JPH0797681A - 成膜方法及び成膜装置 - Google Patents
成膜方法及び成膜装置Info
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- JPH0797681A JPH0797681A JP24437693A JP24437693A JPH0797681A JP H0797681 A JPH0797681 A JP H0797681A JP 24437693 A JP24437693 A JP 24437693A JP 24437693 A JP24437693 A JP 24437693A JP H0797681 A JPH0797681 A JP H0797681A
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- Japan
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- container
- film
- film forming
- magnetic
- crucible
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 均一な組成の膜を効率良く作成できる技術を
提供することである。 【構成】 容器内の材料を蒸発させ、蒸発粒子を支持体
に堆積させる成膜方法であって、容器内の材料を冷却す
るに際して容器内の材料に振動を作用させる成膜方法。
提供することである。 【構成】 容器内の材料を蒸発させ、蒸発粒子を支持体
に堆積させる成膜方法であって、容器内の材料を冷却す
るに際して容器内の材料に振動を作用させる成膜方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば磁気記録媒体の
製造技術に関するものである。
製造技術に関するものである。
【０００２】
【発明の背景】磁気テープ等の磁気記録媒体において
は、高密度記録化の要請から、非磁性支持体上に設けら
れる磁性層として、バインダ樹脂を用いた塗布型のもの
ではなく、バインダ樹脂を用いない金属薄膜型のものが
提案されている。すなわち、真空蒸着、スパッタリング
あるいはイオンプレーティングといった乾式メッキ手段
により磁性層を構成した磁気記録媒体が提案されている
ことは周知の通りである。そして、この種の磁気記録媒
体は磁性体の充填密度が高いことから、高密度記録に適
したものである。
は、高密度記録化の要請から、非磁性支持体上に設けら
れる磁性層として、バインダ樹脂を用いた塗布型のもの
ではなく、バインダ樹脂を用いない金属薄膜型のものが
提案されている。すなわち、真空蒸着、スパッタリング
あるいはイオンプレーティングといった乾式メッキ手段
により磁性層を構成した磁気記録媒体が提案されている
ことは周知の通りである。そして、この種の磁気記録媒
体は磁性体の充填密度が高いことから、高密度記録に適
したものである。
【０００３】このような乾式メッキ手段による磁気記録
媒体の製造装置は、図３のように構成されているものが
一般的である。尚、図３中、２１は冷却キャン、２２ａ
はポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム２３
の供給側ロール、２２ｂはＰＥＴフィルム２３の巻取側
ロール、２４はルツボ、２５は磁性金属、２６は真空容
器である。そして、真空容器２６内を所定の真空度のも
のに排気した後、電子銃を作動させてルツボ２４内の磁
性金属２５を蒸発させ、ＰＥＴフィルム２３に対して磁
性金属２５の蒸発粒子を堆積（蒸着）させることによっ
て磁気記録媒体が製造されている。
媒体の製造装置は、図３のように構成されているものが
一般的である。尚、図３中、２１は冷却キャン、２２ａ
はポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム２３
の供給側ロール、２２ｂはＰＥＴフィルム２３の巻取側
ロール、２４はルツボ、２５は磁性金属、２６は真空容
器である。そして、真空容器２６内を所定の真空度のも
のに排気した後、電子銃を作動させてルツボ２４内の磁
性金属２５を蒸発させ、ＰＥＴフィルム２３に対して磁
性金属２５の蒸発粒子を堆積（蒸着）させることによっ
て磁気記録媒体が製造されている。
【０００４】しかしながら、このような蒸着装置を用い
ての製造技術に一層の改善が求められている。このよう
なことから、蒸着膜の均一化を目的として、蒸着作業中
にルツボ２４に超音波振動を作用させる技術が提案（特
開平５−１８２１９６号公報）されている。
ての製造技術に一層の改善が求められている。このよう
なことから、蒸着膜の均一化を目的として、蒸着作業中
にルツボ２４に超音波振動を作用させる技術が提案（特
開平５−１８２１９６号公報）されている。
【０００５】
【発明の開示】ところで、蒸着作業中にルツボに超音波
振動を作用させる技術によれば、蒸着膜の均一化が図れ
たものの、蒸着作業開始直後ではその目的が達成され難
く、この為作業開始直後に得られた磁性膜は均質なもの
でなく、不良品が多く、この為製造歩留りが低い問題点
のあることが判って来た。
振動を作用させる技術によれば、蒸着膜の均一化が図れ
たものの、蒸着作業開始直後ではその目的が達成され難
く、この為作業開始直後に得られた磁性膜は均質なもの
でなく、不良品が多く、この為製造歩留りが低い問題点
のあることが判って来た。
【０００６】この問題点の原因についての検討が鋭意押
し進められて行った結果、これはルツボに入れられてい
る合金に問題のあることが判って来たのである。すなわ
ち、蒸着作業が何らかの理由によって停止され、その時
ルツボが冷却されると、ルツボ内の合金は溶融状態から
固化して行く。ところで、この固化は、均一に固化して
行くものでもなく、比重や凝固点などの相違から各成分
が偏在するようになってしまい、固化した状態にあって
はＡ成分とＢ成分とが均一に混ざったものとなっていな
い。そして、このような状態のものに電子銃を作動させ
てルツボ内の合金を蒸発させ、ＰＥＴフィルムに堆積さ
せたとすると、蒸発開始直後ではＡ成分とＢ成分との均
一な混ざりがないことから、例えばＡ成分のみの蒸発が
始まり、従って目的とする合金成分の膜が得られなかっ
たのである。尚、蒸発開始に伴って超音波振動を作用さ
せていたとしても、均一な混合状態のものとなるには時
間が掛かり、この結果それまでに堆積させた膜は均一な
ものでなく、かつ、優先的に蒸発したＡ成分の量がそれ
だけ少なくなり、ルツボ内に存在するＡ成分とＢ成分と
の割合が多少なりとも変動し、得られた膜の組成が微妙
に異なったものとなってしまうといった問題が残されて
しまう。
し進められて行った結果、これはルツボに入れられてい
る合金に問題のあることが判って来たのである。すなわ
ち、蒸着作業が何らかの理由によって停止され、その時
ルツボが冷却されると、ルツボ内の合金は溶融状態から
固化して行く。ところで、この固化は、均一に固化して
行くものでもなく、比重や凝固点などの相違から各成分
が偏在するようになってしまい、固化した状態にあって
はＡ成分とＢ成分とが均一に混ざったものとなっていな
い。そして、このような状態のものに電子銃を作動させ
てルツボ内の合金を蒸発させ、ＰＥＴフィルムに堆積さ
せたとすると、蒸発開始直後ではＡ成分とＢ成分との均
一な混ざりがないことから、例えばＡ成分のみの蒸発が
始まり、従って目的とする合金成分の膜が得られなかっ
たのである。尚、蒸発開始に伴って超音波振動を作用さ
せていたとしても、均一な混合状態のものとなるには時
間が掛かり、この結果それまでに堆積させた膜は均一な
ものでなく、かつ、優先的に蒸発したＡ成分の量がそれ
だけ少なくなり、ルツボ内に存在するＡ成分とＢ成分と
の割合が多少なりとも変動し、得られた膜の組成が微妙
に異なったものとなってしまうといった問題が残されて
しまう。
【０００７】このようなことに鑑み、さらなる検討が鋭
意押し進められて行った結果、蒸着開始に際して超音波
振動をルツボに作用させるよりも、むしろ冷却に際して
超音波振動をルツボに作用させる方が好ましいのではな
いかとの啓示を得るに至った。すなわち、超音波振動を
冷却時に作用させれば、冷却固化した合金そのものは均
一なものであろうとの啓示が得られ、従って蒸発開始直
後から均一な成分の合金粒子が蒸発して行くであろうと
考えられたのである。
意押し進められて行った結果、蒸着開始に際して超音波
振動をルツボに作用させるよりも、むしろ冷却に際して
超音波振動をルツボに作用させる方が好ましいのではな
いかとの啓示を得るに至った。すなわち、超音波振動を
冷却時に作用させれば、冷却固化した合金そのものは均
一なものであろうとの啓示が得られ、従って蒸発開始直
後から均一な成分の合金粒子が蒸発して行くであろうと
考えられたのである。
【０００８】このような知見に基づいて本発明が達成さ
れたものであり、本発明の目的は、均一な組成の膜を効
率良く作成できる技術を提供することである。この本発
明の目的は、容器内の材料を蒸発させ、蒸発粒子を支持
体に堆積させる成膜方法であって、容器内の材料を冷却
するに際して容器内の材料に振動を作用させることを特
徴とする成膜方法によって達成される。
れたものであり、本発明の目的は、均一な組成の膜を効
率良く作成できる技術を提供することである。この本発
明の目的は、容器内の材料を蒸発させ、蒸発粒子を支持
体に堆積させる成膜方法であって、容器内の材料を冷却
するに際して容器内の材料に振動を作用させることを特
徴とする成膜方法によって達成される。
【０００９】尚、この成膜方法において、振動は２０ｋ
Ｈｚ以上のものであることが好ましい。又、容器内の材
料を蒸発させ、蒸発粒子を支持体に堆積させる成膜装置
であって、容器と、この容器内に構成された凸部と、前
記容器内の材料を蒸発させる蒸発手段と、前記容器に振
動を印加する振動印加手段とを具備してなることを特徴
とする成膜装置によって達成される。
Ｈｚ以上のものであることが好ましい。又、容器内の材
料を蒸発させ、蒸発粒子を支持体に堆積させる成膜装置
であって、容器と、この容器内に構成された凸部と、前
記容器内の材料を蒸発させる蒸発手段と、前記容器に振
動を印加する振動印加手段とを具備してなることを特徴
とする成膜装置によって達成される。
【００１０】特に、容器内の材料を蒸発させ、蒸発粒子
を支持体に堆積させる成膜装置であって、容器と、この
容器内に構成された凸部と、前記容器内の材料を蒸発さ
せる蒸発手段と、前記容器の冷却時に振動を印加する振
動印加手段とを具備してなることを特徴とする成膜装置
によって達成される。尚、この成膜装置において、振動
は２０ｋＨｚ以上のものであることが好ましい。
を支持体に堆積させる成膜装置であって、容器と、この
容器内に構成された凸部と、前記容器内の材料を蒸発さ
せる蒸発手段と、前記容器の冷却時に振動を印加する振
動印加手段とを具備してなることを特徴とする成膜装置
によって達成される。尚、この成膜装置において、振動
は２０ｋＨｚ以上のものであることが好ましい。
【００１１】そして、上記の技術が用いられて合金膜が
成膜されると、容器（ルツボ）内の材料は均一なもので
あることから、蒸発開始直後から均一な組成の粒子が蒸
発しているものであり、従って均一な組成の膜を効率良
く作成できる。
成膜されると、容器（ルツボ）内の材料は均一なもので
あることから、蒸発開始直後から均一な組成の粒子が蒸
発しているものであり、従って均一な組成の膜を効率良
く作成できる。
【００１２】
【実施例】図１及び図２は本発明に係る成膜装置（磁気
記録媒体の製造装置）の一実施例を示すもので、図１は
全体の概略図、図２は要部の概略図である。各図中、１
は真空容器、２はターボポンプ、３はロータリポンプ、
４は非磁性の支持体（例えば、ＰＥＴ等のポリエステ
ル、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルフォン、ポリカ
ーボネート、ポリプロピレン等のオレフィン系の樹脂、
セルロース系の樹脂、塩化ビニル系の樹脂といった高分
子材料）６の供給側ロール、５は支持体６の巻取側ロー
ル、７は冷却キャン、８はルツボ、９は電子銃、１０は
遮蔽板、１１は酸素ガス導入管である。
記録媒体の製造装置）の一実施例を示すもので、図１は
全体の概略図、図２は要部の概略図である。各図中、１
は真空容器、２はターボポンプ、３はロータリポンプ、
４は非磁性の支持体（例えば、ＰＥＴ等のポリエステ
ル、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルフォン、ポリカ
ーボネート、ポリプロピレン等のオレフィン系の樹脂、
セルロース系の樹脂、塩化ビニル系の樹脂といった高分
子材料）６の供給側ロール、５は支持体６の巻取側ロー
ル、７は冷却キャン、８はルツボ、９は電子銃、１０は
遮蔽板、１１は酸素ガス導入管である。
【００１３】ルツボ８の構造は、図２からも判る通り、
底面部の内側に突出するよう三角状の凸部１２が複数個
設けられており、ルツボ８内の溶融合金（バックコート
膜を構成する場合には、例えばＣｕ−Ａｌ−Ｍｎ合金、
Ｃｕ−Ａｌ−Ｆｅ合金、Ｃｕ−Ａｌ−Ｎｉ合金、Ａｌ−
Ｓｉ合金など）１３は凸部１２にガイドされて矢印でし
めす対流が起きるようになり、溶融合金１３が均一なも
のとなり易いよう構成されている。尚、ルツボ８の構成
材料としては、例えばＭｇＯ，ＺｒＯ，ＢｅＯ，Ａｌ2
Ｏ3 ，Ｓｉ3 Ｎ4 ，ＢＮ，ＴｈＯ2 ，ＣａＯ，Ｓｉ
Ｏ2 ，Ｂ4 Ｃ等のセラミックス、あるいは平織クロスや
しゅす織クロスのように織った炭素系繊維を介在させた
セラミックス等が挙げられる。中でも好ましいものは、
Ｂ4 Ｃ製のルツボ、あるいは炭素系繊維を介在させたセ
ラミックス製のルツボである。
底面部の内側に突出するよう三角状の凸部１２が複数個
設けられており、ルツボ８内の溶融合金（バックコート
膜を構成する場合には、例えばＣｕ−Ａｌ−Ｍｎ合金、
Ｃｕ−Ａｌ−Ｆｅ合金、Ｃｕ−Ａｌ−Ｎｉ合金、Ａｌ−
Ｓｉ合金など）１３は凸部１２にガイドされて矢印でし
めす対流が起きるようになり、溶融合金１３が均一なも
のとなり易いよう構成されている。尚、ルツボ８の構成
材料としては、例えばＭｇＯ，ＺｒＯ，ＢｅＯ，Ａｌ2
Ｏ3 ，Ｓｉ3 Ｎ4 ，ＢＮ，ＴｈＯ2 ，ＣａＯ，Ｓｉ
Ｏ2 ，Ｂ4 Ｃ等のセラミックス、あるいは平織クロスや
しゅす織クロスのように織った炭素系繊維を介在させた
セラミックス等が挙げられる。中でも好ましいものは、
Ｂ4 Ｃ製のルツボ、あるいは炭素系繊維を介在させたセ
ラミックス製のルツボである。
【００１４】１４はルツボ８の底面部の適宜な位置に設
けられた超音波振動発生器であり、例えば５０ｋＨｚの
超音波振動がルツボ８に作用するようになっている。上
記のように構成させた装置を用いての磁気記録媒体の製
造方法について説明する。真空容器１内を１０-4〜１０
-6Ｔｏｒｒ程度の真空度のものに排気した後、電子ビー
ム加熱によりルツボ８内の磁性金属（８０％Ｃｏ−２０
％Ｎｉ）を蒸発させ、支持体６に対して０．０４〜１μ
ｍ、例えば０．１５μｍ厚さ磁性合金を蒸着させること
によって金属薄膜型の磁気記録媒体が製造される。尚、
磁性合金薄膜の形成に際して、蒸着部分に酸素ガス導入
管１１から酸素を供給し、強制酸化させることによって
磁性合金薄膜の表層部分を酸化させ、酸化膜による保護
層を形成するようにすることが好ましい。尚、この酸化
膜から構成される保護層の厚さは数十Å程度のものであ
り、この程度の厚さの酸化膜は自然酸化で構成される場
合もあり、このような時には強制酸化の手段を講じなく
ても良い場合がある。
けられた超音波振動発生器であり、例えば５０ｋＨｚの
超音波振動がルツボ８に作用するようになっている。上
記のように構成させた装置を用いての磁気記録媒体の製
造方法について説明する。真空容器１内を１０-4〜１０
-6Ｔｏｒｒ程度の真空度のものに排気した後、電子ビー
ム加熱によりルツボ８内の磁性金属（８０％Ｃｏ−２０
％Ｎｉ）を蒸発させ、支持体６に対して０．０４〜１μ
ｍ、例えば０．１５μｍ厚さ磁性合金を蒸着させること
によって金属薄膜型の磁気記録媒体が製造される。尚、
磁性合金薄膜の形成に際して、蒸着部分に酸素ガス導入
管１１から酸素を供給し、強制酸化させることによって
磁性合金薄膜の表層部分を酸化させ、酸化膜による保護
層を形成するようにすることが好ましい。尚、この酸化
膜から構成される保護層の厚さは数十Å程度のものであ
り、この程度の厚さの酸化膜は自然酸化で構成される場
合もあり、このような時には強制酸化の手段を講じなく
ても良い場合がある。
【００１５】この後、巻取側ロール５を取り出し、これ
を供給側ロールの支承部に配設し、磁性合金薄膜が形成
された側が冷却キャン７に当接するようになし、そして
ルツボ８にＣｕ−Ａｌ−Ｘ（但し、ＸはＭｎ，Ｆｅ，Ｎ
ｉの群の中から選ばれる一つ、若しくは二つ以上）系合
金を充填し、真空容器１内を１０-4〜１０-6Ｔｏｒｒ程
度の真空度のものに排気した後、電子ビーム加熱により
ルツボ８内の非磁性合金を蒸発させ、支持体６の他面側
に０．０４〜１μｍ、例えば０．１μｍ厚さ非磁性合金
を蒸着させる。尚、この非磁性合金薄膜の形成に際し
て、蒸着部分に酸素ガス導入管１１から酸素を供給し、
強制酸化させることによって非磁性合金薄膜の表層部分
を酸化させる。
を供給側ロールの支承部に配設し、磁性合金薄膜が形成
された側が冷却キャン７に当接するようになし、そして
ルツボ８にＣｕ−Ａｌ−Ｘ（但し、ＸはＭｎ，Ｆｅ，Ｎ
ｉの群の中から選ばれる一つ、若しくは二つ以上）系合
金を充填し、真空容器１内を１０-4〜１０-6Ｔｏｒｒ程
度の真空度のものに排気した後、電子ビーム加熱により
ルツボ８内の非磁性合金を蒸発させ、支持体６の他面側
に０．０４〜１μｍ、例えば０．１μｍ厚さ非磁性合金
を蒸着させる。尚、この非磁性合金薄膜の形成に際し
て、蒸着部分に酸素ガス導入管１１から酸素を供給し、
強制酸化させることによって非磁性合金薄膜の表層部分
を酸化させる。
【００１６】尚、酸素ガス導入管１１からの酸素ガス導
入量は９９．９９８％の純度の酸素を毎分２５ｍｌの程
度である。そして、パーフルオロポリエーテル（グレー
ド：ＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ ＤＩＡＣ カルボキシル基変
性、日本モンテジソン社製）をフッ素不活性液体（フロ
リナート、ＦＣ−８４、住友スリーエム社製）に０．１
％となるよう希釈・分散させた塗料をダイ塗工方式によ
り乾燥後の厚さが２０Å程度となるように磁性合金薄膜
の表面に塗布し、１００℃で乾燥させ、所定の幅にスリ
ットし、磁気テープを得た。
入量は９９．９９８％の純度の酸素を毎分２５ｍｌの程
度である。そして、パーフルオロポリエーテル（グレー
ド：ＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ ＤＩＡＣ カルボキシル基変
性、日本モンテジソン社製）をフッ素不活性液体（フロ
リナート、ＦＣ−８４、住友スリーエム社製）に０．１
％となるよう希釈・分散させた塗料をダイ塗工方式によ
り乾燥後の厚さが２０Å程度となるように磁性合金薄膜
の表面に塗布し、１００℃で乾燥させ、所定の幅にスリ
ットし、磁気テープを得た。
【００１７】尚、支持体面に設けられる金属磁性膜とバ
ックコート膜との関係は、金属磁性膜によって現れる応
力の方向とバックコート膜によって現れる応力の方向と
が同じであることが好ましい。例えば、金属磁性膜によ
って現れる応力が引っ張り応力タイプの場合には、バッ
クコート膜によって現れる応力も引っ張り応力タイプの
ものとなるようバックコート膜の種類や形成条件を選定
することが好ましい。かつ、双方の膜が引っ張り応力タ
イプのものである場合には、バックコート膜によって現
れる応力の絶対値が金属磁性膜によって現れる応力より
も大きくなるよう設計し、これによってカール率が０〜
１５％、特に５〜１０％であるようにすることが一層好
ましい。又、金属磁性膜によって現れる応力が圧縮応力
タイプの場合には、バックコート膜によって現れる応力
も圧縮応力タイプのものとなるようバックコート膜の種
類や形成条件を選定することが好ましい。かつ、双方の
膜が圧縮応力タイプのものである場合には、バックコー
ト膜によって現れる応力の絶対値が金属磁性膜によって
現れる応力よりも小さくなるよう設計し、これによって
カール率が０〜１５％、特に５〜１０％であるようにす
ることが一層好ましい。
ックコート膜との関係は、金属磁性膜によって現れる応
力の方向とバックコート膜によって現れる応力の方向と
が同じであることが好ましい。例えば、金属磁性膜によ
って現れる応力が引っ張り応力タイプの場合には、バッ
クコート膜によって現れる応力も引っ張り応力タイプの
ものとなるようバックコート膜の種類や形成条件を選定
することが好ましい。かつ、双方の膜が引っ張り応力タ
イプのものである場合には、バックコート膜によって現
れる応力の絶対値が金属磁性膜によって現れる応力より
も大きくなるよう設計し、これによってカール率が０〜
１５％、特に５〜１０％であるようにすることが一層好
ましい。又、金属磁性膜によって現れる応力が圧縮応力
タイプの場合には、バックコート膜によって現れる応力
も圧縮応力タイプのものとなるようバックコート膜の種
類や形成条件を選定することが好ましい。かつ、双方の
膜が圧縮応力タイプのものである場合には、バックコー
ト膜によって現れる応力の絶対値が金属磁性膜によって
現れる応力よりも小さくなるよう設計し、これによって
カール率が０〜１５％、特に５〜１０％であるようにす
ることが一層好ましい。
【００１８】ところで、上記非磁性合金膜の形成に際し
て、途中で成膜作業を停止し、ルツボ内の合金が冷却・
固化した後、再度ルツボ内の合金に電子ビームを照射
し、成膜作業を再開した。この冷却・固化時に５０ｋＨ
ｚの超音波振動をルツボ８に作用させた場合（本発明）
と、成膜作業の再開時に５０ｋＨｚの超音波振動をルツ
ボ８に作用させた場合（比較例１）と、超音波振動をル
ツボ８に作用させなかった場合（比較例２）で得られた
ものについて、各々の堆積膜を調べたので、その結果を
表−１及び表−２に示す。
て、途中で成膜作業を停止し、ルツボ内の合金が冷却・
固化した後、再度ルツボ内の合金に電子ビームを照射
し、成膜作業を再開した。この冷却・固化時に５０ｋＨ
ｚの超音波振動をルツボ８に作用させた場合（本発明）
と、成膜作業の再開時に５０ｋＨｚの超音波振動をルツ
ボ８に作用させた場合（比較例１）と、超音波振動をル
ツボ８に作用させなかった場合（比較例２）で得られた
ものについて、各々の堆積膜を調べたので、その結果を
表−１及び表−２に示す。
【００１９】 表−１（ルツボに入れた合金が85at%Cu-9at%Al-1at%Mn-4at%Fe-1at%Ni) 停止前に作製の膜組成(at%) 再開直後に作製の膜組成(at%) Cu Al Mn Fe Ni O Cu Al Mn Fe Ni O 本発明 64.6 6.84 0.76 3.04 0.76 24 64.7 6.93 0.76 3.05 0.76 23.8 比較例１ 同 上 63.0 9.01 0.70 3.04 0.75 23.5 比較例２ 同 上 60.9 11.24 0.71 3.00 0.75 23.4 表−２ 停止前に作製の磁気テープの反り 再開直後に作製の磁気テープの反り 本発明 ５％ ５％ 比較例１ 同上 ２％ 比較例２ 同上 −７％ これによれば、超音波振動を作用させなかった比較例２
のものよりも超音波振動を作用させた比較例１の方が好
ましいものの、この場合でも再開直後に得られた磁気テ
ープはその前に得られた磁気テープとかなり異なるもの
であることが判る。このことは、品質がバラツクことを
示しており、従って高品質な磁気記録媒体が得られ難い
ことを示している。
のものよりも超音波振動を作用させた比較例１の方が好
ましいものの、この場合でも再開直後に得られた磁気テ
ープはその前に得られた磁気テープとかなり異なるもの
であることが判る。このことは、品質がバラツクことを
示しており、従って高品質な磁気記録媒体が得られ難い
ことを示している。
【００２０】これに対して、冷却固化時に超音波振動が
作用させられた本発明により得られたものは、再開の前
後での特性に殆ど差が起きていないものであり、従って
高品質な磁気記録媒体が歩留り良く得られることを示し
ている。
作用させられた本発明により得られたものは、再開の前
後での特性に殆ど差が起きていないものであり、従って
高品質な磁気記録媒体が歩留り良く得られることを示し
ている。
【００２１】
【効果】均一な組成の膜を効率良く作成できる。
【図１】本発明に係る成膜装置全体の概略図
【図２】本発明に係る成膜装置要部の概略図
【図３】従来の磁気記録媒体製造装置の概略図
１ 真空容器 ６ 支持体 ７ 冷却キャン ８ ルツボ ９ 電子銃 １２ 凸部 １３ 溶融合金 １４ 超音波振動発生器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 志賀 章 栃木県芳賀郡市貝町大字赤羽2606 花王株 式会社情報科学研究所内
Claims (5)
- 【請求項１】 容器内の材料を蒸発させ、蒸発粒子を支
持体に堆積させる成膜方法であって、容器内の材料を冷
却するに際して容器内の材料に振動を作用させることを
特徴とする成膜方法。 - 【請求項２】 振動が２０ｋＨｚ以上のものであること
を特徴とする請求項１の成膜方法。 - 【請求項３】 容器内の材料を蒸発させ、蒸発粒子を支
持体に堆積させる成膜装置であって、容器と、この容器
内に構成された凸部と、前記容器内の材料を蒸発させる
蒸発手段と、前記容器に振動を印加する振動印加手段と
を具備してなることを特徴とする成膜装置。 - 【請求項４】 振動印加手段は容器内の材料を冷却する
に際して作動するよう構成されたものであることを特徴
とする請求項３の成膜装置。 - 【請求項５】 振動印加手段によって２０ｋＨｚ以上の
振動が印加されるよう構成されたものであることを特徴
とする請求項３の成膜装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24437693A JPH0797681A (ja) | 1993-09-30 | 1993-09-30 | 成膜方法及び成膜装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24437693A JPH0797681A (ja) | 1993-09-30 | 1993-09-30 | 成膜方法及び成膜装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0797681A true JPH0797681A (ja) | 1995-04-11 |
Family
ID=17117768
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24437693A Pending JPH0797681A (ja) | 1993-09-30 | 1993-09-30 | 成膜方法及び成膜装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0797681A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9382598B2 (en) | 2010-04-09 | 2016-07-05 | Southwire Company, Llc | Ultrasonic device with integrated gas delivery system |
| US9481031B2 (en) | 2015-02-09 | 2016-11-01 | Hans Tech, Llc | Ultrasonic grain refining |
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| WO2019066087A1 (ja) * | 2017-09-26 | 2019-04-04 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 蒸着装置、有機ｅｌパネルの製造装置、有機ｅｌパネルの製造方法 |
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| WO2023228400A1 (ja) * | 2022-05-27 | 2023-11-30 | シャープディスプレイテクノロジー株式会社 | 蒸着装置、表示装置の製造方法 |
-
1993
- 1993-09-30 JP JP24437693A patent/JPH0797681A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US10640846B2 (en) | 2010-04-09 | 2020-05-05 | Southwire Company, Llc | Ultrasonic degassing of molten metals |
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| US10441999B2 (en) | 2015-02-09 | 2019-10-15 | Hans Tech, Llc | Ultrasonic grain refining |
| US10233515B1 (en) | 2015-08-14 | 2019-03-19 | Southwire Company, Llc | Metal treatment station for use with ultrasonic degassing system |
| US10022786B2 (en) | 2015-09-10 | 2018-07-17 | Southwire Company | Ultrasonic grain refining |
| US10639707B2 (en) | 2015-09-10 | 2020-05-05 | Southwire Company, Llc | Ultrasonic grain refining and degassing procedures and systems for metal casting |
| WO2019066087A1 (ja) * | 2017-09-26 | 2019-04-04 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 蒸着装置、有機ｅｌパネルの製造装置、有機ｅｌパネルの製造方法 |
| JP2019059973A (ja) * | 2017-09-26 | 2019-04-18 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 蒸着装置、有機ｅｌパネルの製造装置、有機ｅｌパネルの製造方法 |
| WO2023228400A1 (ja) * | 2022-05-27 | 2023-11-30 | シャープディスプレイテクノロジー株式会社 | 蒸着装置、表示装置の製造方法 |
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