂ方向に９０°回転させた状態で行なう。
を出入れする際は、クレイドル４１を各取付け孔を支点
として矢印Ｂ方向に９０°回転させた状態で行なう。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上記従来のダウンフロ
ー型スピンドライヤは、クレイドル４１がロータ４２の
回転方向と平行に取り付けられているので、ウェハｎも
ロータの回転方向と平行に回転する。このため、ロータ
４２の回転に伴って吸気口４３から吸入される大気の量
が少なく乾燥効率が良いとはいえなかった。
ー型スピンドライヤは、クレイドル４１がロータ４２の
回転方向と平行に取り付けられているので、ウェハｎも
ロータの回転方向と平行に回転する。このため、ロータ
４２の回転に伴って吸気口４３から吸入される大気の量
が少なく乾燥効率が良いとはいえなかった。
【０００７】本発明は、大気の吸入量が多く乾燥効率の
良いダウンフロー型スピンドライヤを提供することを目
的としている。
良いダウンフロー型スピンドライヤを提供することを目
的としている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、半導体基板等
の乾燥対象物を収納するクレイドルと、このクレイドル
を取り付けて回転するロータと、このロータの回転に伴
って大気を吸入する吸気口と、この吸気口から吸入した
大気を排出する排気口とを有するダウンフロー型スピン
ドライヤにおいて、上記クレイドルを、上記ロータの回
転方向における前方より後方が低い位置になるように上
記ロータに取り付けられていることにより、上記課題を
解決するものである。
の乾燥対象物を収納するクレイドルと、このクレイドル
を取り付けて回転するロータと、このロータの回転に伴
って大気を吸入する吸気口と、この吸気口から吸入した
大気を排出する排気口とを有するダウンフロー型スピン
ドライヤにおいて、上記クレイドルを、上記ロータの回
転方向における前方より後方が低い位置になるように上
記ロータに取り付けられていることにより、上記課題を
解決するものである。
【０００９】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説
明する。
明する。
【００１０】本発明によるダウンフロー型スピンドライ
ヤは、従来のものに対して、ロータの構成が異なってい
る。
ヤは、従来のものに対して、ロータの構成が異なってい
る。
【００１１】図１に本発明によるダウンフロー型スピン
ドライヤの要部を示す。同図において、１１はクレイド
ル、１２はロータである。クレイドル１１には、従来の
ものと同様に、取付け孔１１ａ，１１ｂが互いに同じ高
さに設けてある。また、ロータ１２には取付け孔１２
ａ，１２ｂが設けてある。１２ｃは従来のロータにおい
て設けられていた取付け孔の位置を示し、これは取付け
孔１２ａと同じ高さである。取付け孔１２ｂは取付け孔
１２ｃより低い位置、すなわち取付け孔１２ａより低い
位置に設けてある。取付け孔１１ａと取付け孔１２ａ、
取付け孔１１ｂと取付け孔１２ｂとがそれぞれネジ止め
等によって固定されて、クレイドル１１がロータ１２に
取り付けられている。
ドライヤの要部を示す。同図において、１１はクレイド
ル、１２はロータである。クレイドル１１には、従来の
ものと同様に、取付け孔１１ａ，１１ｂが互いに同じ高
さに設けてある。また、ロータ１２には取付け孔１２
ａ，１２ｂが設けてある。１２ｃは従来のロータにおい
て設けられていた取付け孔の位置を示し、これは取付け
孔１２ａと同じ高さである。取付け孔１２ｂは取付け孔
１２ｃより低い位置、すなわち取付け孔１２ａより低い
位置に設けてある。取付け孔１１ａと取付け孔１２ａ、
取付け孔１１ｂと取付け孔１２ｂとがそれぞれネジ止め
等によって固定されて、クレイドル１１がロータ１２に
取り付けられている。
【００１２】すなわち、図２に示したように、クレイド
ル１１がロータ１２の回転方向Ａに対して前方が高く、
後方が低い斜めの状態に取り付けられた状態でロータ１
２が回転するのである。
ル１１がロータ１２の回転方向Ａに対して前方が高く、
後方が低い斜めの状態に取り付けられた状態でロータ１
２が回転するのである。
【００１３】Ａ方向に対して斜めにクレイドル１１が取
り付けられているので、ウェハｎもＡ方向に対して斜め
になり、ロータ１２がＡ方向に回転すると、ウェハｎお
よびクレイドル１１がフィンの役割をして吸気口から大
量の大気が吸入される。
り付けられているので、ウェハｎもＡ方向に対して斜め
になり、ロータ１２がＡ方向に回転すると、ウェハｎお
よびクレイドル１１がフィンの役割をして吸気口から大
量の大気が吸入される。
【００１４】本発明によるダウンフロー型スピンドライ
ヤと従来のものとの乾燥効率を比較してみる。最大回転
数1,000rpmで運転した場合、吸気口から吸入される大気
の流速は、従来のものが20〜25m/s 程度であるのに対
し、本発明のものは40〜５０ｍ／ｓ程度と速くなってい
る。また、純水洗浄した６インチのシリコンウェハを２
５枚収納したクレイドルをロータに２つ取り付けて回転
させた結果、５０枚のウェハすべてを乾燥させるのに要
する時間は、図３に示したように、従来のものでは５分
であったのに対し、本発明のものでは３分と短くなって
いる。
ヤと従来のものとの乾燥効率を比較してみる。最大回転
数1,000rpmで運転した場合、吸気口から吸入される大気
の流速は、従来のものが20〜25m/s 程度であるのに対
し、本発明のものは40〜５０ｍ／ｓ程度と速くなってい
る。また、純水洗浄した６インチのシリコンウェハを２
５枚収納したクレイドルをロータに２つ取り付けて回転
させた結果、５０枚のウェハすべてを乾燥させるのに要
する時間は、図３に示したように、従来のものでは５分
であったのに対し、本発明のものでは３分と短くなって
いる。
【００１５】以上のように、本発明装置では、吸気口か
ら大量の大気を吸入し、短時間で乾燥対象物を乾燥させ
ることができる。
ら大量の大気を吸入し、短時間で乾燥対象物を乾燥させ
ることができる。
【００１６】なお、上記実施例では、ロータ側の各取付
け孔を互いに異なる高さに設けることにより、クレイド
ルをロータの回転方向に対して斜めに取り付けるように
したが、ロータ側の各取付け孔は互いに同じ高さに設
け、クレイドル側の各取付け孔を互いに異なる高さに設
けて、クレイドルをロータの回転方向に対して斜めに取
り付けるようにしてもよい。
け孔を互いに異なる高さに設けることにより、クレイド
ルをロータの回転方向に対して斜めに取り付けるように
したが、ロータ側の各取付け孔は互いに同じ高さに設
け、クレイドル側の各取付け孔を互いに異なる高さに設
けて、クレイドルをロータの回転方向に対して斜めに取
り付けるようにしてもよい。
【００１７】
【発明の効果】本発明によれば、ウェハ等の乾燥対象物
を収納するクレイドルが、ロータの回転方向に対して前
方が後方より高くなるようにロータに斜めに取り付けら
れるので、ウェハおよびクレイドルがフィンの役割をし
て、ロータの回転に伴う大気の吸入量が多く、乾燥効率
を良くすることができる。
を収納するクレイドルが、ロータの回転方向に対して前
方が後方より高くなるようにロータに斜めに取り付けら
れるので、ウェハおよびクレイドルがフィンの役割をし
て、ロータの回転に伴う大気の吸入量が多く、乾燥効率
を良くすることができる。
【図１】本発明装置の要部を示した斜視図
【図２】本発明装置の要部を示した斜視図
【図３】本発明装置と従来装置との違いを説明するため
の説明図
の説明図
【図４】従来装置の構成を示した斜視図
【図５】従来装置の要部を示した斜視図
【図６】従来装置の要部を示した斜視図
１１ クレイドル １２ ロータ ４３ 吸気口 ４４ 排気口
Claims (1)
- 【請求項１】 半導体基板等の乾燥対象物を収納するク
レイドルと、このクレイドルを取り付けて回転するロー
タと、このロータの回転に伴って大気を吸入する吸気口
と、この吸気口から吸入した大気を排出する排気口とを
有するダウンフロー型スピンドライヤにおいて、 上記クレイドルは、上記ロータの回転方向における前方
より後方が低い位置になるように上記ロータに取り付け
られていることを特徴とするダウンフロー型スピンドラ
イヤ。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6149319A JP2709568B2 (ja) | 1994-06-30 | 1994-06-30 | ダウンフロー型スピンドライヤ |
| TW084105468A TW331026B (en) | 1994-06-30 | 1995-05-30 | Vertical laminar self-rotating dryer |
| US08/476,240 US5577331A (en) | 1994-06-30 | 1995-06-07 | Downflow spin dryer |
| KR1019950019350A KR0159150B1 (ko) | 1994-06-30 | 1995-06-29 | 다운플로우형 스핀 드라이어 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6149319A JP2709568B2 (ja) | 1994-06-30 | 1994-06-30 | ダウンフロー型スピンドライヤ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0817783A true JPH0817783A (ja) | 1996-01-19 |
| JP2709568B2 JP2709568B2 (ja) | 1998-02-04 |
Family
ID=15472525
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6149319A Expired - Fee Related JP2709568B2 (ja) | 1994-06-30 | 1994-06-30 | ダウンフロー型スピンドライヤ |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5577331A (ja) |
| JP (1) | JP2709568B2 (ja) |
| KR (1) | KR0159150B1 (ja) |
| TW (1) | TW331026B (ja) |
Families Citing this family (396)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5974681A (en) * | 1997-09-10 | 1999-11-02 | Speedfam-Ipec Corp. | Apparatus for spin drying a workpiece |
| US6073361A (en) * | 1998-05-19 | 2000-06-13 | Lsi Logic Corporation | Apparatus for externally monitoring RPM of spin rinse dryer |
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| US8802201B2 (en) | 2009-08-14 | 2014-08-12 | Asm America, Inc. | Systems and methods for thin-film deposition of metal oxides using excited nitrogen-oxygen species |
| US9312155B2 (en) | 2011-06-06 | 2016-04-12 | Asm Japan K.K. | High-throughput semiconductor-processing apparatus equipped with multiple dual-chamber modules |
| US9793148B2 (en) | 2011-06-22 | 2017-10-17 | Asm Japan K.K. | Method for positioning wafers in multiple wafer transport |
| US10364496B2 (en) | 2011-06-27 | 2019-07-30 | Asm Ip Holding B.V. | Dual section module having shared and unshared mass flow controllers |
| US10854498B2 (en) | 2011-07-15 | 2020-12-01 | Asm Ip Holding B.V. | Wafer-supporting device and method for producing same |
| US20130023129A1 (en) | 2011-07-20 | 2013-01-24 | Asm America, Inc. | Pressure transmitter for a semiconductor processing environment |
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| US8993054B2 (en) | 2013-07-12 | 2015-03-31 | Asm Ip Holding B.V. | Method and system to reduce outgassing in a reaction chamber |
| US9018111B2 (en) | 2013-07-22 | 2015-04-28 | Asm Ip Holding B.V. | Semiconductor reaction chamber with plasma capabilities |
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| US9556516B2 (en) | 2013-10-09 | 2017-01-31 | ASM IP Holding B.V | Method for forming Ti-containing film by PEALD using TDMAT or TDEAT |
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