JPH073260A - 蛍光組成物及びｘ−線増強スクリーン - Google Patents
蛍光組成物及びｘ−線増強スクリーンInfo
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- C09K11/00—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
- C09K11/08—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials
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- C09K11/677—Germanates
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K4/00—Conversion screens for the conversion of the spatial distribution of X-rays or particle radiation into visible images, e.g. fluoroscopic screens
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
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-
- G—PHYSICS
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- G21K2004/10—Conversion screens for the conversion of the spatial distribution of X-rays or particle radiation into visible images, e.g. fluoroscopic screens with a protective film
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ハロゲン化銀が固有感度を示すスペクトル域
の電磁輻射を主として放出するチタン活性されたゲルマ
ニウム酸ハフニウムジルコニウム蛍光体を含む蛍光組成
物及び該蛍光組成物を含むＸ-線増強スクリーン。 【構成】 放出強度を最大にするため、ホスト金属の割
合は Ｄ1+xＧｅ1-x （但し、Ｄはジルコニウムとハフニウムとの合計であ
り、ｘは0.25乃至-0.70である）なる関係を満たす。
の電磁輻射を主として放出するチタン活性されたゲルマ
ニウム酸ハフニウムジルコニウム蛍光体を含む蛍光組成
物及び該蛍光組成物を含むＸ-線増強スクリーン。 【構成】 放出強度を最大にするため、ホスト金属の割
合は Ｄ1+xＧｅ1-x （但し、Ｄはジルコニウムとハフニウムとの合計であ
り、ｘは0.25乃至-0.70である）なる関係を満たす。
Description
【０００１】
【産業上の詳細な説明】本発明は新規な蛍光組成物に導
かれるものである。本発明は、蛍光組成物を含むＸ-線
増強スクリーンに関する。更に詳しく述べると、本発明
は、Ｘ-線の映像パターンを吸収し、ハロゲン化銀ラジオ
グラフィー要素を映像通りに露光すめため対応するパタ
ーンのより長波長の電磁輻射線を放出するのに使用され
る型の蛍光組成物及び蛍光スクリーンに関する。
かれるものである。本発明は、蛍光組成物を含むＸ-線
増強スクリーンに関する。更に詳しく述べると、本発明
は、Ｘ-線の映像パターンを吸収し、ハロゲン化銀ラジオ
グラフィー要素を映像通りに露光すめため対応するパタ
ーンのより長波長の電磁輻射線を放出するのに使用され
る型の蛍光組成物及び蛍光スクリーンに関する。
【０００２】
【従来の技術】クローガー(Kroger)等の米国特許第2,54
2,336号は、チタンを活性体として含有し且つジルコニウ
ム、ハフニウム、トリウム、ゲルマニウム又は錫の酸化物
の一種以上からなって、それに酸性酸化物又は塩基性酸
化物又は両者を添加してもよいマトリックスを有する蛍
光体を開示している。開示された塩基性酸化物は、ナトリ
ウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、リチウム、バリウ
ム、カルシウム、ストロンチウム、マグネシウム、ベリリウ
ム及び亜鉛の酸化物である。開示された酸性酸化物は、Ｓ
Ｏ3、Ｂ2Ｏ3、Ｐ2Ｏ5及びＳｉＯ2である。特に、チタン
で活性化された酸化ジルコニウム、錫酸マグネシウム、
ジルコン酸カルシウム及びリン酸ジルコニウムが夫々開
示されている。
2,336号は、チタンを活性体として含有し且つジルコニウ
ム、ハフニウム、トリウム、ゲルマニウム又は錫の酸化物
の一種以上からなって、それに酸性酸化物又は塩基性酸
化物又は両者を添加してもよいマトリックスを有する蛍
光体を開示している。開示された塩基性酸化物は、ナトリ
ウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、リチウム、バリウ
ム、カルシウム、ストロンチウム、マグネシウム、ベリリウ
ム及び亜鉛の酸化物である。開示された酸性酸化物は、Ｓ
Ｏ3、Ｂ2Ｏ3、Ｐ2Ｏ5及びＳｉＯ2である。特に、チタン
で活性化された酸化ジルコニウム、錫酸マグネシウム、
ジルコン酸カルシウム及びリン酸ジルコニウムが夫々開
示されている。
【０００３】チタンで活性化された酸化ゲルマニウムは
青色放出蛍光体であるが、本発明との関連で研究し下記
の比較例に含めた結果は、チタン活性化酸化ゲルマニウ
ムの放出強度が低いことを示した。
青色放出蛍光体であるが、本発明との関連で研究し下記
の比較例に含めた結果は、チタン活性化酸化ゲルマニウ
ムの放出強度が低いことを示した。
【０００４】チタンで活性化された酸化ハフニウムのピ
ーク放出は、スペクトルのより長波長（約475 mm）青色
部に認められたが、その全放出の大部分はスペクトルの
緑色域に拡がっていた。ブリクスナー（L.H.Brixner）
の「Ｌｎ2Ｈｆ2Ｏ7型ハフニウム酸希土類元素の構造と
ルミネッセンス性質」、Mat.Res.Bull.第19巻、第143-1
49頁、1984年は、ハフニウム酸希土類元素の活性体として
のＴｉ4の諸性質を報告した後、チタンで活性化された光
学グレードのハフニア(ＨｆＯ2)の性能は高水準である
が、光学グレードハフニアが高価なためスクリーン増強
用の蛍光体としては非実用的と考えられる旨を述べてい
る。光学グレードのハフニアは、ハフニアのモル当たりジ
ルコニア(ＺｒＯ2)を3ｘ10-4モル未満含有する。
ーク放出は、スペクトルのより長波長（約475 mm）青色
部に認められたが、その全放出の大部分はスペクトルの
緑色域に拡がっていた。ブリクスナー（L.H.Brixner）
の「Ｌｎ2Ｈｆ2Ｏ7型ハフニウム酸希土類元素の構造と
ルミネッセンス性質」、Mat.Res.Bull.第19巻、第143-1
49頁、1984年は、ハフニウム酸希土類元素の活性体として
のＴｉ4の諸性質を報告した後、チタンで活性化された光
学グレードのハフニア(ＨｆＯ2)の性能は高水準である
が、光学グレードハフニアが高価なためスクリーン増強
用の蛍光体としては非実用的と考えられる旨を述べてい
る。光学グレードのハフニアは、ハフニアのモル当たりジ
ルコニア(ＺｒＯ2)を3ｘ10-4モル未満含有する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の一目的は、高
い放出強度を示す新規な蛍光体を提供することである。
い放出強度を示す新規な蛍光体を提供することである。
【０００６】本発明の別の目的は、ハロゲン化銀が固有
感度を示すスペクトル域に主たる電磁輻射放出スペクト
ルをもった高放出強度を有する蛍光体組成物及びＸ-線
増強スクリーンを提供することである。
感度を示すスペクトル域に主たる電磁輻射放出スペクト
ルをもった高放出強度を有する蛍光体組成物及びＸ-線
増強スクリーンを提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の一面は、チタン
で活性化されたゲルマニウム酸ハフニウムジルコニウム
からなって、ハフニウム、ジルコニウム及びゲルマニウム
が Ｄ1+xＧｅ1-x (但しＤはジルコニウムとハフニウムとの合計であり、X
は0.25乃至-0.70である）なる関係を満たす蛍光組成物
に導かれる。
で活性化されたゲルマニウム酸ハフニウムジルコニウム
からなって、ハフニウム、ジルコニウム及びゲルマニウム
が Ｄ1+xＧｅ1-x (但しＤはジルコニウムとハフニウムとの合計であり、X
は0.25乃至-0.70である）なる関係を満たす蛍光組成物
に導かれる。
【０００８】本発明の別の面は、Ｘ-線を吸収し、ハロゲ
ン化銀が固有感度を示すスペクトル域に主たる電磁輻射
を放出できる蛍光体を含む蛍光層と支持体とからなる増
強スクリーンに導かれる。この増強スクリーンは、蛍光体
が上記の通りであることを特徴とする。
ン化銀が固有感度を示すスペクトル域に主たる電磁輻射
を放出できる蛍光体を含む蛍光層と支持体とからなる増
強スクリーンに導かれる。この増強スクリーンは、蛍光体
が上記の通りであることを特徴とする。
【０００９】元素の族及び周期に関する命名は、全て米
国化学会が採用した元素の周期律表の割り付けによる命
名を基礎とする。
国化学会が採用した元素の周期律表の割り付けによる命
名を基礎とする。
【００１０】ヒト組織をＸ-線検査する代表的な装置を
図１に示す。ラジオグラフィー検査対象の組織１、この
場合の乳房（胸）は、露出・圧縮装置３と露出グリッド
５との間に配置される。グリッドの下には露出記録装置
７が配置される。
図１に示す。ラジオグラフィー検査対象の組織１、この
場合の乳房（胸）は、露出・圧縮装置３と露出グリッド
５との間に配置される。グリッドの下には露出記録装置
７が配置される。
【００１１】この露出・圧縮装置は、輻射線入力窓９
（Ｘ-線発生管の出力窓)と出力窓１１（Ｘ線を対象物に
供給する入力窓)とからなり、共に実質的にＸ-線透過性
である。この出力窓は、検査時に乳房が十分圧縮された状
態に保持されるよう圧縮要素としても機能する。Ｘ-線透
過度の低い材料で形成された壁１３が入口窓に接合して
いて、窓と共に管又はその他の通常Ｘ-線源から放出さ
れるＸ-線の域を定める。図に焦点１５から発する様子を
概略的に示す。
（Ｘ-線発生管の出力窓)と出力窓１１（Ｘ線を対象物に
供給する入力窓)とからなり、共に実質的にＸ-線透過性
である。この出力窓は、検査時に乳房が十分圧縮された状
態に保持されるよう圧縮要素としても機能する。Ｘ-線透
過度の低い材料で形成された壁１３が入口窓に接合して
いて、窓と共に管又はその他の通常Ｘ-線源から放出さ
れるＸ-線の域を定める。図に焦点１５から発する様子を
概略的に示す。
【００１２】入力窓、出力窓及び組織を経てグリッドに
通る非散乱Ｘ-線を実線矢印１７で示す。Ｘ-線が組織内
の物体と衝突するとＸ-線の一部は吸収され、一部は方向
を変える。方向を変えた、即ち散乱されたＸ-線を破線矢
印１９で概略的に示す。
通る非散乱Ｘ-線を実線矢印１７で示す。Ｘ-線が組織内
の物体と衝突するとＸ-線の一部は吸収され、一部は方向
を変える。方向を変えた、即ち散乱されたＸ-線を破線矢
印１９で概略的に示す。
【００１３】グリッドにはベーン(vane)２１が備えられ
ている。このベーン２１はＸ-線が比較的浸透し難いも
のであり、非散乱Ｘ-線に対して平行に配列されている。
ベーンは程んど全ての非散乱Ｘ-線をさえぎらすにグリ
ッドを通過させる。僅かしか逸れなかったＸ-線もグリッ
ドを通過できる。最高に散乱されたＸ-線は、そのままに
しておくと映像の鮮鋭度を最高度に劣化させるが、これ
はベーンで遮ぎられて逸らされる。図１のベーンの厚み
及び間隔は、分り易くするため誇張して示している。ベ
ーンの構成と間隔とにより、露出記録装置に供給される
Ｘ-線の減衰と映像鮮鋭度とのバランスを保つことがで
きる。Ｘ-線の減衰を最小にするには、グリッド全体を除
くことが可能であるが、グリッドは普通は鮮鋭度の改善
に好適である。好適な露出グリッドは公知であって、商業
入手可能である。
ている。このベーン２１はＸ-線が比較的浸透し難いも
のであり、非散乱Ｘ-線に対して平行に配列されている。
ベーンは程んど全ての非散乱Ｘ-線をさえぎらすにグリ
ッドを通過させる。僅かしか逸れなかったＸ-線もグリッ
ドを通過できる。最高に散乱されたＸ-線は、そのままに
しておくと映像の鮮鋭度を最高度に劣化させるが、これ
はベーンで遮ぎられて逸らされる。図１のベーンの厚み
及び間隔は、分り易くするため誇張して示している。ベ
ーンの構成と間隔とにより、露出記録装置に供給される
Ｘ-線の減衰と映像鮮鋭度とのバランスを保つことがで
きる。Ｘ-線の減衰を最小にするには、グリッド全体を除
くことが可能であるが、グリッドは普通は鮮鋭度の改善
に好適である。好適な露出グリッドは公知であって、商業
入手可能である。
【００１４】図２に露出記録装置の詳細を示す。装置の
諸要素を圧縮して密に接触させるため使用する通常のケ
ース又はカセットは図に示していない。この装置は、三
つの分離可能な要素、すなわち、二重に被覆されたハロ
ゲン化銀ラジオグラフィー要素２３、ラジオグラフィー
要素と露出Ｘ-線源との間に配置する前面増強スクリー
ン２５及び背面増強スクリーン２７から構成される。図
に示すように、二重被覆のラジオグラフィー要素は、そ
の対向する主面上に被覆された下層３１及び３２を含む
支持体２９から構成される。ハロゲン化銀のエマルジョ
ン層３５及び３７は、夫々下層３１及び３３上にある。
オーバーコート層３６及び３９は、夫々エマルジョン層
３５及び３７上にある。
諸要素を圧縮して密に接触させるため使用する通常のケ
ース又はカセットは図に示していない。この装置は、三
つの分離可能な要素、すなわち、二重に被覆されたハロ
ゲン化銀ラジオグラフィー要素２３、ラジオグラフィー
要素と露出Ｘ-線源との間に配置する前面増強スクリー
ン２５及び背面増強スクリーン２７から構成される。図
に示すように、二重被覆のラジオグラフィー要素は、そ
の対向する主面上に被覆された下層３１及び３２を含む
支持体２９から構成される。ハロゲン化銀のエマルジョ
ン層３５及び３７は、夫々下層３１及び３３上にある。
オーバーコート層３６及び３９は、夫々エマルジョン層
３５及び３７上にある。
【００１５】図に示すように、前面の増強スクリーン
は、基材部４１と挿入層部４３、蛍光層４５及びオーバ
ーコート層４７から構成される。同様に裏面の増強スク
リーンは、図に示すように、基材部４９と挿入層部５
１、蛍光層５３及びオーバーコート層５５から構成され
る。そり防止層５７及び５９は、夫々前面及び裏面のス
クリーン基材部４１及び４９の主面上の蛍光層と反対の
側にある。
は、基材部４１と挿入層部４３、蛍光層４５及びオーバ
ーコート層４７から構成される。同様に裏面の増強スク
リーンは、図に示すように、基材部４９と挿入層部５
１、蛍光層５３及びオーバーコート層５５から構成され
る。そり防止層５７及び５９は、夫々前面及び裏面のス
クリーン基材部４１及び４９の主面上の蛍光層と反対の
側にある。
【００１６】使用時には、Ｘ-線は前面のスクリーンそ
り防止層５７と基材部４１を経由して映像記録装置に入
り、そこで遮られずに蛍光層４５に入る。Ｘ-線の一部は
前面スクリーン蛍光層に吸収される。残りのＸ-線はオー
バーコート層４７及び３６を通過する。Ｘ-線の小部分は
ハロゲン化銀エマルジョン層３５に吸収されて、エマル
ジョン層内に潜像を直接形成する。しかしながら、エマル
ジョン層３５が受けるＸ-線の大部分は、支持体２９とそ
の下層３１及び３３を経て残りのハロゲン化銀エマルジ
ョン層３７に入る。再度、Ｘ-線の小部分が残りのハロゲ
ン化銀エマルジョンに吸収され、このエマルジョン層に
潜像を直接形成する。ここでもエマルジョン層３７が受
けたＸ-線の大部分はオーバーコート層３９及び５５を
通過して裏面スクリーンの蛍光層５３に入る。裏面スク
リーン蛍光層に当たったＸ-線の大部分は、この層に吸
収される。
り防止層５７と基材部４１を経由して映像記録装置に入
り、そこで遮られずに蛍光層４５に入る。Ｘ-線の一部は
前面スクリーン蛍光層に吸収される。残りのＸ-線はオー
バーコート層４７及び３６を通過する。Ｘ-線の小部分は
ハロゲン化銀エマルジョン層３５に吸収されて、エマル
ジョン層内に潜像を直接形成する。しかしながら、エマル
ジョン層３５が受けるＸ-線の大部分は、支持体２９とそ
の下層３１及び３３を経て残りのハロゲン化銀エマルジ
ョン層３７に入る。再度、Ｘ-線の小部分が残りのハロゲ
ン化銀エマルジョンに吸収され、このエマルジョン層に
潜像を直接形成する。ここでもエマルジョン層３７が受
けたＸ-線の大部分はオーバーコート層３９及び５５を
通過して裏面スクリーンの蛍光層５３に入る。裏面スク
リーン蛍光層に当たったＸ-線の大部分は、この層に吸
収される。
【００１７】露出Ｘ-線は主に蛍光層４５及び５３に吸
収されて蛍光層からより長波長の電磁輻射として再放出
され、ハロゲン化銀ラジオグラフィー要素２３によって
更に容易に吸収される。前面の増強スクリーン蛍光層が
放出する長波長の電磁輻射は、隣接するハロゲン化銀エ
マルジョン層３５を露光する。裏面の増強スクリーン蛍
光層５３が放出する長波長の電磁輻射は、隣接するハロ
ゲン化銀エマルジョン層３７を露光する。これらの長波
長電磁輻射の露光が、ハロゲン化銀エマルジョン層内の
潜像形成の主な原因である。
収されて蛍光層からより長波長の電磁輻射として再放出
され、ハロゲン化銀ラジオグラフィー要素２３によって
更に容易に吸収される。前面の増強スクリーン蛍光層が
放出する長波長の電磁輻射は、隣接するハロゲン化銀エ
マルジョン層３５を露光する。裏面の増強スクリーン蛍
光層５３が放出する長波長の電磁輻射は、隣接するハロ
ゲン化銀エマルジョン層３７を露光する。これらの長波
長電磁輻射の露光が、ハロゲン化銀エマルジョン層内の
潜像形成の主な原因である。
【００１８】以上の説明から、蛍光層５３より上にある
全ての層がある程度Ｘ-線透過性でなければならないこ
とが明らかである。ハロゲン化銀エマルジョン層は有用
にも一部のＸ-線を吸収するが、唯一その他の有用Ｘ-線
吸収は前面増強スクリーン蛍光層内で生起する。すなわ
ち、裏面増強スクリーン上にある支持体、オーバーコー
ト及び下層は、可能な限り露出Ｘ-線に対して殆ど透明
になるように選択される。
全ての層がある程度Ｘ-線透過性でなければならないこ
とが明らかである。ハロゲン化銀エマルジョン層は有用
にも一部のＸ-線を吸収するが、唯一その他の有用Ｘ-線
吸収は前面増強スクリーン蛍光層内で生起する。すなわ
ち、裏面増強スクリーン上にある支持体、オーバーコー
ト及び下層は、可能な限り露出Ｘ-線に対して殆ど透明
になるように選択される。
【００１９】前面の増強スクリーン蛍光層とそれに隣接
するエマルジョン層とを分離するオーバーコート層３６
及び４７、並びに裏面の増強スクリーン蛍光層とそれに
隣接するエマルジョン層とを分離するオーバーコート層
３９及び５５は、放出される長波長の電磁輻射に対して
透過性であると好ましいことも明らかである。オーバー
コート層３６、４７、３９及び５５は、Ｘ-線及び長波
長の電磁輻射の双方に透明なので、他の理由で好適では
あるが映像の形成には必要でなく、これを省略すること
もできる。
するエマルジョン層とを分離するオーバーコート層３６
及び４７、並びに裏面の増強スクリーン蛍光層とそれに
隣接するエマルジョン層とを分離するオーバーコート層
３９及び５５は、放出される長波長の電磁輻射に対して
透過性であると好ましいことも明らかである。オーバー
コート層３６、４７、３９及び５５は、Ｘ-線及び長波
長の電磁輻射の双方に透明なので、他の理由で好適では
あるが映像の形成には必要でなく、これを省略すること
もできる。
【００２０】図２に、増強スクリーン対と共に使用され
る二重被覆のラジオグラフィー要素を示しているが、単
一の増強スクリーンと単一ハロゲン化銀エマルジョン層
を含むラジオグラフィー要素とを映像形成に使用できる
ことは明らかである。前面の増強スクリーン２５と、支
持体２９上にあるラジオグラフィー要素の層も省略する
ことができる。この簡単化された配列は、マンモグラフ
ィー検査に今日最も広く使用されている配列である。し
かしながら、胸部検査や腹部検査の大部分は、図２に示
すような全組装置７を使用している。
る二重被覆のラジオグラフィー要素を示しているが、単
一の増強スクリーンと単一ハロゲン化銀エマルジョン層
を含むラジオグラフィー要素とを映像形成に使用できる
ことは明らかである。前面の増強スクリーン２５と、支
持体２９上にあるラジオグラフィー要素の層も省略する
ことができる。この簡単化された配列は、マンモグラフ
ィー検査に今日最も広く使用されている配列である。し
かしながら、胸部検査や腹部検査の大部分は、図２に示
すような全組装置７を使用している。
【００２１】本発明は、Ｘ-線を吸収して、ハロゲン化
銀が固有感度を示す波長域の電磁輻射を主として放出で
きる増強スクリーンを提供する。すなわち、本発明の増
強スクリーンは、Ｘ-線の映像パターンを吸収して、対
応する映像パターンを主にスペクトルの近紫外域（300-
400 nm）及び青色域（400-500 nm）の波長で放出するこ
とができるものである。このため、スペクトル増感して
いないハロゲン化銀ラジオグラフィー要素と組み合わせ
て、この増強スクリーンを使用することができる。しか
しながら、全てのハロゲン化銀ラジオグラフィー要素
は、他の域での露光のためにスペクトル増感したものを
含めて、スペクトルの近紫外部及び青色部に固有感度を
有するので、この増強スクリーンはスペクトル増感染料
を含まぬハロゲン化銀ラジオグラフィー要素と共に使用
することに限定されるものではないことを指摘しておく
必要がある。更には、感度向上のためスペクトルの青色
部に吸収ピークを有するスペクトル増感剤を使用するこ
とも公知である。
銀が固有感度を示す波長域の電磁輻射を主として放出で
きる増強スクリーンを提供する。すなわち、本発明の増
強スクリーンは、Ｘ-線の映像パターンを吸収して、対
応する映像パターンを主にスペクトルの近紫外域（300-
400 nm）及び青色域（400-500 nm）の波長で放出するこ
とができるものである。このため、スペクトル増感して
いないハロゲン化銀ラジオグラフィー要素と組み合わせ
て、この増強スクリーンを使用することができる。しか
しながら、全てのハロゲン化銀ラジオグラフィー要素
は、他の域での露光のためにスペクトル増感したものを
含めて、スペクトルの近紫外部及び青色部に固有感度を
有するので、この増強スクリーンはスペクトル増感染料
を含まぬハロゲン化銀ラジオグラフィー要素と共に使用
することに限定されるものではないことを指摘しておく
必要がある。更には、感度向上のためスペクトルの青色
部に吸収ピークを有するスペクトル増感剤を使用するこ
とも公知である。
【００２２】本発明は、効率的にＸ-線に吸収し且つス
ペクトルの300-500 nm域で主に放出できる蛍光層をもっ
た増強スクリーンの提供により可能になったのである。
詳しく述べると、本発明は、チタンで活性化したゲルマ
ニウム酸ハフニウムジルコニウム蛍光体が、電磁スペク
トルの300-500 nm域で主に放出することができ、一方で
は、第４族ホスト金属対ゲルマニウムの比を適正に選択
すると高い放出効率も示すという知見に導かれる。この
放出出力は、事実、蛍光体としてチタン活性化ゲルマア
（ＧｅＯ2）で実現される出力よりも大きく、かつま
た、ハロゲン化銀の固有感度域では蛍光体として第４族
ホスト金属（ハフニウム及びジルコニウム）対ゲルマニ
ウムの比が1.67を超えるチタン活性化ゲルマニウム酸ハ
フニウムジルコニウムを用いて実現される出力よりも大
である。換言すれば、第４族ホスト金属対ゲルマニウム
の比を特定の範囲に限定したチタン活性化ゲルマニウム
酸ハフニウムジルコニウム蛍光体は、所望の300乃至500
nmの主放出スペクトルを与えると同時に秀れた放出強
度を与えることが全く予期されずに認識されたのであ
る。 主にスペクトルの300乃至500 nmで放出すること
ができ、かつ、このスペクトル域の放出強度を高め得る
チタン活性化ゲルマニウム酸ハフニウムジルコニウム蛍
光体は、 （I） Ｄ1+xＧｅ1-x （但し上式Ｉ中、Ｄはジルコニウムとハフニウム（すな
わち第４族ホスト金属）の合計であり、ｘは0.25乃至-
0.70の範囲内である）なる金属間関係を満すものである
が、これが全く予期されずに知見されたのである。本発
明の特に好適な一形態では、ｘは0.20までであって0.15
までが最適であり、ｘは-0.50より負数度が小さい（す
なわち−0.50より大）ことが好ましい。
ペクトルの300-500 nm域で主に放出できる蛍光層をもっ
た増強スクリーンの提供により可能になったのである。
詳しく述べると、本発明は、チタンで活性化したゲルマ
ニウム酸ハフニウムジルコニウム蛍光体が、電磁スペク
トルの300-500 nm域で主に放出することができ、一方で
は、第４族ホスト金属対ゲルマニウムの比を適正に選択
すると高い放出効率も示すという知見に導かれる。この
放出出力は、事実、蛍光体としてチタン活性化ゲルマア
（ＧｅＯ2）で実現される出力よりも大きく、かつま
た、ハロゲン化銀の固有感度域では蛍光体として第４族
ホスト金属（ハフニウム及びジルコニウム）対ゲルマニ
ウムの比が1.67を超えるチタン活性化ゲルマニウム酸ハ
フニウムジルコニウムを用いて実現される出力よりも大
である。換言すれば、第４族ホスト金属対ゲルマニウム
の比を特定の範囲に限定したチタン活性化ゲルマニウム
酸ハフニウムジルコニウム蛍光体は、所望の300乃至500
nmの主放出スペクトルを与えると同時に秀れた放出強
度を与えることが全く予期されずに認識されたのであ
る。 主にスペクトルの300乃至500 nmで放出すること
ができ、かつ、このスペクトル域の放出強度を高め得る
チタン活性化ゲルマニウム酸ハフニウムジルコニウム蛍
光体は、 （I） Ｄ1+xＧｅ1-x （但し上式Ｉ中、Ｄはジルコニウムとハフニウム（すな
わち第４族ホスト金属）の合計であり、ｘは0.25乃至-
0.70の範囲内である）なる金属間関係を満すものである
が、これが全く予期されずに知見されたのである。本発
明の特に好適な一形態では、ｘは0.20までであって0.15
までが最適であり、ｘは-0.50より負数度が小さい（す
なわち−0.50より大）ことが好ましい。
【００２３】チタン活性体は、第4族ホスト金属酸化物と
ゲルマニウムの蛍光体に対して従来使用されている濃度
で使用可能である。放出強度の改善には、チタン活性体が （II） ［Ｄ1+xＧｅ1-x］1-yＴｉ2y (但し、Ｄ及びｘは前に定義した通りであり、2ｙは5ｘ10
-4乃至0.15である）なる関係を満たすことが好ましい。
本発明の特に好適に形態では、2ｙは5ｘ10-3以上であ
り、かつ、0.07までであることが好ましい。
ゲルマニウムの蛍光体に対して従来使用されている濃度
で使用可能である。放出強度の改善には、チタン活性体が （II） ［Ｄ1+xＧｅ1-x］1-yＴｉ2y (但し、Ｄ及びｘは前に定義した通りであり、2ｙは5ｘ10
-4乃至0.15である）なる関係を満たすことが好ましい。
本発明の特に好適に形態では、2ｙは5ｘ10-3以上であ
り、かつ、0.07までであることが好ましい。
【００２４】第４族ホスト金属のハフニウムとジルコニ
ウムの比は広範に変えることができる。蛍光体中のハフ
ニウムの割合を増加させるとＸ-線の吸収は良好になる
が、ハフニウムをジルコニウムに置き換えても、蛍光体
放出に対する効果は、例えばゲルマニウムを欠く単斜系
のチタン活性化ハフニウムでハフニウムをジルコニウム
に置き換えた場合と比べて驚くほど小さいのである。
ウムの比は広範に変えることができる。蛍光体中のハフ
ニウムの割合を増加させるとＸ-線の吸収は良好になる
が、ハフニウムをジルコニウムに置き換えても、蛍光体
放出に対する効果は、例えばゲルマニウムを欠く単斜系
のチタン活性化ハフニウムでハフニウムをジルコニウム
に置き換えた場合と比べて驚くほど小さいのである。
【００２５】入手できる最も純度の高い形態のハフニウ
ムを、不純物として以外に意図的にジルコニウムを加え
ずに本発明の実施に使用することができるが、本発明の
諸利点実現のため高純度ハフニウムを用いてかなりの出
費を招く必要はない。例えば、ジルコニウム濃度が3ｘ1
0-4モルＺｒ／モルＨｆ未満の光学グレードのハフニア
は、本発明の実施に用いる必要もないし好適でもない。
ムを、不純物として以外に意図的にジルコニウムを加え
ずに本発明の実施に使用することができるが、本発明の
諸利点実現のため高純度ハフニウムを用いてかなりの出
費を招く必要はない。例えば、ジルコニウム濃度が3ｘ1
0-4モルＺｒ／モルＨｆ未満の光学グレードのハフニア
は、本発明の実施に用いる必要もないし好適でもない。
【００２６】高い放出水準、但し最高放出水準よりは低
い水準が受け入れ可能な場合には、第４族ホスト金属と
して、不純物としての外にハフニウムを意図的に含めな
いジルコニウムを使用することができる。すなわち、ハ
フニウム対ジルコニウムの達成可能な全割合が本発明の
考慮内にある。
い水準が受け入れ可能な場合には、第４族ホスト金属と
して、不純物としての外にハフニウムを意図的に含めな
いジルコニウムを使用することができる。すなわち、ハ
フニウム対ジルコニウムの達成可能な全割合が本発明の
考慮内にある。
【００２７】本発明の好適形態では、第４族ホスト金属
の割合は （III） Ｈｆ1-zＺｒz （但し式III中、ｚは4ｘ10-4乃至＜0.5である）の関係
を満足させる。上記関係で、ｚは、1ｘ10-3以上が最も
好ましく、2ｘ10-3以上が最適であり、かつ、0.4までの範
囲が最も好ましく、0.3までの範囲が最適である。
の割合は （III） Ｈｆ1-zＺｒz （但し式III中、ｚは4ｘ10-4乃至＜0.5である）の関係
を満足させる。上記関係で、ｚは、1ｘ10-3以上が最も
好ましく、2ｘ10-3以上が最適であり、かつ、0.4までの範
囲が最も好ましく、0.3までの範囲が最適である。
【００２８】ハフニウム、ジルコニウム、ゲルマニウム及
びチタンの好適比が全て満たされた際には、蛍光体の金
属は次の関係で記されている。
びチタンの好適比が全て満たされた際には、蛍光体の金
属は次の関係で記されている。
【００２９】 (IV) ［（Ｈｆ1-zＺｒz）1+xＧｅ1-x］1-yＴｉ2y IV 式中、 ｘは0.25乃至-0.70であり;2yは5ｘ10-4乃至0.
15であり、かつ、;ｙは４ｘ10-4乃至<0.5である。
15であり、かつ、;ｙは４ｘ10-4乃至<0.5である。
【００３０】更には、Ｘは0.2までが最も好ましく、0.1
5までが最適であり、かつ、負値は-0.50未満が最も好ま
しい;2ｙは5ｘ10-3以上が最も好ましく、かつ、0.07まで
が最も好ましい；ｚは1ｘ10-3以上が最も好ましく、2ｘ
10-3以上が最適であり、かつ、0.40までが最も好まし
く、0.30までが最適である。
5までが最適であり、かつ、負値は-0.50未満が最も好ま
しい;2ｙは5ｘ10-3以上が最も好ましく、かつ、0.07まで
が最も好ましい；ｚは1ｘ10-3以上が最も好ましく、2ｘ
10-3以上が最適であり、かつ、0.40までが最も好まし
く、0.30までが最適である。
【００３１】本発明の好適実施態様の蛍光体は、本質的
にゲルマニウム、ハフニウム、ジルコニウム、チタン及
び酸素から構成される。ハフニウム、ジルコニウム及び
ゲルマニウムは蛍光体中で夫々＋４の酸化状態にあるの
で、存在するこれらの金属の各原子に対しては2個の酸
素原子があることになる。すなわち、本発明の特に好適
な形態では、関係式II及びIVの金属比と平行して、蛍光
体の組成は次式の関係を満足する。
にゲルマニウム、ハフニウム、ジルコニウム、チタン及
び酸素から構成される。ハフニウム、ジルコニウム及び
ゲルマニウムは蛍光体中で夫々＋４の酸化状態にあるの
で、存在するこれらの金属の各原子に対しては2個の酸
素原子があることになる。すなわち、本発明の特に好適
な形態では、関係式II及びIVの金属比と平行して、蛍光
体の組成は次式の関係を満足する。
【００３２】 （V） ［Ｄ1+xＧｅ1-x］1-yＴｉ2yＯ4 （VI） ［（Ｈｆ1-zＺｒz）1+xＧｅ1-x］1-yＴｉ2yＯ4 但上記二式中、D,X,2ｙ及びｚは前に定義した何れかの
値をとることができる。
値をとることができる。
【００３３】前記本発明のチタンで活性化したゲルマニ
ウム酸ハフニウムジルコニウムは、一旦本発明の組成要
求を満たすように形成されたならば、その他の点では任
意の通常型増強スクリーンを形成するため使用可能であ
る。この好適構成では、増強スクリーンは、支持体上に
粒子形態のチタン活性化ゲルマニウム酸ハフニウムジル
コニウム蛍光体と該蛍光体粒子の結合剤を含む蛍光層を
被覆したものから構成される。チタン活性化ゲルマニウ
ム酸ハフニウムジルコニウム蛍光体は、任意の通常粒子
径範囲及び分布で蛍光層に使用することができる。平均
粒径が小さいほど鋭い映像を実現することが一般に認め
られている。本発明のチタン活性化ゲルマニウム酸ハフ
ニウムジルコニウム蛍光体の好適な平均粒径は0.5乃至4
0 mmの範囲内であって、1乃至20 mmが最適である。
ウム酸ハフニウムジルコニウムは、一旦本発明の組成要
求を満たすように形成されたならば、その他の点では任
意の通常型増強スクリーンを形成するため使用可能であ
る。この好適構成では、増強スクリーンは、支持体上に
粒子形態のチタン活性化ゲルマニウム酸ハフニウムジル
コニウム蛍光体と該蛍光体粒子の結合剤を含む蛍光層を
被覆したものから構成される。チタン活性化ゲルマニウ
ム酸ハフニウムジルコニウム蛍光体は、任意の通常粒子
径範囲及び分布で蛍光層に使用することができる。平均
粒径が小さいほど鋭い映像を実現することが一般に認め
られている。本発明のチタン活性化ゲルマニウム酸ハフ
ニウムジルコニウム蛍光体の好適な平均粒径は0.5乃至4
0 mmの範囲内であって、1乃至20 mmが最適である。
【００３４】所望ならば、このチタン活性化ゲルマニウ
ム酸ハフニウムジルコニウム蛍光体粒子を他の従来の蛍
光体粒子と混合して、ある特定用途に最適な性質をもっ
た増強スクリーンを形成できることは勿論認められる。
一を超える蛍光体含有層を含む増強スクリーン構成も、
チタン活性化ゲルマニウム酸ハフニウムジルコニウム蛍
光体粒子が一以上の蛍光体含有層内に存在するならば可
能である。
ム酸ハフニウムジルコニウム蛍光体粒子を他の従来の蛍
光体粒子と混合して、ある特定用途に最適な性質をもっ
た増強スクリーンを形成できることは勿論認められる。
一を超える蛍光体含有層を含む増強スクリーン構成も、
チタン活性化ゲルマニウム酸ハフニウムジルコニウム蛍
光体粒子が一以上の蛍光体含有層内に存在するならば可
能である。
【００３５】蛍光層は、チタン活性化ゲルマニウム酸ハ
フニウムジルコニウムに構造的密着性を与える十分な結
合剤を含有する。蛍光層に用いる結合剤は、蛍光スクリ
ーンに従来使用されているものと同じものにすることが
できる。斯かる結合剤は、一般に、Ｘ-線及び放出輻射
に透過性の有機ポリマー、例えばポリビニルアルコール
のナトリウム0-スルホベンズアルデヒドアセタール;ク
ロロスルホン化ポリエチレン;高分子量ビスフェノール
ポリカーボネート及びビスフェノールポリカーボネート
とポリ酸化アルキレンとのコポリマー;水性エタノール
可溶性ナイロン;ポリ（アクリル酸アルキル及びメタク
リル酸アルキル）並びにアクリル酸アルキル及びメタク
リル酸アルキルとアクリル酸及びメタクリル酸とのコポ
リマー；ポリビニルブチラール；及びポリウレタンエラ
ストマーから選択される。上記並びにその他の有用な結
合剤は、米国特許第2,502,529号；同第2,887,379号；同
第3,617,285号；同第3,300,310号；同第3,300,311号及
び同第3,743,833号；並びにリサーチデイスクロージヤ
ー（Research Disclosure）第154巻、1977年2月、第154
44項及び第182巻、1979年6月に開示されている。特に好
適な増強スクリーン結合剤はポリウレタンであって、例
えばグッドリッチケミカル社のエステン（Estane）、ICI
社パーミュセンディビジヨン（Permuthane Division）
のパーミュセン（Permuthane）及びカージル社（Cargil
l,Inc.）のカージル（Cargill）である。
フニウムジルコニウムに構造的密着性を与える十分な結
合剤を含有する。蛍光層に用いる結合剤は、蛍光スクリ
ーンに従来使用されているものと同じものにすることが
できる。斯かる結合剤は、一般に、Ｘ-線及び放出輻射
に透過性の有機ポリマー、例えばポリビニルアルコール
のナトリウム0-スルホベンズアルデヒドアセタール;ク
ロロスルホン化ポリエチレン;高分子量ビスフェノール
ポリカーボネート及びビスフェノールポリカーボネート
とポリ酸化アルキレンとのコポリマー;水性エタノール
可溶性ナイロン;ポリ（アクリル酸アルキル及びメタク
リル酸アルキル）並びにアクリル酸アルキル及びメタク
リル酸アルキルとアクリル酸及びメタクリル酸とのコポ
リマー；ポリビニルブチラール；及びポリウレタンエラ
ストマーから選択される。上記並びにその他の有用な結
合剤は、米国特許第2,502,529号；同第2,887,379号；同
第3,617,285号；同第3,300,310号；同第3,300,311号及
び同第3,743,833号；並びにリサーチデイスクロージヤ
ー（Research Disclosure）第154巻、1977年2月、第154
44項及び第182巻、1979年6月に開示されている。特に好
適な増強スクリーン結合剤はポリウレタンであって、例
えばグッドリッチケミカル社のエステン（Estane）、ICI
社パーミュセンディビジヨン（Permuthane Division）
のパーミュセン（Permuthane）及びカージル社（Cargil
l,Inc.）のカージル（Cargill）である。
【００３６】蛍光層を被覆する支持体は、従来の如何な
るタイプのものであってもよい。支持体は、フィルム支
持体が最も一般的である。映像の鮮鋭度を最高水準にす
るには、支持体は代表的には透明なものが選択され、黒
色バッキングの露出用カセットに搭載される。可能最高
スピードを求める際は、チタニアや硫酸バリウムを装荷
または被覆した支持体のような白色支持体が使用され
る。スピードと鮮鋭度のバランスを達成可能な最高水準
にする特に好適な反射支持体は、ロバーツ（Roberts）
等の米国特許第4,912,333号に開示されている反射性ミ
クロレンズレット（microlenslet）を含有するものであ
る。
るタイプのものであってもよい。支持体は、フィルム支
持体が最も一般的である。映像の鮮鋭度を最高水準にす
るには、支持体は代表的には透明なものが選択され、黒
色バッキングの露出用カセットに搭載される。可能最高
スピードを求める際は、チタニアや硫酸バリウムを装荷
または被覆した支持体のような白色支持体が使用され
る。スピードと鮮鋭度のバランスを達成可能な最高水準
にする特に好適な反射支持体は、ロバーツ（Roberts）
等の米国特許第4,912,333号に開示されている反射性ミ
クロレンズレット（microlenslet）を含有するものであ
る。
【００３７】前記諸特徴に適合する従来増強スクリーン
の特徴、例えばオーバーコート、下層等の何れか一つ又
はその組み合わせも勿論使用可能である。通常のラジオ
グラフィー要素及び増強スクリーン構成は、共にリサー
チデイスクロージャー、第184巻、1979年8月、第18431
項に開示されている。リサーチデスクロージャーはケネ
スメーソンバブリケーシヨン社（Kenneth Mason Public
ation,Ltd.英国、エムスワース、ハンプシャーPO10 7D
D）から刊行されている。
の特徴、例えばオーバーコート、下層等の何れか一つ又
はその組み合わせも勿論使用可能である。通常のラジオ
グラフィー要素及び増強スクリーン構成は、共にリサー
チデイスクロージャー、第184巻、1979年8月、第18431
項に開示されている。リサーチデスクロージャーはケネ
スメーソンバブリケーシヨン社（Kenneth Mason Public
ation,Ltd.英国、エムスワース、ハンプシャーPO10 7D
D）から刊行されている。
【００３８】本発明の特に好適な一形態として、ラジオ
グラフィー要素を含む分離したハロゲン化銀エマルジョ
ン層との併用を意図した本発明の諸要求を満たす増強ス
クリーンがあるが、この形態ではラッケイ（Luckey)、ロ
ス（Roth）等の米国特許第4,710,637号の前面増強スク
リーン又は裏面増強スクリーンに使用される従来蛍光体
の何れかを上記の蛍光体に置き換えることができる。デ
ボア（De Boer）等の米国特許第4,637,898号；ラッケイ
（Luckey）、クリアー（Cleare）等の米国特許第4,259,
588号；ラッケイの米国特許第4,032,471号；及びロバー
ツ等の前引用特許に開示された従来増強スクリーンの何
れかを同様に変更にすることも考えられる。
グラフィー要素を含む分離したハロゲン化銀エマルジョ
ン層との併用を意図した本発明の諸要求を満たす増強ス
クリーンがあるが、この形態ではラッケイ（Luckey)、ロ
ス（Roth）等の米国特許第4,710,637号の前面増強スク
リーン又は裏面増強スクリーンに使用される従来蛍光体
の何れかを上記の蛍光体に置き換えることができる。デ
ボア（De Boer）等の米国特許第4,637,898号；ラッケイ
（Luckey）、クリアー（Cleare）等の米国特許第4,259,
588号；ラッケイの米国特許第4,032,471号；及びロバー
ツ等の前引用特許に開示された従来増強スクリーンの何
れかを同様に変更にすることも考えられる。
【００３９】この蛍光体の効用を特にＸ-線増強スクリ
ーンを引用して説明してきたが、所望ならば別の最終用
途に適用することもできる。例えば、この蛍光体は紫外
線又は陰極線で励起させることも可能であり、所望なら
ばランプや陰極線管に使用することができる。
ーンを引用して説明してきたが、所望ならば別の最終用
途に適用することもできる。例えば、この蛍光体は紫外
線又は陰極線で励起させることも可能であり、所望なら
ばランプや陰極線管に使用することができる。
【００４０】
【実施例】以下の特定実施例を参照すると本発明を更に
良好に理解することができる。添字Ｅを付した数字の例
は本発明の好適実施様すなわち実施例を表わし、添字Ｃ
を付した数字の例は種々の比較目的で含めた比較例であ
る。
良好に理解することができる。添字Ｅを付した数字の例
は本発明の好適実施様すなわち実施例を表わし、添字Ｃ
を付した数字の例は種々の比較目的で含めた比較例であ
る。
【００４１】使用測定法の説明 蛍光体粉末をアルミニウムプランシエット(高さ2 mmｘ
直径24 mm）に約 1g/cm2の被覆量で充填し、該試料を濾
過したＸ-線に露出して該蛍光体粉末の相対的蛍光応答
を測定した。Ｘ-線源は、ＸＲＤ 6TM発生器内のタングス
テンターゲットであり、28 kVp及び30 mAで操作した。フ
ィルタは、1.31 mmのアルミニウムと0.05 mmのモリブデ
ンとから構成された。ルミネッセンス応答は、ＩＰ-28
TM光増幅器を用い、500Ｖバイアスで測定した。光増幅
管の電圧はケースレイ（KeithleyT M）高インピーダンス
エレクトロメータで測定したが、試料の総光出力に比例
する。
直径24 mm）に約 1g/cm2の被覆量で充填し、該試料を濾
過したＸ-線に露出して該蛍光体粉末の相対的蛍光応答
を測定した。Ｘ-線源は、ＸＲＤ 6TM発生器内のタングス
テンターゲットであり、28 kVp及び30 mAで操作した。フ
ィルタは、1.31 mmのアルミニウムと0.05 mmのモリブデ
ンとから構成された。ルミネッセンス応答は、ＩＰ-28
TM光増幅器を用い、500Ｖバイアスで測定した。光増幅
管の電圧はケースレイ（KeithleyT M）高インピーダンス
エレクトロメータで測定したが、試料の総光出力に比例
する。
【００４２】放出スペクトルは、インスツルメンツS.A.
モデルＨＲ320TMグレーテイングスペクトル計をプリン
ストンアプライドリサーチ（Princeton Applied Reseac
h）モデル1421TM増強線形ダイオードアレイ検出器と組
み合わせ装置で得た。データの取得及び処理は、プリン
ストンアプライドリサーチモデル1460ＭＡIIITM光学的
多チセンネルアナライザーにより制御した。スペクトル
は、検出器スペクトログラフ装置量のスペクトル応答に
対して補正した。前述のように試料をプランシエット内
に配置し、エンラフ-ノニアスデフラクテイス(Enraf-No
nious Deffractis)582TM定電圧発生装置にて、70 kVp 及
び40 mAで操作するタングステン-ターゲットからのＸ-
線を照射した。試料のルミネンス応答の大きさによって
は、0.8 mmのアルミニウムフィルタを使用した。
モデルＨＲ320TMグレーテイングスペクトル計をプリン
ストンアプライドリサーチ（Princeton Applied Reseac
h）モデル1421TM増強線形ダイオードアレイ検出器と組
み合わせ装置で得た。データの取得及び処理は、プリン
ストンアプライドリサーチモデル1460ＭＡIIITM光学的
多チセンネルアナライザーにより制御した。スペクトル
は、検出器スペクトログラフ装置量のスペクトル応答に
対して補正した。前述のように試料をプランシエット内
に配置し、エンラフ-ノニアスデフラクテイス(Enraf-No
nious Deffractis)582TM定電圧発生装置にて、70 kVp 及
び40 mAで操作するタングステン-ターゲットからのＸ-
線を照射した。試料のルミネンス応答の大きさによって
は、0.8 mmのアルミニウムフィルタを使用した。
【００４３】
【例1-9】蛍光対中の第4族ホストの濃度は 濃度以上 ［（Ｈｆ0.9974Ｚｒ0.0026）(1+x)Ｇｅ(1-x)］0.9875Ｔ
ｉ0.025Ｏ4 （x=0.0乃至0.5） これらの例は、第４族ホスト金属のモル濃度がゲルマニ
ウムのモル濃度以上であるようなチタン活性化ゲルマニ
ウム酸ハフニウムジルコニウム蛍光対のルミネセンス応
答を示すものである。
ｉ0.025Ｏ4 （x=0.0乃至0.5） これらの例は、第４族ホスト金属のモル濃度がゲルマニ
ウムのモル濃度以上であるようなチタン活性化ゲルマニ
ウム酸ハフニウムジルコニウム蛍光対のルミネセンス応
答を示すものである。
【００４４】例１−９（実施例１−６及び比較例７−
９）は、4.0gのＧｅＯ2（イーグルピッチャー（Eagle P
icher）、化学グレード 99.999％）を用いて調製した。
適当モル量のＲＧＳ ＨｆＯＣｌ2・8Ｈ2Ｏ（テレダイン
ウオーチャンアルバニー（Teledyne Wah Chang Alban
y）、Ｚｒ＝0.26モル％）及び（ＮＨ4）2ＴｉＯ(C2O4）
2・Ｈ2Ｏ（ジョンソンマセイ、プラトロニク（Johnson M
atthey,Puratronic）99.998％）を250 mlの蒸留水に溶
かした。この溶液を濾過したあと、激しく撹拌しながら
固体ＧｅＯ2を加えた。溶液のｐＨが約8.9になるまで濃
ＮＨ4ＯＨ（イーストマンコダク社（Easetman Kodak Co
mpany）、ＡＣＳ試薬）を徐々に添加した。この結果得
られた沈殿を真空濾過して捕集し、95℃で乾燥した。乾
燥した材料を100 mlのメタノールで2回洗浄し、95℃で
乾燥した。
９）は、4.0gのＧｅＯ2（イーグルピッチャー（Eagle P
icher）、化学グレード 99.999％）を用いて調製した。
適当モル量のＲＧＳ ＨｆＯＣｌ2・8Ｈ2Ｏ（テレダイン
ウオーチャンアルバニー（Teledyne Wah Chang Alban
y）、Ｚｒ＝0.26モル％）及び（ＮＨ4）2ＴｉＯ(C2O4）
2・Ｈ2Ｏ（ジョンソンマセイ、プラトロニク（Johnson M
atthey,Puratronic）99.998％）を250 mlの蒸留水に溶
かした。この溶液を濾過したあと、激しく撹拌しながら
固体ＧｅＯ2を加えた。溶液のｐＨが約8.9になるまで濃
ＮＨ4ＯＨ（イーストマンコダク社（Easetman Kodak Co
mpany）、ＡＣＳ試薬）を徐々に添加した。この結果得
られた沈殿を真空濾過して捕集し、95℃で乾燥した。乾
燥した材料を100 mlのメタノールで2回洗浄し、95℃で
乾燥した。
【００４５】試料の一部をメノウの乳鉢内で粉砕した
後、10 mlのアルミナルツボに入れてアルミナ蓋を覆
せ、ボックス炉内1200℃で4時間焼成した。
後、10 mlのアルミナルツボに入れてアルミナ蓋を覆
せ、ボックス炉内1200℃で4時間焼成した。
【００４６】これらの例の相対的ルミネッセンス強度を
表１に記す。便宜的参照点として比較例９のルミネッセ
ンス強度を100にした。
表１に記す。便宜的参照点として比較例９のルミネッセ
ンス強度を100にした。
【００４７】
【表１】
【００４８】 表１例 Ｘ 相対強度 最大ピーク（nm） （比較例９＝100） 実施例１Ｅ 0.00 3224 425 ２Ｅ 0.02 3267 ３Ｅ 0.05 2948 ４Ｅ 0.11 1771 ５Ｅ 0.16 1095 440 ６Ｅ 0.23 643 比較例７Ｃ 0.31 333 450 ８Ｃ 0.38 190 ９Ｃ 0.50 100 465 表１から、ゲルマニウムが高水準であるほどルミネッセ
ンスの相対強度は高いことが明らかである。ピーク放出
の波長は425 nmから465 nmに徐々に移行し、放出帯域の
全バンド幅（最大放出の両側で最大放出水準の半値で定
められるバンド）は100-125 nmの範囲である。実施例１
Ｅのチタン活性化ＨｆＧｅＯ4（x=O）組成物は、Ｘ-線
粉末回折法により灰重石の結晶構造を有することが証明
された。残りの例では正方晶構造が維持されていた。
ンスの相対強度は高いことが明らかである。ピーク放出
の波長は425 nmから465 nmに徐々に移行し、放出帯域の
全バンド幅（最大放出の両側で最大放出水準の半値で定
められるバンド）は100-125 nmの範囲である。実施例１
Ｅのチタン活性化ＨｆＧｅＯ4（x=O）組成物は、Ｘ-線
粉末回折法により灰重石の結晶構造を有することが証明
された。残りの例では正方晶構造が維持されていた。
【００４９】X=1.0である(すなわち、ハフニア蛍光体)同
様なチタン活性化蛍光体を比較すると、中心が480 nmの
広帯域の放出が観察された。ピーク放出は500 nmに近い
ので、この放出の大部分はスペクトルの緑色（500-600
nm）部にあった。勿論、スペクトル増感剤を含まないハ
ロゲン化銀ラジオグラフィー要素は、この緑色放出を吸
収できなかった。Xを0.25以下に維持すると、ピーク放出
のみならず、前述の全幅放出バンドの程んど全てをハロ
ゲン化銀の固有感度のスペクトル域内に保持す
様なチタン活性化蛍光体を比較すると、中心が480 nmの
広帯域の放出が観察された。ピーク放出は500 nmに近い
ので、この放出の大部分はスペクトルの緑色（500-600
nm）部にあった。勿論、スペクトル増感剤を含まないハ
ロゲン化銀ラジオグラフィー要素は、この緑色放出を吸
収できなかった。Xを0.25以下に維持すると、ピーク放出
のみならず、前述の全幅放出バンドの程んど全てをハロ
ゲン化銀の固有感度のスペクトル域内に保持す
【００５０】る。
【例 10-15】 蛍光体の中のＧｅ濃度は第４属ホスト濃
度以上 ［(Hf 0.9974 Zr 0.0026)(1+x)Ge(1-x)］0.9875 Ti
0.025O4 (ｘ＝0.0乃至-1.0） これらの例は、ゲルマニウムのモル濃度が第４属ホスト
金属のモル濃度以上であるチタン活性化ゲルマニウム酸
ハフニウムジルコニウム蛍光体のルミネッセンス応答を
示すものである。
度以上 ［(Hf 0.9974 Zr 0.0026)(1+x)Ge(1-x)］0.9875 Ti
0.025O4 (ｘ＝0.0乃至-1.0） これらの例は、ゲルマニウムのモル濃度が第４属ホスト
金属のモル濃度以上であるチタン活性化ゲルマニウム酸
ハフニウムジルコニウム蛍光体のルミネッセンス応答を
示すものである。
【００５１】例１０−１３は、4.0 gのＧｅＯ２（イー
グルピッチャー、化学グレード 99.999％）を用いて調
製された。適当モル量のＲＧＳ ＨｆＯＣｌ2・8Ｈ2Ｏ
（テレダインウォーチャンアルバニー Ｚｒ＝0.26モル
％）と（ＮＨ4）2ＴｉＯ（Ｃ2Ｏ4）2・Ｈ2Ｏ（ジョンソ
ンマセイ、プラトロニク、99.998％）を250 mlの蒸留水
に溶かした。2 gの塩化アンモニウム（イーストマンコ
ダク社、ＡＣＳ試薬）をこの溶液に加えた。比較例１４
では、8 gのＧｅＯ2と4 gの塩化アンモニウムを使用し
た。溶液を濾過した後、激しく撹拌しながら固体のＧｅＯ
2を加えた。この溶液のｐＨが約10になるまで、濃ＮＨ4
ＯＨ（イーストマンコダク社、ＡＣＳ試薬）を徐々に添
加した。この結果得られた沈殿を真空濾過により捕集し
て95℃で乾燥し、この乾燥した材料を100 mlのメタノー
ルで２回洗浄して空気乾燥した。
グルピッチャー、化学グレード 99.999％）を用いて調
製された。適当モル量のＲＧＳ ＨｆＯＣｌ2・8Ｈ2Ｏ
（テレダインウォーチャンアルバニー Ｚｒ＝0.26モル
％）と（ＮＨ4）2ＴｉＯ（Ｃ2Ｏ4）2・Ｈ2Ｏ（ジョンソ
ンマセイ、プラトロニク、99.998％）を250 mlの蒸留水
に溶かした。2 gの塩化アンモニウム（イーストマンコ
ダク社、ＡＣＳ試薬）をこの溶液に加えた。比較例１４
では、8 gのＧｅＯ2と4 gの塩化アンモニウムを使用し
た。溶液を濾過した後、激しく撹拌しながら固体のＧｅＯ
2を加えた。この溶液のｐＨが約10になるまで、濃ＮＨ4
ＯＨ（イーストマンコダク社、ＡＣＳ試薬）を徐々に添
加した。この結果得られた沈殿を真空濾過により捕集し
て95℃で乾燥し、この乾燥した材料を100 mlのメタノー
ルで２回洗浄して空気乾燥した。
【００５２】この試料をメノウ乳鉢内で粉砕した後、20
mlのアルミナルツボに入れ、アルミナ蓋をしてボック
ス炉内1000℃で4 時間焼成した。次に、この試料を再粉
砕して10 mlのアルミナルツボに入れ、管状炉内1100℃
で4時間加熱した。ＧｅＯ2の融点は比較的低く、溶融Ｇ
ｅＯ2の揮発度は高いので、この焼成温度は制限され
た。
mlのアルミナルツボに入れ、アルミナ蓋をしてボック
ス炉内1000℃で4 時間焼成した。次に、この試料を再粉
砕して10 mlのアルミナルツボに入れ、管状炉内1100℃
で4時間加熱した。ＧｅＯ2の融点は比較的低く、溶融Ｇ
ｅＯ2の揮発度は高いので、この焼成温度は制限され
た。
【００５３】Ｘ-線粉末解析試験は、ｘが負値であると
試料はＨｆＧｅＯ4（ｘ＝０）と六方晶ＧｅＯ2との混合
物であり、この組成領域では固溶体はそう顕著には存在
しないことを示した。比較例１４では、六方晶形態に加
えて少量の正方晶ＧｅＯ2が観察された。
試料はＨｆＧｅＯ4（ｘ＝０）と六方晶ＧｅＯ2との混合
物であり、この組成領域では固溶体はそう顕著には存在
しないことを示した。比較例１４では、六方晶形態に加
えて少量の正方晶ＧｅＯ2が観察された。
【００５４】チタン活性化正方晶ＧｅＯ2（比較例１
５）は以下のように調製した。比較例１４の乾燥した前
駆体をアルミナルツボに入れ、ボックス炉内1000℃で4
時間焼成した。次に、この粉末をメノウ乳鉢内で１重量
％のＫ2ＣＯ3（アルファベントロン（Alfa Ventron）、
超高純度グレード）と共に粉砕した。この試料に１重量
％のＫ2ＣＯ3を追加して再粉砕し、ボックス炉内890℃
で18時間再加熱した。Ｘ-線回折試験の結果、六方晶構
造が正方晶に転化したことが確認された。
５）は以下のように調製した。比較例１４の乾燥した前
駆体をアルミナルツボに入れ、ボックス炉内1000℃で4
時間焼成した。次に、この粉末をメノウ乳鉢内で１重量
％のＫ2ＣＯ3（アルファベントロン（Alfa Ventron）、
超高純度グレード）と共に粉砕した。この試料に１重量
％のＫ2ＣＯ3を追加して再粉砕し、ボックス炉内890℃
で18時間再加熱した。Ｘ-線回折試験の結果、六方晶構
造が正方晶に転化したことが確認された。
【００５５】全試料で青色のルミネッセンスが観察され
た。これらの相対ルミネッセンス強度を表２に示す。
た。これらの相対ルミネッセンス強度を表２に示す。
【００５６】
【表２】
【００５７】 表２ 例 ｘ 相対強度 （比較例９＝100） 実施例１０Ｅ 0.00 1748 １１Ｅ -0.11 1210 １２Ｅ -0.31 1219 １３Ｅ -0.70 648 比較例１４Ｃ -1.00 43 １５Ｃ * -1.00 286 *正方晶ＧｅＯ2 この相対ルミネッセンス強度は、ｘの値が-0.70よりさ
らに負側で鋭く低下し、ｘの負値が-0.50より小さい
（ｘが-0.5より大）の時、ルミネセンス水準は最高にな
った。チタン活性化ゲルマニアの結晶学的形態の違いも
ルミネセンスに影響を及ぼすが、ハフニウムの存在量の
影響が優勢であった。
らに負側で鋭く低下し、ｘの負値が-0.50より小さい
（ｘが-0.5より大）の時、ルミネセンス水準は最高にな
った。チタン活性化ゲルマニアの結晶学的形態の違いも
ルミネセンスに影響を及ぼすが、ハフニウムの存在量の
影響が優勢であった。
【００５８】
【例 １６−３１】 チタン活性化水準の変化 （Ｈｆ0.9974 Ｚｒ0.0026Ｇｅ)(1-y)Ｔｉ 2yＯ4 (2ｙ＝0.001乃至0.162） これらの例は、チタン添加水準を変化させた時の有効性
を示すものである。オキシ塩化ハフニウム溶液（485 ml
の蒸留水に205ｇのＲＧＳテレダインウォーチャンアル
バニー；0.26モル％のＺｒ）と水酸化ナトリウム溶液
（485 mlの蒸留水に44.5ｇのイーストマンコダク社ＡＣ
Ｓ試薬）とを急速撹拌した蒸留水2000 mlに同時に添加
して含水ハフニア前駆体を調製した。この結果得られる
ゼラチン状材料を真空濾過して捕集し、51ｃｍの減圧下
にロータリーエバポレータ上100℃で8時間乾燥した。
を示すものである。オキシ塩化ハフニウム溶液（485 ml
の蒸留水に205ｇのＲＧＳテレダインウォーチャンアル
バニー；0.26モル％のＺｒ）と水酸化ナトリウム溶液
（485 mlの蒸留水に44.5ｇのイーストマンコダク社ＡＣ
Ｓ試薬）とを急速撹拌した蒸留水2000 mlに同時に添加
して含水ハフニア前駆体を調製した。この結果得られる
ゼラチン状材料を真空濾過して捕集し、51ｃｍの減圧下
にロータリーエバポレータ上100℃で8時間乾燥した。
【００５９】含水ハフニア前駆体を適当量のＧｅＯ
2（カウェッキベリルコインダストリーズ(Kawecki Bery
lco Industries)以降ＫＢＩと称す。99.999％）、Ｔｉ
Ｏ2（アルドリッチ(Aldrich)、99.99％）及び11重量％
のＬｉ2ＭｏＯ4（エサー(Aesar)、99％）と組み合わせ
た。実施例２２では、8.4751ｇの含水ハフニア、1.4642
ｇのＧｅＯ2、0.0228ｇのＴｉＯ2及び0.5463ｇのＬｉ2
ＭｏＯ4を一緒にしてメノウの乳鉢及び乳棒で粉砕し
た。これを10 mlのアルミナルツボに入れ、アルミナ蓋
で覆い、ボックス炉内1100℃で6時間焼成した。冷却
後、この試料を150 mlの蒸留水で洗浄してフラックスを
溶解し、95℃で乾燥した後500℃に再加熱した。
2（カウェッキベリルコインダストリーズ(Kawecki Bery
lco Industries)以降ＫＢＩと称す。99.999％）、Ｔｉ
Ｏ2（アルドリッチ(Aldrich)、99.99％）及び11重量％
のＬｉ2ＭｏＯ4（エサー(Aesar)、99％）と組み合わせ
た。実施例２２では、8.4751ｇの含水ハフニア、1.4642
ｇのＧｅＯ2、0.0228ｇのＴｉＯ2及び0.5463ｇのＬｉ2
ＭｏＯ4を一緒にしてメノウの乳鉢及び乳棒で粉砕し
た。これを10 mlのアルミナルツボに入れ、アルミナ蓋
で覆い、ボックス炉内1100℃で6時間焼成した。冷却
後、この試料を150 mlの蒸留水で洗浄してフラックスを
溶解し、95℃で乾燥した後500℃に再加熱した。
【００６０】この組成物は、Ｘ-線粉末回折法によると
灰重石の結晶構造を有していた。チタンで活性化した組
成物の放出ピークは、これらの例でのｙ値の全域で425
nmに留まった。
灰重石の結晶構造を有していた。チタンで活性化した組
成物の放出ピークは、これらの例でのｙ値の全域で425
nmに留まった。
【００６１】これら例の相対ルミネッセンス強度を表３
に示す。
に示す。
【００６２】
【表３】
【００６３】 表３ 例 ｘ 相対強度 （比較例９＝100） 実施例１６Ｅ 0.001 2457 １７Ｅ 0.0025 2890 １８Ｅ 0.005 3124 １９Ｅ 0.010 3333 ２０Ｅ 0.013 3400 ２１Ｅ 0.017 3410 ２２Ｅ 0.020 3443 ２３Ｅ 0.025 3543 ２４Ｅ 0.030 3467 ２５Ｅ 0.041 3376 ２６Ｅ 0.051 3290 ２７Ｅ 0.065 3110 ２８Ｅ 0.078 2948 ２９Ｅ 0.105 2748 ３０Ｅ 0.133 2490 比較例３１Ｃ 0.162 2181 ルミネッセンス出力は、チタン濃度の関数として或る範
囲で変化することが観察された。しかしながら、高水準の
ルミネッセンスは0.15までのチタン濃度で観察され、0.0
05乃至0.07のチタン濃度が最適性能を示した。
囲で変化することが観察された。しかしながら、高水準の
ルミネッセンスは0.15までのチタン濃度で観察され、0.0
05乃至0.07のチタン濃度が最適性能を示した。
【００６４】
【例３２−４６】 ジルコニウム水準の変化 （Ｈｆ1-zＺｒz）0.9875Ｇｅ0.9875 Ｔｉ 0.025Ｏ４ （ｚ＝2.76×10-4乃至1.00） これらの例の目的は、ルミネッセンス出力がチタン活性
化ゲルマニウム酸ハフニウムジルコニウム蛍光体中のジ
ルコニウム濃度に関係することを示すことである。試料
は、例１６−３１（実施例１６−３０及び比較例３１）
に記した好適濃度範囲の中間濃度でチタンを含有する。
化ゲルマニウム酸ハフニウムジルコニウム蛍光体中のジ
ルコニウム濃度に関係することを示すことである。試料
は、例１６−３１（実施例１６−３０及び比較例３１）
に記した好適濃度範囲の中間濃度でチタンを含有する。
【００６５】3.5ｇのＧｅＯ２（イーグルピッチャー、
電子グレード 99.9999％）を用いて各試料を調製した。
適当モル量のＨｆＯＣｌ2・8Ｈ2Ｏと（ＮＨ4）2ＴｉＯ
（Ｃ2Ｏ4）2・Ｈ2Ｏ（アルドリッチゴールドラベル、9
9.998％）とを250 mlの蒸留水に溶かして溶液を濾過し
た。実施例３２−３５では、光学グレードＨｆＯＣｌ2
・8Ｈ2Ｏ（テレダインウォーチャンアルバニー；Ｚｒ
0.0276モル％）とＲＧＳＨｆＯＣｌ2・8Ｈ2Ｏ（テレダ
インウォーチャンアルバニー；Ｚｒ 0.26モル％）との
組み合わせを用いた。残りの実施例では、ＲＧＳ Ｈｆ
ＯＣｌ2・8Ｈ２ＯとＲＧＳ ＺｒＯＣｌ2・8Ｈ2Ｏ（テ
レダインウォーチャンアルバニー；Ｈｆ0.0042モル％）
との組み合わせを用いた。激しい撹拌下の溶液に固体の
ＧｅＯ2を加えた後、7.5 mlの濃ＮＨ4ＯＨ（イーストマ
ンコダク社 ＡＣＳ試薬）を徐々に添加した。この結果
得られた沈殿を真空濾過して補集し、95℃で乾燥した。
この乾燥材料を30 mlの蒸留水で30分間洗浄した後、95
℃で再乾燥した。各粉末をメノウの乳鉢内で11重量％の
Ｌｉ2ＭｏＯ4（エサー、99％）と共に粉砕した後、10ml
のアルミナルツボに入れてアルミナ蓋をして、ボックス
炉内1100℃で6時間にわたり焼成した。冷却後、試料を1
50 mlの蒸留水で洗浄してフラックスを溶かし、95℃で
乾燥後に500℃に再加熱した。
電子グレード 99.9999％）を用いて各試料を調製した。
適当モル量のＨｆＯＣｌ2・8Ｈ2Ｏと（ＮＨ4）2ＴｉＯ
（Ｃ2Ｏ4）2・Ｈ2Ｏ（アルドリッチゴールドラベル、9
9.998％）とを250 mlの蒸留水に溶かして溶液を濾過し
た。実施例３２−３５では、光学グレードＨｆＯＣｌ2
・8Ｈ2Ｏ（テレダインウォーチャンアルバニー；Ｚｒ
0.0276モル％）とＲＧＳＨｆＯＣｌ2・8Ｈ2Ｏ（テレダ
インウォーチャンアルバニー；Ｚｒ 0.26モル％）との
組み合わせを用いた。残りの実施例では、ＲＧＳ Ｈｆ
ＯＣｌ2・8Ｈ２ＯとＲＧＳ ＺｒＯＣｌ2・8Ｈ2Ｏ（テ
レダインウォーチャンアルバニー；Ｈｆ0.0042モル％）
との組み合わせを用いた。激しい撹拌下の溶液に固体の
ＧｅＯ2を加えた後、7.5 mlの濃ＮＨ4ＯＨ（イーストマ
ンコダク社 ＡＣＳ試薬）を徐々に添加した。この結果
得られた沈殿を真空濾過して補集し、95℃で乾燥した。
この乾燥材料を30 mlの蒸留水で30分間洗浄した後、95
℃で再乾燥した。各粉末をメノウの乳鉢内で11重量％の
Ｌｉ2ＭｏＯ4（エサー、99％）と共に粉砕した後、10ml
のアルミナルツボに入れてアルミナ蓋をして、ボックス
炉内1100℃で6時間にわたり焼成した。冷却後、試料を1
50 mlの蒸留水で洗浄してフラックスを溶かし、95℃で
乾燥後に500℃に再加熱した。
【００６６】これらの組成物は、Ｘ-線粉末回折法によ
ると灰重石結晶構造を有していた。放出スペクトルは、
系列内の全試料共同様であった。最大ピークが425 nm
（ｚ＝0.000276）から430 nm（ｚ＝1.00）に僅かに移動
することが観察されただけである。全幅放出帯域（最大
放出水準の半値で定義される）は、全試料共105-110 nm
であった。これらの実施例の相対ルミネッセンス強度を
表４に示す。
ると灰重石結晶構造を有していた。放出スペクトルは、
系列内の全試料共同様であった。最大ピークが425 nm
（ｚ＝0.000276）から430 nm（ｚ＝1.00）に僅かに移動
することが観察されただけである。全幅放出帯域（最大
放出水準の半値で定義される）は、全試料共105-110 nm
であった。これらの実施例の相対ルミネッセンス強度を
表４に示す。
【００６７】
【表４】
【００６８】 表４ 実施例 ｚ 相対強度 （比較例9＝100） ３２Ｅ 0.000276 4243 ３３Ｅ 0.0004 4162 ３４Ｅ 0.001 4210 ３５Ｅ 0.0026 4262 ３６Ｅ 0.005 4262 ３７Ｅ 0.01 4343 ３８Ｅ 0.02 4243 ３９Ｅ 0.05 4352 ４０Ｅ 0.10 4410 ４１Ｅ 0.20 4095 ４２Ｅ 0.30 4043 ４３Ｅ 0.40 3819 ４４Ｅ 0.50 3643 ４５Ｅ 0.75 3443 ４６Ｅ 0.999958 3367 相対ルミネッセンス出力はジルコニウムの全水準で高い
が、＜0.50のｚ値で高目の性能が得られた。ｚが0.40ま
での時、最高水準の性能が達成された。
が、＜0.50のｚ値で高目の性能が得られた。ｚが0.40ま
での時、最高水準の性能が達成された。
【００６９】
【例47-51】 蛍光体調製物中のフラックス量の変化 ［Ｈｆ0.9975Ｚｒ0.0025］0.995Ｇｅ0.995Ｔｉ0.01Ｏ4 これらの例の目的は、チタン活性化ＨｆＧｅＯ4のルミ
ネッセンス出力、粒径及び結晶化度に対しＬｉ2ＭｏＯ4
フラックス量の変化が及ぼす効果を示すことである。
ネッセンス出力、粒径及び結晶化度に対しＬｉ2ＭｏＯ4
フラックス量の変化が及ぼす効果を示すことである。
【００７０】以下のようにしてゲルマニウム酸ハフニウ
ムジルコニウム前駆体を調製した。75.830ｇのＲＧＳ
ＨｆＯＣｌ2・8Ｈ２Ｏ（テレダインウォーチャンアルバ
ニー；Ｚｒ0.26モル％）と0.55ｇの（ＮＨ4）2ＴｉＯ
（Ｃ2Ｏ4）2・Ｈ2Ｏ（アルドリッチゴールドラベル、9
9.998％）とを500 mlの蒸留水に溶かした。濾過後、該
溶液を激しく撹拌しながら20ｇの固体ＧｅＯ2（ＫＢ
Ｉ、99.999％）を加えた。25mlの濃ＮＨ4ＯＨ（イース
トマンコダク社、ＡＣＳ試薬）を徐々に添加すると、ゼ
ラチン状の沈殿が生成した。この沈殿を真空濾過して補
集し、95℃で乾燥した。この乾燥材料を150 mlの蒸留水
で30分間洗浄して95℃で再乾燥した。
ムジルコニウム前駆体を調製した。75.830ｇのＲＧＳ
ＨｆＯＣｌ2・8Ｈ２Ｏ（テレダインウォーチャンアルバ
ニー；Ｚｒ0.26モル％）と0.55ｇの（ＮＨ4）2ＴｉＯ
（Ｃ2Ｏ4）2・Ｈ2Ｏ（アルドリッチゴールドラベル、9
9.998％）とを500 mlの蒸留水に溶かした。濾過後、該
溶液を激しく撹拌しながら20ｇの固体ＧｅＯ2（ＫＢ
Ｉ、99.999％）を加えた。25mlの濃ＮＨ4ＯＨ（イース
トマンコダク社、ＡＣＳ試薬）を徐々に添加すると、ゼ
ラチン状の沈殿が生成した。この沈殿を真空濾過して補
集し、95℃で乾燥した。この乾燥材料を150 mlの蒸留水
で30分間洗浄して95℃で再乾燥した。
【００７１】前述の説明から、少過剰のゲルマニウムを
導入すると標式を反映しない分離したゲルマニウム相が
少量生成することが明らかである。
導入すると標式を反映しない分離したゲルマニウム相が
少量生成することが明らかである。
【００７２】該前駆体の5グラム部を種々部数のＬｉＭ
ｏＯ4（エサー、99％）と共にメノウ乳鉢内で粉砕した
後、10 mlのアルミナルツボに入れてアルミナ蓋を覆
せ、ボックス炉内1000℃で6時間にわたり焼成した。冷
却後、試料を150 mlの蒸留水で洗浄してフラックスを溶
かし、95℃で乾燥した後500℃に再加熱した。
ｏＯ4（エサー、99％）と共にメノウ乳鉢内で粉砕した
後、10 mlのアルミナルツボに入れてアルミナ蓋を覆
せ、ボックス炉内1000℃で6時間にわたり焼成した。冷
却後、試料を150 mlの蒸留水で洗浄してフラックスを溶
かし、95℃で乾燥した後500℃に再加熱した。
【００７３】Ｘ-線粉末回折法により、全試料中に灰重
石結晶構造が認められた。これらの例の相対ルミネッセ
ンス強度を表５に示す。
石結晶構造が認められた。これらの例の相対ルミネッセ
ンス強度を表５に示す。
【００７４】
【表５】
【００７５】 表 ５ 例 フラックス 相対強度 重量 ％ （比較例9＝100） 比較例４７Ｅ＊ 無し 43 実施例４８Ｅ 5.5 2767 ４９Ｅ 11 3100 ５０Ｅ 44 2590 ５１Ｅ 88 1152 ＊ 調製失敗、実施例５２を参照のこと 相対ルミネッセンス出力強度は、Ｌｉ2ＭｏＯ4約11重量
％にピークがあり、その後はフラックス濃度の増加と共
に減少する。このフラックス調製物は、低焼成温度では
チタン活性化ゲルマニウム酸ハフニウムジルコニウムの
均一な2-8 mm未凝集粒子となる。フラックスの無い比較
例４７ではルミネッセンス強度が低くなったが、下記の
実施例５２は、フラックスが無くとも高目の焼成温度を
用いることにより本発明の有用な蛍光体の製造が可能で
あることを示している。
％にピークがあり、その後はフラックス濃度の増加と共
に減少する。このフラックス調製物は、低焼成温度では
チタン活性化ゲルマニウム酸ハフニウムジルコニウムの
均一な2-8 mm未凝集粒子となる。フラックスの無い比較
例４７ではルミネッセンス強度が低くなったが、下記の
実施例５２は、フラックスが無くとも高目の焼成温度を
用いることにより本発明の有用な蛍光体の製造が可能で
あることを示している。
【００７６】
【実施例５２−５９】 フラックス化合物の変更 （Ｈｆ0.9974Ｚｒ0.0026）0.995Ｇｅ0.995 Ｔｉ 0.01Ｏ
４ これらの実施例の目的は、本発明の諸要求を満たすチタ
ン活性化ゲルマニウム酸ハフニウムジルコニウムの調製
に種々のフラックスが適用可能なることを示すことであ
る。
４ これらの実施例の目的は、本発明の諸要求を満たすチタ
ン活性化ゲルマニウム酸ハフニウムジルコニウムの調製
に種々のフラックスが適用可能なることを示すことであ
る。
【００７７】例４７−５１のようにゲルマニウム酸ハフ
ニウムジルコニウム前駆体を調製した。
ニウムジルコニウム前駆体を調製した。
【００７８】該前駆体の5グラム部をメノウ乳鉢内で下
記フラックスの一つと共に粉砕した。1重量％のＬｉＦ
（ジョンソンマセイ、プラトロニク）、1重量％のＬｉ2
ＣＯ3（アルファ、超高純）、11重量％のＮａ2ＭｏＯ4
（エサー、試薬）、11重量％のＮａ2ＷＯ4（イーストマ
ンコダク社、脱水ＡＣＳ試薬）、11重量％のＬｉ2Ｍｏ
Ｏ4（エサー、99.9％）及び11重量％のＫ2ＷＯ4（エサ
ー、99.9％）。この混合物を10 mlのアルミナルツボに
入れてアルミナ蓋で覆い、ボックス炉内1100℃で6時間
にわたり焼成した。冷却後、試料を150 mlの蒸留水で洗
浄してフラックスを溶かし、95℃で乾燥した後、500℃
に再加熱した。
記フラックスの一つと共に粉砕した。1重量％のＬｉＦ
（ジョンソンマセイ、プラトロニク）、1重量％のＬｉ2
ＣＯ3（アルファ、超高純）、11重量％のＮａ2ＭｏＯ4
（エサー、試薬）、11重量％のＮａ2ＷＯ4（イーストマ
ンコダク社、脱水ＡＣＳ試薬）、11重量％のＬｉ2Ｍｏ
Ｏ4（エサー、99.9％）及び11重量％のＫ2ＷＯ4（エサ
ー、99.9％）。この混合物を10 mlのアルミナルツボに
入れてアルミナ蓋で覆い、ボックス炉内1100℃で6時間
にわたり焼成した。冷却後、試料を150 mlの蒸留水で洗
浄してフラックスを溶かし、95℃で乾燥した後、500℃
に再加熱した。
【００７９】これら実施例の相対ルミネッセンス強度を
表６に示す。
表６に示す。
【００８０】
【実施例６０−６８】 フラックス化合物の変更 （Ｈｆ0.9975Ｚｒ0.0025）0.995Ｇｅ0.995 Ｔｉ 0.01Ｏ
４ これらの実施例の目的は、本発明の諸要求を満たすゲル
マニウム酸ハフニウムジルコニウム蛍光体のルミネッセ
ンス出力に対する追加フラックスの効果を示すことであ
る。
４ これらの実施例の目的は、本発明の諸要求を満たすゲル
マニウム酸ハフニウムジルコニウム蛍光体のルミネッセ
ンス出力に対する追加フラックスの効果を示すことであ
る。
【００８１】ゲルマニウム酸ハフニウムジルコニウム前
駆体は以下のようにして調製した。167.8ｇのＲＧＳ
ＨｆＯＣｌ2・8Ｈ２Ｏ（テレダインウォーチャンアルバ
ニー；Ｚｒ0.26モル％）と1.302ｇの（ＮＨ4）2ＴｉＯ
（Ｃ2Ｏ4）2・Ｈ2Ｏ（ジョンソンマセイ、プラトロニ
カ、99.998％）とを500 mlの蒸留水に溶かした。濾過
後、激しく撹拌した溶液に42.86ｇの固体ＧｅＯ2（イー
グルピッチャー、化学グレード、99.999％）を加えた。
78 mlの濃ＮＨ4ＯＨ（イーストマンコダク社、ＡＣＳ試
薬）を徐々に添加するとゼラチン状の沈殿が生成した。
この沈殿を真空濾過して補集し、95℃で乾燥した。この
乾燥材料を150 mlの蒸留水で45分間洗浄して95℃で再乾
燥した。
駆体は以下のようにして調製した。167.8ｇのＲＧＳ
ＨｆＯＣｌ2・8Ｈ２Ｏ（テレダインウォーチャンアルバ
ニー；Ｚｒ0.26モル％）と1.302ｇの（ＮＨ4）2ＴｉＯ
（Ｃ2Ｏ4）2・Ｈ2Ｏ（ジョンソンマセイ、プラトロニ
カ、99.998％）とを500 mlの蒸留水に溶かした。濾過
後、激しく撹拌した溶液に42.86ｇの固体ＧｅＯ2（イー
グルピッチャー、化学グレード、99.999％）を加えた。
78 mlの濃ＮＨ4ＯＨ（イーストマンコダク社、ＡＣＳ試
薬）を徐々に添加するとゼラチン状の沈殿が生成した。
この沈殿を真空濾過して補集し、95℃で乾燥した。この
乾燥材料を150 mlの蒸留水で45分間洗浄して95℃で再乾
燥した。
【００８２】
【実施例６０】5グラム部の上記前駆体をメノウ乳鉢内
で6重量％のＫ2ＭｏＯ4（その調製についてはゲートハ
ウス(Gatehouse)及びレベレット(Leverett)、J.Chem.So
c.(A) p.849(1969)を参照されたい）と共に粉砕した
後、10 mlのアルミナルツボに入れてアルミナ蓋で覆
い、ボックス炉内950℃で6時間にわたり焼成した。冷却
後、試料を150 mlの蒸留水で洗浄してフラックスを溶か
し、95℃で乾燥した。
で6重量％のＫ2ＭｏＯ4（その調製についてはゲートハ
ウス(Gatehouse)及びレベレット(Leverett)、J.Chem.So
c.(A) p.849(1969)を参照されたい）と共に粉砕した
後、10 mlのアルミナルツボに入れてアルミナ蓋で覆
い、ボックス炉内950℃で6時間にわたり焼成した。冷却
後、試料を150 mlの蒸留水で洗浄してフラックスを溶か
し、95℃で乾燥した。
【００８３】
【実施例６１】4.5グラム部の上記前駆体をメノウ乳鉢
内で7重量％のＬｉＢＯ2（ジョンソンアセイ）と共に粉
砕した後、10 mlのアルミナルツボに入れてアルミナ蓋
で覆い、ボックス炉内950℃で6時間にわたり焼成した。
冷却後、試料を150 mlの蒸留水で洗浄してフラックスを
溶かし、95℃で乾燥した。
内で7重量％のＬｉＢＯ2（ジョンソンアセイ）と共に粉
砕した後、10 mlのアルミナルツボに入れてアルミナ蓋
で覆い、ボックス炉内950℃で6時間にわたり焼成した。
冷却後、試料を150 mlの蒸留水で洗浄してフラックスを
溶かし、95℃で乾燥した。
【００８４】
【実施例６２−６７】別々の4.5グラム部の上記前駆体
をメノウ乳鉢内で下記量のアルカリ金属硫酸塩フラック
スの一つと共に粉砕した。3又は15重量％のＬｉＳＯ
4（脱水アルファＬｉＳＯ4・Ｈ2Ｏ、試薬グレード）；4
又は20重量％のＮａＳＯ4（ベーカー、試薬グレー
ド）；5又は25重量％のＫ2ＳＯ4（マリンクロット(Mall
inkrodt)、試薬グレード）。次に、これらの混合物を10
mlのアルミナルツボに入れてアルミナ蓋で覆い、ボッ
クス炉内に配置した。これら中間粉砕度の試料を800、9
00、1000及び1100℃で6時間にわたり焼成した。最終冷
却後、試料を150 mlの蒸留水で洗浄してフラックスを溶
かし、95℃で乾燥した。
をメノウ乳鉢内で下記量のアルカリ金属硫酸塩フラック
スの一つと共に粉砕した。3又は15重量％のＬｉＳＯ
4（脱水アルファＬｉＳＯ4・Ｈ2Ｏ、試薬グレード）；4
又は20重量％のＮａＳＯ4（ベーカー、試薬グレー
ド）；5又は25重量％のＫ2ＳＯ4（マリンクロット(Mall
inkrodt)、試薬グレード）。次に、これらの混合物を10
mlのアルミナルツボに入れてアルミナ蓋で覆い、ボッ
クス炉内に配置した。これら中間粉砕度の試料を800、9
00、1000及び1100℃で6時間にわたり焼成した。最終冷
却後、試料を150 mlの蒸留水で洗浄してフラックスを溶
かし、95℃で乾燥した。
【００８５】
【実施例６８】前述のように調製した57.3グラム部のゲ
ルマニウム酸ハフニウム前駆体をメノウ乳鉢内で8重量
％のＬｉＳＯ4（ジョンソンマセイ、無水、99.7％）と
共に粉砕した後、100 mlのアルミナルツボに入れてアル
ミナ蓋で覆い、ボックス炉内1000℃で12時間にわたり焼
成した。冷却後、試料を粉砕してルツボに再び入れ、1000
℃で6時間にわたり再焼成した。次に、この試料を1500 ml
の熱蒸留水で2回洗浄して乾燥した。
ルマニウム酸ハフニウム前駆体をメノウ乳鉢内で8重量
％のＬｉＳＯ4（ジョンソンマセイ、無水、99.7％）と
共に粉砕した後、100 mlのアルミナルツボに入れてアル
ミナ蓋で覆い、ボックス炉内1000℃で12時間にわたり焼
成した。冷却後、試料を粉砕してルツボに再び入れ、1000
℃で6時間にわたり再焼成した。次に、この試料を1500 ml
の熱蒸留水で2回洗浄して乾燥した。
【００８６】これらの実施例の相対ルミネッセンス強度
を表６に示す。
を表６に示す。
【００８７】
【表６】
【００８８】 表６ 実施例 フラックス 相対強度 （比較例９＝100） ５２Ｅ 無し 2138 ５３Ｅ 1重量％ ＬｉＦ 3876 ５４Ｅ 1重量％ Ｌｉ2ＣＯ3 4838 ５５Ｅ 11重量％ Ｎａ2ＭｏＯ4 4929 ５６Ｅ 11重量％ Ｎａ2ＷＯ4 4695 ５７Ｅ 11重量％ Ｌｉ2ＭｏＯ4 4219 ５８Ｅ 11重量％ Ｌｉ2ＷＯ4 3876 ５９Ｅ 11重量％ Ｋ2ＷＯ4 4719 ６０Ｅ 6重量％ Ｋ2ＭｏＯ4 3489 ６１Ｅ 7重量％ ＬｉＢＯ2 5411 ６２Ｅ 3重量％ Ｌｉ2ＳＯ4 5878 ６３Ｅ 15重量％ Ｌｉ2ＳＯ4 5333 ６４Ｅ 4重量％ Ｎａ2ＳＯ4 3444 ６５Ｅ 20重量％ Ｎａ2ＳＯ4 2667 ６６Ｅ 5重量％ Ｋ2ＳＯ4 3100 ６７Ｅ 25重量％ Ｋ2ＳＯ4 1267 ６８Ｅ 8重量％ Ｌｉ2ＳＯ4 6233 実施例５２は焼成温度を高めて結晶化度を改善したの
で、比較例４７よりも高い相対ルミネッセンス出力を示
している。残りの全実施例はフラックスを含まない調製
物よりも高い相対ルミネッセンス強度及び良好な粒径一
様性を示した。
で、比較例４７よりも高い相対ルミネッセンス出力を示
している。残りの全実施例はフラックスを含まない調製
物よりも高い相対ルミネッセンス強度及び良好な粒径一
様性を示した。
【００８９】
【実施例６９】 スプレー乾燥による蛍光体の調製 （Ｈｆ0.9974Ｚｒ0.0026）0.995Ｇｅ0.995Ｔｉ0.01Ｏ4 本実施例は、チタン活性化ゲルマニウム酸ハフニウムジ
ルコニウム蛍光体のスプレー乾燥による調製を示すもの
である。
ルコニウム蛍光体のスプレー乾燥による調製を示すもの
である。
【００９０】20ｇのＧｅＯ2（ＫＢＩ 99.999％）を165
ｍｌの蒸留水に溶かし、6ｍｌの濃ＮＨ4ＯＨ（イースト
マンコダク社、ＡＣＳ試薬）を徐々に添加して酸化ゲル
マニウムの水溶液を調製した。335 mｌの蒸留水に溶か
した78.3ｇのＲＧＳ ＨｆＯＣｌ2・8Ｈ2Ｏ（テレダイン
ウォーチャンアルバニー；Ｚｒ 0.26モル％に加えて0.5
5ｇのアンモニウムビス（オキサラト）オキソチタニウ
ム（IV）、（ＮＨ4）2ＴｉＯ（Ｃ2Ｏ4）2Ｈ2Ｏ（アルド
リッチ、ゴールドラベル、99.998％）を含有する第二溶
液を調製した。各溶液を濾過した後、激しく撹拌した33
5 mlの蒸留水に同時に徐々に添加した。次に、この溶液
を、23.8 mlの濃ＮＨ4ＯＨ（イーストマンコダク社、Ａ
ＣＳ試薬）を含む1000 mlの塩基性水溶液に徐々に添加
した。
ｍｌの蒸留水に溶かし、6ｍｌの濃ＮＨ4ＯＨ（イースト
マンコダク社、ＡＣＳ試薬）を徐々に添加して酸化ゲル
マニウムの水溶液を調製した。335 mｌの蒸留水に溶か
した78.3ｇのＲＧＳ ＨｆＯＣｌ2・8Ｈ2Ｏ（テレダイン
ウォーチャンアルバニー；Ｚｒ 0.26モル％に加えて0.5
5ｇのアンモニウムビス（オキサラト）オキソチタニウ
ム（IV）、（ＮＨ4）2ＴｉＯ（Ｃ2Ｏ4）2Ｈ2Ｏ（アルド
リッチ、ゴールドラベル、99.998％）を含有する第二溶
液を調製した。各溶液を濾過した後、激しく撹拌した33
5 mlの蒸留水に同時に徐々に添加した。次に、この溶液
を、23.8 mlの濃ＮＨ4ＯＨ（イーストマンコダク社、Ａ
ＣＳ試薬）を含む1000 mlの塩基性水溶液に徐々に添加
した。
【００９１】ロータリーアトマイザーを備えたニロポー
タブルスプレードライヤーTM（Niroportable Spray Dry
er)に上で得られたゲルを蠕動的にポンプ送入した。入
口空気温度は225℃に維持し、出口空気温度は95℃の平
衡温度を有した。補集した粉末を95℃で乾燥した。この
12ｇ部を30 mlの蒸留水で30分間洗浄し、95℃で再乾燥
した。この試料は直径2-10 mmの球から構成された。そ
の6ｇ部を10 mlのアルミナルツボに入れてアルミナ蓋で
覆い、ボックス炉内1250℃で6時間にわたり焼成した。
焼成後、この蛍光体の粒径は1-5ｍｍに減少した。Ｘ-線
粉末回折法により、その結晶構造はＨｆＧｅＯ4のそれ
であることが証明された。相対ルミネッセンス強度は36
19であった。
タブルスプレードライヤーTM（Niroportable Spray Dry
er)に上で得られたゲルを蠕動的にポンプ送入した。入
口空気温度は225℃に維持し、出口空気温度は95℃の平
衡温度を有した。補集した粉末を95℃で乾燥した。この
12ｇ部を30 mlの蒸留水で30分間洗浄し、95℃で再乾燥
した。この試料は直径2-10 mmの球から構成された。そ
の6ｇ部を10 mlのアルミナルツボに入れてアルミナ蓋で
覆い、ボックス炉内1250℃で6時間にわたり焼成した。
焼成後、この蛍光体の粒径は1-5ｍｍに減少した。Ｘ-線
粉末回折法により、その結晶構造はＨｆＧｅＯ4のそれ
であることが証明された。相対ルミネッセンス強度は36
19であった。
【００９２】この方法の一利点は粒径調節にある。
【００９３】
【実施例７０】 増強スクリーン （Ｈｆ0.9974Ｚｒ0.0026）0.995Ｇｅ0.995Ｔｉ0.01Ｏ4 本実施例は、増強スクリーンの構成とその性能を示すも
のである。
のである。
【００９４】例４７−５１に記載のようにしてゲルマニ
ウム酸ハフニウムジルコニウム前駆体を調製した。5個
の30ｇ部前駆体を11重量％のＬｉ2ＭｏＯ4（エサー99
％）に組み合わせて、メノウ乳鉢内で粉砕した。これら
の混合物を別々のアルミナルツボに入れてアルミナ蓋で
覆い、ボックス炉内1100℃で6時間にわたり焼成した。
冷却後、この試料を500 mlの蒸留水で洗浄してフラック
スを溶かし、95℃で乾燥した後500℃に再加熱した。こ
の組み合わせ蛍光体粉末の相対ルミネッセンス強度は46
05であった。
ウム酸ハフニウムジルコニウム前駆体を調製した。5個
の30ｇ部前駆体を11重量％のＬｉ2ＭｏＯ4（エサー99
％）に組み合わせて、メノウ乳鉢内で粉砕した。これら
の混合物を別々のアルミナルツボに入れてアルミナ蓋で
覆い、ボックス炉内1100℃で6時間にわたり焼成した。
冷却後、この試料を500 mlの蒸留水で洗浄してフラック
スを溶かし、95℃で乾燥した後500℃に再加熱した。こ
の組み合わせ蛍光体粉末の相対ルミネッセンス強度は46
05であった。
【００９５】パーミュセン（PermuthaneTM）ポリウレタ
ンを塩化メチレンとメタノールとの混合物に13％濃度で
溶かした溶液に上記蛍光体を混合し、蛍光体21重量部に
対して結合剤が1重量部の分散体を製造した。この混合
物をペイントシェーカー上でジルコニアビーズを用いて
4時間にわたり撹拌した。次にこの分散体を青みを帯び
た透明なポリエチレンテレフタレートフィルム支持体上
に被覆し、蛍光体約2.37ｇ／ｄｍ2の被覆を製造した。
この被覆を28ｋＶｐ及び30 mAで操作されるタングステ
ンターゲット管から発生して1.31 mmのアルミニウム及
び0.05 mmのモリブデンで濾過されたＸ-線で励起する
と、ＩＰ-28TM光倍増管を用いて応答を比較した際に、
市販のＣａＷＯ4からのもの（PARTMスクリーン）よりも
1.96倍のスピードが得られる。
ンを塩化メチレンとメタノールとの混合物に13％濃度で
溶かした溶液に上記蛍光体を混合し、蛍光体21重量部に
対して結合剤が1重量部の分散体を製造した。この混合
物をペイントシェーカー上でジルコニアビーズを用いて
4時間にわたり撹拌した。次にこの分散体を青みを帯び
た透明なポリエチレンテレフタレートフィルム支持体上
に被覆し、蛍光体約2.37ｇ／ｄｍ2の被覆を製造した。
この被覆を28ｋＶｐ及び30 mAで操作されるタングステ
ンターゲット管から発生して1.31 mmのアルミニウム及
び0.05 mmのモリブデンで濾過されたＸ-線で励起する
と、ＩＰ-28TM光倍増管を用いて応答を比較した際に、
市販のＣａＷＯ4からのもの（PARTMスクリーン）よりも
1.96倍のスピードが得られる。
【００９６】
【発明の効果】本発明は、比較的高水準の放出強度を示
す新規な蛍光組成物を提供する。この蛍光組成物は、そ
の波長及び強度のため、Ｘ-線増強スクリーン用に極め
て適当である。本発明の蛍光組成物及びＸ-線増強スク
リーンは、チタン活性化されたハフアニア及び／又はジ
ルコニア蛍光体を含むスクリーンに比べて、ハロゲン化
銀が固有感度を有するスペクトル域での放出の割合が高
い。本発明の蛍光組成物及びスクリーンの放出を、ハロ
ゲン化銀が固有感度を有するスペクトル域で、チタン活
性化されたハフアニア及び／又はジルコニア蛍光体を含
むスクリーンの放出と比較すると、本発明の増強スクリ
ーンの高い強度が理解できる。
す新規な蛍光組成物を提供する。この蛍光組成物は、そ
の波長及び強度のため、Ｘ-線増強スクリーン用に極め
て適当である。本発明の蛍光組成物及びＸ-線増強スク
リーンは、チタン活性化されたハフアニア及び／又はジ
ルコニア蛍光体を含むスクリーンに比べて、ハロゲン化
銀が固有感度を有するスペクトル域での放出の割合が高
い。本発明の蛍光組成物及びスクリーンの放出を、ハロ
ゲン化銀が固有感度を有するスペクトル域で、チタン活
性化されたハフアニア及び／又はジルコニア蛍光体を含
むスクリーンの放出と比較すると、本発明の増強スクリ
ーンの高い強度が理解できる。
【図１】 映像形成装置の概略図である。
【図２】 組装置を形成する二重被覆ラジオグラフィー
要素と増強スクリーン対の概略図である。
要素と増強スクリーン対の概略図である。
１ 組織 ３ 露出及び圧縮装置 ５ グリッド ７ 記録装置 ９ 輻射線入力窓 １１ 出力窓 １３ 壁 １５ 焦点 １７ 非散乱Ｘ-線 １９ 散乱Ｘ-線 ２１ グリッドベン ２３ ラジオグラフィー要素 ２５ 前面増強スクリーン ２７ 裏面増強スクリーン ２９ 支持体 ３１ 下層 ３３ 下層 ３５ エマルジョン層 ３７ エマルジョン層 ３６ オーバーコート層 ３９ オーバーコート層 ４１ 基材部 ４３ 挿入層部 ４５ 蛍光層 ４７ オーバーコート層 ４９ 基材部 ５１ 挿入層部 ５３ 蛍光層 ５５ オーバーコート ５７ そり防止層 ５９ そり防止層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 クリスティン・メイ・タワーズ アメリカ合衆国ニューヨーク州14622，ロ チェスター，ブリーズウェイ・ドライブ 136 (72)発明者 グレゴリー・スコット・ジャーロールド アメリカ合衆国ニューヨーク州14467，ヘ ンリエッタ，ベミス・ウェイ 28
Claims (3)
- 【請求項１】 チタン活性化されたゲルマニウム酸ハフ
ニウムジルコニウムからなり、ハフニウム、ジルコニウ
ム及びゲルマニウムが Ｄ1+xＧｅ1-x （但し、Ｄはジルコニウムとハフニウムとの合計であ
り、かつ、ｘは0.25乃至-0.70である）なる関係を満た
すことを特徴する蛍光組成物（ｐｈｏｓｐｈｏｒｃｏｍ
ｐｏｓｉｔｉｏｍ）。 - 【請求項２】 蛍光体が酸素及び ［（Ｈｆ1-zＺｒz）1+xＧｅ1-x］1-yＴｉ2y （但し、ｘは0.25乃至-0.70であり；２ｙは５×10-4乃
至0.15であり、かつ、ｚは４×10-4以上である）なる関
係を満たす金属から本質的になる請求項１の蛍光組成
物。 - 【請求項３】 支持体及びＸ-線を吸収して、ハロゲン
化銀が固有感度を示すスペクトル域の電磁輻射を主に放
出することができる蛍光組成物を含む蛍光層からなる増
強スクリーンであって、該蛍光組成物が請求項１又は２
に従って選択されることを特徴とする増強スクリーン。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US55658890A | 1990-07-20 | 1990-07-20 | |
| US706510 | 1991-05-28 | ||
| US556588 | 1991-05-28 | ||
| US07/706,510 US5112700A (en) | 1990-07-20 | 1991-05-28 | Phosphor composition and x-ray intensifying screen capable of emitting principally in the spectral region of native silver halide sensitivity |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH073260A true JPH073260A (ja) | 1995-01-06 |
Family
ID=27071185
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3179899A Pending JPH073260A (ja) | 1990-07-20 | 1991-07-19 | 蛍光組成物及びｘ−線増強スクリーン |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5112700A (ja) |
| EP (1) | EP0467801B1 (ja) |
| JP (1) | JPH073260A (ja) |
| CA (1) | CA2046141C (ja) |
| DE (1) | DE69105653T2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001217240A (ja) * | 1999-12-08 | 2001-08-10 | Lucent Technol Inc | Ｚｒ−Ｇｅ−Ｔｉ−ＯまたはＨｆ−Ｇｅ−Ｔｉ−Ｏの誘電材料を備えた物質とその製造方法 |
| CN109437284A (zh) * | 2018-11-22 | 2019-03-08 | 衡阳恒荣高纯半导体材料有限公司 | 一种高纯二氧化锗的制备方法 |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5173611A (en) * | 1992-01-17 | 1992-12-22 | Eastman Kodak Company | Phosphor composition and X-ray intensifying screen exhibiting peak emission in the ultraviolet |
| US5367172A (en) * | 1993-06-01 | 1994-11-22 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Radiological system employing phosphors of different densities |
| US5698857A (en) * | 1995-12-19 | 1997-12-16 | Eastman Kodak Company | (Barium hafnate: Cu) phosphors and phosphor screens |
| US5786600A (en) * | 1995-12-19 | 1998-07-28 | Eastman Kodak Company | (Barium hafnate:Ti, Ce, Pb) phosphors phosphor screens and phosphor preparation methods |
| US7015479B2 (en) * | 2003-07-31 | 2006-03-21 | Eastman Kodak Company | Digital film grain |
| CN102362222A (zh) | 2009-03-27 | 2012-02-22 | 卡尔斯特里姆保健公司 | 引入显影剂的射线照射卤化银膜 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2542336A (en) * | 1945-05-01 | 1951-02-20 | Gen Electric | Titanium activated magnesium orthostannate |
| US4112194A (en) * | 1976-11-08 | 1978-09-05 | Gte Sylvania Incorporated | Hexagonal hafnium, zirconium phosphate luminescent material, method of preparation, and x-ray intensifying screen containing the same |
| US4996003A (en) * | 1989-02-02 | 1991-02-26 | Eastman Kodak Company | Titanium activated hafnia and/or zirconia host phosphor containing a selected rare earth |
| US4988880A (en) * | 1989-02-03 | 1991-01-29 | Eastman Kodak Company | X-ray intensifying screen containing hafnia phosphor |
| US4988881A (en) * | 1989-02-03 | 1991-01-29 | Eastman Kodak Company | Tin-activated lithium hafnate phosphor composition and X-ray intensifying screen |
-
1991
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Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001217240A (ja) * | 1999-12-08 | 2001-08-10 | Lucent Technol Inc | Ｚｒ−Ｇｅ−Ｔｉ−ＯまたはＨｆ−Ｇｅ−Ｔｉ−Ｏの誘電材料を備えた物質とその製造方法 |
| KR100753777B1 (ko) * | 1999-12-08 | 2007-08-31 | 루센트 테크놀러지스 인크 | Ｚｒ-Ｇｅ-Ｔｉ-Ｏ 또는 Ｈｆ-Ｇｅ-Ｔｉ-Ｏ의 유전체 물질을 포함하는 물품 및 그 제조 방법 |
| JP2012041633A (ja) * | 1999-12-08 | 2012-03-01 | Alcatel-Lucent Usa Inc | Ｚｒ−Ｇｅ−Ｔｉ−ＯまたはＨｆ−Ｇｅ−Ｔｉ−Ｏの誘電材料を備えた物質とその製造方法 |
| CN109437284A (zh) * | 2018-11-22 | 2019-03-08 | 衡阳恒荣高纯半导体材料有限公司 | 一种高纯二氧化锗的制备方法 |
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