JPH0790884B2 - Board storage / removal management system - Google Patents
Board storage / removal management systemInfo
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- JPH0790884B2 JPH0790884B2 JP17665489A JP17665489A JPH0790884B2 JP H0790884 B2 JPH0790884 B2 JP H0790884B2 JP 17665489 A JP17665489 A JP 17665489A JP 17665489 A JP17665489 A JP 17665489A JP H0790884 B2 JPH0790884 B2 JP H0790884B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/7075—Handling workpieces outside exposure position, e.g. SMIF box
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】 <産業上の利用分野> 本発明は、半導体ウエハや液晶表示装置用ガラス基板な
どの製造工程中のフォトリソグラフィー工程で使用され
る露光用マスクやレチクル等の薄板状の露光用基板を収
納・保管する収納棚と、この収納棚から取り出された露
光用基板を露光機に搬送するために前記露光用基板を一
時的に収納する基板ホルダとの間で、露光用基板の受け
渡しを管理する基板の収納・取り出し管理システムに関
する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION <Industrial field of application> The present invention relates to a thin plate shape such as an exposure mask and a reticle used in a photolithography process in a manufacturing process of a semiconductor wafer, a glass substrate for a liquid crystal display device and the like. An exposure substrate is provided between a storage shelf for storing and storing the exposure substrate and a substrate holder for temporarily storing the exposure substrate for transporting the exposure substrate taken out from the storage shelf to an exposure machine. The present invention relates to a board storage / removal management system that manages the transfer of substrates.
<従来の技術> 近年、半導体製造ラインのフォトリソグラフィー工程に
おいて、ラインの自動化が急速に進められている。特
に、少量多品種の製造ラインでは、半導体ウエハに回路
パターンを焼き付けるためのマスクやレチクルのような
露光用基板(以下、単に基板という)の数は膨大にな
り、これらの基板群の中から所望の基板を間違いなく取
り出し、迅速に露光機にセッティングして、工程の処理
能率を向上させたいという要請が強い。<Prior Art> In recent years, in the photolithography process of a semiconductor manufacturing line, the automation of the line has been rapidly advanced. In particular, in a small-quantity, high-mix production line, the number of exposure substrates (hereinafter simply referred to as substrates) such as masks and reticles for printing circuit patterns on semiconductor wafers is enormous. There is a strong demand to improve the processing efficiency of the process by taking out the substrate without fail and setting it on the exposure machine quickly.
このような要請に応えるために、例えば、特開昭63−22
448号公報に開示されたような基板搬送装置がある。In order to meet such a demand, for example, JP-A-63-22
There is a substrate transfer device as disclosed in Japanese Patent No. 448.
この基板搬送装置は、収納棚から取り出された複数個の
基板を一時的に収納する移動可能なカセットライブラリ
(本発明では、基板ホルダと称する)から、所要の基板
を取り出して露光機に搬送する途中で、基板に付加され
た基板情報を検知し、この基板情報を露光機に伝送して
露光機を予め初期設定しておくことによって、基板の交
換に要する時間を短縮しようとするものである。This substrate transfer device takes out a desired substrate from a movable cassette library (referred to as a substrate holder in the present invention) that temporarily stores a plurality of substrates taken out from a storage rack and transfers it to an exposure device. By detecting the board information added to the board on the way and transmitting the board information to the exposure machine to initialize the exposure machine in advance, the time required for the replacement of the board is shortened. .
<発明が解決しようとする課題> 上述の基板搬送装置は、カセットライブラリと露光機と
の間の基板の受け渡しを自動化することによって工程の
処理能率を向上させようとするものであり、その点では
有効である。<Problems to be Solved by the Invention> The substrate transfer apparatus described above is intended to improve the process efficiency of the process by automating the transfer of the substrate between the cassette library and the exposure device. It is valid.
しかし、上記の基板搬送装置を使用しても、多数の基板
が収納された収納棚から所要の基板を取り出してカセッ
トライブラリに収納し、さらには使用済みの基板をカセ
ットライブラリから収納棚に収納するという作業が人手
によって行われているため、基板の取り出し・収納に時
間を要し、しかも間違いが起こりやすいという問題点が
ある。However, even if the above-described substrate transfer device is used, the desired substrate is taken out from the storage shelf in which a large number of substrates are stored and stored in the cassette library, and the used substrate is stored in the storage shelf from the cassette library. Since this work is performed manually, there is a problem that it takes time to take out and store the board, and moreover, errors are likely to occur.
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであっ
て、収納棚からの所要の基板の取り出しや、収納棚への
基板の収納を迅速、かつ正確に行うことができる基板の
収納・取り出し管理システムを提供することを目的とし
ている。The present invention has been made in view of such circumstances, and is a substrate storage / removal method that can quickly and accurately take out a required substrate from a storage shelf and store the substrate in the storage shelf. It is intended to provide a retrieval management system.
<課題を解決するための手段> 本発明は、このような目的を達成するために、次のよう
な構成をとる。<Means for Solving the Problems> The present invention has the following configuration in order to achieve such an object.
即ち、本発明は、複数個の露光用基板を収納・保管する
収納棚と、前記収納棚と露光機との間で所要の露光用基
板を受け渡しするために該露光用基板を一時的に収納す
る基板ホルダとを備え、前記収納棚と基板ホルダとの間
の露光用基板の受け渡しを管理する基板の収納・取り出
し管理システムであって、 前記所要の露光用基板を把持して前記収納棚または基板
ホルダの所要箇所に出し入れする基板把持手段と、 前記基板把持手段を収納棚と基板ホルダとの間で搬送す
る搬送手段と、 前記搬送手段による搬送途中において、前記収納棚また
は前記基板ホルダへ露光用基板を収納するときの前記露
光用基板の位置決めを行う位置決め手段と、 前記収納棚の水平および垂直位置情報と、各露光用基板
が載置される奥行き位置に係る情報とを記憶する棚情報
記憶手段と、 取り出し・収納すべき露光用基板の識別情報、および/
または該露光用基板の収納位置情報を指定する指定手段
と、 各露光用基板ごとの識別情報に対応した収納位置情報を
記憶する収納位置記憶手段と、 前記指定手段から与えられた収納位置情報に基づき、あ
るいは前記指定手段から与えられた露光用基板の識別情
報に応じた収納位置情報を前記収納位置記憶手段から読
み出すことに基づいて、前記搬送手段の水平・垂直方向
の動きを制御し、かつ該収納位置情報に基づいて前記棚
情報記憶手段から読み出した奥行き位置情報に基づいて
前記基板把持手段の奥行き方向の動きを制御する制御手
段と、 を備えたものである。That is, the present invention provides a storage shelf for storing and storing a plurality of exposure substrates, and a temporary storage of the exposure substrates for transferring required exposure substrates between the storage rack and the exposure machine. Is a substrate storage / removal management system for managing the transfer of an exposure substrate between the storage shelf and the substrate holder, wherein the storage shelf is provided by gripping the required exposure substrate or Substrate holding means for taking in and out of a required position of the substrate holder, transfer means for transferring the substrate holding means between the storage shelf and the substrate holder, and exposure to the storage shelf or the substrate holder during the transfer by the transfer means. Positioning means for positioning the exposure substrate when accommodating the exposure substrate, horizontal and vertical position information of the storage shelf, and information relating to the depth position on which each exposure substrate is placed are stored. Shelf information storage means and identification information of the exposure substrate to be taken out / stored, and /
Alternatively, a designating unit that designates the storage position information of the exposure substrate, a storage position storage unit that stores the storage position information corresponding to the identification information of each exposure substrate, and the storage position information given from the designating unit. On the basis of, or on the basis of reading the storage position information corresponding to the identification information of the exposure substrate given from the designating means from the storage position storage means, and controlling the horizontal and vertical movements of the transport means, and Control means for controlling the movement of the board gripping means in the depth direction based on the depth position information read from the shelf information storage means based on the storage position information.
<作用> 本発明の作用は次のとおりである。<Operation> The operation of the present invention is as follows.
露光用基板の取り出し 収納棚から取り出すべき露光用基板の識別情報が指定手
段によって指定されると、収納位置記憶手段から当該識
別情報に対応する収納位置情報が読み出される。制御手
段は、この収納位置情報に基づき、搬送手段の水平・垂
直方向の動きを制御して、基板把持手段を収納棚の指定
位置に搬送する。基板把持手段は、その位置に保管され
ている露光用基板を把持して取り出す。取り出された露
光用基板は、搬送手段によって基板ホルダへ搬送され、
この搬送途中に位置決め手段によって基板ホルダに収納
するときの位置に位置決めされて後、基板ホルダの所要
位置に搬入される。Retrieval of Exposure Substrate When the identification information of the exposure substrate to be retrieved from the storage rack is designated by the designating means, the storage position information corresponding to the identification information is read from the storage position storage means. Based on this storage position information, the control means controls the horizontal and vertical movements of the transfer means to transfer the substrate gripping means to the designated position on the storage rack. The substrate gripping means grips and takes out the exposure substrate stored at that position. The taken-out exposure substrate is transferred to the substrate holder by the transfer means,
During this transportation, the positioning means positions the substrate holder at the position where it is to be stored, and then it is carried into a required position of the substrate holder.
露光用基板の収納 露光用基板を収納棚の所定位置に収納する態様として
は、次のような態様がある。例えば、指定手段から、そ
の露光用基板の収納位置を直接指定する態様であり、他
の例としては、指定手段から露光用基板の識別情報を指
定する場合である。Storage of Exposure Substrate There are the following modes for storing the exposure substrate in a predetermined position of the storage rack. For example, it is a mode in which the storage position of the exposure substrate is directly designated by the designating unit, and another example is a case where the identification information of the exposure substrate is designated by the designating unit.
指定手段によって露光用基板の収納位置情報が与えられ
た場合はその収納位置情報に基づき、あるいは指定手段
によって露光用基板の識別情報が与えられた場合には、
その識別情報に対応した収納位置情報を収納位置記憶手
段から読み出すことに基づき、制御手段は、搬送手段の
水平・垂直方向の動きを制御して、基板ホルダから取り
出し、位置決めされて基板把持手段に把持された露光用
基板を収納棚の所定位置にまで搬送する。そして、その
収納位置情報に対応する奥行き位置情報を棚情報記憶手
段から読み出し、この情報に基づき基板把持手段の奥行
き方向の動きを制御して、その露光用基板を収納棚内の
所定の奥行き位置に載置する。When the storage position information of the exposure substrate is given by the designating means, based on the storage position information, or when the identification information of the exposure substrate is provided by the designating means,
Based on reading the storage position information corresponding to the identification information from the storage position storage means, the control means controls the movement of the transfer means in the horizontal and vertical directions, takes it out from the substrate holder, and positions it to the substrate gripping means. The exposed exposure substrate is conveyed to a predetermined position on the storage rack. Then, depth position information corresponding to the storage position information is read out from the shelf information storage means, and based on this information, the movement of the substrate gripping means in the depth direction is controlled, and the exposure substrate is moved to a predetermined depth position in the storage shelf. Place on.
<実施例> 以下、本発明の一実施例を詳細に説明する。<Example> Hereinafter, an example of the present invention will be described in detail.
第1図は、実施例に係る基板の収納・取り出し管理シス
テムの概略図であり、同図(a)は平面図、同図(b)
は正面図である。FIG. 1 is a schematic view of a substrate storage / removal management system according to an embodiment, FIG. 1 (a) is a plan view, and FIG. 1 (b).
Is a front view.
図中、符号1は複数個の露光用基板を水平・垂直方向に
それぞれ区画して収納・保管する収納棚である。この収
納棚1には、露光用基板としての例えばレチクルが収納
される。レチクルは第2図に示すようなレチクルケース
4に収納されている。レチクルケース4には、開閉自在
の前蓋3が設けられており、この前蓋3の前面に、収納
されているレチクル2の機種や属性などを識別するため
の識別情報としてのバーコード5が貼り付けられてい
る。レチクルケース4の両側面には、レチクルケース4
の受渡し時に係止されるツメ6と案内用のガイド7とが
形成されている。In the figure, reference numeral 1 is a storage rack for partitioning and storing a plurality of exposure substrates in the horizontal and vertical directions. The storage shelf 1 stores, for example, a reticle as an exposure substrate. The reticle is stored in the reticle case 4 as shown in FIG. The reticle case 4 is provided with a front lid 3 which can be opened and closed, and a bar code 5 as identification information for identifying the model and attributes of the stored reticle 2 is provided on the front surface of the front lid 3. It is pasted. On both sides of the reticle case 4, the reticle case 4
A pawl 6 and a guide 7 for guiding are formed which are locked at the time of delivery.
収納棚1の細部構造を第3図に示す。各レチクルケース
4が個別に載置される棚は、左右一対の棚ガイド8から
構成されており、各棚ガイド8の底面にはレチクルケー
ス4を支える支持ピン9と、レチクルケース4の左右方
向の動きを規制するガイドビン10とが立設されている。The detailed structure of the storage rack 1 is shown in FIG. The shelf on which each reticle case 4 is individually placed is composed of a pair of left and right shelf guides 8. Support pins 9 for supporting the reticle case 4 are provided on the bottom surface of each shelf guide 8, and the left and right directions of the reticle case 4. And a guide bin 10 that regulates the movement of the.
第1図に戻って、符号11は収納棚1から取り出されたレ
チクルケース4を、図示しない露光機に移送するため
に、これを一次的に収納する基板ホルダである。この基
板ホルダ11は螺軸12に螺合されたホルダ載置台13に載置
され、前記螺軸12をパルスモータ80で回転駆動すること
により、基板ホルダ11を所定の基板受渡し高さに設定で
きるように構成されている。Returning to FIG. 1, reference numeral 11 is a substrate holder that temporarily stores the reticle case 4 taken out of the storage rack 1 in order to transfer it to an exposure machine (not shown). The substrate holder 11 is mounted on a holder mounting table 13 screwed onto a screw shaft 12, and the screw shaft 12 is driven to rotate by a pulse motor 80, whereby the substrate holder 11 can be set to a predetermined substrate transfer height. Is configured.
符号14は、レチクルケース4を把持して収納棚1に出し
入れする基板把持手段としての基板把持機構である。こ
の基板把持機構14は、搬送機構15によって収納棚1の水
平(図中、X方向)・垂直方向(図中、Y方向)の任意
の位置に搬送される。搬送機構15は、垂直搬送機構とし
て基板把持機構14に螺合された螺軸16とこれを駆動する
パルスモータ17を含み、また、水平搬送機構としてラッ
ク・ピニオン機構18とこれを駆動するパルスモータ19な
どを含む。Reference numeral 14 is a substrate holding mechanism as a substrate holding means for holding the reticle case 4 and putting it in and out of the storage rack 1. The substrate gripping mechanism 14 is transported by the transport mechanism 15 to any position in the storage shelf 1 in the horizontal (X direction in the drawing) / vertical direction (Y direction in the drawing). The transfer mechanism 15 includes, as a vertical transfer mechanism, a screw shaft 16 screwed into the substrate gripping mechanism 14 and a pulse motor 17 for driving the screw shaft 16. Also, as a horizontal transfer mechanism, a rack and pinion mechanism 18 and a pulse motor for driving the rack and pinion mechanism 18. Including 19 etc.
基板把持機構14の構成を第4図に示す。The structure of the substrate holding mechanism 14 is shown in FIG.
同図(a)は基板把持機構14の平面図、同図(b)はそ
の正面図である。1A is a plan view of the substrate gripping mechanism 14, and FIG. 1B is a front view thereof.
基板把持機構14のベース板20は、上述した螺軸16と、ガ
イド棒21に沿って昇降し、このベース板20に、基板把持
機構14を収納棚1の奥行き方向(図中、Z方向)に移動
させるための駆動機構として、パルスモータ22と、この
パルスモータ22によって駆動される螺軸23が取付けられ
ている。24は、レチクルケース4を下方から支えるため
の支持プレートであり、この支持プレート24に螺軸23が
螺合されているとともに、ガイド棒23aが挿通されてい
る。支持プレート24には、レチクルケース4の端部を上
方から押さえ込んで、その動きを規制するための押さえ
プレート25と、これにピン結合されたエアーシリンダ26
とが設けられている。押さえプレート25は先端部が
『T』の字形状をしており、この基部に遊嵌された軸27
の両端が支持プレート28のガイド孔29に挿通・支持され
ている。ガイド穴29は水平の長孔状で、その前方端部
(第4図(b)における左側端部)が傾斜状に下方に屈
曲している。これによりエアーシリンダ26のロッド26a
が縮退したときには、押さえプレート25は上方に位置
し、ロッド26aが伸長したときには、軸27の端部がガイ
ド孔29の前方端部の窪みに落ち込んで、押さえプレート
25が下降し、レチクルケース4を押さえ込むようになっ
ている。The base plate 20 of the substrate gripping mechanism 14 moves up and down along the above-mentioned screw shaft 16 and the guide rod 21, and the substrate gripping mechanism 14 is mounted on the base plate 20 in the depth direction of the storage shelf 1 (Z direction in the drawing). A pulse motor 22 and a screw shaft 23 driven by the pulse motor 22 are attached as a drive mechanism for moving the pulse motor 22. Reference numeral 24 is a support plate for supporting the reticle case 4 from below, and a screw shaft 23 is screwed into the support plate 24 and a guide rod 23a is inserted therethrough. The support plate 24 holds the end portion of the reticle case 4 from above and regulates the movement of the reticle case 4, and an air cylinder 26 pin-connected to the holding plate 25.
And are provided. The pressing plate 25 has a “T” -shaped tip portion, and the shaft 27 loosely fitted to this base portion.
Both ends of are inserted into and supported by the guide holes 29 of the support plate 28. The guide hole 29 is in the shape of a horizontal elongated hole, and its front end (the left end in FIG. 4B) is bent downward in an inclined manner. As a result, the rod 26a of the air cylinder 26
When the rod 26a is retracted, the pressing plate 25 is located above, and when the rod 26a is extended, the end portion of the shaft 27 falls into the depression of the front end portion of the guide hole 29, and the pressing plate 25
25 descends and presses the reticle case 4.
なお、基板把持機構14の支持プレート24には、レチクル
ケース4を検出するための光学センサS1,S2と、レチク
ルケース4に貼着されたバーコード5を読み取るための
バーコードリーダS3が付設されている。バーコードリー
ダS3は、収納棚1に収納すべきレチクル2の識別情報を
指定するための指定手段に相当している。The support plate 24 of the substrate gripping mechanism 14 is provided with optical sensors S1 and S2 for detecting the reticle case 4 and a bar code reader S3 for reading the bar code 5 attached to the reticle case 4. ing. The barcode reader S3 corresponds to a designating unit for designating the identification information of the reticle 2 to be stored in the storage rack 1.
第1図に戻って、符号30は、基板把持機構14と基板ホル
ダ11との間でレチクルケース4の受渡しを行うための受
渡し機構である。この受渡し機構30の構成を第5図に示
す。同図(a)は平面図、同図(b)は(a)図のI−
I矢視図、同図(c)は(a)図のII−II矢視図であ
る。Returning to FIG. 1, reference numeral 30 is a delivery mechanism for delivering the reticle case 4 between the substrate holding mechanism 14 and the substrate holder 11. The structure of the delivery mechanism 30 is shown in FIG. The same figure (a) is a top view and the same figure (b) is I- of the figure (a).
FIG. 1 (c) is a view taken along the line II-II of FIG.
第5図において、符号31はレチクルケース4を側面側か
ら把持する一対の把持アームである。各把持アーム31の
先端部内側には、レチクルケース4の側面に形成された
ツメ6に係合する凹部32が形成されている。各把持アー
ム31の基部は、ロータリアクチュエータ33にそれぞれ連
結されており、このロータリアクチュエータ33を駆動す
ることにより、把持アーム31が開閉動作するように構成
されている。In FIG. 5, reference numeral 31 is a pair of grip arms for gripping the reticle case 4 from the side surface side. A concave portion 32 that engages with the claw 6 formed on the side surface of the reticle case 4 is formed inside the tip portion of each gripping arm 31. The base of each gripping arm 31 is connected to a rotary actuator 33, and the gripping arm 31 is opened and closed by driving the rotary actuator 33.
各ロータリアクチュエータ33は、移動ベース34に取付け
られている。移動ベース34には、螺軸35が螺合されてい
るとともに、ガイド棒36が挿通されており、螺軸35に連
結されたパルスモータ37を駆動することにより、把持ア
ーム31が移動ベース34と一体となって前後動(Z方向に
移動)するように構成されている。38は、螺軸35および
ガイド棒36が取付けられているブース板であり、このベ
ース板38に螺軸51が螺合されるとともに、ガイド棒52が
挿通されており、前記螺軸51がパルスモータ53(第1図
(a)参照)に回転駆動されることにより、受渡し機構
30がX方向に移動するように構成されている。ベース板
38の長手方向側面には側板39がそれぞれ設けられてお
り、各側板39には、レチクルケース4の受渡し時にレチ
クルケース4のガイド7を下方から支持する複数個のガ
イドローラ40と、レチクルケース4の底面を支持する支
持ローラ41とが取付けられている。Each rotary actuator 33 is attached to the moving base 34. A screw shaft 35 is screwed onto the moving base 34, and a guide rod 36 is inserted through the moving base 34. By driving a pulse motor 37 connected to the screw shaft 35, the gripping arm 31 is moved to the moving base 34. It is configured to integrally move back and forth (move in the Z direction). 38 is a booth plate to which the screw shaft 35 and the guide rod 36 are attached. The screw shaft 51 is screwed into the base plate 38, and the guide rod 52 is inserted therethrough. The delivery mechanism is rotated by a motor 53 (see FIG. 1 (a)).
30 is configured to move in the X direction. Base plate
Side plates 39 are provided on side surfaces of the reticle 38 in the longitudinal direction. Each side plate 39 has a plurality of guide rollers 40 for supporting the guides 7 of the reticle case 4 from below when the reticle case 4 is delivered, and the reticle case 4. And a support roller 41 for supporting the bottom surface of the.
また、第5図(c)に示すように、側板39には、L形リ
ンク43が揺動自在に支持されており、各L形リンク43の
先端部には、レチクルケース4が基板ホルダ11または基
板把持機構14から受け渡されたときに、レチクルケース
4の側面に当接してこれを位置決めする位置決めローラ
42が取付けられている。このL形リンク43の下端は棒状
カム44に当接している。第5図(b)に示すように、移
動ベース34に取付けられたカムホロワ45に当接している
棒状カム44のカム面の原点側(第5図(b)における右
側)には凹部46が形成されている。このカム面に当接し
てカムホロワ45が転動することにより、棒状カム44が上
下動し、位置決めローラ42を開閉動作するように構成さ
れている。Further, as shown in FIG. 5 (c), an L-shaped link 43 is swingably supported by the side plate 39, and the reticle case 4 is attached to the substrate holder 11 at the tip of each L-shaped link 43. Alternatively, a positioning roller that contacts the side surface of the reticle case 4 and positions the side surface of the reticle case 4 when it is delivered from the substrate holding mechanism 14.
42 is installed. The lower end of the L-shaped link 43 is in contact with the rod-shaped cam 44. As shown in FIG. 5 (b), a recess 46 is formed on the origin side (right side in FIG. 5 (b)) of the cam surface of the rod-shaped cam 44 that is in contact with the cam follower 45 attached to the moving base 34. Has been done. When the cam follower 45 abuts on the cam surface and rolls, the rod-shaped cam 44 moves up and down to open and close the positioning roller 42.
上述した棒状カム44は、ベース板38に上下動自在に支持
されたプッシュロッド47の先端に当接している。プッシ
ュロッド47の下端にはカムホロワ48が取付けられてお
り、このカムホロワ48が固定ベース49上でX方向に取付
けられた棒状カム50上を転動することにより、プッシュ
ロッド47の作用によっても棒状カム44を上下動できるよ
うに構成されている。The rod-shaped cam 44 described above is in contact with the tip of a push rod 47 supported by the base plate 38 so as to be vertically movable. A cam follower 48 is attached to the lower end of the push rod 47, and the cam follower 48 rolls on the rod-shaped cam 50 mounted in the X direction on the fixed base 49, so that the rod-shaped cam 50 is also operated by the push rod 47. It is configured so that 44 can be moved up and down.
次に、第6図を参照して、本実施例の制御系の構成を説
明する。Next, the configuration of the control system of this embodiment will be described with reference to FIG.
60は、本発明における制御手段に相当するCPUであり、
このCPU60は入出力インターフェイス67を介して、上述
した基板の収納・取り出し装置のパルスモータ17,19,2
2,37,53、エアーシリンダ26、ロータリアクチュエータ3
3、バーコードリーダS3、および装置の各所に設置され
たセンサ群に接続されている。60 is a CPU corresponding to the control means in the present invention,
This CPU 60 uses the input / output interface 67 to output the pulse motors 17, 19
2,37,53, air cylinder 26, rotary actuator 3
3, the bar code reader S3, and a group of sensors installed in various places of the apparatus.
61は装置の動作プログラムを記憶するROM、62は棚情報
記憶部63と収納位置記憶部64を含むRAMである。棚情報
記憶部63には、収納棚1の各棚の水平および垂直位置情
報と、レチクルケース4が各棚内に配置されるべき奥行
き位置情報とが記憶されている。この奥行き位置情報
は、レチクルケース4が棚における載置位置の基準とし
ての支持ピン9に対して、各棚の奥行き方向の一定の位
置に載置されるよう、各棚ごとに予め作成されて設定さ
れるデータである(第3図参照)。また、収納位置記憶
部64には、各レチクルケース4の識別情報に対応付け
て、各レチクルケース4を収納すべき収納棚1の水平・
垂直の収納位置情報が記憶されている。Reference numeral 61 is a ROM that stores the operation program of the apparatus, and 62 is a RAM that includes a shelf information storage unit 63 and a storage position storage unit 64. The shelf information storage unit 63 stores horizontal and vertical position information of each shelf of the storage shelf 1 and depth position information in which the reticle case 4 should be placed in each shelf. This depth position information is created in advance for each shelf so that the reticle case 4 is mounted at a fixed position in the depth direction of each shelf with respect to the support pin 9 as a reference for the mounting position on the shelf. This is the data to be set (see FIG. 3). In addition, the storage position storage unit 64 associates the identification information of each reticle case 4 with the horizontal position of the storage shelf 1 in which each reticle case 4 is to be stored.
Vertical storage position information is stored.
65は、レチクル2の識別情報や、そのレチクル2の収納
位置情報を指定するキーボードであり、このキーボード
65は上述したバーコードリーダS3と相まって、本発明に
おける指定手段に対応している。66は入力された情報や
オペレータに対するメッセージなどを表示するCRTであ
る。Reference numeral 65 is a keyboard for designating identification information of the reticle 2 and storage position information of the reticle 2.
Reference numeral 65, together with the above-mentioned bar code reader S3, corresponds to the designating means in the present invention. Reference numeral 66 is a CRT that displays input information and messages to the operator.
68は、複数台のレチクル収納棚を管理する工程コントロ
ーラ70を介してホストコンピュータ71との間で通信する
ための通信インターフェイスである。ホストコンピュー
タ71は、例えば半導体装置製造ラインの全体を管理する
ものである。Reference numeral 68 is a communication interface for communicating with the host computer 71 via the process controller 70 that manages a plurality of reticle storage shelves. The host computer 71 manages the entire semiconductor device manufacturing line, for example.
次に、上述した構成を備えたシステムの動作について説
明する。Next, the operation of the system having the above configuration will be described.
〔A〕レチクル2の取り出し動作 (1) レチクル2の識別情報の入力 収納棚1に収納・保管されている多数のレチクル2の中
から、所望のレチクル2を取り出すために、キーボード
65から取り出したいレチクル2の識別情報をキー入力す
る。あるいは、所望のレチクル2を取り出すべき時刻が
予め決まっているように管理された工程では、そのレチ
クル2の識別情報と取り出し時刻を、ホストコンピュー
タ71から工程コントローラ70および通信インターフェイ
ス68を介して伝送して、RAM62内に記憶させておき、予
め定められた取り出し時刻になったときに、RAM62内に
記憶された所要のレチクル2の識別情報を自動的に読み
出すようにすることもできる。[A] Reticle 2 Takeout Operation (1) Input of Identification Information of Reticle 2 A keyboard is used to take out a desired reticle 2 from a large number of reticles 2 stored and stored in the storage shelf 1.
Key in the identification information of the reticle 2 to be taken out from 65. Alternatively, in a process in which the time at which the desired reticle 2 should be taken out is managed in advance, the identification information of the reticle 2 and the taking out time are transmitted from the host computer 71 via the process controller 70 and the communication interface 68. Then, the identification information of the required reticle 2 stored in the RAM 62 can be automatically read out when the predetermined take-out time is reached.
(2) 搬送機構15の水平・垂直方向移動 上述のようにして取り出すべきレチクル2の識別情報が
与えられると、CPU60はその識別情報に対応したレチク
ル2の水平・垂直位置情報をRAM62の収納位置記憶部64
から読み出し、この水平・垂直位置情報に基づき、搬送
機構15の水平方向駆動用のパルスモータ19と垂直方向駆
動用のパルスモータ17とをそれぞれ駆動制御して、基板
把持機構14を該レチクル2が収納された棚位置に移動さ
せる。(2) Horizontal / vertical movement of the transport mechanism 15 When the identification information of the reticle 2 to be taken out is given as described above, the CPU 60 provides the horizontal / vertical position information of the reticle 2 corresponding to the identification information to the storage position of the RAM 62. Memory 64
The pulse motor 19 for driving the horizontal direction and the pulse motor 17 for driving the vertical direction of the transport mechanism 15 are respectively driven and controlled based on this horizontal / vertical position information so that the reticle 2 causes the substrate gripping mechanism 14 to move. Move to the stored shelf position.
(3) 基板把持機構14の奥行き方向移動 基板把持機構14が収納棚1の所定位置に移動すると、パ
ルスモータ22が駆動されることにより、支持プレート24
が収納棚1の奥行き方向に移動されて、棚内のレチクル
ケース4の下方に挿入される。このとき、エアーシリン
ダ26のロッド26aは縮退して、押さえプレート25は上方
の位置にある。支持プレート24が移動しているときに、
光学センサS1の検出信号により、その棚内にレチクルケ
ース4が収納されているどうかが確認される。レチクル
ケース4が収納されていることが確認されると、基板把
持機構14はさらに奥方向に駆動される。そして、レチク
ルケース4の先端部が支持プレート24の前の光学センサ
S2の位置にまで達したときに、光学センサS2の検出信号
に基づきパルスモータ22が停止される。このとき、基板
把持機構14に設けられたバーコードリーダS3によって、
そのレチクルケース4のバーコード5を読み取り、指定
されたレチクル2の識別情報と比較して、誤りがないか
どうかを確認するようにしてもよい。(3) Movement of the board gripping mechanism 14 in the depth direction When the board gripping mechanism 14 moves to a predetermined position on the storage rack 1, the pulse motor 22 is driven, and the support plate 24 is moved.
Is moved in the depth direction of the storage rack 1 and inserted below the reticle case 4 in the rack. At this time, the rod 26a of the air cylinder 26 is retracted, and the holding plate 25 is at the upper position. When the support plate 24 is moving,
The detection signal of the optical sensor S1 confirms whether the reticle case 4 is stored in the shelf. When it is confirmed that the reticle case 4 is stored, the substrate holding mechanism 14 is driven further in the back direction. The tip of the reticle case 4 is the optical sensor in front of the support plate 24.
When reaching the position of S2, the pulse motor 22 is stopped based on the detection signal of the optical sensor S2. At this time, by the bar code reader S3 provided in the board holding mechanism 14,
The barcode 5 of the reticle case 4 may be read and compared with the identification information of the designated reticle 2 to check whether there is an error.
(4) レチクルケース4の把持動作 パルスモータ22が停止すると、搬送機構15の垂直方向搬
送用のパルスモータ17が駆動されて、支持プレート24が
僅かに上昇駆動される。これにより、棚ガイド8の支持
ピン9に載置されていたレチクルケース4が支持プレー
ト24に移載される。そして、エアーシリンダ26のロッド
26aが伸長駆動されることにより、押さえプレート25が
前方に押し出される。押さえプレート25の軸27がガイド
孔29に沿って前進して、その先端部窪みに落ち込むと、
押さえプレート25が下降し、支持プレート24と押さえプ
レート25とによってレチクルケース4の端部が把持され
る。(4) Gripping operation of the reticle case 4 When the pulse motor 22 is stopped, the pulse motor 17 for vertical conveyance of the conveyance mechanism 15 is driven, and the support plate 24 is slightly moved upward. As a result, the reticle case 4 placed on the support pins 9 of the shelf guide 8 is transferred to the support plate 24. And the rod of the air cylinder 26
By driving the extension 26a, the pressing plate 25 is pushed forward. When the shaft 27 of the pressing plate 25 advances along the guide hole 29 and falls into the recess of the tip end,
The holding plate 25 descends, and the end portion of the reticle case 4 is held by the support plate 24 and the holding plate 25.
(5) レチクルケース4の搬送動作 レチクルケース4が基板把持機構14に把持されると、パ
ルスモータ22が逆転駆動されることにより、基板把持機
構14に把持されたレチクルケース4が収納棚1から取り
出される。そして、搬送機構15のパルスモータ19とパル
スモータ17とが駆動されることにより、基板把持機構14
はレチクルケース4の受渡し位置(第1図に実線で示す
基板把持機構14の位置)にまで搬送される。(5) Transporting Operation of Reticle Case 4 When the reticle case 4 is gripped by the substrate gripping mechanism 14, the pulse motor 22 is driven in reverse to move the reticle case 4 gripped by the substrate gripping mechanism 14 from the storage shelf 1. Taken out. Then, the substrate holding mechanism 14 is driven by driving the pulse motor 19 and the pulse motor 17 of the transport mechanism 15.
Are conveyed to the delivery position of the reticle case 4 (the position of the substrate holding mechanism 14 shown by the solid line in FIG. 1).
(6) 基板把持機構14から受渡し機構30へのレチクル
ケース4の受渡し動作 基板把持機構14が受渡し位置に搬送されたことが、図示
しないセンサで検出されると、同じく受渡し位置で待機
している受渡し機構30のパルスモータ37が駆動されるこ
とにより、移動ベース34が前方に繰り出される。このと
き、ロータリアクチュエータ33は把持アーム31が開状態
になるように設定されている。移動ベース34が所定位置
にまで繰り出されるとパルスモータ37が停止するととも
に、ロータリアクチュエータ33が駆動されて把持アーム
31が閉状態になり、把持アーム31の凹部32がレチクルケ
ース4のツメ6に係合する。(6) Transfer operation of reticle case 4 from the substrate gripping mechanism 14 to the transfer mechanism 30 When the sensor (not shown) detects that the substrate gripping mechanism 14 has been transported to the transfer position, it also waits at the transfer position. By driving the pulse motor 37 of the delivery mechanism 30, the moving base 34 is extended forward. At this time, the rotary actuator 33 is set so that the gripping arm 31 is opened. When the moving base 34 is extended to a predetermined position, the pulse motor 37 stops and the rotary actuator 33 is driven to hold the gripping arm.
31 is closed, and the recess 32 of the gripping arm 31 engages with the tab 6 of the reticle case 4.
レチクルケース4が把持アーム31に把持されると、基板
把持機構14の押さえプレート25が上昇駆動される。そし
て、受渡し機構30のパルスモータ37が逆転駆動されるこ
とにより移動ベース34が後退する。基板把持機構14から
受渡し機構30へレチクルケース4が移載されるとき、レ
チクルケース4のガイドローラ40で案内され、続いてレ
チクルケース4の底面が支持ローラ41で支持されて所定
位置にまで移動される。When the reticle case 4 is gripped by the gripping arm 31, the pressing plate 25 of the substrate gripping mechanism 14 is driven upward. Then, the pulse motor 37 of the delivery mechanism 30 is driven in the reverse direction so that the moving base 34 moves backward. When the reticle case 4 is transferred from the substrate holding mechanism 14 to the delivery mechanism 30, it is guided by the guide roller 40 of the reticle case 4, and then the bottom surface of the reticle case 4 is supported by the support roller 41 and moved to a predetermined position. To be done.
レチクルケース4が所定位置にまで移動して停止される
と、移動ベース34に取付けられたカムホロワ45が棒状カ
ム44の凹部46に達することにより棒状カム44が下降す
る。こうして、棒状カム44の上面に当接しているL形リ
ンク43が内側に変位して、位置決めローラ42がレチクル
ケース4の側面に当接し、レチクルケース4の左右位置
が位置決めされる。When the reticle case 4 moves to a predetermined position and is stopped, the cam follower 45 attached to the moving base 34 reaches the recess 46 of the rod cam 44, and the rod cam 44 moves down. In this way, the L-shaped link 43 contacting the upper surface of the rod-shaped cam 44 is displaced inward, the positioning roller 42 contacts the side surface of the reticle case 4, and the left and right positions of the reticle case 4 are positioned.
(7) 受渡し機構30から基板ホルダ11へのレチクルケ
ース4の搬入動作 前記(6)のようにしてレチクルケース4が受渡し機構
30に移載されると、受渡し機構30のパルスモータ53が駆
動されることにより、受渡し機構30が基板ホルダ11の待
機位置方向に水平駆動される。受渡し機構30が基板ホル
ダ11に対向する位置に達したことが、図示しないセンサ
で検出されるとパルスモータ53が停止される。受渡し機
構30の停止位置において、固定ベース49上の棒状カム50
は凸面になっている。そのため、受渡し機構30が停止位
置にきたとき、棒状カム50によってプッシュロッド47が
突き上げられて棒状カム44が上昇し、L形リンク43が外
側に変位することにより、位置決めローラ42とレチクル
ケース4との接触状態が解除される。(7) Loading operation of the reticle case 4 from the delivery mechanism 30 to the substrate holder 11 The reticle case 4 is delivered by the delivery mechanism as described in (6) above.
When transferred, the pulse motor 53 of the delivery mechanism 30 is driven, so that the delivery mechanism 30 is horizontally driven in the standby position direction of the substrate holder 11. When the sensor (not shown) detects that the delivery mechanism 30 reaches the position facing the substrate holder 11, the pulse motor 53 is stopped. At the stop position of the delivery mechanism 30, the rod-shaped cam 50 on the fixed base 49 is provided.
Is convex. Therefore, when the delivery mechanism 30 reaches the stop position, the push rod 47 is pushed up by the rod-shaped cam 50 to raise the rod-shaped cam 44, and the L-shaped link 43 is displaced outward, so that the positioning roller 42 and the reticle case 4 are separated from each other. The contact state of is released.
レチクルケース4の基板ホルダ11への搬入に際しては、
パルスモータ37が駆動されて移動ベース34が前方に繰り
出されることにより、基板ホルダ11内へレチクルケース
4が挿入される。レチクルケース4が基板ホルダ11内へ
挿入されると、ロータリアクチュエータ33が駆動されて
把持アーム31が開状態に変位される。そして、パルスモ
ータ37が逆転駆動されて移動ベース34が定位置に戻され
ると、さらにパルスモータ53が逆転駆動されて受渡し機
構30が元の受渡し位置(第1図(a)の実線で示した受
渡し機構30の位置)に戻される。When carrying the reticle case 4 into the substrate holder 11,
The reticle case 4 is inserted into the substrate holder 11 by driving the pulse motor 37 and moving the moving base 34 forward. When the reticle case 4 is inserted into the substrate holder 11, the rotary actuator 33 is driven and the gripping arm 31 is displaced to the open state. When the pulse motor 37 is driven in the reverse direction and the moving base 34 is returned to the fixed position, the pulse motor 53 is further driven in the reverse direction and the delivery mechanism 30 is moved to the original delivery position (shown by the solid line in FIG. 1A). It is returned to the position of the delivery mechanism 30).
以上のような動作が繰り返し行われることにより、指定
されたレチクル2が収納棚1から順次に取り出されて、
基板ホルダ11に搬入される。By repeating the above operation, the designated reticles 2 are sequentially taken out from the storage rack 1,
It is carried into the substrate holder 11.
必要なレチクル2が基板ホルダ11内に全て搬入される
と、人手あるいは自動搬送によって、基板ホルダ11が露
光機にまで移送される。When all the required reticles 2 are loaded into the substrate holder 11, the substrate holder 11 is transferred to the exposure device by hand or by automatic transportation.
〔B〕次に、基板ホルダ11に入れられた使用済みレチク
ル2を収納棚1に収納するための動作について説明す
る。[B] Next, an operation for storing the used reticle 2 placed in the substrate holder 11 in the storage shelf 1 will be described.
(1) 基板ホルダ11からのレチクルケース4の取り出
し動作 基板ホルダ11からレチクルケース4を取り出すときは、
受渡し機構30を基板ホルダ11に対向する位置に設定し、
パルスモータ37を駆動して移動ベース34を前進させ、肥
持アーム31によって基板ホルダ11内のレチクルケース4
を肥持して基板ホルダ11から搬出する。次にパルスモー
タ53が駆動され、レチクルケース4は基板把持機構14へ
の受渡し位置に搬送される。(1) Removal operation of reticle case 4 from substrate holder 11 When removing reticle case 4 from substrate holder 11,
The delivery mechanism 30 is set at a position facing the substrate holder 11,
The pulse motor 37 is driven to move the moving base 34 forward, and the fertilizing arm 31 causes the reticle case 4 in the substrate holder 11 to move.
Is carried out and carried out from the substrate holder 11. Next, the pulse motor 53 is driven, and the reticle case 4 is conveyed to the delivery position to the substrate holding mechanism 14.
なお、このとき上記レチクル2の取り出し動作(〔A〕
(6))と逆の動作によってレチクルケース4の左右位
置が位置決めされる。At this time, the operation of taking out the reticle 2 ([A]
The left and right positions of the reticle case 4 are positioned by the reverse operation of (6).
(2) 受渡し機構30から基板把持機構14へのレチクル
ケース4の受渡し 受渡し機構30が基板把持機構14への受渡し位置に達して
停止すると、パルスモータ37が駆動されて移動ベース34
が繰り出される。このとき、基板把持機構14の押さえプ
レート25が開状態で待機しており、受渡し機構30から繰
り出されたレチクルケース4がセンサS2で検出されるこ
とにより、押さえプレート25が閉状態に駆動される。レ
チクルケース4が基板把持機構14に肥持されると、肥持
アーム31は開状態に駆動され、続いて移動ベース34が後
退した後、基板ホルダ11への受渡し位置にまで駆動され
て、次のレチクルケース4を搬出する。(2) Delivery of Reticle Case 4 from Delivery Mechanism 30 to Substrate Holding Mechanism 14 When the delivery mechanism 30 reaches the delivery position to the substrate holding mechanism 14 and stops, the pulse motor 37 is driven to move the base 34.
Is paid out. At this time, the pressing plate 25 of the substrate holding mechanism 14 is waiting in the open state, and the reticle case 4 fed out from the delivery mechanism 30 is detected by the sensor S2, whereby the pressing plate 25 is driven to the closed state. . When the reticle case 4 is fertilized by the substrate gripping mechanism 14, the fertilizing arm 31 is driven to an open state, and then the moving base 34 is retracted, and then is driven to a delivery position to the substrate holder 11, The reticle case 4 is unloaded.
(3) レチクルケース4の識別情報の読み取り レチクルケース4が基板把持機構14に受け取られると、
基板把持機構14に設けられたバーコードリーダS3によっ
て、レチクルケース4の貼り付けられたバーコード5が
読み取られる。バーコード5を読み取ることによって得
られたレチクル2の識別情報はCPU60に送られる。CPU60
は、この識別情報に対応するレチクル2の収納位置情報
(収納棚1の水平・垂直位置情報)をRAM62の収納位置
記憶部64から読み出す。(3) Reading Identification Information of Reticle Case 4 When the reticle case 4 is received by the substrate holding mechanism 14,
A barcode reader S3 provided on the substrate gripping mechanism 14 reads the barcode 5 attached to the reticle case 4. The identification information of the reticle 2 obtained by reading the barcode 5 is sent to the CPU 60. CPU60
Reads the storage position information of the reticle 2 (horizontal / vertical position information of the storage rack 1) corresponding to this identification information from the storage position storage unit 64 of the RAM 62.
(4) レチクルケース4の搬送動作 CPU60は、収納位置記憶部64から読み出した当該レチク
ル2の水平・垂直位置情報に基づき、搬送機構15のパル
スモータ17,19を駆動して、レチクルケース4を所定の
棚位置にまで搬送する。(4) Transport operation of reticle case 4 The CPU 60 drives the pulse motors 17 and 19 of the transport mechanism 15 based on the horizontal / vertical position information of the reticle 2 read from the storage position storage unit 64 to move the reticle case 4. Carry it to the specified shelf position.
(5) レチクルケース4の収納動作 レチクルケース4が所定の棚位置にまで達すると、CPU6
0はそのレチクル2の収納位置情報に基づき、当該棚位
置の奥行き位置情報をRAM62の棚情報記憶部63から読み
出す。CPU60は、この奥行き位置情報に基づき、基板把
持機構14のパルスモータ22を駆動することにより、支持
プレート24と押さえプレート25で肥持されているレチク
ルケース4を前方に繰り出して、その棚内に挿入する。
このとき、支持プレート24の先端部に取付けられた光学
センサS1によって、その棚位置に他のレチクルケース4
が入っていないかどうかが確認される。他のレチクルケ
ース4が入っていなければ、肥持されたレチクルケース
4がさらに繰り出されて所定の奥行き位置にまで移送さ
れる。レチクルケース4が所定位置に達すると、パルス
モータ22が停止されるとともに、押さえプレート25が上
方に駆動されて、レチクルケース4の肥持状態が解除さ
れる。続いて、搬送機構15のパルスモータ17が駆動され
て、支持プレート24が僅かに下降される。これにより支
持プレート24上のレチクルケース4が、棚ガイド8の支
持ピン9上に移載される。(5) Storing operation of the reticle case 4 When the reticle case 4 reaches the predetermined shelf position, the CPU6
At 0, the depth position information of the shelf position is read from the shelf information storage unit 63 of the RAM 62 based on the storage position information of the reticle 2. Based on this depth position information, the CPU 60 drives the pulse motor 22 of the substrate gripping mechanism 14 to extend the reticle case 4 supported by the support plate 24 and the pressing plate 25 forward and put it in the shelf. insert.
At this time, the optical sensor S1 attached to the tip of the support plate 24 causes the other reticle case 4 to move to the shelf position.
It is confirmed whether or not is entered. If no other reticle case 4 is inserted, the fattened reticle case 4 is further unrolled and transferred to a predetermined depth position. When the reticle case 4 reaches a predetermined position, the pulse motor 22 is stopped and the pressing plate 25 is driven upward, so that the fertilized state of the reticle case 4 is released. Then, the pulse motor 17 of the transport mechanism 15 is driven and the support plate 24 is slightly lowered. As a result, the reticle case 4 on the support plate 24 is transferred onto the support pins 9 of the shelf guide 8.
レチクルケース4が収納棚1の所定位置に収納されと、
パルスモータ22が逆転して支持プレート24が後退し、続
いて搬送機構15のパルスモータ17,19が駆動されること
により、基板把持機構14は次のレチクルケース4を受け
るために受渡し機構30との受渡し位置に戻される。When the reticle case 4 is stored at a predetermined position on the storage shelf 1,
The pulse motor 22 rotates in the reverse direction, the support plate 24 retracts, and then the pulse motors 17 and 19 of the transport mechanism 15 are driven, whereby the substrate gripping mechanism 14 and the transfer mechanism 30 receive the next reticle case 4. Returned to the delivery position.
以上の動作が繰り返し行われることにより、基板ホルダ
11内のレチクルケース4が、各々に対応した棚位置に順
に収納される。By repeating the above operation, the substrate holder
The reticle cases 4 in 11 are sequentially stored in the corresponding shelf positions.
なお、上述の動作説明では、レチクルケース4を収納棚
1の所定の棚位置に収納する場合に、レチクルケース4
のバーコード5を読み取ることによって、そのレチクル
2の収納位置情報をRAM62から読み出すようにしたが、
これは収納位置情報をキーボード65から直接に入力する
ようにしてもよい。In the above description of the operation, when the reticle case 4 is stored at a predetermined shelf position of the storage shelf 1, the reticle case 4 is stored.
By reading the barcode 5 of, the storage position information of the reticle 2 is read from the RAM 62.
For this, the storage position information may be directly input from the keyboard 65.
また、上述した実施例では基板ホルダ11を前方に引き出
せるようにするために、基板ホルダ11と基板把持機構14
との間のレチクルケース4の受渡しを、受渡し機構30を
介して行った。このようにすることにより、第1図に示
す装置を工程内の壁面に取付けすることができるので、
省スペース化を図ることができる。一方、基板ホルダ11
を後方から引き出すことが許容される場合には、受渡し
機構30を設ける必要はなく、基板ホルダ11と基板把持機
構14との間で、レチクルケース4を直接に受渡しするよ
うに構成してもよい。このような装置によれば、受渡し
機構30を設けない分だけ、装置の構成を簡略化すること
ができる。Further, in the above-described embodiment, the substrate holder 11 and the substrate gripping mechanism 14 are provided so that the substrate holder 11 can be pulled out forward.
The delivery of the reticle case 4 between the delivery and the delivery was performed via the delivery mechanism 30. By doing so, the device shown in FIG. 1 can be mounted on the wall surface in the process,
Space saving can be achieved. On the other hand, the substrate holder 11
When it is allowed to pull out from the rear side, it is not necessary to provide the delivery mechanism 30, and the reticle case 4 may be directly delivered between the substrate holder 11 and the substrate holding mechanism 14. . According to such a device, the structure of the device can be simplified because the delivery mechanism 30 is not provided.
さらに、実施例では露光用基板としてレチクルを例にと
って説明したが、露光用マスクの場合も同様であること
はいうまでもない。Furthermore, in the embodiment, the reticle is used as an example of the exposure substrate for explanation, but it goes without saying that the same applies to the case of an exposure mask.
また、実施例ではレチクルケース4を収納棚1から取り
出す際に、基板把持機構14の支持プレート24に設けられ
た光学センサS2の検出信号に基づきパルスモータ22の動
きを制御しているが、レチクルケース4の収納時と同様
に棚情報記憶部63に記憶された奥行き位置情報に基づい
てパルスモータ22の動きを制御してレチクルケース4を
取り出すようにしてもよい。Further, in the embodiment, when the reticle case 4 is taken out from the storage shelf 1, the movement of the pulse motor 22 is controlled based on the detection signal of the optical sensor S2 provided on the support plate 24 of the substrate gripping mechanism 14, but the reticle is The reticle case 4 may be taken out by controlling the movement of the pulse motor 22 on the basis of the depth position information stored in the shelf information storage unit 63, as in the case of housing the case 4.
<発明の効果> 以上の説明から明らかなように、本発明によれば、収納
棚からの露光用基板の取り出しや、収納棚への露光用基
板の収納を自動的に行なえるように構成したから、人手
によって行っていた従来と比較して、所要の露光用基板
を迅速、かつ正確に取り出し・収納することができ、フ
ォトリソグラフィー工程の処理効率が向上する。<Effects of the Invention> As is apparent from the above description, according to the present invention, it is possible to automatically take out the exposure substrate from the storage rack and store the exposure substrate in the storage rack. Therefore, the required exposure substrate can be quickly and accurately taken out and stored, as compared with the conventional manual operation, and the processing efficiency of the photolithography process is improved.
また、本発明は、収納棚の各棚位置の水平・垂直位置情
報ととともに、各々の棚位置に応じて露光用基板を載置
すべき奥行き位置情報を予め記憶しておき、露光用基板
の収納時には、この奥行き情報に対応した位置に露光用
基板を載置するようにしたから、個々の棚位置にセンサ
を設置して、奥行き位置を決める場合に比較して、装置
の構成が簡単になる。Further, according to the present invention, in addition to horizontal / vertical position information of each shelf position of the storage shelf, depth position information on which the exposure substrate should be placed according to each shelf position is stored in advance, and the exposure substrate At the time of storage, the exposure substrate is placed at a position corresponding to this depth information. Therefore, the configuration of the device is simpler than when a sensor is installed at each shelf position and the depth position is determined. Become.
さらに、本発明では、露光用基板の搬送途中で、収納棚
または基板ホルダへ露光用基板を収納するときの露光用
基板の位置決めを行うように構成したので、露光用基板
を収納棚や基板ホルダの正確な位置に収納することがで
きる。Further, according to the present invention, the exposure substrate is positioned when the exposure substrate is stored in the storage shelf or the substrate holder during the transportation of the exposure substrate. Therefore, the exposure substrate is stored in the storage shelf or the substrate holder. Can be stored in the correct position.
第1図ないし第6図は本発明の一実施例に係り、第1図
は基板の収納・取り出し管理システムを構成する各機構
部を示した概略図、第2図はレチクルケースの外観斜視
図、第3図は収納棚の棚ガイドの斜視図、第4図は基板
把持機構の説明図、第5図は受渡し機構の説明図、第6
図は制御系の概略構成を示したブロック図である。 1……収納棚、2……レチクル 4……レチクルケース、5……バーコード 11……基板ホルダ、14……基板把持機構 15……搬送機構、30……受渡し機構 17,19,22,37,53……パルスモータ 60……CPU、62……RAM 63……棚情報記憶部、64……収納位置記憶部 65……キーボード、S3……バーコードリーダ1 to 6 relate to an embodiment of the present invention, FIG. 1 is a schematic view showing each mechanical portion constituting a substrate storage / removal management system, and FIG. 2 is an external perspective view of a reticle case. 3, FIG. 3 is a perspective view of a shelf guide of a storage shelf, FIG. 4 is an explanatory view of a substrate holding mechanism, FIG. 5 is an explanatory view of a delivery mechanism, and FIG.
The figure is a block diagram showing a schematic configuration of a control system. 1 ... Storage rack, 2 ... Reticle 4 ... Reticle case, 5 ... Bar code 11 ... Substrate holder, 14 ... Substrate gripping mechanism 15 ... Transport mechanism, 30 ... Delivery mechanism 17,19,22, 37,53 …… Pulse motor 60 …… CPU, 62 …… RAM 63 …… Shelf information storage, 64 …… Storage position storage 65 …… Keyboard, S3 …… Bar code reader
Claims (1)
納した収納ケース(以下、単に露光用基板と記す)を収
納・保管する収納棚と、前記収納棚と露光機との間で所
要の露光用基板を受け渡しするために該露光用基板を一
時的に収納する基板ホルダとを備え、前記収納棚と基板
ホルダとの間の露光用基板の受け渡しを管理する基板の
収納・取り出し管理システムであって、 前記所要の露光用基板を把持して前記収納棚または基板
ホルダの所要箇所に出し入れする基板把持手段と、 前記基板把持手段を収納棚と基板ホルダとの間で搬送す
る搬送手段と、 前記搬送手段による搬送途中において、前記収納棚また
は前記基板ホルダへ露光用基板を収納するときの前記露
光用基板の位置決めを行う位置決め手段と、 前記収納棚の水平および垂直位置情報と、各露光用基板
が載置される奥行き位置に係る情報とを記憶する棚情報
記憶手段と、 取り出し・収納すべき露光用基板の識別情報、および/
または該露光用基板の収納位置情報を指定する指定手段
と、 各露光用基板ごとの識別情報に対応した収納位置情報を
記憶する収納位置記憶手段と、 前記指定手段から与えられた収納位置情報に基づき、あ
るいは前記指定手段から与えられた露光用基板の識別情
報に応じた収納位置情報を前記収納位置記憶手段から読
み出すことに基づいて、前記搬送手段の水平・垂直方向
の動きを制御し、かつ該収納位置情報に基づいて前記棚
情報記憶手段から読み出した奥行き位置情報に基づいて
前記基板把持手段の奥行き方向の動きを制御する制御手
段と、 を備えたことを特徴とする基板の収納・取り出し管理シ
ステム。1. A storage shelf for storing and storing a plurality of exposure substrates or a storage case (hereinafter, simply referred to as an exposure substrate) in which a plurality of exposure substrates are stored, and a storage rack required between the storage rack and the exposure device. Substrate storage / take-out management system for managing the delivery of the exposure substrate between the storage rack and the substrate holder, the substrate holder temporarily storing the exposure substrate for delivering the exposure substrate. A substrate gripping means for gripping the required exposure substrate and taking it in and out of a required location of the storage shelf or substrate holder; and a transport means for transporting the substrate gripping means between the storage shelf and the substrate holder. Positioning means for positioning the exposure substrate when the exposure substrate is stored in the storage shelf or the substrate holder during the transfer by the transfer means, and horizontal and vertical positions of the storage shelf. Shelf information storage means for storing placement information and information relating to the depth position on which each exposure substrate is placed, identification information of the exposure substrate to be taken out / stored, and /
Alternatively, a designating unit that designates the storage position information of the exposure substrate, a storage position storage unit that stores the storage position information corresponding to the identification information of each exposure substrate, and the storage position information given from the designating unit. On the basis of, or based on reading out, from the storage position storage means, storage position information corresponding to the identification information of the exposure substrate given from the designating means, and controlling the horizontal and vertical movements of the transport means, and Storage / removal of a substrate, comprising: control means for controlling the movement of the substrate gripping means in the depth direction based on the depth position information read from the shelf information storage means based on the storage position information. Management system.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17665489A JPH0790884B2 (en) | 1989-07-08 | 1989-07-08 | Board storage / removal management system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17665489A JPH0790884B2 (en) | 1989-07-08 | 1989-07-08 | Board storage / removal management system |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0342429A JPH0342429A (en) | 1991-02-22 |
| JPH0790884B2 true JPH0790884B2 (en) | 1995-10-04 |
Family
ID=16017360
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17665489A Expired - Lifetime JPH0790884B2 (en) | 1989-07-08 | 1989-07-08 | Board storage / removal management system |
Country Status (1)
| Country | Link |
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| JP (1) | JPH0790884B2 (en) |
Families Citing this family (4)
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Family Cites Families (4)
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| JPS62136402A (en) * | 1985-12-10 | 1987-06-19 | Mitsubishi Metal Corp | Device for conveying and storing article |
-
1989
- 1989-07-08 JP JP17665489A patent/JPH0790884B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0342429A (en) | 1991-02-22 |
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