JPH0797391A - ヌクレオシド誘導体とその製造方法 - Google Patents
ヌクレオシド誘導体とその製造方法Info
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Abstract
連化合物の工業的に有用な製造方法を提供することにあ
る。 【構成】 医薬品として有用な3’−アジド−3’−デ
オキシチミジン等のヌクレオシド誘導体へ変換可能な重
要中間体である2’−デオキシ−2’−ブロモ−5’−
O−アセチル−5−メチルウリジン等のヌクレオシド誘
導体。ならびにその製造方法およびその化合物から3’
−アジド−3’−デオキシチミジン等のヌクレオシド誘
導体への変換方法。
Description
有用な3’−アジド−3’−デオキシチミジン(アジド
チミジン、AZT、ジドブジン)と関連化合物の新規な
製造方法および製造中間体を提供するものである。
はヒト免疫不全ウイルス(HIV)に対して強力な抗ウ
イルス活性を示し、後天性免疫不全症候群(エイズ)の
治療に大きな効果があることが報告され(R. Yarchoan
等、The Lancet、1(8481)、575−580頁、
1986年3月15日)、現在エイズおよびエイズ関連
症候群(ARC)の治療に用いられている化合物であ
る。
シチミジンを合成する方法は大きく分けて2通りある。
1つはチミジンを出発原料とし、3’位にアジド基を導
入する方法(R. Glinski 等、J.Chem. Soc. D、(1
5)、915−916頁、1970年、R. Glinski
等、J. Org. Chem.、38(25)、4299−430
5頁、1973年)、もう1つはアジド基を導入した糖
部を核酸塩基部位と結合させる方法(N. Dyatkina 等、
Bioorg. Khim.、12(8)、1048−1053頁、
1986年、G. Fleet 等、Tetrahedron Lett.、28
(31)、3615−3618頁、1987年、G. Fle
et 等、Tetrahedron 、44(2)、625−636
頁、1988年、C. Chu 等、Tetrahedron Lett.、29
(42)、5349−5352頁、1988年)であ
る。前者の方法は工業的にも使用され得る方法である
が、高価で産業的に入手が制限されるチミジンを原料物
質として使用しているという問題点がある。また後者の
方法は、アジド基を導入した糖部を合成することが困難
な上、糖部と核酸塩基部位を結合させる場合にα体とβ
体が両方とも生成するためにその後の分離操作が必要で
あり、産業的に有用な方法とは言い難い。
3’−アジド−3’−デオキシチミジンと関連化合物の
製造において出発原料として高価で大量に入手が困難で
あるチミジン以外の化合物を用い、工業的に有用な製造
方法を提供することにある。
外の出発原料を用いた3’−アジド−3’−デオキシチ
ミジンと関連化合物の新規な合成法を鋭意研究してきた
結果、5−メチルウリジンを出発原料とすることによ
り、容易に3’−アジド−3’−デオキシチミジンと関
連化合物に変換可能な合成中間体である5’位の保護さ
れたチミジンを合成し得ることを発見し、この知見に基
づき本発明を完成するに至った。
3’−デオキシチミジンと関連化合物に変換可能な合成
中間体である下記一般式(1)で表される化合物。
原子または炭素数1から19のアルキル基または炭素数
1から7のアシル基または有機シリル基を、R3は保護
されていてもよい水酸基または保護されていてもよいア
ミノ基を、R4は炭素数1から12のアルキル基、水素
原子またはハロゲン原子を示す。)
原子または炭素数1から19のアルキル基または炭素数
1から7のアシル基または有機シリル基を、R2は炭素
数1から6のアルキル基を、R3は保護されていてもよ
い水酸基または保護されていてもよいアミノ基を、R4
は炭素数1から12のアルキル基、水素原子またはハロ
ゲン原子を示す。)で表される化合物を、弱塩基と反応
させることを特徴とする上記一般式(1)の製造方法。
を、水素供与体存在下パラジウム触媒もしくはニッケル
触媒を用いて還元反応させ下記一般式(4)
ら19のアルキル基または炭素数1から7のアシル基ま
たは有機シリル基を、R3は保護されていてもよい水酸
基または保護されていてもよいアミノ基を、R4は炭素
数1から12のアルキル基、水素原子またはハロゲン原
子を示す。)で表される化合物を製造し、これをスルホ
ニルハライドと反応させ下記一般式(5)
ら19のアルキル基または炭素数1から7のアシル基ま
たは有機シリル基を、R3は保護されていてもよい水酸
基または保護されていてもよいアミノ基を、R4は炭素
数1から12のアルキル基、水素原子またはハロゲン原
子を、R5はアリール基、アルキル基、またはハロゲノ
アルキル基を示す。)で表される化合物を製造し、これ
を塩基存在下閉環反応させて下記一般式(6)
ら19のアルキル基または炭素数1から7のアシル基ま
たは有機シリル基を、R9は保護されていてもよい酸素
原子または保護されていてもよいアミノ基を、R4は炭
素数1から12のアルキル基、水素原子またはハロゲン
原子を示す。)で表される化合物を製造し、これをアジ
ドまたはシアナイド、フルオライドと開環反応させ、
5’−位置のヒドロキシル保護基R1の除去を開環前ま
たは後に行い得ることを特徴とする一般式(7)
基または保護されていてもよいアミノ基を、R4は炭素
数1から12のアルキル基、水素原子またはハロゲン原
子を、R6はアジド基またはシアノ基またはフルオロ基
を示す。)で表される化合物の製造方法である。
的な例として、2’−デオキシ−2’−ブロモ−5’−
O−アセチル−5−メチルウリジンが挙げられる。この
2’−デオキシ−2’−ブロモ−5’−O−アセチル−
5−メチルウリジンは、上記一般式(7)で表される
3’−アジド−3’−デオキシチミジン等へ容易に変換
可能な重要中間体である。
ゲン原子であれば良いが、具体的にはフッ素、塩素、臭
素、ヨウ素があげられる。上記一般式(1)におけるR
1は水素原子または炭素数1から19のアルキル基また
は炭素数1から7のアシル基または有機シリル基であれ
ばよいが、具体的には炭素数1から19のアルキル基と
してメチル基、エチル基、イソプロピル基、ベンジル基
等があげられ、炭素数1から7のアシル基としてアセチ
ル基、ベンゾイル基等があげられ、有機シリル基として
トリメチルシリル基、t−ブチルジメチルシリル基等が
あげられる。またR3は保護されていてもよい水酸基ま
たは保護されていてもよいアミノ基であれば良いが、具
体的にはヒドロキシル基、トリメチルシリルオキシル
基、t−ブチルジメチルシリルオキシル基、アセチルオ
キシル基、ベンゾイルオキシル基、ベンジルオキシル
基、アミノ基、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ
基、ベンジルアミノ基等があげられ、R4は炭素数1か
ら12のアルキル基、水素原子またはハロゲン原子であ
れば良いが、具体的にはR4は炭素数1から12のアル
キル基としてメチル基、エチル基、イソプロピル基、ベ
ンジル基、ビニル基、アリール基、エチニル基、1−プ
ロピニル基、2−プロピニル基等があげられ、ハロゲン
原子としてフッ素、塩素、臭素、ヨウ素があげられる
が、これらに限定されるものではない。
−2’−ブロモ−3’,5’−O−ジアセチル−5−メ
チルウリジンで代表される、下記一般式(3)
原子または炭素数1から19のアルキル基または炭素数
1から7のアシル基または有機シリル基を、R2は炭素
数1から6のアルキル基を、R3は保護されていてもよ
い水酸基または保護されていてもよいアミノ基を、R4
は炭素数1から12のアルキル基、水素原子またはハロ
ゲン原子を示す。)で表される化合物は、特願平3−2
45290に開示されている方法で製造することができ
る。すなわち、5−メチルウリジンで代表される、下記
一般式(8)
ら19のアルキル基または炭素数1から7のアシル基ま
たは有機シリル基を、R3は保護されていてもよい水酸
基または保護されていてもよいアミノ基を、R4は炭素
数1から12のアルキル基、水素原子またはハロゲン原
子を示す。)で表される化合物を、酢酸中、オルト酢酸
トリアルキル(MeC(OR)3)等の有機酸オルトエ
ステルと反応させ、下記一般式(9)
ら19のアルキル基または炭素数1から7のアシル基ま
たは有機シリル基を、R3は保護されていてもよい水酸
基または保護されていてもよいアミノ基を、R4は炭素
数1から12のアルキル基、水素原子またはハロゲン原
子を、R7、R8は炭素数1から6のアルキル基を示
す。)で表される、2’,3’−O−アルコキシアルキ
リデン化合物に変換した後、単離するか、あるいは単離
すること無く好ましくは減圧濃縮を行い、続いてハロゲ
ン化水素のカルボン酸溶液、例えば臭化水素の酢酸溶液
および/またはカルボン酸ハロゲン化物、例えば酢酸ブ
ロマイドと反応させることにより得ることができる。
一般式(1)を製造するのに用いる弱塩基としては、ヒ
ドロキシルアミン、アンモニアやその塩、1級から4級
のアミン類やその塩、水酸化バリウムなどの金属水酸化
物、ナトリウムメトキサイド、カリウムメトキサイドな
どの金属アルコキサイド、リチウムアンモニア溶液、酸
性もしくは塩基性イオン交換樹脂、炭酸カリウム、炭酸
ナトリウム、炭酸水素ナトリウムなどの炭酸塩類、リン
酸水素2ナトリウムなどのリン酸塩類、酢酸ナトリウム
などの酢酸塩類、水酸化ナトリウム、水酸化リチウムな
どの希薄アルカリ溶液等を用いることができるが、中で
もヒドラジン1水和物またはトリエチルアミンが望まし
い。また以上のような塩基を用いて、適当な方法でpH
を調製したバッファーを用いることもできる。用いる塩
基の量は、化合物に対して1から10当量が適当である
が、過剰に用いても差し支えない。反応溶媒としてはメ
タノール等のアルコール溶媒やアセトニトリル、水等を
用いることができる。反応系は脱水されていても、また
されていなくてもかまわない。
反応時間は反応温度や用いる塩基の量により一定しない
が、通常は0.5〜120時間である。単離するには塩
酸などの酸やイオン交換樹脂によって塩基を中和後、濃
縮し、酢酸エチルなどの有機溶媒を用いて通常の抽出操
作で化合物を単離する事が可能である。反応混合物は反
応終了後、生成物を単離すること無しに次の還元反応に
用いることもできる。
基を選択的に脱離することが可能となり、本願の目的化
合物である3’−アジド−3’−デオキシチミジン類の
重要中間体となる上記一般式(1)で示される化合物を
容易に入手することが可能となったと同時に、5−メチ
ルウリジンを含む上記一般式(8)で示されるる安価な
化合物を原料として用いることが可能となった。
る化合物から、上記一般式(7)で表される化合物への
変換は、一般式(1)で表される化合物の2’位のハロ
ゲン原子の還元的脱離を行ない一般式(4)で表される
化合物を製造し、引続き一般式(4)で表される化合物
の3’位をスルホニル基やハロゲン基などの脱離基に置
き換え、それに続いて2,3’無水物とし、アジド基な
どを求核試薬によって3’位に導入することにより、
3’−アジド−3’−デオキシチミジンで代表される、
一般式(7)で表される化合物を得ることができる。
(4)で表される化合物への還元反応に用いるパラジウ
ム触媒やニッケル触媒としては、例えば5〜20%のパ
ラジウム−カーボン、パラジウム−硫酸バリウム、パラ
ジウム−炭酸バリウム、ラネーニッケルが挙げられる。
水素供与体として、シクロヘキセン、ヒドラジン、1,
4−シクロヘキサジエン、蟻酸、蟻酸アンモニウムや水
素ガス等を用いることができる。水素ガスを用いる場
合、反応時の圧力は、通常やや加圧された状態が用いら
れるが、常圧でも差し支えない。反応は適当な溶媒中で
行うことができるが、メタノール等のアルコールやアセ
トニトリル、水、ジメチルホルムアミド等の溶媒中で、
またはそれらの混合溶媒中で行うことができる。また反
応は塩の存在下で行うことができる。使用することので
きる塩として、酢酸ナトリウム、酢酸アンモニウム、蟻
酸アンモニウム、炭酸ナトリウムが挙げられる。
48時間の範囲で行われる。反応混合物は反応終了後、
生成物を単離すること無しに、触媒をろ過して濃縮する
だけで次の反応に用いることができる。単離するときに
は、触媒をろ過して濃縮後、残渣を水に溶かして、酢酸
エチルなどの有機溶媒を用いて抽出するなど、通常の方
法で化合物を単離する事が可能である。なお本反応は一
般式(3)で表される化合物より一般式(1)で表され
る化合物を製造し、それを単離すること無しに引続き行
うことも可能である。前段階で用いた塩基に酸、例えば
蟻酸や酢酸を加えて塩とし、パラジウム触媒またはニッ
ケル触媒を加えて反応を行っても良い。
(5)で表わされる化合物に変換するには、ピリジンな
どの塩基性触媒の存在下や塩基性溶媒下、スルホニルハ
ライドと反応させる。一般式(5)で表わされる化合物
を単離するには、塩基性触媒を用いた場合には塩酸など
の酸やイオン交換樹脂によって塩基を中和後、濃縮し、
酢酸エチルなどの有機溶媒を用いて通常の抽出操作で化
合物を単離する事が可能である。反応混合物は反応終了
後、生成物を単離すること無しに次の反応に用いること
もできる。
(6)で表わされる化合物に変換するには、塩基存在下
閉環反応を行う。閉環反応に使用する塩基として、例え
ば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア、ナ
トリウムメチラート、カリウムフタルイミドなどがあげ
られる。使用する塩基の量は、一般式(5)で表わされ
る化合物に対して1から10モル当量の間で選ばれる。
反応温度は−40〜60℃の範囲で選ぶことが出来る。
反応終了後、一般式(6)で表わされる化合物は、通常
の方法に於て処理し、単離することができる。
(7)で表わされる化合物に変換するには、アジドまた
はシアナイド、フルオライドと開環反応を行う。反応に
用いるアジドとして、例えばナトリウムアジド、リチウ
ムアジドなどのアルカリ金属アジドやアンモニウムアジ
ド、トリメチルシリルアジド等があげられる。反応に用
いるシアナイドとして、例えばナトリウムシアナイド、
リチウムシアナイドなどのアルカリ金属シアナイド等が
あげられる。反応に用いられるフルオライドとして、例
えばフッ化水素、フッ化リチウム、フッ化カリウム、テ
トラブチルアンモニウムフルオライド、ジエチルアミノ
サルファートリフルオライド等があげられる。反応は、
一般式(6)で表わされる化合物とアジドまたはシアナ
イド、フルオライド両者を溶解する溶媒中で行われる。
反応に適当な溶媒として例えば、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシドがあげられる。
る化合物から、一般式(7)で表される化合物への変換
反応中の任意の段階で、必要に応じアルカリを用いたケ
ン化などの適当な方法で除去され得る。更に、吸着樹脂
による精製や、晶析等の一般的な精製法により、3’−
アジド−3’−デオキシチミジンで代表される、一般式
(7)で表される化合物を単離することが出来る。
2’−デオキシ−2’−ブロモ−3’,5’−O−ジア
セチル−5−メチルウリジンの合成 85.7%純度の5−メチルウリジン75.3g(25
0mmol)の125mlの酢酸スラリー溶液に、オル
ト酢酸トリメチル42.5g(350mmol)を加
え、50℃で1時間反応した。反応液を減圧下濃縮し、
2’,3’−O−メトキシエチリデン−5−メチルウリ
ジンを得た。得られた2’,3’−O−メトキシエチリ
デン−5−メチルウリジンに207mlのアセトニトリ
ルを加えた。この溶液を50℃とし、30%臭化水素/
酢酸202g(3当量)と酢酸ブロマイド30.8g
(1当量)の混合物を2時間かけて滴下した。反応液を
60℃としてさらに4時間反応した。この反応液を10
℃に冷却し、水を125ml加え、さらに25%水酸化
ナトリウム水溶液で中和し、アセトニトリル層を分離し
た。水層をさらにアセトニトリルで抽出し、有機層を合
わせて減圧下濃縮した。残さをメタノールから再結晶
し、2’−デオキシ−2’−ブロモ−3’,5’−O−
ジアセチル−5−メチルウリジンを71.5g(176
mmol)、5−メチルウリジンより70.6%の収率
で得た。
s,5’OAc),2.19(3H,s,3’OA
c),4.39(3H,m,5’H+4’H),4.5
4(1H,dd,J=6.0,6.0Hz,2’H),
5.18(1H,dd,J=6.0,3.7Hz,3’
H),6.23(1H,d,J=6.0Hz,1’
H),7.19(1H,q,J=1.8Hz,6H),
8.70(1H,br,3NH)
ロモ−3’,5’−O−ジアセチル−5−メチルウリジ
ンから2’−デオキシ−2’−ブロモ−5’−O−アセ
チル−5−メチルウリジンの合成1 2’−デオキシ−2’−ブロモ−3’,5’−O−ジア
セチル−5−メチルウリジン16.2g(40.0mm
ol)に400mlのアセトニトリルと2.16gの水
(3当量)を加え、攪拌した。この溶液を0℃に冷却
し、ヒドラジン1水和物6.01g(3当量)を加え、
そのままの温度で20時間反応した。反応混合物に10
0mlの水を加え、6規定塩酸でpHが6.8になるま
で中和した。アセトニトリル層を分離して飽和食塩水で
洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥してから減圧
下濃縮して2’−デオキシ−2’−ブロモ−5’−O−
アセチル−5−メチルウリジンを13.5g(純度8
1.8%)、76.0%の収率で得た。
t,J=5.0Hz,4’H),4.32−4.46
(3H,m,5’H+3’H),4.53(1H,t,
J=5.4Hz,2’H),6.18(1H,d,J=
5.4Hz,1’H),7.26(1H,bs,6
H),9.05(1H,bs,3NH) 核磁気共鳴分析(13C,CDCl3) δ 12.71,20.90,43.89,63.1
9,70.28,81.67,90.43,111.6
4,116.52,135.10,170.36 赤外分光分析(KBr) cmー1 3434,3075,1670,1471,1
385,1272,1236,1092,1042,7
84,565,490 紫外分光分析(H2O) λmax 261.6nm 質量スペクトル分析(FABモード) 計算値(M+H+ C12H16O6N2Br):363.0
192 実測値:363.0193
ロモ−3’,5’−O−ジアセチル−5−メチルウリジ
ンから2’−デオキシ−2’−ブロモ−5’−O−アセ
チル−5−メチルウリジンの合成 2’−デオキシ−2’−ブロモ−3’,5’−O−ジア
セチル−5−メチルウリジン405mg(1.0mmo
l)に10mlのアセトニトリルを加え、攪拌した。こ
の溶液を0℃に冷却し、ヒドラジン1水和物100mg
(2当量)を加え、そのままの温度で17.8時間反応
した。反応混合物をHPLCで分析したところ、2’−
デオキシ−2’−ブロモ−5’−O−アセチル−5−メ
チルウリジンがHPLCのエリア比で84.1%得られ
た。
ロモ−3’,5’−O−ジアセチル−5−メチルウリジ
ンから2’−デオキシ−2’−ブロモ−5’−O−アセ
チル−5−メチルウリジンの合成 2’−デオキシ−2’−ブロモ−3’,5’−O−ジア
セチル−5−メチルウリジン405mg(1.0mmo
l)に10mlのアセトニトリルを加え、攪拌した。こ
の溶液を0℃に冷却し、ヒドラジン1水和物100mg
(2当量)と水90mg(5当量)を加え、そのままの
温度で18.3時間反応した。反応混合物をHPLCで
分析したところ、2’−デオキシ−2’−ブロモ−5’
−O−アセチル−5−メチルウリジンがHPLCのエリ
ア比で84.9%得られた。
ロモ−3’,5’−O−ジアセチル−5−メチルウリジ
ンから2’−デオキシ−2’−ブロモ−5’−O−アセ
チル−5−メチルウリジンの合成 2’−デオキシ−2’−ブロモ−3’,5’−O−ジア
セチル−5−メチルウリジン405mg(1.0mmo
l)に10mlのアセトニトリルを加え、攪拌した。こ
の溶液を0℃に冷却し、ヒドラジン1水和物150mg
(3当量)と水90mg(5当量)を加え、そのままの
温度で2.1時間反応した。反応混合物をHPLCで分
析したところ、2’−デオキシ−2’−ブロモ−5’−
O−アセチル−5−メチルウリジンがHPLCのエリア
比で71.3%得られた。
ロモ−3’,5’−O−ジアセチル−5−メチルウリジ
ンから2’−デオキシ−2’−ブロモ−5’−O−アセ
チル−5−メチルウリジンの合成 2’−デオキシ−2’−ブロモ−3’,5’−O−ジア
セチル−5−メチルウリジン810mg(2.0mmo
l)に20mlのメタノールを加え、攪拌した。この溶
液を0℃に冷却し、トリエチルアミン405mg(2当
量)を加え、室温に戻して5日間反応した。反応混合物
をHPLCで分析したところ、2’−デオキシ−2’−
ブロモ−5’−O−アセチル−5−メチルウリジンがH
PLCのエリア比で96.3%得られた。
ロモ−5’−O−アセチル−5−メチルウリジンから
5’−O−アセチルチミジンの合成 2’−デオキシ−2’−ブロモ−5’−O−アセチル−
5−メチルウリジン12.47g(28.1mmol)
を240mlのメタノールに溶解し、6.91g(3当
量)の酢酸ナトリウムを加えた。この反応溶液に1.2
5gの5%パラジウム−硫酸バリウム触媒(0.1倍
量)を加え、反応系を水素ガスで置換し、室温で24時
間反応した。反応混合物から触媒を漉過し、100ml
の水を加えた後、25%水酸化ナトリウム水溶液でpH
が7.0になるまで中和した。この溶液を約100ml
になるまで濃縮し、塩化ナトリウムを飽和になるまで加
えた後、酢酸エチルで抽出した。抽出した有機層は飽和
食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、
減圧下濃縮して白色結晶を得た。この結晶を少量の塩化
メチレンで結晶洗浄し、5’−O−アセチルチミジンを
3.04g(10.7mmol)、38.1%の収率で
得た。
2.18(1H,m,2H’α),2.43(1H,d
dd,J=4.5,6.2,13.5Hz,2’H
β),4.13(1H,q,J=4.5Hz,4’
H),4.30(1H,dd,J=3.5,12.3,
5’Hα),4.39(1H,m,3’H),4.40
(1H,dd,J=4.5,12.3Hz,5’H
β),6.27(1H,t,J=6.5Hz,1’
H),7.27(1H,q,J=1.4Hz,6H),
8.21(1H,bs,3NH)
ロモ−3’,5’−O−ジアセチル−5−メチルウリジ
ンから5’−O−アセチルチミジンの合成 2’−デオキシ−2’−ブロモ−3’,5’−O−ジア
セチル−5−メチルウリジン20.26g(50.0m
mol)を500mlのアセトニトリルに溶解した。こ
の溶液を0℃に冷却し、ヒドラジン1水和物5.01g
(2当量)を加えて反応を開始した。11時間経過した
ところで、この反応溶液に9.21g(4当量)の蟻酸
と3.34gの10%パラジウム−炭素触媒(60.7
%−含水、0.1重量当量)、250mlのメタノール
を加え、反応系を水素ガスで置換し、室温で反応を再開
した。14時間後、反応混合物から触媒を漉過し、反応
液を減圧下濃縮した。この残さを水に溶解して酢酸エチ
ルで抽出し、抽出した有機層は飽和食塩水で洗浄した。
有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃
縮して5’−O−アセチルチミジンを27.3g得た。
化合物は精製せずにそのまま次の反応に用いた。
ンから5’−O−アセチル−3’−O−メタンスルホニ
ルチミジンの合成 実施例3で得られた5’−O−アセチルチミジンを10
0mlのピリジンに溶解し、0℃に冷却した後に11.
57g(2当量)のメタンスルホニルクロライドを加え
た。0℃で1.5時間反応した後、さらに5.79g
(1当量)のメタンスルホニルクロライドを加え、0℃
で1.5時間反応した。この反応混合物を減圧下濃縮
し、残さを塩化メチレンに溶かして不溶物を漉過した。
有機層を水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和
食塩水で順に洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後
減圧下濃縮し、5’−O−アセチル−3’−O−メタン
スルホニルチミジンを10.4g得た。化合物は精製せ
ずにそのまま次の反応に用いた。
2.13(3H,s,5’OAc),2.33(1H,
ddd,J=6.9,8.3,14.7Hz,2’H
α),2.68(1H,ddd,J=2.9,6.0,
14.7Hz,2’Hβ),3.12(3H,s,3’
OMs),4.37(2H,m,5’H),4.44
(1H,m,4’H),5.27(1H,ddd,J=
2.9,5.7,6.9Hz,3’H),6.26(1
H,dd,J=6.0,8.3Hz,1’H),7.2
0(1H,d,J=1.1Hz,6H),8.85(1
H,bs,3NH)
−O−メタンスルホニルチミジンから3’−アジド−
3’−デオキシチミジンの合成 前の反応で得られた5’−O−アセチル−3’−O−メ
タンスルホニルチミジン10.4gに100mlのエタ
ノールを加え、加熱還流させる。この溶液に、1.15
gの水酸化ナトリウム(1当量)を10mlの水に溶解
したものを45分に渡って滴下した。さらに45分間加
熱した後、反応を室温に戻して減圧下濃縮した。この残
さを50mlのジメチルホルムアミドに溶解し、2.1
1gのアジ化リチウム(1.5当量)を加え、120℃
で16.5時間反応した。室温に戻した反応溶液のHP
LC分析の結果、アジドチミジンが3.21g(12.
0mmol)、2’−デオキシ−2’−ブロモ−3’,
5’−O−ジアセチル−5−メチルウリジンから24.
0%の収率で得られた。
り、5−メチルウリジンのような安価な原料から効率良
くAZTのような有用なヌクレオシド誘導体あるいはそ
の中間体を製造することが出来る。従って本発明は産業
上非常に有効である。
Claims (6)
- 【請求項1】下記一般式(1)で表される化合物 【化1】 (式中のXはハロゲン原子を、R1は水素原子または炭
素数1から19のアルキル基または炭素数1から7のア
シル基または有機シリル基を、R3は保護されていても
よい水酸基または保護されていてもよいアミノ基を、R
4は炭素数1から12のアルキル基、水素原子またはハ
ロゲン原子を示す。) - 【請求項2】Xが臭素、R1がアセチル基、R3が水酸
基、R4がメチル基である、下記一般式(2)で表され
る請求項1記載の化合物 【化2】 - 【請求項3】下記一般式(3) 【化3】 (式中のXはハロゲン原子を、R1は水素原子または炭
素数1から19のアルキル基または炭素数1から7のア
シル基または有機シリル基を、R2は炭素数1から6の
アルキル基を、R3は保護されていてもよい水酸基また
は保護されていてもよいアミノ基を、R4は炭素数1か
ら12のアルキル基、水素原子またはハロゲン原子を示
す。)で表される化合物を、弱塩基と反応させることを
特徴とする下記一般式(1)で表される請求項1記載の
化合物の製造方法 【化4】 (式中のXはハロゲン原子を、R1は水素原子または炭
素数1から19のアルキル基または炭素数1から7のア
シル基または有機シリル基を、R3は保護されていても
よい水酸基または保護されていてもよいアミノ基を、R
4は炭素数1から12のアルキル基、水素原子またはハ
ロゲン原子を示す。) - 【請求項4】弱塩基がヒドラジン1水和物である請求項
3記載の方法 - 【請求項5】弱塩基がトリエチルアミンである請求項3
記載の方法 - 【請求項6】下記一般式(1) 【化5】 (式中のXはハロゲン原子を、R1は水素原子または炭
素数1から19のアルキル基または炭素数1から7のア
シル基または有機シリル基を、R3は保護されていても
よい水酸基または保護されていてもよいアミノ基を、R
4は炭素数1から12のアルキル基、水素原子またはハ
ロゲン原子を示す。)で表される化合物を、水素供与体
存在下パラジウム触媒もしくはニッケル触媒を用いて還
元反応させ下記一般式(4) 【化6】 (式中のR1は水素原子または炭素数1から19のアル
キル基または炭素数1から7のアシル基または有機シリ
ル基を、R3は保護されていてもよい水酸基または保護
されていてもよいアミノ基を、R4は炭素数1から12
のアルキル基、水素原子またはハロゲン原子を示す。)
で表される化合物を製造し、これをスルホニルハライド
と反応させ下記一般式(5) 【化7】 (式中のR1は水素原子または炭素数1から19のアル
キル基または炭素数1から7のアシル基または有機シリ
ル基を、R3は保護されていてもよい水酸基または保護
されていてもよいアミノ基を、R4は炭素数1から12
のアルキル基、水素原子またはハロゲン原子を、R5は
アリール基、アルキル基、またはハロゲノアルキル基を
示す。)で表される化合物を製造し、これを塩基存在下
閉環反応させて下記一般式(6) 【化8】 (式中のR1は水素原子または炭素数1から19のアル
キル基または炭素数1から7のアシル基または有機シリ
ル基を、R9は保護されていてもよい酸素原子または保
護されていてもよいアミノ基を、R4は炭素数1から1
2のアルキル基、水素原子またはハロゲン原子を示
す。)で表される化合物を製造し、これをアジドまたは
シアナイド、フルオライドと開環反応させ、5’−位置
のヒドロキシル保護基R1の除去を開環前または後に行
い得ることを特徴とする下記一般式(7) 【化9】 (式中のR3は保護されていてもよい水酸基または保護
されていてもよいアミノ基を、R4は炭素数1から12
のアルキル基、水素原子またはハロゲン原子を、R6は
アジド基またはシアノ基またはフルオロ基を示す。)で
表される化合物の製造方法
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