JPH0787914B2 - 膜分離方法 - Google Patents
膜分離方法Info
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- JPH0787914B2 JPH0787914B2 JP19923591A JP19923591A JPH0787914B2 JP H0787914 B2 JPH0787914 B2 JP H0787914B2 JP 19923591 A JP19923591 A JP 19923591A JP 19923591 A JP19923591 A JP 19923591A JP H0787914 B2 JPH0787914 B2 JP H0787914B2
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- Y02W—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
- Y02W10/00—Technologies for wastewater treatment
- Y02W10/10—Biological treatment of water, waste water, or sewage
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- Biological Treatment Of Waste Water (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は膜分離方法に係り、特
に、原水を好気性生物膜処理装置で処理した後、膜分離
装置で処理する膜分離方法において、膜分離装置におけ
る膜濾過効率を改善し、処理効率の向上を図る膜分離方
法に関する。
に、原水を好気性生物膜処理装置で処理した後、膜分離
装置で処理する膜分離方法において、膜分離装置におけ
る膜濾過効率を改善し、処理効率の向上を図る膜分離方
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造プロセスで使用される超純水
は、半導体洗浄に用いられた後回収され、その後再処理
されて循環使用されている。即ち、この洗浄回収水に
は、イソプロピルアルコールなどの有機溶媒が混入して
おり、ＴＯＣとして１〜５ｍｇ／ｌ検出される。このた
め、従来は、この洗浄回収水をＵＶ（紫外線）酸化した
後、ＲＯ（逆浸透）膜処理などを施して再処理し、回収
系超純水として循環使用している。
は、半導体洗浄に用いられた後回収され、その後再処理
されて循環使用されている。即ち、この洗浄回収水に
は、イソプロピルアルコールなどの有機溶媒が混入して
おり、ＴＯＣとして１〜５ｍｇ／ｌ検出される。このた
め、従来は、この洗浄回収水をＵＶ（紫外線）酸化した
後、ＲＯ（逆浸透）膜処理などを施して再処理し、回収
系超純水として循環使用している。
【０００３】一方、上記処理方法において、ＵＶ酸化の
代りに、活性炭流動層を用い、活性炭表面に付着した貧
栄養細菌により洗浄回収水中のＴＯＣを分離処理する方
法も提案されている。この活性炭流動層による方法は、
ＵＶ酸化に比べて低コストでＴＯＣ分解をすることが可
能である。
代りに、活性炭流動層を用い、活性炭表面に付着した貧
栄養細菌により洗浄回収水中のＴＯＣを分離処理する方
法も提案されている。この活性炭流動層による方法は、
ＵＶ酸化に比べて低コストでＴＯＣ分解をすることが可
能である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ＵＶ酸
化に代えて単に活性炭流動層を採用するだけでは、後段
のＲＯ膜処理におけるＲＯスパイラル膜モジュールを菌
体で詰まらせてしまうという問題がある。このような問
題を解決するために、ＵＦ（限外濾過）膜分離装置など
を用いて菌体の後工程への流出を阻止する工程を組み入
れることは有効な方法である。従って、このような菌体
分離用の膜分離装置において、高い濾過速度を確保する
ことができるならば、半導体製造プロセスにおける洗浄
回収水の処理法として実用上極めて有効な方法が提供さ
れる。
化に代えて単に活性炭流動層を採用するだけでは、後段
のＲＯ膜処理におけるＲＯスパイラル膜モジュールを菌
体で詰まらせてしまうという問題がある。このような問
題を解決するために、ＵＦ（限外濾過）膜分離装置など
を用いて菌体の後工程への流出を阻止する工程を組み入
れることは有効な方法である。従って、このような菌体
分離用の膜分離装置において、高い濾過速度を確保する
ことができるならば、半導体製造プロセスにおける洗浄
回収水の処理法として実用上極めて有効な方法が提供さ
れる。
【０００５】なお、従来、膜分離装置に供給される浮遊
式活性汚泥処理からの流出水に酸化剤として塩素を添加
することは公知である。しかしながら、これらの従来法
では超純水回収系における処理を対象としてはおらず、
このため、これらに示唆ないし開示される塩素量では十
分な効果が得られない。即ち、従来、一般に菌体ファウ
リングのために添加される塩素量は、塩素剤として１／
１０ｐｐｍオーダー程度であり、このような添加量では
十分な効果は得られない。
式活性汚泥処理からの流出水に酸化剤として塩素を添加
することは公知である。しかしながら、これらの従来法
では超純水回収系における処理を対象としてはおらず、
このため、これらに示唆ないし開示される塩素量では十
分な効果が得られない。即ち、従来、一般に菌体ファウ
リングのために添加される塩素量は、塩素剤として１／
１０ｐｐｍオーダー程度であり、このような添加量では
十分な効果は得られない。
【０００６】本発明は上記従来の実情に鑑みてなされた
ものであって、生物処理水を膜分離装置で処理する膜分
離方法において、膜分離装置における膜濾過効率を改善
し、処理効率の向上を図る膜分離方法を提供することを
目的とする。
ものであって、生物処理水を膜分離装置で処理する膜分
離方法において、膜分離装置における膜濾過効率を改善
し、処理効率の向上を図る膜分離方法を提供することを
目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の膜分離方法は、
好気性生物膜処理装置からの生物処理水を膜分離処理す
る膜分離方法において、該生物処理水に塩素剤を添加し
て、遊離塩素濃度を０．３〜１．５ｍｇ／ｌとした後、
該膜分離装置に供給することを特徴とする。
好気性生物膜処理装置からの生物処理水を膜分離処理す
る膜分離方法において、該生物処理水に塩素剤を添加し
て、遊離塩素濃度を０．３〜１．５ｍｇ／ｌとした後、
該膜分離装置に供給することを特徴とする。
【０００８】従来、塩素添加による滅菌、殺菌処理は実
施されており、例えば、上水道では、給水栓での遊離残
留塩素濃度で０．１ｍｇ／ｌ（結合塩素で０．４ｍｇ／
ｌ）以上に保持するように水道法施工規則で定められて
いる。また、通常、殺菌に必要な塩素量は、遊離塩素と
して０．１〜０．５ｍｇ／ｌといわれている。このよう
に、従来、塩素処理と殺菌効果については多くの事例が
報告されているが、膜濾過における効果について検討さ
れた事例はない。本発明者は、塩素処理と濾過性につい
て検討を加えたところ、濾過性を良くする最適な塩素処
理領域のあることを明らかにし、本発明を完成させた。
施されており、例えば、上水道では、給水栓での遊離残
留塩素濃度で０．１ｍｇ／ｌ（結合塩素で０．４ｍｇ／
ｌ）以上に保持するように水道法施工規則で定められて
いる。また、通常、殺菌に必要な塩素量は、遊離塩素と
して０．１〜０．５ｍｇ／ｌといわれている。このよう
に、従来、塩素処理と殺菌効果については多くの事例が
報告されているが、膜濾過における効果について検討さ
れた事例はない。本発明者は、塩素処理と濾過性につい
て検討を加えたところ、濾過性を良くする最適な塩素処
理領域のあることを明らかにし、本発明を完成させた。
【０００９】以下に本発明を詳細に説明する。本発明に
おいては、原水を好気性生物膜式処理装置に供給して得
られる生物処理水に塩素剤を添加して、該流出水中の遊
離塩素濃度を０．３〜１．５ｍｇ／ｌとした後膜分離装
置に供給する。
おいては、原水を好気性生物膜式処理装置に供給して得
られる生物処理水に塩素剤を添加して、該流出水中の遊
離塩素濃度を０．３〜１．５ｍｇ／ｌとした後膜分離装
置に供給する。
【００１０】本発明において、塩素剤の添加量は、生物
膜式処理装置の流出水中の遊離塩素濃度が０．３ｍｇ／
ｌ未満となる量では、十分な菌体の濾過性の改善効果が
得られず、逆に、１．５ｍｇ／ｌを超えると、菌体の細
胞膜を破壊するものと思われるような現象が生じ、濾過
比抵抗が大きくなるため好ましくない。この場合には、
破壊した菌体から流出する粘質物が、膜分離装置の膜面
に付着し、長期的な膜汚染を生じることとなる。また、
このような塩素剤の過剰添加は、後工程に耐塩素性のな
い高分子複合膜によるＲＯ膜分離工程がある場合、この
ＲＯ膜に悪影響を及ぼすため好ましくない。
膜式処理装置の流出水中の遊離塩素濃度が０．３ｍｇ／
ｌ未満となる量では、十分な菌体の濾過性の改善効果が
得られず、逆に、１．５ｍｇ／ｌを超えると、菌体の細
胞膜を破壊するものと思われるような現象が生じ、濾過
比抵抗が大きくなるため好ましくない。この場合には、
破壊した菌体から流出する粘質物が、膜分離装置の膜面
に付着し、長期的な膜汚染を生じることとなる。また、
このような塩素剤の過剰添加は、後工程に耐塩素性のな
い高分子複合膜によるＲＯ膜分離工程がある場合、この
ＲＯ膜に悪影響を及ぼすため好ましくない。
【００１１】本発明で使用される塩素剤としては特に制
限はないが、塩素ガス、次亜塩素酸ナトリウムなどが挙
げられる。
限はないが、塩素ガス、次亜塩素酸ナトリウムなどが挙
げられる。
【００１２】なお、本発明において、生物処理装置とし
ては、活性炭流動層（好気性バイオフィルター）、特に
貧栄養細菌を用いた活性炭流動層が挙げられる。膜分離
装置の膜モジュールとしては菌体によって閉塞し難い構
造のものが良く、例えば、 波形スペーサーを挿入したスパイラル膜モジュー
ル。 内径１ｍｍ以上の中空糸膜モジュールで内圧クロス
フロー形式のもの。 外圧クロスフロー中空糸膜モジュール。 等が、膜の充填率が高く、膜面積が大きいことから好ま
しい。膜の種類は、ＭＦ（精密濾過）、ＵＦ、ＲＯなど
から、後段の処理プロセスに応じて選定されるが、その
材質としては塩素に対する耐久性の強いものであること
が重要である。
ては、活性炭流動層（好気性バイオフィルター）、特に
貧栄養細菌を用いた活性炭流動層が挙げられる。膜分離
装置の膜モジュールとしては菌体によって閉塞し難い構
造のものが良く、例えば、 波形スペーサーを挿入したスパイラル膜モジュー
ル。 内径１ｍｍ以上の中空糸膜モジュールで内圧クロス
フロー形式のもの。 外圧クロスフロー中空糸膜モジュール。 等が、膜の充填率が高く、膜面積が大きいことから好ま
しい。膜の種類は、ＭＦ（精密濾過）、ＵＦ、ＲＯなど
から、後段の処理プロセスに応じて選定されるが、その
材質としては塩素に対する耐久性の強いものであること
が重要である。
【００１３】このような本発明の方法は、特にＴＯＣ濃
度の低い、半導体製造プロセスの超純水の洗浄回収水の
処理に有効であり、その他、ＴＯＣ濃度の低い上水等の
処理に適用可能である。
度の低い、半導体製造プロセスの超純水の洗浄回収水の
処理に有効であり、その他、ＴＯＣ濃度の低い上水等の
処理に適用可能である。
【００１４】特に、本発明の方法は、半導体製造プロセ
スの超純水の洗浄回収水の処理工程において、ＵＶ酸化
に代るＴＯＣ除去工程として極めて有効であり、後段の
ＲＯ処理におけるＲＯ膜の生物障害を、ＲＯ膜の劣化を
ひき起こすことなく効果的に防止し、良好な処理を可能
とする。
スの超純水の洗浄回収水の処理工程において、ＵＶ酸化
に代るＴＯＣ除去工程として極めて有効であり、後段の
ＲＯ処理におけるＲＯ膜の生物障害を、ＲＯ膜の劣化を
ひき起こすことなく効果的に防止し、良好な処理を可能
とする。
【００１５】
【作用】半導体製造プロセスの洗浄回収水のように、Ｔ
ＯＣ濃度が非常に低い（例えば１〜１０ｍｇ／ｌ）原水
を、貧栄養細菌を用いる活性炭流動層（好気性バイオフ
ィルター）で処理した場合、活性炭流動層からの流出水
中には、フロックを形成していない棹菌（シュードモナ
ス属）が多く含有される。
ＯＣ濃度が非常に低い（例えば１〜１０ｍｇ／ｌ）原水
を、貧栄養細菌を用いる活性炭流動層（好気性バイオフ
ィルター）で処理した場合、活性炭流動層からの流出水
中には、フロックを形成していない棹菌（シュードモナ
ス属）が多く含有される。
【００１６】このように棹菌が多く存在する流出水で
は、従来のように１／１０ｐｐｍオーダーの塩素を添加
しても、十分な濾過性の改善効果は得られない。
は、従来のように１／１０ｐｐｍオーダーの塩素を添加
しても、十分な濾過性の改善効果は得られない。
【００１７】これに対して、本発明方法に従って、流出
水中の遊離塩素量として０．３〜１．５ｍｇ／ｌとい
う、従来よりも多量に塩素剤を添加した場合には、菌体
の濾過性が良くなり、また、膜面での菌体の蓄積が防止
され、後段の膜分離装置の透過流束及び濾過速度が著し
く改善される。
水中の遊離塩素量として０．３〜１．５ｍｇ／ｌとい
う、従来よりも多量に塩素剤を添加した場合には、菌体
の濾過性が良くなり、また、膜面での菌体の蓄積が防止
され、後段の膜分離装置の透過流束及び濾過速度が著し
く改善される。
【００１８】
【実施例】以下に図面を参照して本発明の膜分離方法に
ついて具体的に説明する。なお、以下においては、半導
体製造プロセスの超純水の洗浄回収水を原水として処理
する場合について説明するが、本発明は何ら図示の方法
に限定されるものではない。
ついて具体的に説明する。なお、以下においては、半導
体製造プロセスの超純水の洗浄回収水を原水として処理
する場合について説明するが、本発明は何ら図示の方法
に限定されるものではない。
【００１９】第１図は本発明の一実施例を示す系統図で
ある。
ある。
【００２０】第１図において、１は原水（ここでは、半
導体製造プロセスの洗浄回収水）の導入管であり、原水
を原水槽２に導入して一時貯留する。３はｐＨ調整ユニ
ット、４はＮ（窒素），Ｐ（リン）注入ユニットであ
り、それぞれ、原水槽２よりポンプ５Ａを備える配管５
から送給される原水に、配管６より酸又はアルカリを添
加してｐＨ調整し、更に、配管７中のｐＨ調整水に配管
８より窒素及び／又はリンを添加して、原水を下記に示
す貧栄養細菌の繁殖可能な条件に調整する。 ｐＨ＝５〜９ ＴＯＣ：Ｎ：Ｐ＝１００：５：１ ９，１０はそれぞれ曝気槽、活性炭流動層が形成された
好気性生物処理装置であり、曝気槽９は貧栄養細菌への
酸素供給のために、活性炭流動層１０の循環ラインに設
けられる。
導体製造プロセスの洗浄回収水）の導入管であり、原水
を原水槽２に導入して一時貯留する。３はｐＨ調整ユニ
ット、４はＮ（窒素），Ｐ（リン）注入ユニットであ
り、それぞれ、原水槽２よりポンプ５Ａを備える配管５
から送給される原水に、配管６より酸又はアルカリを添
加してｐＨ調整し、更に、配管７中のｐＨ調整水に配管
８より窒素及び／又はリンを添加して、原水を下記に示
す貧栄養細菌の繁殖可能な条件に調整する。 ｐＨ＝５〜９ ＴＯＣ：Ｎ：Ｐ＝１００：５：１ ９，１０はそれぞれ曝気槽、活性炭流動層が形成された
好気性生物処理装置であり、曝気槽９は貧栄養細菌への
酸素供給のために、活性炭流動層１０の循環ラインに設
けられる。
【００２１】なお、この循環ラインは、ポンプ１１Ａを
備える導入管１１、エゼクタ１２Ａを備える抜出管１２
とで構成される。
備える導入管１１、エゼクタ１２Ａを備える抜出管１２
とで構成される。
【００２２】好気性生物処理装置１０の活性炭流動層で
は、原水との良好な接触を図るために、流動層展開率３
０〜５０％の範囲で流動させて、活性炭表面に付着した
貧栄養細菌により、原水中のＴＯＣを分解させる。な
お、活性炭は１０〜４０メッシュのものを標準として用
いる。
は、原水との良好な接触を図るために、流動層展開率３
０〜５０％の範囲で流動させて、活性炭表面に付着した
貧栄養細菌により、原水中のＴＯＣを分解させる。な
お、活性炭は１０〜４０メッシュのものを標準として用
いる。
【００２３】１３は塩素注入ユニットであり、配管１４
中の好気性生物処理装置の流出水に、本発明に従って、
配管１５より塩素剤を注入する。
中の好気性生物処理装置の流出水に、本発明に従って、
配管１５より塩素剤を注入する。
【００２４】本実施例においては、この塩素注入ユニッ
ト１３より、菌体を含む流出水に、流出水中の遊離塩素
濃度が０．３〜１．５ｍｇ／ｌとなるように次亜塩素酸
ナトリウム等の塩素剤を添加する。
ト１３より、菌体を含む流出水に、流出水中の遊離塩素
濃度が０．３〜１．５ｍｇ／ｌとなるように次亜塩素酸
ナトリウム等の塩素剤を添加する。
【００２５】１６は、流出水を一時貯留するための中間
水槽であり、後段の膜分離装置１７の原水槽ともなる。
水槽であり、後段の膜分離装置１７の原水槽ともなる。
【００２６】中間水槽１６内の水は、ポンプ１８Ａを備
える配管１８より膜分離装置１７に導入され膜分離処理
される。この膜分離処理装置では活性炭流動層の流出水
が膜濾過される。この際、流出水中の菌体は、添加され
た塩素剤によりその濾過性が大幅に改善されているた
め、含有される菌体等が効率的に除去される。この膜分
離装置１７の膜モジュール構成は、前述の如く、後段の
処理プロセス等に応じて適宜決定される。
える配管１８より膜分離装置１７に導入され膜分離処理
される。この膜分離処理装置では活性炭流動層の流出水
が膜濾過される。この際、流出水中の菌体は、添加され
た塩素剤によりその濾過性が大幅に改善されているた
め、含有される菌体等が効率的に除去される。この膜分
離装置１７の膜モジュール構成は、前述の如く、後段の
処理プロセス等に応じて適宜決定される。
【００２７】この膜分離装置１７の透過水は、配管１
９、処理水槽２０及び配管２１を経て系外へ排出され、
必要に応じて更にＲＯ膜処理等の膜分離処理を施された
後、半導体製造プロセス等に循環使用される。
９、処理水槽２０及び配管２１を経て系外へ排出され、
必要に応じて更にＲＯ膜処理等の膜分離処理を施された
後、半導体製造プロセス等に循環使用される。
【００２８】なお、この処理水槽２０は、逆洗水槽とし
て利用することもでき、このような逆洗ユニットを用い
ることにより膜分離装置１７のＭＦ膜、ＵＦ膜等の濾過
速度を高く維持することが可能とされる。
て利用することもでき、このような逆洗ユニットを用い
ることにより膜分離装置１７のＭＦ膜、ＵＦ膜等の濾過
速度を高く維持することが可能とされる。
【００２９】このようにして得られる処理水は、ＴＯＣ
が高度に除去されており、しかも、膜分離装置により菌
体も十分に除去された、高純度水である。
が高度に除去されており、しかも、膜分離装置により菌
体も十分に除去された、高純度水である。
【００３０】以下に実験例を挙げて、本発明の効果をよ
り具体的に示す。 実験例１ 以下の条件により、遊離塩素濃度と濾過比抵抗との関係
を調べた。
り具体的に示す。 実験例１ 以下の条件により、遊離塩素濃度と濾過比抵抗との関係
を調べた。
【００３１】原水としてはシュードモナス属の貧栄養細
菌を下記条件にて超純水中に懸濁させたものを用いた。原水 菌数：５×１０6 個／ｍｌ 濃度：０．１６ｍｇ／ｌ この原水を０．４５μＭＦ濾紙（ミリポア社製）を用い
て定圧加圧濾過したときの濾過曲線を求め、濾過比抵抗
を求めたところ４．４×１０8 ｍ／ｋｇであった。次
に、この原水に対して、次亜塩素酸ナトリウムをその添
加量を変えて添加し、同様に濾過比抵抗を求め、遊離塩
素濃度と濾過比抵抗との関係を第２図に示した。
菌を下記条件にて超純水中に懸濁させたものを用いた。原水 菌数：５×１０6 個／ｍｌ 濃度：０．１６ｍｇ／ｌ この原水を０．４５μＭＦ濾紙（ミリポア社製）を用い
て定圧加圧濾過したときの濾過曲線を求め、濾過比抵抗
を求めたところ４．４×１０8 ｍ／ｋｇであった。次
に、この原水に対して、次亜塩素酸ナトリウムをその添
加量を変えて添加し、同様に濾過比抵抗を求め、遊離塩
素濃度と濾過比抵抗との関係を第２図に示した。
【００３２】第２図より、次のことが明らかである。即
ち、遊離塩素濃度が０．１ｍｇ／ｌ以上１．５ｍｇ／ｌ
未満の範囲では、次亜塩素酸ナトリウム無添加の場合に
比べて濾過比抵抗は小さくなり、濾過性が改善されてい
る。特に、遊離塩素濃度が０．３〜１．５ｍｇ／ｌであ
ると実用的な改善効果が得られている。一方、遊離塩素
濃度１．５ｍｇ／ｌを超えて過剰に添加した場合には、
無添加のときに比べて濾過比抵抗は逆に上昇しており、
塩素過剰添加では濾過性が悪くなることが明らかであ
る。
ち、遊離塩素濃度が０．１ｍｇ／ｌ以上１．５ｍｇ／ｌ
未満の範囲では、次亜塩素酸ナトリウム無添加の場合に
比べて濾過比抵抗は小さくなり、濾過性が改善されてい
る。特に、遊離塩素濃度が０．３〜１．５ｍｇ／ｌであ
ると実用的な改善効果が得られている。一方、遊離塩素
濃度１．５ｍｇ／ｌを超えて過剰に添加した場合には、
無添加のときに比べて濾過比抵抗は逆に上昇しており、
塩素過剰添加では濾過性が悪くなることが明らかであ
る。
【００３３】実験例２ 塩素剤添加の効果が実際のＵＦ膜濾過において与える影
響について検証するために、下記条件にて通水比較を行
なった。 原水：超純水にＴＯＣが４ｍｇ／ｌとなるようにイソプ
ロピルアルコールを添加した模擬原水 活性炭流動層：クラレコールＫＷ((株) クラレ製：商
標） ２０／４０メッシュ 流動展開率 ５０％ ＵＦ膜分離装置： ＵＦ膜＝ポリスルホン膜（分画分子量＝２万），平膜 膜モジュール＝波形スペーサーを挿入した薄層平膜セル 有効膜面積（０．０３３６ｍ2 ） ３０分間に３分の逆洗を実施（逆洗圧：０．２ｋｇ／ｃ
ｍ2 ） 上記原水を活性炭流動層で処理した後、流出水をＵＦ膜
分離装置で処理する際、流出水に遊離塩素濃度が１．０
ｍｇ／ｌとなるように次亜塩素酸ナトリウムを添加した
場合（Ｎｏ．１）と、全く添加しない場合（Ｎｏ．２）
とについて、それぞれ、通水開始後（１０〜２０日
後）、定常となったところでのＵＦ膜分離装置の濾過速
度を調べ、結果を表１に示した。
響について検証するために、下記条件にて通水比較を行
なった。 原水：超純水にＴＯＣが４ｍｇ／ｌとなるようにイソプ
ロピルアルコールを添加した模擬原水 活性炭流動層：クラレコールＫＷ((株) クラレ製：商
標） ２０／４０メッシュ 流動展開率 ５０％ ＵＦ膜分離装置： ＵＦ膜＝ポリスルホン膜（分画分子量＝２万），平膜 膜モジュール＝波形スペーサーを挿入した薄層平膜セル 有効膜面積（０．０３３６ｍ2 ） ３０分間に３分の逆洗を実施（逆洗圧：０．２ｋｇ／ｃ
ｍ2 ） 上記原水を活性炭流動層で処理した後、流出水をＵＦ膜
分離装置で処理する際、流出水に遊離塩素濃度が１．０
ｍｇ／ｌとなるように次亜塩素酸ナトリウムを添加した
場合（Ｎｏ．１）と、全く添加しない場合（Ｎｏ．２）
とについて、それぞれ、通水開始後（１０〜２０日
後）、定常となったところでのＵＦ膜分離装置の濾過速
度を調べ、結果を表１に示した。
【００３４】
【表１】
【００３５】上記結果から、生物菌体を含む流出水に塩
素剤を遊離塩素として０．３〜１．５ｍｇ／ｌの範囲で
添加することにより濾過性能を改善することができるこ
とが明らかである。
素剤を遊離塩素として０．３〜１．５ｍｇ／ｌの範囲で
添加することにより濾過性能を改善することができるこ
とが明らかである。
【００３６】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の膜分離方法
によれば、生物処理水に含有される菌体の濾過性を大幅
に改善することにより、膜分離装置の濾過効率を高め、
膜の閉塞を防止して、長期間安定かつ高処理効率にて処
理することが可能とされる。本発明の膜分離方法は、特
に、半導体製造プロセスの超純水の回収処理工程のＵＶ
酸化に代るＴＯＣ除去工程として、工業的に極めて有用
である。
によれば、生物処理水に含有される菌体の濾過性を大幅
に改善することにより、膜分離装置の濾過効率を高め、
膜の閉塞を防止して、長期間安定かつ高処理効率にて処
理することが可能とされる。本発明の膜分離方法は、特
に、半導体製造プロセスの超純水の回収処理工程のＵＶ
酸化に代るＴＯＣ除去工程として、工業的に極めて有用
である。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１図は本発明の膜分離方法の一実施例を示す
系統図である。
系統図である。
【図２】第２図は実験例１の結果を示すグラフである。
２ 原水槽 ３ ｐＨ調整ユニット ４ Ｎ，Ｐ注入ユニット ９ 曝気槽 １０ 好気性生物処理装置 １３ 塩素注入ユニット １６ 中間水槽 １７ 膜分離装置 ２０ 処理水槽
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０２Ｆ 9/00 ５０２ Ｆ Ｒ ５０３ Ｃ ５０４ Ａ Ｄ
Claims (1)
- 【請求項１】 好気性生物膜処理装置からの生物処理水
を膜分離処理する膜分離方法において、該生物処理水に
塩素剤を添加して、遊離塩素濃度を０．３〜１．５ｍｇ
／ｌとした後、該膜分離装置に供給することを特徴とす
る膜分離方法。
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1991
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