JPH07644B2 - フリーラジカル開始剤 - Google Patents
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Polymerization Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 関連出願の提示 この出願は、昭和60年(1985年)11月1日提出の昭和60
年特許願第244,268号(=特開昭61−113608号)「シリ
コーン−有機ブロック共重合体の製造方法」(出願人処
理番号:R−671)と関連している。
年特許願第244,268号(=特開昭61−113608号)「シリ
コーン−有機ブロック共重合体の製造方法」(出願人処
理番号:R−671)と関連している。
発明の背景 本発明以前には、次式: を有するベンゾピナコールおよび他のテトラアリールエ
タン類が、ビニル単量体の重合用の高温フリーラジカル
開始剤として用いられていた。ビニル単量体用の有用な
別のフリーラジカル開始剤として、次式: で表わされるベンゾピナコールの対応するトリアルキル
シリルエーテル誘導体があり、これらはルドルフ(Rudo
lph)らの米国特許第3,391,355号およびビオ(Vio)の
米国特許第3,792,126号に開示されている。ボルフエル
ス(Wolfers)らの西ドイツ国特許公開公報第2,632,294
号およびロイテル(Reuter)らの西ドイツ国特許公開公
報第3,151,444号に、オリゴマー状シリルピナコール類
もフリーラジカル・ビニル単量体開始剤として有用であ
ることが示されている。
タン類が、ビニル単量体の重合用の高温フリーラジカル
開始剤として用いられていた。ビニル単量体用の有用な
別のフリーラジカル開始剤として、次式: で表わされるベンゾピナコールの対応するトリアルキル
シリルエーテル誘導体があり、これらはルドルフ(Rudo
lph)らの米国特許第3,391,355号およびビオ(Vio)の
米国特許第3,792,126号に開示されている。ボルフエル
ス(Wolfers)らの西ドイツ国特許公開公報第2,632,294
号およびロイテル(Reuter)らの西ドイツ国特許公開公
報第3,151,444号に、オリゴマー状シリルピナコール類
もフリーラジカル・ビニル単量体開始剤として有用であ
ることが示されている。
上述したアリールピナコール類およびそのシリル誘導体
は、種々のフリーラジカル重合性有機単量体、例えばス
チレン、メチルメタクリレートなどの重合を行うのにフ
リーラジカル開始剤として有用であるが、これらのフリ
ーラジカル開始剤は、ポリジオルガノシロキサンのブロ
ックの存在下で有機単量体の重合を行つてシリコーン−
有機ブロック重合体を製造するのには使用できない。
は、種々のフリーラジカル重合性有機単量体、例えばス
チレン、メチルメタクリレートなどの重合を行うのにフ
リーラジカル開始剤として有用であるが、これらのフリ
ーラジカル開始剤は、ポリジオルガノシロキサンのブロ
ックの存在下で有機単量体の重合を行つてシリコーン−
有機ブロック重合体を製造するのには使用できない。
昭和60年特許願第244,268号(=特開昭61−113608号)
に教示されているように、末端または連鎖内にシリルピ
ナコール官能基を有するポリジオルガノシロキサンを形
成し、フリーラジカル重合性有機単量体の存在下でのこ
のような官能化シリコーン重合体の熱分解によりシリコ
ーン有機ブロック重合体を製造できる。末端または連鎖
内にシリルピナコール基を有するポリジオルガノシロキ
サンは、水素化珪素含有ポリジオルガノシロキサンと以
下に定義する通りの脂肪族不飽和シリルピナコールエー
テルとの反応を行うことによつて製造できる。
に教示されているように、末端または連鎖内にシリルピ
ナコール官能基を有するポリジオルガノシロキサンを形
成し、フリーラジカル重合性有機単量体の存在下でのこ
のような官能化シリコーン重合体の熱分解によりシリコ
ーン有機ブロック重合体を製造できる。末端または連鎖
内にシリルピナコール基を有するポリジオルガノシロキ
サンは、水素化珪素含有ポリジオルガノシロキサンと以
下に定義する通りの脂肪族不飽和シリルピナコールエー
テルとの反応を行うことによつて製造できる。
発明の開示 本発明によれば、次式(1)および(2)を有する脂肪
族不飽和シリルピナコールエーテルよりなるフリーラジ
カル開始剤が提供される。
族不飽和シリルピナコールエーテルよりなるフリーラジ
カル開始剤が提供される。
ここで、RおよびR1はC(6-13)アリール炭化水素基およ
び置換C(6-13)アリール炭化水素基から選ばれる一価の
基であり、互に一緒になつて同じ炭素原子に結合してい
る場合には次式: を有する二価のアリール基から選ばれ、 R2は水素、C(1-8)アルキル、C(1-8)ハロアルキル、C
(1-8)アルコキシまたはC(6-13)アリールから選ばれる一
価の基であり、 R3はC(2-20)脂肪族不飽和炭化水素基、置換C(2-20)脂肪
族不飽和炭化水素基、C(4-20)脂環式不飽和炭化水素基
および置換C(4-20)脂環式不飽和炭化水素基から選ば
れ、 R4はR2基およびR3基から選ばれ、 R5およびR6は二価のC(6-13)アリール炭化水素基および
置換C(6-13)アリール炭化水素基から選ばれ、 Xは−O−、−S−、−CH2−および から選ばれ、 aは0または1である。
び置換C(6-13)アリール炭化水素基から選ばれる一価の
基であり、互に一緒になつて同じ炭素原子に結合してい
る場合には次式: を有する二価のアリール基から選ばれ、 R2は水素、C(1-8)アルキル、C(1-8)ハロアルキル、C
(1-8)アルコキシまたはC(6-13)アリールから選ばれる一
価の基であり、 R3はC(2-20)脂肪族不飽和炭化水素基、置換C(2-20)脂肪
族不飽和炭化水素基、C(4-20)脂環式不飽和炭化水素基
および置換C(4-20)脂環式不飽和炭化水素基から選ば
れ、 R4はR2基およびR3基から選ばれ、 R5およびR6は二価のC(6-13)アリール炭化水素基および
置換C(6-13)アリール炭化水素基から選ばれ、 Xは−O−、−S−、−CH2−および から選ばれ、 aは0または1である。
式(1)および(2)のRおよびR1に含まれる基は、例
えばフェニル、トリル、キシリル、ナフチル、フルオレ
ニル、キサンチル、クロロフェニル、メトキシフェニ
ル、ニトロフェニルなどである。式(1)および(2)
のR2に含まれる基は、例えばC(1-8)アルキル、例えばメ
チル、エチル、プロピル、ブチルなど;ハロアルキル、
アルコキシアルキルおよびアリール、例えばフェニル、
トリル、キシリル、ナフチルなどである。R3に含まれる
基は、例えばビニル、アリル、シクロヘキセニル、シク
ロペンテニルなどである。R5およびR6に含まれる基はフ
ェニレン、トリレン、キシリレン、ナフタレンおよびこ
れらの置換誘導体である。
えばフェニル、トリル、キシリル、ナフチル、フルオレ
ニル、キサンチル、クロロフェニル、メトキシフェニ
ル、ニトロフェニルなどである。式(1)および(2)
のR2に含まれる基は、例えばC(1-8)アルキル、例えばメ
チル、エチル、プロピル、ブチルなど;ハロアルキル、
アルコキシアルキルおよびアリール、例えばフェニル、
トリル、キシリル、ナフチルなどである。R3に含まれる
基は、例えばビニル、アリル、シクロヘキセニル、シク
ロペンテニルなどである。R5およびR6に含まれる基はフ
ェニレン、トリレン、キシリレン、ナフタレンおよびこ
れらの置換誘導体である。
式(1)および(2)で示される脂肪族不飽和シリルピ
ナコールエーテルの中には下記の化合物がある。
ナコールエーテルの中には下記の化合物がある。
式(1)で示されるフリーラジカル開始剤を製造するに
は、適当なケトンと脂肪族不飽和モノハロシランとの反
応を、活性金属還元剤、例えばマグネシウムの存在下
で、下記の反応式で示される通りに行えばよい。
は、適当なケトンと脂肪族不飽和モノハロシランとの反
応を、活性金属還元剤、例えばマグネシウムの存在下
で、下記の反応式で示される通りに行えばよい。
ここでR、R1、R2およびR3は前記定義の通り。
多くの場合、促進剤、例えばN,N,N′,N′−テトラメチ
ルウレア、ヘキサメチルホスホルトリアミド、ビフェニ
ル、ナフタレン、アントラセンを使用すると、反応速度
を増加することができ望ましい。
ルウレア、ヘキサメチルホスホルトリアミド、ビフェニ
ル、ナフタレン、アントラセンを使用すると、反応速度
を増加することができ望ましい。
式(2)の環状珪素含有ピナコレートの製造にも同様の
方法をとることができるが、この場合には次の反応式で
示されるようにジハロ脂肪族不飽和シランをケトンと組
合せて使用する必要がある。
方法をとることができるが、この場合には次の反応式で
示されるようにジハロ脂肪族不飽和シランをケトンと組
合せて使用する必要がある。
この反応を行う際に使用できる溶剤は、例えばテトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、1,2−ジメトキシエタン、ト
ルエン、キシレン、ベンゼン、ヘキサメチルホスホルト
リアミドおよびN,N,N′,N′−テトラメチルウレアであ
る。
ドロフラン、ジオキサン、1,2−ジメトキシエタン、ト
ルエン、キシレン、ベンゼン、ヘキサメチルホスホルト
リアミドおよびN,N,N′,N′−テトラメチルウレアであ
る。
式(2)に含まれる代表的な環状シリルピナコレートは
次の通り。
次の通り。
当業者が本発明を容易に実施できるように、以下に実施
例を限定としてではなく例示として示す。部はすべて重
量基準である。
例を限定としてではなく例示として示す。部はすべて重
量基準である。
実施例1 温度計、還流コンデンサおよび磁気スターラ付の1000ml
丸底フラスコに、91.0g(0.5モル)のベンゾフェノン、
6.0g(0.25モル)の金属マグネシウム(30メッシュ)、
250mlの乾燥テトラヒドロフランおよび15mlのN,N,N′,
N′−テトラメチルウレアを入れた。この混合物に60.5g
(0.6モル)のジメチルビニルクロロシランを滴加し
た。発熱反応が認められ、温度が徐々に50℃まで上昇し
た。反応混合物を水浴でこの温度に保つた。反応の発熱
部分が静まつた後、反応混合物を47℃に4時間加熱し、
次いで室温で1夜放置した。回転エバポレータで溶剤を
除去し、黄色い油状物をクロロホルムに溶解した。無機
沈殿物を別し、得られた生成物をエタノールから2回
再結晶させた得られた無色の生成物は融点135−140℃を
有し、収量は56.3g、即ち理論量の43.1%であつた。生
成物は次式を有するビス(ジメチルビニルシリル)ベン
ゾピナコレートであつた。
丸底フラスコに、91.0g(0.5モル)のベンゾフェノン、
6.0g(0.25モル)の金属マグネシウム(30メッシュ)、
250mlの乾燥テトラヒドロフランおよび15mlのN,N,N′,
N′−テトラメチルウレアを入れた。この混合物に60.5g
(0.6モル)のジメチルビニルクロロシランを滴加し
た。発熱反応が認められ、温度が徐々に50℃まで上昇し
た。反応混合物を水浴でこの温度に保つた。反応の発熱
部分が静まつた後、反応混合物を47℃に4時間加熱し、
次いで室温で1夜放置した。回転エバポレータで溶剤を
除去し、黄色い油状物をクロロホルムに溶解した。無機
沈殿物を別し、得られた生成物をエタノールから2回
再結晶させた得られた無色の生成物は融点135−140℃を
有し、収量は56.3g、即ち理論量の43.1%であつた。生
成物は次式を有するビス(ジメチルビニルシリル)ベン
ゾピナコレートであつた。
化合物の同定は元素分析で確認した。
計算値 C76.40%、H7.12%、Si10.49% 実測値 C75.9 %、H7.20%、Si10.70% 実施例2 500ml丸底フラスコに90.1g(0.5モル)の9−フルオレ
ノン、15mlのN,N,N′,N′−テトラメチルウレア、210ml
の新さに蒸留した乾燥テトラヒドロフランおよび6g(0.
25モル)の金属マグネシウム粉末を入れた。反応容器に
磁気スターラ、還流コンデンサ、温度計および窒素導入
管を取り付けた。反応混合物中に窒素を15分間バブリン
グし、次いで滴加ロートにより60.5g(0.56モル)のジ
メチルビニルクロロシランを滴加した。発熱反応が起
り、無色から黄色を経てオレンジ色へ色が変わつた。反
応容器を水浴に入れて温度を30−35℃に保つた。添加完
了(約45分)後、反応容器を室温で1夜かきまぜた。多
量の結晶を含む反応混合物から回転エバポレータで溶剤
をとばした。約200mlのクロロホルムを加え、反応混合
物を過して無機マグネシウム塩を除去した。クロロホ
ルムを留去したところ固形のオレンジ色生成物が残り、
これを沸とう無水エタノールから再結晶させた。冷却す
ると結晶が得られ、これをもう一度同じやり方で再結晶
させた。2回の回収でシリルピナコレートが総合収率40
%で得られ、この生成物は融点210−212℃で、NMRおよ
び元素分析(下記)により下記の構造を有することが確
認された。
ノン、15mlのN,N,N′,N′−テトラメチルウレア、210ml
の新さに蒸留した乾燥テトラヒドロフランおよび6g(0.
25モル)の金属マグネシウム粉末を入れた。反応容器に
磁気スターラ、還流コンデンサ、温度計および窒素導入
管を取り付けた。反応混合物中に窒素を15分間バブリン
グし、次いで滴加ロートにより60.5g(0.56モル)のジ
メチルビニルクロロシランを滴加した。発熱反応が起
り、無色から黄色を経てオレンジ色へ色が変わつた。反
応容器を水浴に入れて温度を30−35℃に保つた。添加完
了(約45分)後、反応容器を室温で1夜かきまぜた。多
量の結晶を含む反応混合物から回転エバポレータで溶剤
をとばした。約200mlのクロロホルムを加え、反応混合
物を過して無機マグネシウム塩を除去した。クロロホ
ルムを留去したところ固形のオレンジ色生成物が残り、
これを沸とう無水エタノールから再結晶させた。冷却す
ると結晶が得られ、これをもう一度同じやり方で再結晶
させた。2回の回収でシリルピナコレートが総合収率40
%で得られ、この生成物は融点210−212℃で、NMRおよ
び元素分析(下記)により下記の構造を有することが確
認された。
計算値 実測値 %C 79.93 76.8 %H 6.46 6.50 %Si 10.58 10.32 実施例3 還流コンデンサ、窒素導入管および磁気スターラ付の10
00ml丸底フラスコに72.8g(0.4モル)のベンゾフェノ
ン、4.8g(0.2モル)のマグネシウムおよび200mlのテト
ラヒドロフランを入れた。この反応混合物に28.2g(0.2
モル)のメチルビニルジクロロシランおよび15mlのN,N,
N′,N′−テトラメチルウレアを加えた。反応混合物を
加熱して発熱反応を開始させた。発熱が静まつた後、混
合物を50℃に2.5時間加熱し、次いで室温で1夜放置し
た。テトラヒドロフランを減圧下で除去し、残留物をク
ロロホルムに溶解した。得られた混合物を過し、不溶
の無機マグネシウム塩を除去し、再び溶剤を減圧下で除
去した。油状物が得られ、これをエタノールから再結晶
すると結晶生成物が得られた。合計50gの生成物が得ら
れ、これは融点135−137℃、珪素についての元素分析値
6.71%(理論値6.47%)を有し、1HNMRは下記構造に合
致した。
00ml丸底フラスコに72.8g(0.4モル)のベンゾフェノ
ン、4.8g(0.2モル)のマグネシウムおよび200mlのテト
ラヒドロフランを入れた。この反応混合物に28.2g(0.2
モル)のメチルビニルジクロロシランおよび15mlのN,N,
N′,N′−テトラメチルウレアを加えた。反応混合物を
加熱して発熱反応を開始させた。発熱が静まつた後、混
合物を50℃に2.5時間加熱し、次いで室温で1夜放置し
た。テトラヒドロフランを減圧下で除去し、残留物をク
ロロホルムに溶解した。得られた混合物を過し、不溶
の無機マグネシウム塩を除去し、再び溶剤を減圧下で除
去した。油状物が得られ、これをエタノールから再結晶
すると結晶生成物が得られた。合計50gの生成物が得ら
れ、これは融点135−137℃、珪素についての元素分析値
6.71%(理論値6.47%)を有し、1HNMRは下記構造に合
致した。
この化合物は融点135−137℃を有し、元素分析は下記の
通り。
通り。
計算値 実測値 %C 82.45 79.2 %H 5.29 5.30 %Si 3.70 3.65 実施例4 500ml丸底フラスコ内で36.4g(0.2モル)のベンゾフェ
ノン、2.4g(0.1モル)の金属マグネシウム粉末、100ml
のテトラヒドロフラン、22.4g(0.1モル)の7−オクテ
ニルメチルジクロロシランおよび10mlのN,N,N′,N′−
テトラメチルウレアを混ぜ合わせた。反応フラスコに磁
気スターラ、還流コンデンサおよび乾燥管を取り付け
た。混合すると、発熱反応が自然に起り、反応混合物の
温度を水浴で60℃以下に保つた。発熱反応が静まつた
後、反応容器を50℃に1時間加熱した。減圧下でテトラ
ヒドロフランを除去し、約100mlのクロロホルムを加え
た。無機マグネシウム塩を別し、クロロホルムを留去
した。薄黄色の油状物が残り、これを石油エーテルに溶
解し、過して少量の不溶の白色不純物を除去し、その
後再び蒸留した。生成物をメタノールで数回洗つてさら
に精製した。1HNMRスペクトルは下記の構造に合致し
た。
ノン、2.4g(0.1モル)の金属マグネシウム粉末、100ml
のテトラヒドロフラン、22.4g(0.1モル)の7−オクテ
ニルメチルジクロロシランおよび10mlのN,N,N′,N′−
テトラメチルウレアを混ぜ合わせた。反応フラスコに磁
気スターラ、還流コンデンサおよび乾燥管を取り付け
た。混合すると、発熱反応が自然に起り、反応混合物の
温度を水浴で60℃以下に保つた。発熱反応が静まつた
後、反応容器を50℃に1時間加熱した。減圧下でテトラ
ヒドロフランを除去し、約100mlのクロロホルムを加え
た。無機マグネシウム塩を別し、クロロホルムを留去
した。薄黄色の油状物が残り、これを石油エーテルに溶
解し、過して少量の不溶の白色不純物を除去し、その
後再び蒸留した。生成物をメタノールで数回洗つてさら
に精製した。1HNMRスペクトルは下記の構造に合致し
た。
上述した実施例は本発明に従つて製造することのできる
極めて多数のフリーラジカル開始剤の数例を示すにすぎ
ないが、本発明は式(1)および(2)で示される通り
の広い範囲のフリーラジカル開始剤を包含することを理
解すべきである。
極めて多数のフリーラジカル開始剤の数例を示すにすぎ
ないが、本発明は式(1)および(2)で示される通り
の広い範囲のフリーラジカル開始剤を包含することを理
解すべきである。
本発明によるフリーラジカル開始剤は、ポリジオルガノ
シロキサンのブロックの存在下で有機単量体の重合を行
ってシリコーン−有機ブロック重合体を製造するに有用
であり、この事は、前述の昭和60年特許願第244,268号
(=特開昭61−113608号)に記載されている。
シロキサンのブロックの存在下で有機単量体の重合を行
ってシリコーン−有機ブロック重合体を製造するに有用
であり、この事は、前述の昭和60年特許願第244,268号
(=特開昭61−113608号)に記載されている。
Claims (7)
- 【請求項1】次式: の化合物から選ばれるフリーラジカル開始剤; 但し、式中のRおよびR1はC(6-13)アリール炭化水素基
および置換C(6-13)アリール炭化水素基から選ばれる一
価の基であり、互に一緒になって同じ炭素原子に結合し
ている場合には次式: を有する二価のアリール基から選ばれ、 R3はC(2-20)脂肪族不飽和炭化水素基、置換C(2-20)脂肪
族不飽和炭化水素基、C(4-20)脂環式不飽和炭化水素基
および置換(4-20)脂環式不飽和炭化水素基から選ばれ、 R4はR3基、及び、水素、C(1-8)アルキル、C(1-8)ハロア
ルキル、C(1-8)アルコキシまたはC(6-13)アリールから
選ばれる一価の基、から選ばれ、 R5およびR6は二価のC(6-13)アリール炭化水素基および
置換C(6-13)アリール炭化水素基から選ばれ、 Xは−O−、−S−、−CH2−および から選ばれ、 aは0または1である。 - 【請求項2】次式を有する特許請求の範囲第1項記載の
開始剤。 - 【請求項3】次式を有する特許請求の範囲第1項記載の
開始剤。 - 【請求項4】次式: の化合物から選ばれるフリーラジカル開始剤; 但し、式中のRおよびR1はC(6-13)アリール炭化水素基
および置換C(6-13)アリール炭化水素基から選ばれる一
価の基であり、互に一緒になって同じ炭素原子に結合し
ている場合には次式: を有する二価のアリール基から選ばれ、 R2は水素、C(1-8)アルキル、C(1-8)ハロアルキル、C
(1-8)アルコキシまたはC(6-13)アリールから選ばれる一
価の基であり、 R3はC(2-20)脂肪族不飽和炭化水素基、置換C(2-20)脂肪
族不飽和炭化水素基、C(4-20)脂環式不飽和炭化水素基
および置換(4-20)脂環式不飽和炭化水素基から選ばれ、 R4はR2およびR3基から選ばれ、 R5およびR6は二価のC(6-13)アリール炭化水素基および
置換C(6-13)アリール炭化水素基から選ばれ、 Xは−O−、−S−、−CH2−および から選ばれ、 aは0または1である。 - 【請求項5】次式を有する特許請求の範囲第4項記載の
開始剤。 - 【請求項6】次式を有する特許請求の範囲第4項記載の
開始剤。 - 【請求項7】次式を有する特許請求の範囲第4項記載の
開始剤。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/667,931 US4535174A (en) | 1984-11-02 | 1984-11-02 | Free-radical initiators and method for making |
| US667931 | 1984-11-02 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61120806A JPS61120806A (ja) | 1986-06-07 |
| JPH07644B2 true JPH07644B2 (ja) | 1995-01-11 |
Family
ID=24680263
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60244269A Expired - Lifetime JPH07644B2 (ja) | 1984-11-02 | 1985-11-01 | フリーラジカル開始剤 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4535174A (ja) |
| JP (1) | JPH07644B2 (ja) |
| CA (1) | CA1256890A (ja) |
| DE (1) | DE3538327A1 (ja) |
| FR (1) | FR2572729B1 (ja) |
| GB (1) | GB2166444B (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4677169A (en) * | 1984-11-02 | 1987-06-30 | General Electric Company | Silicone-organic block polymers and method for making |
| US4675426A (en) * | 1986-06-11 | 1987-06-23 | General Electric Company | Free-radical, initiators, curable compositions, and methods |
| IT1216719B (it) * | 1988-01-28 | 1990-03-08 | Milano | Composizioni termodegradabili abase di omo o copolimeri cristallini del propilene eprocedimento per effettuare la degradazione selettiva di tali omo e copolimeri. |
| US5189191A (en) * | 1989-11-27 | 1993-02-23 | General Electric Company | Free-radical generating aromatic diols, polycarbonates containing thermal labile groups and their conversion to polycarbonate block copolymers |
| JPH0692419B2 (ja) * | 1991-07-16 | 1994-11-16 | 信越化学工業株式会社 | シルエチレンオキサイドの製造方法 |
| MXPA97008152A (es) | 1997-10-23 | 2003-12-11 | Ct De Investigacion En Quimica | Metodo para la preparacion de nanocompositos compuestos de elastomeros dienicos y termoplasticos. |
| CA2834799C (en) * | 2011-06-22 | 2019-07-09 | Elantas Pdg, Inc. | Benzopinacol metalloester polymerization initiator |
| US20230312793A1 (en) * | 2020-09-04 | 2023-10-05 | Basf Coatings Gmbh | Copolymer Derived From Substituted Benzopinacol And Use Of The Same As Polymerization Initiator |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR1161094A (fr) * | 1955-08-17 | 1958-08-20 | Ici Ltd | Nouveau silane industriel et sa fabrication |
| DE1044080B (de) * | 1955-08-17 | 1958-11-20 | Ici Ltd | Verfahren zur Herstellung von (Tetramethylaethylendioxy)-dimethylsilan |
| US3256308A (en) * | 1962-03-05 | 1966-06-14 | Dow Chemical Co | 2-methyl-1, 3-dioxa-2-sila-cyclohept-5-ene |
| US3337598A (en) * | 1962-03-05 | 1967-08-22 | Dow Chemical Co | 2-methyl-2-phenyl-1, 3-dioxa-2-silacyclohept-5-ene |
| US3433819A (en) * | 1966-09-22 | 1969-03-18 | Du Pont | Hexasubstituted-2-sila-1,3-dioxolanes |
| US3839383A (en) * | 1967-09-08 | 1974-10-01 | Dynamit Nobel Ag | Hydrolysis-resistant unsaturated organic compounds containing hindered alkoxy or aryloxy groups |
| FR2094611A5 (ja) * | 1970-06-26 | 1972-02-04 | Aquitaine Petrole | |
| DE2113296A1 (de) * | 1971-03-19 | 1972-09-21 | Bayer Ag | Neue ringfoermige Hydroxylgruppenhaltige Siliciumverbindungen |
| DE2164482C3 (de) * | 1971-12-24 | 1980-07-31 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Initiatoren für radikalisch auszulösende Polymerisationsreaktionen |
| US3931355A (en) * | 1971-12-24 | 1976-01-06 | Bayer Aktiengesellschaft | Radical-initiated polymerization reactions and mixture |
| NL168232C (nl) * | 1976-07-17 | 1982-03-16 | Bayer Ag | Werkwijze voor het bereiden van hardbare harsmengsels, werkwijze voor het bereiden van daarvoor als initiator geschikte silylethers, alsmede uit deze harsmengsels vervaardigde gevormde voortbrengselen. |
| GB2088398A (en) * | 1980-12-03 | 1982-06-09 | Shell Int Research | 1,2-Bis(trialkylsiloxymethyl)- cyclopropanes and a Method for Preparing 1,2-Bis(trialkylsiloxy- methyl)cyclopropanes |
| DE3151444A1 (de) * | 1981-12-24 | 1983-07-07 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Neue silylether, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung als polymerisationsinitiatoren |
| DE3151442A1 (de) * | 1981-12-24 | 1983-07-07 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Einbrennlackbindemittel auf basis von polyestern und verfahren zu ihrer herstellung |
-
1984
- 1984-11-02 US US06/667,931 patent/US4535174A/en not_active Expired - Lifetime
-
1985
- 1985-06-05 GB GB08514146A patent/GB2166444B/en not_active Expired
- 1985-09-20 CA CA000491260A patent/CA1256890A/en not_active Expired
- 1985-10-28 DE DE19853538327 patent/DE3538327A1/de active Granted
- 1985-10-29 FR FR858516018A patent/FR2572729B1/fr not_active Expired
- 1985-11-01 JP JP60244269A patent/JPH07644B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3538327C2 (ja) | 1991-10-31 |
| US4535174A (en) | 1985-08-13 |
| GB2166444B (en) | 1988-07-27 |
| DE3538327A1 (de) | 1986-05-15 |
| JPS61120806A (ja) | 1986-06-07 |
| FR2572729B1 (fr) | 1989-03-31 |
| GB8514146D0 (en) | 1985-07-10 |
| GB2166444A (en) | 1986-05-08 |
| CA1256890A (en) | 1989-07-04 |
| FR2572729A1 (fr) | 1986-05-09 |
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