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JPH07262609A - Optical information recording medium - Google Patents

Optical information recording medium

Info

Publication number
JPH07262609A
JPH07262609A JP6053494A JP5349494A JPH07262609A JP H07262609 A JPH07262609 A JP H07262609A JP 6053494 A JP6053494 A JP 6053494A JP 5349494 A JP5349494 A JP 5349494A JP H07262609 A JPH07262609 A JP H07262609A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
recording
layer
reflectance
protective layer
recording medium
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP6053494A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Naomasa Nakamura
直正 中村
Naoki Morishita
直樹 森下
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP6053494A priority Critical patent/JPH07262609A/en
Publication of JPH07262609A publication Critical patent/JPH07262609A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain an optical information recording medium ensuring a sufficiently large quantity of reflected light, enabling stable focusing and tracking, inhibiting the fluctuation of the edge and capable of selecting film thickness in a wide range. CONSTITUTION:In an optical information recording medium with a 1st protective layer 11, a recording layer 13 forming a recorded part having reflectance varied by irradiation with a light beam, a 2nd protective layer 14 and a reflecting layer 15 on the transparent substrate 10, a high refractive index layer 12 is formed between the 1st protective layer 11 and the recording layer 13 so that the reflectance of the recorded part at recording wavelength is made higher than the unreflectance.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、レーザビーム、電子線
ビーム等の照射により記録層に原子配列の変化にともな
う光学的特性の変化を生じさせ、情報の記録・消去を繰
り返して行い、この光学的特性変化を検出して情報を記
録、再生する光学的情報記録媒体に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention changes the optical characteristics of a recording layer due to a change in atomic arrangement by irradiation with a laser beam, an electron beam, etc., and repeatedly records and erases information. The present invention relates to an optical information recording medium that records and reproduces information by detecting changes in optical characteristics.

【0002】[0002]

【従来の技術】記録消去が可能な情報記録媒体は、透明
基板に第一の保護層と記録層と第2の保護層と反射層と
を順に積層した構造を持つ。基板はガラスやプラスチッ
ク材料(例えばポリメチルメタクリレート樹脂やポリカ
ーボネート樹脂等)から成り、第1及び第2の保護層は
ZnS,SiO2 ,Al23 およびこれらの混合物か
らなる。記録層3はGeSbTeなどカルコゲナイドか
らなり、これらは真空蒸着、スパッタリングなどの堆積
方法により形成される。また反射層はAl,Auまたは
これらを母材としTi,Mo,Zr,Crなどを含む合
金からなる。
2. Description of the Related Art A recordable and erasable information recording medium has a structure in which a first protective layer, a recording layer, a second protective layer and a reflective layer are sequentially laminated on a transparent substrate. The substrate is made of glass or a plastic material (for example, polymethylmethacrylate resin or polycarbonate resin), and the first and second protective layers are made of ZnS, SiO 2 , Al 2 O 3 or a mixture thereof. The recording layer 3 is made of chalcogenide such as GeSbTe, and these are formed by a deposition method such as vacuum deposition or sputtering. The reflective layer is made of Al, Au or an alloy containing these as a base material and containing Ti, Mo, Zr, Cr and the like.

【0003】このような情報記録媒体を使用して例えば
次のように上の記録・消去をすることができる。まず、
情報記録媒体に光ビームを全面に照射して加熱し、記録
層を結晶性の高い状態(原子が比較的正しく配列された
状態、以下結晶状態と呼ぶ)にする。次に情報の書き込
み(記録)のため短い強いパルス光を照射し記録層を加
熱溶融後、急冷にする。するとパルス光照射部は結晶性
が低下した状態(原子配列が乱れた状態、以下、非晶質
という)となる。
Using such an information recording medium, the above recording / erasing can be performed, for example, as follows. First,
The entire surface of the information recording medium is irradiated with a light beam and heated to bring the recording layer into a state with high crystallinity (a state in which atoms are relatively correctly arranged, hereinafter referred to as a crystalline state). Then, for writing (recording) information, a short intense pulsed light is irradiated to heat and melt the recording layer, followed by rapid cooling. Then, the pulsed light irradiation portion is in a state where the crystallinity is deteriorated (a state in which the atomic arrangement is disturbed, hereinafter referred to as amorphous).

【0004】上記の結晶状態と非晶質状態では原子配列
の構造が異なることから、光学的性質(透過率、反射
率)が変化し情報を記録することができる。このように
して、書き込まれた情報はついで記録部に長い弱いパル
ス光を照射し、融点以下で加熱徐冷することにより消去
することができる。これは記録部が元の状態である結晶
状態に戻るためである。
Since the structures of the atomic arrangement are different between the crystalline state and the amorphous state, the optical properties (transmittance, reflectance) change and information can be recorded. In this way, the written information can be erased by irradiating the recording portion with long weak pulsed light and heating and cooling at a temperature below the melting point. This is because the recording portion returns to the original crystalline state.

【0005】また、弱い連続したレーザパワー(バイア
スパワー)に、強く短いパルスを重畳したレーザパワー
(記録パワー)を用いることにより、以前に形成された
記録部(非晶質状態)を消去(結晶化)しながら同時に
新しい記録部を形成するいわゆるオーバーライトによっ
て上記の状態を実現できる。
Further, by using a laser power (recording power) obtained by superimposing a strong and short pulse on a weak continuous laser power (bias power), a previously formed recording portion (amorphous state) is erased (crystal). The above state can be realized by so-called overwriting in which a new recording portion is formed at the same time.

【0006】実際の記録媒体は上記の様に結晶と非晶質
の反射率変化を信号とするため、これらの各層の膜厚は
保護層/記録層及び保護層/反射層各界面の光学的干渉
効果を考慮して設計される。よって媒体に使用される材
料の光学定数により、光学的反射率変化が大きくとれる
最適な膜厚が存在する。
Since the actual recording medium uses the change in reflectance between crystalline and amorphous as a signal as described above, the film thickness of each of these layers is the optical ratio of the protective layer / recording layer and the protective layer / reflection layer interfaces. It is designed considering the interference effect. Therefore, depending on the optical constants of the material used for the medium, there is an optimum film thickness that allows a large change in optical reflectance.

【0007】例えば記録層材料としてGeSbTeを用
い、反射層としてAlを用い、保護層としてZnS:S
iO2 を用いた場合の第2の保護層膜厚に対する記録状
態(非晶質)と未記録状態(結晶)の反射率を計算する
と、最大反射率変化の得られる第2の保護層の膜厚は1
0〜20nm程度と130nm〜150nmのいずれか
がよい。ただし、膜厚10〜20nmのときには記録時
に反射率が下がる向きに記録され、膜厚130nm〜1
50nmのときには記録時に反射率が上がる向きに記録
される。
For example, GeSbTe is used as the recording layer material, Al is used as the reflective layer, and ZnS: S is used as the protective layer.
The reflectance of the recorded state (amorphous) and the unrecorded state (crystal) with respect to the thickness of the second protective layer when using iO 2 was calculated, and the maximum reflectance change was obtained. Thickness is 1
Either 0 to 20 nm or 130 to 150 nm is preferable. However, when the film thickness is 10 to 20 nm, the recording is performed so that the reflectance decreases in the recording, and the film thickness is 130 nm to 1 nm.
When the thickness is 50 nm, the recording is performed so that the reflectance increases.

【0008】光学的にはこの様な2つの膜厚において記
録時に反射率変化の大きくとれる膜厚が存在するが、保
護層の膜厚が厚くなると記録層から反射層への熱の流れ
が阻害され、レーザパワーの変調により十分な急冷のコ
ントロールができず、記録特性が劣化することが知られ
ている(例えばT.OHTA et al.JJAP.VOL 128(1989)SUPPL
EMENT28-3、pp123-128 )。従って、従来記録層としてG
eSbTeのような記録材料を用いる場合、第2保護層
の膜厚は10nm〜20nmが用いられ、記録時に反射
率が下がる向きに記録されるのが一般的であった。
Optically, there is a film thickness with which a large change in reflectance can be obtained at the time of such two film thicknesses, but when the film thickness of the protective layer becomes thick, the flow of heat from the recording layer to the reflective layer is obstructed. However, it is known that the quenching cannot be controlled sufficiently by the modulation of the laser power, and the recording characteristics deteriorate (for example, T.OHTA et al. JJAP.VOL 128 (1989) SUPPL).
EMENT28-3, pp123-128). Therefore, as a conventional recording layer, G
When a recording material such as eSbTe is used, the film thickness of the second protective layer is 10 nm to 20 nm, and it is general that the recording is performed so that the reflectance decreases during recording.

【0009】この様な光ディスクを用いたデジタルデー
タの記録方法を図8に示す。(A)は、同じ形状の記録
マーク6を形成し、そのマーク中心間の間隔から情報を
えるマーク位置記録を示し、(B)は記録されたマーク
の長さ7から情報を得るマーク長記録を示す。
FIG. 8 shows a digital data recording method using such an optical disk. (A) shows mark position recording in which recording marks 6 of the same shape are formed and information is obtained from the interval between the mark centers, and (B) is mark length recording in which information is obtained from the length 7 of the recorded marks. Indicates.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】従来のマーク位置記録
に適した膜厚構成においては、ディスク上の記録面積
(非晶質化領域)はその他の未記録領域(結晶)に比べ
て大きくない。一方マーク長記録を行う場合、ディスク
上の記録面積はマーク位置記録に比べて大きくなる。例
えば記録マークの直径を0.78μmと仮定し同一密度
をもつマーク位置記録とマーク長記録におけるディスク
上の未記録領域に対する記録領域の面積比はマーク位置
記録の場合26%であるのに対し、マーク長記録の場合
44%となる。これらの記録方法を従来の記録時に反射
率が下がる方向に記録される記録媒体に用いた場合、記
録領域の面積比の大きいものほど再生時には記録前に比
べて平均反射率は低下する。従来用いられてきたマーク
位置記録の場合、記録時に反射率が下がる方向に記録さ
れてもある程度の反射光量が得られ、通常の光ディスク
ドライブでフォーカシング、トラッキングして信号を再
生することが可能であった。
In the conventional film thickness structure suitable for mark position recording, the recording area (amorphized region) on the disk is not larger than other unrecorded regions (crystals). On the other hand, when the mark length recording is performed, the recording area on the disc becomes larger than that of the mark position recording. For example, assuming that the diameter of the recording mark is 0.78 μm, the area ratio of the recording area to the unrecorded area on the disc in the mark position recording and the mark length recording having the same density is 26% in the case of mark position recording. In the case of mark length recording, it is 44%. When these recording methods are used for a recording medium in which the reflectance is decreased in the conventional recording, the larger the area ratio of the recording area is, the lower the average reflectance is during the reproduction than before the recording. In the case of mark position recording that has been used conventionally, a certain amount of reflected light can be obtained even when recording is performed in the direction in which the reflectance decreases during recording, and it is possible to reproduce the signal by focusing and tracking with an ordinary optical disk drive. It was

【0011】しかしながらさらに高密度化するためにマ
ーク位置記録において記録マークを詰めて記録したり、
再生を行う場合、この様な記録時に反射率が下がるディ
スクを用いた場合、全体の面積に対して記録領域の面積
が大きくなるためその結果、平均反射率がこれまでの6
0%以下まで低下することになる。先に述べた記録媒体
において、第2の保護層の膜厚が20nm程度の場合、
平均反射率は10%以下となる。一般に安定にフォーカ
シング、トラッキングを行うためには最低でも10%程
度の反射率が必要なことからこのような構成をもつ場
合、フォーカシング、トラッキングに必要な反射光量が
得られないという問題点がある。反射率を上げるために
は保護層の膜厚を厚くすればよいが、このようにする
と、反射率変化量を最大にすることができないという問
題が生じる。
However, in order to further increase the recording density, the recording marks are packed and recorded in the mark position recording,
When a disc whose reflectance is lowered during recording is used for reproduction, the area of the recording region is larger than the entire area, and as a result, the average reflectance is 6% or less.
It will be reduced to 0% or less. In the recording medium described above, when the thickness of the second protective layer is about 20 nm,
The average reflectance is 10% or less. Generally, in order to perform stable focusing and tracking, a reflectance of at least about 10% is required. Therefore, with such a configuration, there is a problem in that the amount of reflected light required for focusing and tracking cannot be obtained. In order to increase the reflectance, the thickness of the protective layer may be increased, but this causes a problem that the amount of change in reflectance cannot be maximized.

【0012】また従来の記録時に反射率が下がる構成の
場合、反射層の裏面からの光の逃げがないとすると、記
録時に反射率が低くなることから、記録部の吸収率が大
きく未記録部の吸収率が小さいことになる。このため、
記録部に新しいマークをオーバライト記録する場合と未
記録部に新しいマークをオーバライト記録する場合とで
は吸収率が異なることから記録時の温度の上がり方が異
なる。さらに未記録部は結晶からなるため溶融するには
潜熱を必要とし、同じレーザパワーで加熱した場合さら
に温度の上がり方に差がでる。このため溶融急冷により
形成された記録マークの大きさが異なることになる。こ
のため記録マークのエッジ部に情報をもつ記録方式を用
いた場合、エッジの位置が場所により揺らぐという問題
点があった。
Further, in the case of the conventional structure in which the reflectance decreases during recording, if there is no escape of light from the back surface of the reflective layer, the reflectance decreases during recording, so the absorptance of the recording portion is large and the unrecorded portion is large. The absorption rate of is small. For this reason,
Since the absorptance differs between the case where a new mark is overwritten on the recorded area and the case where a new mark is overwritten on the unrecorded area, the temperature rise during recording differs. Further, since the unrecorded portion is made of crystals, latent heat is required for melting, and when heated with the same laser power, there is a difference in how the temperature rises. Therefore, the size of the recording mark formed by the melt quenching is different. Therefore, when a recording method having information at the edge of the recording mark is used, the position of the edge fluctuates depending on the location.

【0013】本発明は上記事情に鑑みてなされたもので
その目的とするところは、十分な反射光量が得ら安定な
フォーカシング、トラッキングを可能とする光学的情報
記録媒体を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide an optical information recording medium capable of stable focusing and tracking with a sufficient amount of reflected light.

【0014】また、エッジの揺らぎを抑えた記録を可能
とする光学的情報記録媒体を提供することにある。さら
に、膜厚変動に対する未記録部の反射率変化を少なくす
ることにより、広い範囲で膜厚を選択することができ、
膜厚精度の制御が容易である光学的情報記録媒体を提供
することにある。
Another object of the present invention is to provide an optical information recording medium which enables recording while suppressing edge fluctuations. Furthermore, the film thickness can be selected in a wide range by reducing the change in the reflectance of the unrecorded portion with respect to the film thickness variation,
An object of the present invention is to provide an optical information recording medium whose film thickness accuracy can be easily controlled.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に、本発明の光学的情報記録媒体は、透明基板上に形成
された高屈折率層と、この高屈折率層上に形成された第
1の保護層と、この第1の保護層上に形成され、記録波
長において記録部の反射率が未記録部の反射率よりも高
い記録層と、この記録層上に形成された第2の保護層
と、この第2の保護層上に形成された反射層とを備えて
いる。
In order to solve this problem, the optical information recording medium of the present invention comprises a high refractive index layer formed on a transparent substrate and a high refractive index layer formed on the high refractive index layer. A first protective layer, a recording layer formed on the first protective layer and having a reflectance of a recorded portion higher than that of an unrecorded portion at a recording wavelength; and a second protective layer formed on the recording layer. And a reflective layer formed on the second protective layer.

【0016】すなわち、前述した透明基板/第1の保護
層/記録層/第2の保護層/反射層とを備えた層構成に
おいて基板と第1保護層との間に高屈折率層を挿入して
いる。このことにより、これまでの各層界面の干渉に加
えてさらに高屈折率層/第一保護層界面からの干渉を利
用し、従来の記録時に反射率の下がる膜厚構成ではな
く、記録時に反射率の上がる膜厚構成としている。
That is, a high refractive index layer is inserted between the substrate and the first protective layer in the layer structure including the transparent substrate / first protective layer / recording layer / second protective layer / reflection layer described above. is doing. As a result, in addition to the interference at each layer interface so far, the interference from the interface between the high refractive index layer and the first protective layer is utilized, so that the reflectivity at the time of recording is reduced instead of the conventional film thickness configuration that lowers the reflectivity at the time of recording. The film thickness is increased.

【0017】具体的には、高屈折率層は屈折率が第一の
保護層の屈折率より大きく、材質が無機材料、特にSi
からなり、膜厚が20nm〜60nm、記録層がGeS
bTeからなり膜厚が40nm以下、第1保護層がZn
S:SiO2 からなり、膜厚が120nm〜170nm
又は300nm〜340nmの範囲から選択され、第2
保護層膜厚がZnS:SiO2 からなり、膜厚が20n
m〜140nm又は70nm〜310nmの範囲から選
択され、反射層がAl合金からなり、膜厚が100nm
以上である。
Specifically, the high refractive index layer has a refractive index higher than that of the first protective layer, and the material is an inorganic material, especially Si.
The film thickness is 20 nm to 60 nm, and the recording layer is GeS.
made of bTe and having a film thickness of 40 nm or less, and the first protective layer is Zn
S: composed of SiO 2 , and the film thickness is 120 nm to 170 nm
Or selected from the range of 300 nm to 340 nm, the second
The protective layer is made of ZnS: SiO 2 and has a thickness of 20 n.
m-140 nm or 70 nm-310 nm, the reflective layer is made of Al alloy, and the film thickness is 100 nm.
That is all.

【0018】[0018]

【実施例】以下に本発明の実施例を図面を参照して説明
する。図1は本発明の実施例に係わる光学的情報記録媒
体の断面図である。記録媒体は基板10上に高屈折率層
11と第一の保護層12と記録層13と第2の保護層1
4と反射層15とを備えた構造を持つ。基板10はガラ
スやプラスチック材料(例えばポリメチルメタクリレー
ト樹脂やポリカーボネート樹脂等)から成り、高屈折率
層11はSiからなる。また第1及び第2の保護層1
2,14はZnS,SiO2 ,Al23 およびこれら
の混合物からなる。記録層13はGeSbTeなどカル
コゲナイドからなり、これら各層は真空蒸着、スパッタ
リングなどの堆積方法により形成することができる。ま
た反射層15はAl,Auまたはこれらを母材としT
i,Mo,Zr,Crなどを含む合金からなる。反射層
15は光学的な反射の目的のほかに記録層13で発生し
た熱を効果的に放熱する役割を持つためこの膜厚は10
0nm以上が望ましい。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a sectional view of an optical information recording medium according to an embodiment of the present invention. The recording medium comprises a high refractive index layer 11, a first protective layer 12, a recording layer 13, and a second protective layer 1 on a substrate 10.
4 and the reflective layer 15. The substrate 10 is made of glass or a plastic material (for example, polymethylmethacrylate resin or polycarbonate resin), and the high refractive index layer 11 is made of Si. In addition, the first and second protective layers 1
2 and 14 consist of ZnS, SiO 2 , Al 2 O 3 and a mixture thereof. The recording layer 13 is made of chalcogenide such as GeSbTe, and each of these layers can be formed by a deposition method such as vacuum deposition or sputtering. The reflective layer 15 is made of Al, Au, or a base material of Al, Au, or T
It is made of an alloy containing i, Mo, Zr, Cr and the like. Since the reflective layer 15 has a role of effectively radiating the heat generated in the recording layer 13 in addition to the purpose of optical reflection, this film thickness is 10
0 nm or more is desirable.

【0019】図2はこの層構成をもつ記録媒体の第一の
保護層膜厚を変化させたときの記録部、未記録部の反射
率及び反射率変化量を示すものである。このとき高屈折
率層11にはSi,50nm、記録層13にはGeSb
Te,20nm、第2の保護層14の膜厚は50nm、
反射層15にはAl,200nmを用いた。基板側から
入射した光は各層界面で多重反射を起こすため、膜厚に
より反射率の変化の仕方が異なる。図2の場合、第1の
保護層12の膜厚が120nm〜170nm、300〜
340nmの範囲で記録すると反射率が増加する構成と
なる。この構成において、第一保護層12の膜厚を特に
150nm特に340nmとした場合、反射率変化量が
最大の18%となる。この時未記録部の反射率は20%
であり、記録後はこれより反射率が増加する。従って安
定なフォーカシング、トラッキングが可能となり、かつ
最大の反射率変化量がとれる。第一保護層に適当な膜厚
としては最大反射率変化量の50%以上の変化量をとれ
る膜厚すなわち120nm〜170nmまたは300n
m〜340nm、特に好ましくは120〜180nm、
または320〜340nmが適当である。
FIG. 2 shows the reflectance and the amount of change in reflectance of the recorded portion and the unrecorded portion when the thickness of the first protective layer of the recording medium having this layer structure is changed. At this time, Si, 50 nm is used for the high refractive index layer 11, and GeSb is used for the recording layer 13.
Te, 20 nm, the thickness of the second protective layer 14 is 50 nm,
Al, 200 nm was used for the reflective layer 15. Light incident from the substrate side undergoes multiple reflection at the interface of each layer, and thus the method of changing the reflectance differs depending on the film thickness. In the case of FIG. 2, the thickness of the first protective layer 12 is 120 nm to 170 nm, 300 to
Recording in the range of 340 nm increases the reflectance. In this configuration, when the thickness of the first protective layer 12 is 150 nm, particularly 340 nm, the reflectance change amount is 18%, which is the maximum. At this time, the reflectance of the unrecorded area is 20%
After recording, the reflectance increases more than this. Therefore, stable focusing and tracking are possible, and the maximum reflectance change amount can be obtained. An appropriate film thickness for the first protective layer is a film thickness capable of taking a variation of 50% or more of the maximum reflectance variation, that is, 120 nm to 170 nm or 300 n.
m to 340 nm, particularly preferably 120 to 180 nm,
Alternatively, 320 to 340 nm is suitable.

【0020】図3はSiからなる高屈折率層11の膜厚
に対する反射率の変化を同様に示したものである。高屈
折率層11の膜厚の増加により14nm以上で記録時に
反射率が増加する構成となる。これはこの膜厚以上で干
渉効果が現れるためである。さらに膜厚を増加していく
と、反射率は低下し、50nmで反射率は20%、反射
率変化量は最大の18%を得ることができる。
FIG. 3 similarly shows changes in reflectance with respect to the film thickness of the high refractive index layer 11 made of Si. Due to the increase in the film thickness of the high refractive index layer 11, the reflectance is increased when recording at 14 nm or more. This is because the interference effect appears above this film thickness. As the film thickness is further increased, the reflectance decreases, and at 50 nm, the reflectance can be 20% and the maximum change in reflectance can be 18%.

【0021】これ以上膜厚を厚くすると、反射率変化量
が低下する。従って、反射率と反射率変化量の点から、
高屈折率層11の膜厚は20nm〜60nmが好まし
い。Siの複素屈折率は波長690nmで4.23−
0.57iであるが、高屈折率層として用いることので
きるのはこれと同じ様な複素屈折率をもつ材料であれば
これに限らない。たとえばGeを含む合金であればほぼ
同様の光学的特性が得られる。
If the film thickness is made thicker than this, the reflectance change amount decreases. Therefore, in terms of reflectance and the amount of change in reflectance,
The film thickness of the high refractive index layer 11 is preferably 20 nm to 60 nm. The complex refractive index of Si is 4.23− at a wavelength of 690 nm.
Although it is 0.57i, the material that can be used as the high refractive index layer is not limited to this as long as it has a complex refractive index similar to this. For example, an alloy containing Ge can obtain almost the same optical characteristics.

【0022】なお、高屈折率層に代えて、金属層を設け
た場合、金属層の膜厚変化に対して未記録部の反射率変
化が大きい。このため、金属層の膜厚を精度よく制御す
る必要がある。
When a metal layer is provided instead of the high-refractive index layer, the change in reflectance of the unrecorded portion is large with respect to the change in film thickness of the metal layer. Therefore, it is necessary to accurately control the film thickness of the metal layer.

【0023】図4は第2の保護層膜厚を変化させたとき
の記録部、未記録部の反射率及び反射率変化量を示すも
のである。保護層膜厚に対してほとんどの領域で記録時
に反射率の増加する十分な反射率変化量が得られる。2
0nm〜140nm、170〜340nmの範囲であれ
ば18%の反射率変化量と未記録部で20%以上の反射
率が得られる。この様に本発明の場合、第2保護層の膜
厚が20nmと薄くしても十分な反射率変化量が得られ
るため急冷化が可能であり、従来の構成で問題点であっ
たレーザパワーの変調による急冷のコントロールも可能
となる。
FIG. 4 shows the reflectance and the variation in reflectance of the recorded portion and the unrecorded portion when the thickness of the second protective layer is changed. It is possible to obtain a sufficient reflectance change amount in which the reflectance increases during recording in almost all regions with respect to the protective layer thickness. Two
In the range of 0 nm to 140 nm and 170 to 340 nm, the reflectance change amount of 18% and the reflectance of 20% or more can be obtained in the unrecorded area. As described above, in the case of the present invention, even if the film thickness of the second protective layer is as thin as 20 nm, a sufficient amount of change in reflectance can be obtained, so that rapid cooling can be performed, and the laser power which is a problem in the conventional configuration can be obtained. It is also possible to control the rapid cooling by modulating the.

【0024】図5は記録層膜厚を変化させた時の記録
部、未記録部の反射率及び反射率変化量を示すものであ
る。記録層膜厚は50nm以下であれば反射率変化が得
られるが未記録部の反射率と反射率変化の点から40n
m以下が望ましい。
FIG. 5 shows the reflectance and the amount of change in reflectance of the recorded portion and the unrecorded portion when the thickness of the recording layer is changed. When the film thickness of the recording layer is 50 nm or less, a change in reflectance can be obtained, but 40 n
m or less is desirable.

【0025】ここでは波長690nmでの計算結果を示
したが同様にして記録に用いる波長によりこの膜厚は変
化する。また基板上に光ビームをトラッキングするため
に設けた溝形状によっても最適膜厚は変化するがいずれ
にしろ各層の膜厚を記録時に反射率の増加する様調節し
かつ未記録部の反射率を10%以上となるようにすれば
本発明の主旨からは逸脱しない。また、反射率変化量
は、5%以上が好適である。
Here, the calculation result at a wavelength of 690 nm is shown, but this film thickness similarly changes depending on the wavelength used for recording. The optimum film thickness also changes depending on the shape of the groove provided for tracking the light beam on the substrate, but in any case, the film thickness of each layer is adjusted to increase the reflectivity at the time of recording and the reflectivity of the unrecorded part is adjusted. If it is 10% or more, it does not depart from the gist of the present invention. Further, the reflectance change amount is preferably 5% or more.

【0026】次に、このように構成された情報記録媒体
を用いて情報記録を行う場合について説明する。ここで
使用する情報記録媒体としては、直径90mm、厚さ
1.2mmの溝付きポリカーボネート製円盤ディスク上
に、高屈折率層である厚さ50nmのSi層、第1の保
護層である厚さ150nmのZnS:SiO2 層、記録
層である厚さ20nmのGeSbTe(組成は原子比で
2:2:5)層、第2の保護層である厚さ50nmのZ
nS:SiO2 層、並びに反射層である厚さ2000オ
ングストロームのAl層を真空スパッタリング法を用い
て順次形成してなる光ディスクを使用した。
Next, a case where information recording is performed using the information recording medium having the above structure will be described. As the information recording medium used here, a polycarbonate disk with a groove of 90 mm in diameter and 1.2 mm in thickness having a groove, a Si layer having a thickness of 50 nm which is a high refractive index layer and a thickness which is a first protective layer are formed. 150 nm ZnS: SiO 2 layer, 20 nm thick GeSbTe (composition 2: 2: 5 atomic ratio) layer that is the recording layer, and 50 nm thick Z layer that is the second protective layer.
An optical disk was used in which an nS: SiO 2 layer and an Al layer having a thickness of 2000 Å serving as a reflective layer were sequentially formed by a vacuum sputtering method.

【0027】図6は、本発明の情報記録媒体を用いて情
報の記録・再生を行うための装置を示す説明図である。
光ディスク21は、モータ22により一定の速度で回転
する。このモータ22は、モータ制御回路38によって
制御されている。光ディスク21に対する情報の記録・
再生は、光学ヘッド23によって行われる。この光学ヘ
ッド23は、リニアモータ51の可動部を構成する駆動
コイル33に固定されており、この駆動コイル33はリ
ニアモータ制御回路37に接続されている。また、リニ
アモータ51の固定部には、図示しない永久磁石が設け
られており、駆動コイル33がリニアモータ制御回路3
7によって励磁されることにより、光学ヘッド23は光
ディスク21の半径方向にほぼ等速で移動するようにな
っている。
FIG. 6 is an explanatory view showing an apparatus for recording / reproducing information using the information recording medium of the present invention.
The optical disk 21 is rotated at a constant speed by the motor 22. The motor 22 is controlled by a motor control circuit 38. Recording of information on the optical disc 21
The reproduction is performed by the optical head 23. The optical head 23 is fixed to a drive coil 33 that constitutes a movable portion of the linear motor 51, and the drive coil 33 is connected to a linear motor control circuit 37. In addition, a permanent magnet (not shown) is provided on the fixed portion of the linear motor 51, and the drive coil 33 causes the linear motor control circuit 3 to operate.
By being excited by 7, the optical head 23 is moved in the radial direction of the optical disk 21 at a substantially constant speed.

【0028】上記光学ヘッド23には、対物レンズ26
が図示しないワイヤあるいは板ばねによって保持されて
おり、この対物レンズ26は、駆動コイル25によって
フォーカシング方向(レンズの光軸方向)に移動し、駆
動コイル24によってトラッキング方向(レンズの光軸
と直交方向)に移動可能となっている。
The optical head 23 includes an objective lens 26.
Is held by a wire or a leaf spring (not shown), and the objective lens 26 is moved in the focusing direction (the optical axis direction of the lens) by the drive coil 25, and is moved by the drive coil 24 in the tracking direction (the direction orthogonal to the optical axis of the lens). ) Can be moved to.

【0029】レーザ制御回路34によって駆動するレー
ザダイオード(半導体レーザ発振器)29より発生した
レーザ光は、コリメータレンズ31a、ハーフプリズム
31b、対物レンズ26を介して光ディスク21上に照
射され、この光ディスク21からの反射光は、対物レン
ズ26、ハーフプリズム31b、集光レンズ30a,お
よびシリンドリカルレンズ30bを介して光検出器28
に導かれる。この光検出器28は、4分割の光検出セル
28a,28b,28c,28dによって構成されてい
る。
Laser light generated by a laser diode (semiconductor laser oscillator) 29 driven by a laser control circuit 34 is irradiated onto the optical disk 21 through a collimator lens 31a, a half prism 31b, and an objective lens 26, and from this optical disk 21. The reflected light of the photodetector 28 passes through the objective lens 26, the half prism 31b, the condenser lens 30a, and the cylindrical lens 30b.
Be led to. The photodetector 28 is composed of photodetector cells 28a, 28b, 28c, 28d divided into four parts.

【0030】光検出器28の光検出セル28aの出力信
号は、増幅器32aを介して加算器50a,50cの一
端に供給され、光検出セル28bの出力信号は、増幅器
32bを介して加算器50b,50dの一端に供給さ
れ、光検出セル28cの出力信号は、増幅器32cを介
して加算器50b,50cの他端に供給され、光検出セ
ル28dの出力信号は、増幅器32dを介して加算器5
0a,50dの他端に供給されるようになっている。こ
の加算器50aの出力信号は、差動増幅器OP1の反転
入力端に供給され、この差動増幅器OP1の非反転入力
端には加算器50bの出力信号が供給される。これによ
り、差動増幅器OP1は、加算器50a,50bの差に
応じてトラック差信号をトラッキング制御回路36に供
給するようになっている。このトラッキング制御回路3
6は、差動増幅器OP1から供給されるトラック差信号
に応じてトラック駆動信号を作成するものである。
The output signal of the photodetector cell 28a of the photodetector 28 is supplied to one end of the adders 50a and 50c via the amplifier 32a, and the output signal of the photodetector cell 28b is supplied to the adder 50b via the amplifier 32b. , 50d, the output signal of the photodetection cell 28c is supplied to the other ends of the adders 50b and 50c via the amplifier 32c, and the output signal of the photodetection cell 28d is added to the adder via the amplifier 32d. 5
It is adapted to be supplied to the other ends of 0a and 50d. The output signal of the adder 50a is supplied to the inverting input terminal of the differential amplifier OP1, and the output signal of the adder 50b is supplied to the non-inverting input terminal of the differential amplifier OP1. As a result, the differential amplifier OP1 supplies the track difference signal to the tracking control circuit 36 according to the difference between the adders 50a and 50b. This tracking control circuit 3
Reference numeral 6 is for creating a track drive signal in accordance with the track difference signal supplied from the differential amplifier OP1.

【0031】トラッキング制御回路36から出力される
トラック駆動信号は、トラッキング方向の駆動コイル2
4に供給される。また、トラッキング制御回路36で用
いられたトラック差信号は、リニアモータ制御回路37
に供給されるようになっている。リニアモータ制御回路
37は、トラッキング制御回路36からのトラック差信
号やCPU43からの移動制御信号に応じて後述するリ
ニアモータ51内の駆動コイル(導線)33に移動速度
に対応した電圧を印加するものである。
The track drive signal output from the tracking control circuit 36 is the drive coil 2 in the tracking direction.
4 is supplied. Further, the track difference signal used in the tracking control circuit 36 is the linear motor control circuit 37.
To be supplied to. The linear motor control circuit 37 applies a voltage corresponding to the moving speed to a drive coil (conductor wire) 33 in a linear motor 51 described later according to a track difference signal from the tracking control circuit 36 and a movement control signal from the CPU 43. Is.

【0032】リニアモータ制御回路37には、リニアモ
ータ51内の駆動コイル33が磁気部材(図示しない)
から発生する磁束を横切る瞬間に生じる駆動コイル33
の内部の電気的変化を利用して、駆動コイル33と磁気
部材との相対速度、すなわちリニアモータ51の移動速
度を検知する速度検知回路(図示しない)が設けられて
いる。
In the linear motor control circuit 37, the drive coil 33 in the linear motor 51 is a magnetic member (not shown).
Drive coil 33 generated at the moment of crossing the magnetic flux generated from
A speed detection circuit (not shown) is provided for detecting the relative speed between the drive coil 33 and the magnetic member, that is, the moving speed of the linear motor 51 by utilizing the electrical change inside the.

【0033】一方、上記加算器50cの出力信号は、差
動増幅器OP2の反転入力端に供給され、この差動増幅
器OP2の非反転入力端には加算器50dの出力信号が
供給される。これにより、差動増幅器OP2は、加算器
50c,50dの出力の差に応じてフォーカス点に関す
る信号をフォーカシング制御回路35に供給するように
なっている。このフォーカスシング制御回路35の出力
信号は、フォーカシング駆動コイル25に供給され、レ
ーザ光が光ディスク21上で常時ジャストフォーカスと
なるように制御される。
On the other hand, the output signal of the adder 50c is supplied to the inverting input terminal of the differential amplifier OP2, and the output signal of the adder 50d is supplied to the non-inverting input terminal of the differential amplifier OP2. As a result, the differential amplifier OP2 supplies a signal regarding the focus point to the focusing control circuit 35 in accordance with the difference between the outputs of the adders 50c and 50d. The output signal of the focussing control circuit 35 is supplied to the focusing drive coil 25, and the laser light is controlled so that the laser light is always in perfect focus on the optical disc 21.

【0034】上記のようにフォーカシング、トラッキン
グを行った状態での光検出器28の各光検出セル28a
〜28dの出力の和信号、すなわち加算器50a,50
bからの出力信号には、トラック上に形成されたピット
(記録情報)からの反射率の変化が反映されている。こ
の信号は、信号処理回路39に供給され、この信号処理
回路39において記録情報、アドレス情報(トラック番
号、セクタ番号等)が再生される。
Each photodetecting cell 28a of the photodetector 28 in the state where focusing and tracking are performed as described above.
28d output sum signal, that is, adders 50a, 50
The output signal from b reflects the change in reflectance from pits (recording information) formed on the track. This signal is supplied to the signal processing circuit 39, and the recording information and address information (track number, sector number, etc.) are reproduced in this signal processing circuit 39.

【0035】また、レーザダイオード29のレーザ発光
出力は、フォトダイオード52でモニタされ、電気信号
に変換されてレーザ制御回路34にフィードバックされ
て、レーザダイオード29のレーザ発光出力の安定化が
行われる。このレーザ制御回路34には、マイクロプロ
セッサ等で構成される記録データ信号制御回路53から
レーザ発光オンオフ信号と記録データ信号が入力され
る。レーザ制御回路34から出力される駆動電流には、
高周波電流発生回路54からカップリングコンデンサ5
5を通して後述する高周波電源が重畳される。
The laser emission output of the laser diode 29 is monitored by the photodiode 52, converted into an electric signal and fed back to the laser control circuit 34, and the laser emission output of the laser diode 29 is stabilized. A laser emission ON / OFF signal and a recording data signal are input to the laser control circuit 34 from a recording data signal control circuit 53 including a microprocessor or the like. The drive current output from the laser control circuit 34 includes
From the high frequency current generation circuit 54 to the coupling capacitor 5
A high frequency power source, which will be described later, is superposed through 5.

【0036】また、この装置においては、それぞれフォ
ーカシング制御回路35、トラッキング制御回路36、
リニアモータ制御回路37、およびCPU43の間で情
報の授受を行うために用いられるD/A変換器42が設
けられている。トラッキング制御回路36は、CPU4
3からD/A変換器42を介して供給されるトラックジ
ャンプ信号に応じて対物レンズ26を移動させ、1トラ
ック分だけビーム光を移動させるようになっている。レ
ーザ制御回路34、フォーカシング制御回路35、トラ
ッキング制御回路36、リニアモータ制御回路37、モ
ータ制御回路38、信号処理回路39、記録データ信号
制御回路53、高周波電流発生回路54等は、バスライ
ン40を介してCPU43によって制御されるようにな
っており、このCPU43はメモリ44に記憶されたプ
ログラムによって所定の動作を行うようになっている。
Further, in this apparatus, a focusing control circuit 35, a tracking control circuit 36,
A D / A converter 42 used for exchanging information between the linear motor control circuit 37 and the CPU 43 is provided. The tracking control circuit 36 includes the CPU 4
The objective lens 26 is moved in accordance with the track jump signal supplied from 3 through the D / A converter 42, and the beam light is moved by one track. The laser control circuit 34, the focusing control circuit 35, the tracking control circuit 36, the linear motor control circuit 37, the motor control circuit 38, the signal processing circuit 39, the recording data signal control circuit 53, the high frequency current generating circuit 54, etc. are connected to the bus line 40. The CPU 43 is controlled by the CPU 43 via a program stored in the memory 44.

【0037】上記構成の装置において、あらかじめアル
ゴンレーザを照射して記録層を結晶化させた光ディスク
を設置し、モータを回転させて信号を記録した。このと
き、回転数は3000rpmとした。記録信号は、最も
短い長さのマークが1.6μmとなるようにした1、7
RLL(ランレングスリミテッド)コードのランダムデ
ータ(異なる長さのマーク)を用いた。この結果、記録
前、記録後とも安定にフォーカシング、トラッキングが
可能であった。また、このときの未記録部の反射率は2
2%、記録部の反射率は40%であった。
In the apparatus having the above structure, an optical disk in which the recording layer was crystallized by irradiating an argon laser in advance was set, and a motor was rotated to record a signal. At this time, the rotation speed was 3000 rpm. The recording signal is such that the shortest mark is 1.6 μm 1,7
RLL (Run Length Limited) code random data (marks of different lengths) was used. As a result, stable focusing and tracking were possible before and after recording. The reflectance of the unrecorded portion at this time is 2
The reflectance of the recording portion was 2% and 40%.

【0038】図7は、このときの再生信号を示す。信号
振幅の中間点をデジタルデータのスライスレベルとし、
信号と比較しながらデジタルデータが作り出される。実
際に再生したデジタル信号と、記録に用いた1、7RL
Lコードのランダムデータを比較したところ完全に一致
し、このコードの記録・再生が可能であることが確認さ
れた。なお、本発明は、マーク長記録に限らず、マーク
位置記録にも適用できる。
FIG. 7 shows the reproduced signal at this time. The midpoint of the signal amplitude is the slice level of digital data,
Digital data is created while comparing with the signal. Actually reproduced digital signal and 1,7RL used for recording
When the random data of the L code were compared, they were completely in agreement, and it was confirmed that this code could be recorded and reproduced. The present invention can be applied not only to mark length recording but also to mark position recording.

【0039】[0039]

【発明の効果】本発明は、基板と第1保護層との間に高
屈折率層を挿入することにより、これまでの各層界面の
干渉に加えてさらに高屈折率層/第一保護層界面からの
干渉を利用し、従来の記録時に反射率の下がる膜厚構成
ではなく、記録時に反射率の上がる膜厚構成とすること
により、マーク長記録を行っても記録部は反射率が増加
し、十分な反射光量が得られ安定なフォーカシング、ト
ラッキングが可能となる。
According to the present invention, by inserting the high refractive index layer between the substrate and the first protective layer, the high refractive index layer / first protective layer interface can be further added in addition to the interference at each layer interface. By utilizing the interference from the film thickness configuration that increases the reflectance during recording instead of the conventional film thickness configuration that decreases the reflectance during recording, the reflectance increases at the recording portion even when mark length recording is performed. Therefore, a sufficient amount of reflected light can be obtained, and stable focusing and tracking are possible.

【0040】また、記録部の吸収率が小さく、未記録部
の吸収率が大きいため記録部に新しいマークをオーバラ
イト記録する場合と未記録部に新しいマークをオーバラ
イト記録する場合での温度の上がり方を補正でき、同じ
大きさの記録マークを形成できる。このためエッジの揺
らぎを抑えた記録が可能となる。
Further, since the recording portion has a low absorptance and the unrecorded portion has a high absorptivity, the temperature difference between when a new mark is overwritten on the recorded portion and when a new mark is overwritten on the unrecorded portion. It is possible to correct how to go up and form recording marks of the same size. For this reason, it is possible to perform recording while suppressing edge fluctuations.

【0041】さらに、高屈折率層は吸収が少ないため膜
厚の変化に対する反射率の変化が緩やかであり、広い範
囲で膜厚を選択することができ、製造上のマージンを広
げることが可能となった。
Further, since the high refractive index layer has little absorption, the change of the reflectance with respect to the change of the film thickness is gentle, the film thickness can be selected in a wide range, and the manufacturing margin can be widened. became.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係る情報記録媒体の一実施例を示す断
面図。
FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of an information recording medium according to the present invention.

【図2】本発明に係る情報記録媒体において、第1の保
護層の厚さを変化させたときの記録部および未記録部の
反射率並びに反射率変化量を示すグラフ。
FIG. 2 is a graph showing the reflectance and the amount of change in reflectance of the recorded portion and the unrecorded portion when the thickness of the first protective layer is changed in the information recording medium according to the present invention.

【図3】本発明に係る情報記録媒体において、高屈折率
層の厚さを変化させたときの記録部および未記録部の反
射率並びに反射率変化量を示すグラフ。
FIG. 3 is a graph showing the reflectance and the amount of change in reflectance of the recorded portion and the unrecorded portion when the thickness of the high refractive index layer is changed in the information recording medium according to the present invention.

【図4】本発明に係る情報記録媒体において、第2の保
護層の厚さを変化させたときの記録部および未記録部の
反射率並びに反射率変化量を示すグラフ。
FIG. 4 is a graph showing the reflectance and the amount of change in reflectance of the recorded portion and the unrecorded portion when the thickness of the second protective layer is changed in the information recording medium according to the present invention.

【図5】本発明に係る情報記録媒体において、記録層の
厚さを変化させたときの記録部および未記録部の反射率
並びに反射率変化量を示すグラフ。
FIG. 5 is a graph showing the reflectance and the amount of change in reflectance of the recorded portion and the unrecorded portion when the thickness of the recording layer is changed in the information recording medium according to the present invention.

【図6】本発明の情報記録媒体を用いて情報の記録・再
生を行うための装置を示す説明図。
FIG. 6 is an explanatory diagram showing an apparatus for recording / reproducing information using the information recording medium of the present invention.

【図7】図6に示す装置を用いて記録された情報記録媒
体における再生信号を示す説明図。
7 is an explanatory diagram showing a reproduced signal on an information recording medium recorded by using the apparatus shown in FIG.

【図8】記録媒体の記録方法を示し、(A)はマーク位
置記録を説明するための図、(B)はマーク長記録を説
明するための図。
8A and 8B show a recording method of a recording medium, FIG. 8A is a diagram for explaining mark position recording, and FIG. 8B is a diagram for explaining mark length recording.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…透明基板、11…高屈折率層、12…第1の保護
層、13…記録層、14…第2の保護層、15…反射
層、21…光ディスク、22…モータ、23…光学ヘッ
ド、26…対物レンズ、24,25,33…駆動コイ
ル、28…光検出器、28a,28b,28c,28d
…光検出セル、29…レーザダイオード、30a…集光
レンズ、30b…シリンドリカルレンズ、31a…コリ
メータレンズ、31b…ハーフプリズム、32a,32
b,32c,32d…増幅器、34…レーザ制御回路、
35…フォーカシング制御回路、36…トラッキング制
御回路、37…リニアモータ制御回路、39…信号処理
回路、40…バスライン、42…D/A変換器、43…
CPU、44…メモリ、50a,50b,50c,50
d…加算器、51…リニアモータ、52…フォトダイオ
ード、53…記録データ信号制御回路、54…高周波電
流発生回路、55…カップリングコンデンサ。
10 ... Transparent substrate, 11 ... High refractive index layer, 12 ... First protective layer, 13 ... Recording layer, 14 ... Second protective layer, 15 ... Reflective layer, 21 ... Optical disc, 22 ... Motor, 23 ... Optical head , 26 ... Objective lens, 24, 25, 33 ... Driving coil, 28 ... Photodetector, 28a, 28b, 28c, 28d
Photodetection cell, 29 ... Laser diode, 30a ... Condensing lens, 30b ... Cylindrical lens, 31a ... Collimator lens, 31b ... Half prism, 32a, 32
b, 32c, 32d ... Amplifier, 34 ... Laser control circuit,
35 ... Focusing control circuit, 36 ... Tracking control circuit, 37 ... Linear motor control circuit, 39 ... Signal processing circuit, 40 ... Bus line, 42 ... D / A converter, 43 ...
CPU, 44 ... Memory, 50a, 50b, 50c, 50
d ... Adder, 51 ... Linear motor, 52 ... Photodiode, 53 ... Recording data signal control circuit, 54 ... High frequency current generating circuit, 55 ... Coupling capacitor.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明基板上に形成された高屈折率層と、
この高屈折率層上に形成された第1の保護層と、この第
1の保護層上に形成され、光学的特性が未記録部と異な
る記録部を形成可能な記録層と、この記録層上に形成さ
れた第2の保護層と、この第2の保護層上に形成された
反射層とを備え、上記層構成において記録波長における
記録部の反射率が未記録部の反射率よりも高いものであ
ることを特徴とする光学的情報記録媒体。
1. A high refractive index layer formed on a transparent substrate,
A first protective layer formed on the high refractive index layer, a recording layer formed on the first protective layer and capable of forming a recording portion having optical characteristics different from that of an unrecorded portion, and the recording layer A second protective layer formed on the upper surface and a reflective layer formed on the second protective layer are provided, and in the above layer structure, the reflectance of the recording portion at the recording wavelength is higher than the reflectance of the unrecorded portion. An optical information recording medium characterized by being expensive.
【請求項2】 高屈折率層の屈折率が第一の保護層の屈
折率より大きいことを特徴とする請求項1に記載の光学
的情報記録媒体。
2. The optical information recording medium according to claim 1, wherein the high refractive index layer has a refractive index higher than that of the first protective layer.
【請求項3】 前記記録層がGeSbTe、第1及び第
2保護層がZnS:SiO2 、高屈折率層がSi、反射
層がAl合金からなることを特徴とする請求項1又は2
に記載の光学的情報記録媒体。
3. The recording layer is made of GeSbTe, the first and second protective layers are made of ZnS: SiO 2 , the high refractive index layer is made of Si, and the reflective layer is made of Al alloy.
The optical information recording medium described in.
【請求項4】 記録層の膜厚が40nm以下であること
を特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の光学的
情報記録媒体。
4. The optical information recording medium according to claim 1, wherein the recording layer has a thickness of 40 nm or less.
【請求項5】 高屈折率層がSiからなりこの膜厚が2
0nm〜60nm、記録層がGeSbTeからなり膜厚
が40nm以下、第1保護層がZnS:SiO2 からな
り、膜厚が120nm〜170nm又は300nm〜3
40nmの範囲から選択され、第2保護層膜厚がZn
S:SiO2 からなり、膜厚が20nm〜140nm又
は70nm〜310nmの範囲から選択され、反射層が
Al合金からなり、膜厚が100nm以上であることを
特徴とする請求項1に記載の光学的情報記録媒体。
5. The high refractive index layer is made of Si and has a thickness of 2
0 nm to 60 nm, the recording layer is made of GeSbTe and has a film thickness of 40 nm or less, the first protective layer is made of ZnS: SiO 2 , and the film thickness is 120 nm to 170 nm or 300 nm to 3
The thickness of the second protective layer is Zn.
The optical element according to claim 1, wherein S: SiO 2 is formed, the film thickness is selected from the range of 20 nm to 140 nm or 70 nm to 310 nm, the reflective layer is formed of an Al alloy, and the film thickness is 100 nm or more. Information recording medium.
【請求項6】 記録層は、異なる長さの記録部を記録し
情報を記録、再生するものである請求項1乃至5のいず
れかに記載の光学的情報記録媒体。
6. The optical information recording medium according to claim 1, wherein the recording layer is for recording recording portions having different lengths for recording and reproducing information.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999006220A1 (en) * 1997-08-01 1999-02-11 Hitachi, Ltd. Information recording medium

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