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JPH0768621B2 - 連続真空蒸着装置 - Google Patents

連続真空蒸着装置

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Publication number
JPH0768621B2
JPH0768621B2 JP63113469A JP11346988A JPH0768621B2 JP H0768621 B2 JPH0768621 B2 JP H0768621B2 JP 63113469 A JP63113469 A JP 63113469A JP 11346988 A JP11346988 A JP 11346988A JP H0768621 B2 JPH0768621 B2 JP H0768621B2
Authority
JP
Japan
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substrate
roll
seal
vacuum
atmosphere
Prior art date
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Expired - Fee Related
Application number
JP63113469A
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English (en)
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JPH01287275A (ja
Inventor
謙一 柳
俊夫 田口
肇 沖田
平三郎 古川
進 神川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Heavy Industries Ltd filed Critical Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority to JP63113469A priority Critical patent/JPH0768621B2/ja
Priority to KR1019890004722A priority patent/KR920003591B1/ko
Priority to EP89106353A priority patent/EP0337369B1/en
Priority to US07/336,349 priority patent/US5000114A/en
Priority to DE89106353T priority patent/DE68909988T2/de
Publication of JPH01287275A publication Critical patent/JPH01287275A/ja
Publication of JPH0768621B2 publication Critical patent/JPH0768621B2/ja
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、プラスチツクフイルム、紙等の可撓性のある
走行基板に連続的に真空蒸着する装置に関し、特に好ま
しいシール装置を備えた上記装置に関する。
〔従来の技術〕
従来は、プラスチツクフイルム、紙等に対する真空蒸着
はバツチ方式で行なわれていたため、連続真空シール装
置は知られていない。ここでは参考として鋼板を対象と
した連続真空シール装置を第6図に示す。
第6図において、1は走行基板、2a,2b,2c,…は入側シ
ールロール、3a,3b,3c,…は出側シールロール、4a,4b,4
c,…は真空ポンプ、5は蒸着装置、6a,6b,6c,…は圧力
室、7は蒸着室、8はデフレクターロール、9は巻付ロ
ールである。
走行基板1は、一対のピンチロールで構成されたシール
ロール2a,2b,2c,…で仕切られた圧力室6a,6b,6c,…を経
て、所定の真空度に保たれた蒸着室7に達し、該蒸着室
7内で蒸着装置5によつて蒸着めつきされた後、出側シ
ールロール3a,3b,3c,…を経て、大気中へ搬出される。
各シールロールの詳細を第7図(A)と、第7図(A)
のIII−III線断面矢視図である第7図(B)に示す。
第7図(A),(B)において、11,12は一対のピンチ
ロール、14はシールバー、16はケーシング、17は上流側
圧力室、18は下流側圧力室、19a,19b,19cはリーク隙
間、すなわち19aはピンチロール11とシールバー14との
隙間、19bはピンチロール11の軸端とケーシング16との
隙間、19cはピンチロール11及び12の間で走行基板1が
存在していない部分の隙間である。
上流側圧力室17と下流側圧力室18とはピンチロール11、
12及びシールバー14とで仕切られ、上記の僅かなリーク
隙間19a,19b,19cを通つて上流側から下流側へガスが流
れる。
〔発明が解決しようとする課題〕
第6図及び第7図に示したような従来の構成の真空シー
ル装置ではリーク隙間19a〜19c面積を小さくして、上流
側から下流側へ流れるガス流量を小さくすることが、真
空ポンプ4a,4b,4c…の容量を小さく抑えるために必要で
ある。
しかしながら、回転するピンチロール11,12と固定され
たシールバー14あるいはケーシング16との間の隙間は接
触防止のため或る一定値以上小さくすることができず、
リーク隙間面積を小さくするには限界があつた。
また、リーク隙間をガスが流れるときに走行基板1のば
たつきが発生し、走行基板1のしわの発生、走行基板1
の切断につながる虞れが強かつた。
本発明は、リーク隙間面積を極力小さくし、この隙間へ
ガスが流れるのを極力抑えて、上記した走行基板のばた
つき等が発生しないシール装置を備えた連続真空蒸着装
置を提案することを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
本発明は、(1)走行基板を連続的に大気中から真空室
に導き、該真空室で該走行基板に真空蒸着を施した後、
大気中へ搬出する連続真空蒸着装置において、大気から
前記真空室までの間をシールロールで複数の圧力室に区
画し、各シールロールを3本1組のピンチロールで構成
して2つのピンチロールの間を前記真空室に導入する基
板と大気中に搬出する基板を通し、かつ、前記圧力室内
にガイドロールを配置して前記走行基板が前記ピンチロ
ールに対して巻付角10度以上で巻付くようにしたことを
特徴とする連続真空蒸着装置、及び、(2)走行基板を
連続的に大気中から真空室に導き、該真空室で該走行基
板に真空蒸着を施した後、大気中へ搬出する連続真空蒸
着装置において、大気から前記真空室までの間をシール
装置で複数の圧力室に区画し、各シール装置を1本のシ
ールロールと該シールロールの両側に設けたシールバー
で構成し、かつ、前記圧力室内にガイドロールを配置し
て前記真空室に導入される基板及び大気中に搬出される
基板が前記シールロールに対して巻付角10度以上で巻付
くようにしたことを特徴とする連続真空蒸着装置であ
る。
〔作用〕
本発明は、上流側シールロールと下流側シールロールを
一体化し、シールロールの本数を減らしたことによつ
て、合計のシール隙間の箇所が減るので、構造的にシー
ル隙間面積が減少する。従つて、シール性能が向上し、
真空ポンプ容量が低減する。
また本発明は、シールロールに走行基板を巻付けるた
め、リークガス流れの影響の大きいシールロール付近で
の走行基板のばたつきが発生しない。
〔実施例〕
第1図及び第2図(A),(B)は本発明装置の一例を
示す図である。
第1図は全体説明図、第2図(A)は第1図の一部詳細
図、第2図(B)は第2図(A)のI−I線断面矢視図
である。
第1図において、第6,7図と同一符号は第6,7図と同一部
を示し、2′a,2′b,2′c…は3本一組のピンチロール
で構成されるシールロールであり、入側シールロール及
び出側シールロールを兼ねている。
これらのシールロールは、第2図(A),(B)に示す
ように、3本一組のピンチロール11′,12′,13′で構成
され、ピンチロール11′と13′が図示しない駆動装置で
回転駆動される。このように3本一組のピンチロールか
らなるシールロールによれば、合計のリーク隙間19a〜1
9cの箇所が従来の構造に比べて減少するため、構造的に
リーク隙間面積の合計値を低減することができ、シール
性能が向上する。
また、第1図に示すように、各シールロール間(すなわ
ち各圧力室6a,6b,6c…内)に設けられたガイドロール20
a,20b,20c…により走行基板1のシールロールへの巻付
角が一定以上を確保しており、万一リークガスが発生し
てもリークガスによる走行基板1のばたつきは極く少
い。
本発明者らの実験によれば、この巻付角は、第3図
(A)に示すように、10度以上が適当であり、10度以上
で巻付けば走行基板のばたつきは問題なくなる。
なお、第3図(A)は、第3図(B)に示す要領で実験
した結果、得られたものである。すなわち、第3図
(B)において、直径80mmのシールロール101と直径90m
mのシールロール102の間に幅400mmで厚さが12μmと20
μmの2枚のフイルム(走行基板)1を各々走行させ
る。そして、真空室105内のガイドロール103と大気中の
ガイドロール104とを矢印α間を移動させてフイルム1
のシールロール101への巻付角を変更し、点線βの部分
のフイルム1のばたつき状態(振幅)を目視評価した。
このとき、シールロール101,102前後の圧力が、該シー
ルロール101,102間を通過するガス流量が最大で、フイ
ルムのばたつきに対し最も厳しい条件である大気圧と36
0トールとなるように、真空室105内を矢印γ方向へルー
ツ型真空ポンプで排気し、該真空室105の圧力を360トー
ルに調整した。
第4図及び第5図(A),(B)は、本発明装置の他の
例を示す図である。
第4図は全体説明図、第5図(A)は第4図の一部詳細
図、第5図(B)は第5図(A)のII−II線断面矢視図
である。
第4図において、第6,7図と同一符号は第6,7図と同一部
を示し、2″a,2″b,2″c…は1本のシールロールで構
成されるシールロールであり、入側シールロール及び出
側シールロールを兼ねている。これらのシールロール2a
〜2cは、図示しない駆動装置で各々回転駆動されてい
る。
これらのシールロールは、第5図(A),(B)に示す
ように、1本のシールロール2″の両側に配置されたシ
ールバー14,14と共にシール装置を構成する。このシー
ル装置によれば、合計のリーク隙間19a,19bの箇所が従
来の構造に比べて減少するため、構造的にリーク隙間面
積の合計値を低減することができ、シール性能が向上す
る。
また、第4図に示すように、各シールロール間(すなわ
ち各圧力室6a,6b,6c…内)に設けられたガイドロール20
a,20b,20c…により走行基板1のシールロールへの巻付
角が一定以上を解保しており、万一リークガスが発生し
てもリークガスによる走行基板のばたつきは極く少い。
従つて、走行基板1が、シールバー14,14に接触して切
断される虞れはない。
本発明者らの実験によれば、この巻付角は、前記の第3
図(B)に示す通り、10度以上が適当であり、10度以上
で巻付けば走行基板のばたつきの問題はなくなる。
〔発明の効果〕
本発明装置によれば、シールロール部でのリーク隙間が
小さくなるため、シール性能が向上する。
また、本発明装置によれば、走行基板が10度以上の巻付
角度でシールロールへ巻付いているため、少々のリーク
ガスがあつても走行基板のばたつきがなくなり、走行基
板のしわの発生、切断の虞れがない。
【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図(A),(B)は本発明装置の一例を
示す図で、第1図は全体説明図、第2図(A)は第1図
の一部詳細図、第2図(B)は第2図(A)のI−I線
断面矢視図、第3図(A)は本発明の効果を示すグラ
フ、第3図(B)は第3図(A)を導くための条件を示
す図、第4図及び第5図(A),(B)は本発明装置の
他の例を示す図で、第4図は全体説明図、第5図(A)
は第4図の一部詳細図、第5図(B)は第5図(A)の
II−II線断面矢視図、第6図及び第7図(A),(B)
は従来の装置の構成図である。 1……走行基板 2′a,2′b,2′c,2″a,2″b,2″c,2″……シールロール 2a,2b,2c……入側シールロール 3a,3b,3c……出側シールロール 4a,4b,4c……真空ポンプ 5……蒸着装置 6a,6b,6c……圧力室 7……蒸着室 8……デフレクタロール 9……巻付ロール 11′,12′,13′,11,12……ピンチロール 14……シールバー 16……ケーシング 17……上流側圧力室 18……下流側圧力室 19a,19b,19c……リーク隙間 20a,20b,20c……ガイドロール
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 古川 平三郎 広島県広島市西区観音新町4丁目6番22号 三菱重工業株式会社広島製作所内 (72)発明者 神川 進 広島県広島市西区観音新町4丁目6番22号 三菱重工業株式会社広島製作所内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】走行基板を連続的に大気中から真空室に導
    き、該真空室で該走行基板に真空蒸着を施した後、大気
    中へ搬出する連続真空蒸着装置において、大気から前記
    真空室までの間をシールロールで複数の圧力室に区画
    し、各シールロールを3本1組のピンチロールで構成し
    て2つのピンチロールの間を前記真空室に導入する基板
    と大気中に搬出する基板を通し、かつ、前記圧力室内に
    ガイドロールを配置して前記走行基板が前記ピンチロー
    ルに対して巻付角10度以上で巻付くようにしたことを特
    徴とする連続真空蒸着装置。
  2. 【請求項2】走行基板を連続的に大気中から真空室に導
    き、該真空室で該走行基板に真空蒸着を施した後、大気
    中へ搬出する連続真空蒸着装置において、大気から前記
    真空室までの間をシール装置で複数の圧力室に区画し、
    各シール装置を1本のシールロールと該シールロールの
    両側に設けたシールバーで構成し、かつ、前記圧力室内
    にガイドロールを配置して前記真空室に導入される基板
    及び大気中に搬出される基板が前記シールロールに対し
    て巻付角10度以上で巻付くようにしたことを特徴とする
    連続真空蒸着装置。
JP63113469A 1988-04-11 1988-05-12 連続真空蒸着装置 Expired - Fee Related JPH0768621B2 (ja)

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US07/336,349 US5000114A (en) 1988-04-11 1989-04-11 Continuous vacuum vapor deposition system having reduced pressure sub-chambers separated by seal devices
DE89106353T DE68909988T2 (de) 1988-04-11 1989-04-11 Vorrichtung zur kontinuierlichen Vacuumbeschichtung.

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