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JPH076419A - Magneto-optical recording medium - Google Patents

Magneto-optical recording medium

Info

Publication number
JPH076419A
JPH076419A JP14812693A JP14812693A JPH076419A JP H076419 A JPH076419 A JP H076419A JP 14812693 A JP14812693 A JP 14812693A JP 14812693 A JP14812693 A JP 14812693A JP H076419 A JPH076419 A JP H076419A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magneto
layer
memory layer
optical disk
concentration
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP14812693A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Motonobu Mihara
基伸 三原
Yasuhiro Kitade
康博 北出
Koji Matsumoto
幸治 松本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP14812693A priority Critical patent/JPH076419A/en
Publication of JPH076419A publication Critical patent/JPH076419A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は光磁気ディスクに関し、オーバライ
ト可能な構造の光磁気ディスクにおいて、C/N比の向
上を実現することを目的とする。 【構成】 基板11上に、メモリ層21及び記録層14
を有する。メモリ層21は、層の厚さ方向上、Tb 濃度
が変化している。メモリ層21のうち基板11寄りの部
分は、Tb19 (Fe90 010 81の組成を有し、カ−回
転角が大きい。メモリ層21のうち記録層14寄りの部
分は、Tb22 (Fe90 010 78の組成を有し、記録層
14とメモリ層21との間の交換結合力は大きい構成で
ある。
(57) [Summary] [Object] The present invention relates to a magneto-optical disk, and it is an object of the present invention to improve the C / N ratio in a magneto-optical disk having an overwritable structure. [Structure] A memory layer 21 and a recording layer 14 are formed on a substrate 11.
Have. In the memory layer 21, the T b concentration changes in the layer thickness direction. Portion of the substrate 11 close of the memory layer 21 has a composition of T b19 (F e90 C 010) 81, mosquito - large rotation angle. The portion of the memory layer 21 near the recording layer 14 has a composition of T b22 (F e90 C 010 ) 78 , and the exchange coupling force between the recording layer 14 and the memory layer 21 is large.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は光磁気記録媒体に係り、
特に、光変調オーバライトに適用される光磁気記録媒体
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magneto-optical recording medium,
In particular, it relates to a magneto-optical recording medium applied to optical modulation overwrite.

【0002】光磁気ディスク装置を使用した情報処理装
置においては、データ転送速度の高速化が望まれてい
る。
In an information processing device using a magneto-optical disk device, it is desired to increase the data transfer speed.

【0003】このために、光磁気ディスク装置は、磁性
層が単一である第1世代のオーバライトができないタイ
プから、磁性層を複数有して、光変調オーバライトが可
能なタイプへと移りつつある。
For this reason, the magneto-optical disk device has moved from a type in which the first-generation overwrite is not possible, which has a single magnetic layer, to a type which has a plurality of magnetic layers and is capable of optical modulation overwrite. It's starting.

【0004】この場合に、第1世代並の高い信号品質
(約55dBと高いC/N比)が得られることが必要と
される。
In this case, it is necessary to obtain the same high signal quality as the first generation (a high C / N ratio of about 55 dB).

【0005】[0005]

【従来の技術】図13は光変調オーバライトが可能であ
る従来の光磁気ディスク10の構造を示す。
2. Description of the Related Art FIG. 13 shows the structure of a conventional magneto-optical disk 10 capable of optical modulation overwrite.

【0006】光磁気ディスク10は、グルーブつきの基
板11上に、Tb −SiO2 膜の下地保護層12、メモ
リ層13、Tb4y26 e35 o35 膜の記録層14、T
b −SiO2 膜の上地保護層15を有する構成である。
[0006] magneto-optical disc 10, on the substrate 11 of the groove with, T b -SiO 2 film base protective layer 12, the memory layer 13, T b4 D y26 F e35 C o35 film of the recording layer 14, T
This is a configuration having the upper protective layer 15 of the b- SiO 2 film.

【0007】メモリ層13と記録層14とは交換結合力
によって交換結合している。
The memory layer 13 and the recording layer 14 are exchange-coupled by the exchange coupling force.

【0008】メモリ層13は、Tb20 (Fe90 o10
80膜よりなる。
The memory layer 13 is made of T b20 (F e90 C o10 ).
It consists of 80 films.

【0009】このメモリ層13を構成する膜は、膜厚方
向上組成が均一である。
The film forming the memory layer 13 has a uniform composition in the film thickness direction.

【0010】Tb の濃度は図14に、線Iで示すよう
に、膜厚方向上、一定であり、19.5at%である。
As shown by the line I in FIG. 14, the concentration of T b is constant in the film thickness direction and is 19.5 at%.

【0011】Tb 濃度を19.5at%としたのは、第
1世代の光磁気ディスクにおいて、磁性層のTb 濃度
と、C/N比とが図15中、線IIで示す関係にあること
に基づいている。
[0011] The a T b concentration of 19.5At%, in the first-generation magneto-optical disk, and T b concentration of the magnetic layer, and the C / N ratio in FIG. 15, a relationship indicated by the line II Is based on that.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】上記の光磁気ディスク
10は、光変調オーバライトを行い、この後再生したと
きのC/N比が約50dBにとどまり、第1世代の光磁
気ディスクで得られていたC/N比の約55dBより相
当に低く、実用化する上で問題があった。
The magneto-optical disk 10 described above has a C / N ratio of about 50 dB when it is subjected to optical modulation overwrite and then reproduced, and is obtained by the first-generation magneto-optical disk. It was considerably lower than the C / N ratio of about 55 dB, which was a problem in practical use.

【0013】また、本発明者は、Tb 濃度を増加したメ
モリ層を形成して、またTb 濃度を減らしたメモリ層を
形成して実験を行ったけれども、C/N比は50dB以
上には向上しなかった。
Further, the present inventors, by forming a memory layer and increased T b concentration, also though experiments were conducted by forming a memory layer with reduced T b concentration, C / N ratio more than 50dB Did not improve.

【0014】そこで、本発明は、C/N比の向上を図っ
た光磁気記録媒体を提供することを目的とする。
Therefore, an object of the present invention is to provide a magneto-optical recording medium with an improved C / N ratio.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、基板
上に、記録層に書き込まれた情報が転写されるメモリ層
及び情報が書き込まれる記録層を有する光磁気記録媒体
において、該メモリ層を、層の厚さ方向において組成の
所定の成分の濃度が変化しており、上記基板側は、カ−
回転角が最大である組成を有し、上記記録層側は、該記
録層との交換結合力が最良である組成を有する構成とし
たものである。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a magneto-optical recording medium having, on a substrate, a memory layer to which information written in a recording layer is transferred and a recording layer to which information is written. The concentration of a predetermined component of the composition changes in the layer thickness direction, and the substrate side is
The composition has the maximum rotation angle, and the recording layer side has the composition having the best exchange coupling force with the recording layer.

【0016】[0016]

【作用】請求項1のメモリ層のうち基板側の部分を、カ
−回転角が最大である組成とした構成は、キャリア
(C)を出し易くするように作用する。
According to the structure of the memory layer of the first aspect of the present invention, the portion of the memory layer on the substrate side has a composition having a maximum curve rotation angle, which serves to facilitate the generation of the carrier (C).

【0017】メモリ層のうち記録層側の部分を、記録層
との交換結合力が最良である組成とした構成は、記録層
に書き込まれた情報をメモリ層に転写するときのノイズ
(N)を少なくするように作用する。
The configuration in which the portion of the memory layer on the recording layer side has the best exchange coupling force with the recording layer has a noise (N) when the information written in the recording layer is transferred to the memory layer. Acts to reduce.

【0018】[0018]

【実施例】【Example】

〔第1実施例〕(図1乃至図6参照) 図1は本発明の第1実施例の光磁気ディスク20を示
す。
[First Embodiment] (See FIGS. 1 to 6) FIG. 1 shows a magneto-optical disk 20 according to a first embodiment of the present invention.

【0019】光磁気ディスク20は、メモリ層以外は、
図13の光磁気ディスク10の構成と同じであり、図1
中図13に示す構成部分と対応する部分には同一符号を
付し、その説明は省略する。
The magneto-optical disk 20, except for the memory layer,
The structure is the same as that of the magneto-optical disk 10 shown in FIG.
The same reference numerals are given to the portions corresponding to the constituent portions shown in FIG. 13 and the description thereof will be omitted.

【0020】メモリ層21は、Tbx(Fe90 o10
100-x 製の膜であって、Tb の濃度が基板11側から記
録層14側にかけて、図2中、線IIで示すように、連続
的に変化した組成分布を有する。
The memory layer 21 is made of T bx (F e90 C o10 ).
The film is made of 100-x and has a composition distribution in which the concentration of T b continuously changes from the substrate 11 side to the recording layer 14 side, as indicated by a line II in FIG.

【0021】メモリ層21のうち、基板11側の面21
aの組成は、Tb19(Fe90 o10 81である。
The surface 21 of the memory layer 21 on the substrate 11 side
The composition of a is Tb19(Fe90Co10) 81Is.

【0022】メモリ層21のうち、記録層14側の面2
1bの組成は、Tb22(Fe90 o10) 78である。
Of the memory layer 21, the surface 2 on the recording layer 14 side
The composition of 1b is Tb22(Fe90Co10) 78Is.

【0023】この光磁気ディスク10においては、情報
をオーバライトで記録し、これを再生した時のC/N比
は54dBと高かった。C/N比54dBは第1世代の
光磁気ディスクのC/N比と略同等であった。
In this magneto-optical disk 10, the C / N ratio when information was recorded by overwriting and reproduced was as high as 54 dB. The C / N ratio of 54 dB was substantially the same as the C / N ratio of the first-generation magneto-optical disk.

【0024】次に、上記の光磁気ディスク20が高いC
/N比を有する理由について説明する。
Next, the above-mentioned magneto-optical disk 20 has a high C
The reason for having the / N ratio will be described.

【0025】光磁気ディスク20へのオーバライトは、
情報を記録層14に記録し、記録層14に記録さた情報
をメモリ層21に転写することにより行われる。その後
記録層14は初期化される。
The overwrite on the magneto-optical disk 20 is
This is performed by recording information on the recording layer 14 and transferring the information recorded on the recording layer 14 to the memory layer 21. After that, the recording layer 14 is initialized.

【0026】オーバライトされた光磁気ディスク20
は、レーザ光22を基板11側からメモリ層21に照射
し、レーザ光22の偏光面をカ−回転させ、このカ−回
転角の変化を検知することにより再生される。
Overwritten magneto-optical disk 20
Is reproduced by irradiating the memory layer 21 with the laser light 22 from the side of the substrate 11, rotating the polarization plane of the laser light 22 by a curve, and detecting a change in the curve rotation angle.

【0027】上記の光磁気ディスク20が高いC/N比
を有するのは、次の二つの理由による。
The above-mentioned magneto-optical disk 20 has a high C / N ratio for the following two reasons.

【0028】第1には、記録層14からメモリ層13へ
情報を転写するときのノイズが小さいためである。
First, noise is small when information is transferred from the recording layer 14 to the memory layer 13.

【0029】第2には、カ−回転角が大きいためであ
る。
Secondly, the car rotation angle is large.

【0030】転写の際のノイズが小さい。Noise during transfer is small.

【0031】発明者は、Tbx(Fe90 o10 100-x
組成において、Tb の濃度を種々に変えて、そのときの
膜とTb y e o 膜との交換結合力を調べた。
The inventors have, in the composition of T bx (F e90 C o10) 100-x, with varying concentrations of T b variously exchange coupling between the film and T b D y F e C o film at that time I investigated the power.

【0032】その結果、Tb の濃度が22%±1%の範
囲内にあるときが、交換結合力が強いことが分かった。
[0032] As a result, when the concentration of T b is within the range of 22% ± 1% it was found that the exchange coupling force is strong.

【0033】交換結合力が強いということは、記録層に
記録された情報がメモリ層に転写されるときに発生する
エラー、即ちノイズが少ないことを意味する。
The strong exchange coupling force means that there is little error, that is, noise, which occurs when the information recorded in the recording layer is transferred to the memory layer.

【0034】情報の転写性の良否は、メモリ層のうち記
録層例の組成により決定される。
Whether or not the transferability of information is good or bad is determined by the composition of the recording layer of the memory layer.

【0035】本実施例において、メモリ層21の記録層
14側の面21b側のTb 濃度は、22%である。
[0035] In this embodiment, T b the concentration of the surface 21b side of the recording layer 14 side of the memory layer 21 is 22%.

【0036】このため、記録層14に書き込まれた情報
は、ノイズを殆ど伴うことなく、メモリ層21に転写さ
れる。
Therefore, the information written in the recording layer 14 is transferred to the memory layer 21 with almost no noise.

【0037】これにより、Nのレベルが下がる。As a result, the level of N is lowered.

【0038】カ−回転角が大きい。The car rotation angle is large.

【0039】Tbx(Fe90 o10 100-x のTb 濃度X
とカ−回転角θk とは、図3中、線Iで示す関係にある
ことが知られている。
T bx (F e90 C o10 ) 100-x T b concentration X
It is known that the curve rotation angle θ k and the curve rotation angle θ k have a relationship shown by a line I in FIG.

【0040】Tb の濃度が約19at%の場合に、カ−
回転角θk は略最大となる。
When the concentration of T b is about 19 at%, the car
The rotation angle θ k is approximately maximum.

【0041】再生時のレーザ光の偏光面のカ−回転角を
決めるのは、メモリ層のうち基板側の面である。
It is the surface of the memory layer on the substrate side that determines the curve rotation angle of the polarization plane of the laser beam during reproduction.

【0042】本実施例では、メモリ層21のうち基板1
1側の面21a側のTb の濃度は、18%である。
In this embodiment, the substrate 1 of the memory layer 21 is used.
The concentration of T b on the first side 21a side is 18%.

【0043】このため、再生時のレーザ光の偏光面のカ
−回転角は大きく、キャリアが出る。
For this reason, the angle of rotation of the polarization plane of the laser beam during reproduction is large, and carriers are emitted.

【0044】これにより、Cのレベルが増す。次に、上
記光磁気ディスク20のメモリ層21の形成方法につい
て説明する。まず、発明者が行なった実験のデータにつ
いて説明する。
As a result, the level of C is increased. Next, a method of forming the memory layer 21 of the magneto-optical disk 20 will be described. First, the data of the experiment conducted by the inventor will be described.

【0045】発明者はスパッタ装置のチャンバ内にTb
のターゲットとFe90 o10 のターゲットを並べて置い
て、Fe90 o10 のスパッタ電力を1.5kwに一定に
定め、Tb のスパッタ電力を適宜変えて、Tb e o
膜を形成し、形成された膜のTb の濃度を測定する実験
を行った。
The inventor has found that T b is placed in the chamber of the sputtering apparatus.
Place side by side target the target and F e90 C o10, defined constant sputtering power of F e90 C o10 to 1.5 kw, by changing the sputtering power of T b as appropriate, T b F e C o
Film is formed, the concentration of T b of the formed film experiment was conducted to measure.

【0046】この結果、Tb のスパッタ電力とTb e
o 膜のTb 濃度との間に図4中、線IVで示す関係があ
ることが分かった。
[0046] As a result, sputtering power of T b and T b F e
It was found that there is a relationship shown by a line IV in FIG. 4 with the T b concentration of the Co film.

【0047】メモリ層21の形成は、上記の結果を利用
している。
The formation of the memory layer 21 utilizes the above results.

【0048】メモリ層21及び記録層14は、図5に示
すスパッタ装置30を使用して形成した。
The memory layer 21 and the recording layer 14 were formed by using the sputtering apparatus 30 shown in FIG.

【0049】装置30は、チャンバ31の内部に、下面
に基板11を保持して、公転しながら自転する基板ホル
ダ32、三つのマグネトロンスパッタ用カソード3
-1,33-2,33-3、3つのシャッタ34-1,3
-2,34-3を有し、チャンバ31の外部に、三つのD
C電源35-1,35-2,35-3を有する構成である。
The apparatus 30 has a chamber 31 in which a substrate 11 is held on the lower surface thereof and rotates about its axis while revolving, and three magnetron sputtering cathodes 3 are provided.
3 -1 , 33 -2 , 33 -3 , three shutters 34 -1 , 3
4-2 , 34 -3 , and three D's are provided outside the chamber 31.
This is a configuration having C power supplies 35 -1 , 35 -2 , 35 -3 .

【0050】カソード33-1上にTb のターゲット3
6、カソード33-2上にFe90 o10のターゲット3
7、カソード33-3上にTb4y26 e35 o35 のター
ゲット38を載置する。
Target 3 of T b on cathode 33 -1
6, target 3 of Fe 90 C o10 on cathode 33 -2
7. A target 38 of T b4 D y26 F e35 Co 35 is placed on the cathode 33 -3 .

【0051】チャンバ31内のAr ガス圧は0.5Pa
とし一定に保つ。
[0051] The A r gas pressure in the chamber 31 0.5Pa
And keep it constant.

【0052】シャッタ34-1と34-2とを開き、電源3
-2の出力を1.5kwの一定とし、電源35-1の電圧
を、図6中、線Vで示すように約0.2kwから約0.
3kwへと直線的に変化させる。これにより、図2に線
IIで示す組成分布を有するメモリ層21が形成される。
続いて、シャッタ34-1,34-2を閉じ、シャッタ34
-3を開き、電源35-3により0.5kwのスパッタ電力
を加える。
The shutters 34 -1 and 34 -2 are opened, and the power source 3
5-2 of the output was controlled to a constant 1.5 kw, the voltage of the power source 35 -1, in FIG. 6, about from about 0.2kw as indicated by line V 0.
Change linearly to 3 kW. This gives the line
The memory layer 21 having the composition distribution indicated by II is formed.
Then, the shutters 34 -1 , 34 -2 are closed and the shutter 34
-3 is opened, and a sputtering power of 0.5 kw is applied by the power source 35 -3 .

【0053】これによりメモリ層21上に記録層14が
形成される。
As a result, the recording layer 14 is formed on the memory layer 21.

【0054】次に、本発明の別の実施例について説明す
る。
Next, another embodiment of the present invention will be described.

【0055】〔第2実施例〕(図7,図8参照) 光磁気ディスク40は、図7に示す構造を有し、メモリ
層41を有する。
[Second Embodiment] (See FIGS. 7 and 8) The magneto-optical disk 40 has the structure shown in FIG. 7 and has a memory layer 41.

【0056】メモリ層41の厚さ方向上のTb の濃度分
布は、図8中、線VIで示す如くである。Tb 濃度は、膜
厚の中心付近で変化している。メモリ層41のうち基板
11寄りの約半分の部分41aは、Tb 濃度が19at
%で一定であり、記録層14寄りの約半分の部分41b
は、Tb 濃度が22at%で一定である。
The concentration distribution of T b in the thickness direction of the memory layer 41 is as shown by the line VI in FIG. The Tb concentration changes near the center of the film thickness. About half of 41a of the substrate 11 close of the memory layer 41, T b concentration 19at
%, Which is constant and is about half of the recording layer 14 side 41b
Has a constant T b concentration of 22 at%.

【0057】この光磁気ディスク40のC/N比は、5
4dBであった。
The C / N ratio of this magneto-optical disk 40 is 5
It was 4 dB.

【0058】上記メモリ層41は、Tb スパッタ電力
を、図6中、線VII で示すように制御することによって
形成される。
The memory layer 41 is formed by controlling the T b sputtering power as shown by the line VII in FIG.

【0059】〔第3実施例〕(図9,図10参照) 光磁気ディスク50は、メモリ層51を有する。[Third Embodiment] (See FIGS. 9 and 10) The magneto-optical disk 50 has a memory layer 51.

【0060】メモリ層51のTb の濃度分布は、図10
中、線VIIIで示す如くである。Tb濃度は、膜厚のうち
中心より基板11側寄りの部分で変化している。
The concentration distribution of T b in the memory layer 51 is shown in FIG.
Middle, as shown by line VIII. The T b concentration changes in the portion of the film thickness closer to the substrate 11 side than the center.

【0061】メモリ層51のうち、基板11寄りの約1
/4の厚さの部分51aは、Tb 濃度が19at%で一
定であり、記録層14寄りの約3/4の厚さの部分51
bは、Tb 濃度が22at%で一定である。
About 1 of the memory layer 51 near the substrate 11
The portion 51a having a thickness of / 4 has a constant T b concentration of 19 at%, and the portion 51a having a thickness of about 3/4 near the recording layer 14 is provided.
As for b, the T b concentration is constant at 22 at%.

【0062】この光磁気ディスク50のC/N比は、5
2dBであった。
The C / N ratio of this magneto-optical disk 50 is 5
It was 2 dB.

【0063】〔第4実施例〕(図11,図12参照) 光磁気ディスク60は、メモリ層61を有する。[Fourth Embodiment] (see FIGS. 11 and 12) The magneto-optical disk 60 has a memory layer 61.

【0064】メモリ層61のTb の濃度分布は、図11
中、線IXで示す如くである。Tb 濃度は、膜厚のうち中
心より記録層14側寄りの部分で変化している。
The concentration distribution of T b in the memory layer 61 is shown in FIG.
Middle, as shown by line IX. The T b concentration changes in the portion of the film thickness closer to the recording layer 14 side than the center.

【0065】メモリ層61のうち、基板11寄りの約3
/4の厚さの部分61aは、Tb 濃度が19at%で一
定であり、記録層14寄りの約1/4の厚さの部分61
bは、Tb 濃度が22at%で一定である。
About 3 of the memory layers 61 near the substrate 11
/ 4 of the thickness of the portion 61a is, T b concentration is constant at 19 at%, the portion of about 1/4 of the thickness of the recording layer 14 closer 61
As for b, the T b concentration is constant at 22 at%.

【0066】この光磁気ディスク60のC/N比は、5
2dBであった。
The C / N ratio of this magneto-optical disk 60 is 5
It was 2 dB.

【0067】上記のメモリ層51,61は、Tb スパッ
タ電力(DC電源35-1の出力電力)を、スパッタ中に
ステップ的に変化させることにより、形成できる。
The memory layers 51 and 61 can be formed by changing the T b sputtering power (output power of the DC power source 35 -1 ) stepwise during sputtering.

【0068】[0068]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
従来に比べて、C/N比が高く、第1世代の光磁気ディ
スクによって得られた程度のC/N比を得ることが出来
る、オーバライトが可能な光磁気記録媒体を実現出来
る。
As described above, according to the present invention,
It is possible to realize an overwritable magneto-optical recording medium which has a higher C / N ratio than the conventional one and can obtain the C / N ratio to the extent obtained by the first-generation magneto-optical disk.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1実施例の光磁気ディスクの構造を
示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a structure of a magneto-optical disk according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1の光磁気ディスクのメモリ層の膜厚方向の
b 濃度分布を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a T b concentration distribution in a film thickness direction of a memory layer of the magneto-optical disc of FIG.

【図3】Tbx(Fe90 o10 100-x のTb 濃度Xとカ
−回転角θk との関係を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a relationship between a T b concentration X of T bx (F e90 C o10 ) 100-x and a car rotation angle θ k .

【図4】Tb スパッタ電力と、形成されたTb e o
層のTb 濃度との関係を示す図である。
FIG. 4 T b sputter power and T b Fe C o formed.
It is a figure which shows the relationship with the Tb density | concentration of a layer.

【図5】図1の光磁気ディスクの製造に使用したスパッ
タ装置を示す図である。
5 is a view showing a sputtering apparatus used for manufacturing the magneto-optical disk shown in FIG.

【図6】メモリ層形成時のTb スパッタ電力を加える態
様を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing a mode in which T b sputtering power is applied when forming a memory layer.

【図7】本発明の第2実施例の光磁気ディスクの構造を
示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing a structure of a magneto-optical disk according to a second embodiment of the present invention.

【図8】図7の光磁気ディスクのメモリ層の膜厚方向の
b 濃度分布を示す図である。
8 is a diagram showing the T b concentration distribution in the film thickness direction of the memory layer of the magneto-optical disk of FIG.

【図9】本発明の第3実施例の光磁気ディスクの構造を
示す図である。
FIG. 9 is a diagram showing the structure of a magneto-optical disk according to a third embodiment of the present invention.

【図10】図9の光磁気ディスクのメモリ層の膜厚方向
のTb 濃度分布を示す図である。
10 is a diagram showing a T b concentration distribution in the film thickness direction of the memory layer of the magneto-optical disk of FIG.

【図11】本発明の第4実施例の光磁気ディスクの構造
を示す図である。
FIG. 11 is a diagram showing the structure of a magneto-optical disk according to a fourth embodiment of the present invention.

【図12】図11の光磁気ディスクのメモリ層の膜厚方
向のTb 濃度分布を示す図である。
12 is a diagram showing the T b concentration distribution in the film thickness direction of the memory layer of the magneto-optical disk of FIG.

【図13】従来の光磁気ディスクの1例の構造を示す図
である。
FIG. 13 is a diagram showing a structure of an example of a conventional magneto-optical disk.

【図14】図13の光磁気ディスクのメモリ層の膜厚方
向のTb 濃度分布を示す図である。
14 is a diagram showing a T b concentration distribution in the film thickness direction of the memory layer of the magneto-optical disk of FIG.

【図15】図13の光磁気ディスクのメモリ層のTb
度を19.5at%としている根拠を説明する図であ
る。
FIG. 15 is a diagram illustrating the basis for setting the T b concentration of the memory layer of the magneto-optical disk of FIG. 13 to 19.5 at%.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 基板 12 下地保護層 14 記録層 15 上地保護層 20,40,50,60 光磁気ディスク 21,41,51,61メモリ層 11 Substrate 12 Underlayer Protection Layer 14 Recording Layer 15 Upper Ground Protection Layer 20, 40, 50, 60 Magneto-Optical Disk 21, 41, 51, 61 Memory Layer

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に、記録層に書き込まれた情報が
転写されるメモリ層及び情報が書き込まれる記録層を有
する光磁気記録媒体において、 該メモリ層を、 層の厚さ方向において組成の所定の成分の濃度が変化し
ており、 上記基板側は、カ−回転角が最大である組成を有し、 上記記録層側は、該記録層との交換結合力が最良である
組成を有する構成としたことを特徴とする光磁気記録媒
体。
1. A magneto-optical recording medium having, on a substrate, a memory layer to which information written in a recording layer is transferred and a recording layer to which information is written, wherein the memory layer has a composition in the thickness direction of the layer. The concentration of a predetermined component is changed, the substrate side has a composition with a maximum curve rotation angle, and the recording layer side has a composition with the best exchange coupling force with the recording layer. A magneto-optical recording medium having a structure.
【請求項2】 請求項1のメモリ層は、上記基板側がT
b19 (Fe90 o1081の組成を有し、上記記録層側が
b22 (Fe90 o10 78の組成を有する構成としたこ
とを特徴とする光磁気記録媒体。
2. The memory layer according to claim 1, wherein the substrate side has T
A magneto-optical recording medium having a composition of b19 (F e90 C o10 ) 81 and having a composition of T b22 (F e90 C o10 ) 78 on the recording layer side.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US8359712B2 (en) 2009-05-21 2013-01-29 Kabushiki Kaisha Honda Lock Vehicle door outer handle device

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