JPH07176278A - Getter device for electron tube - Google Patents
Getter device for electron tubeInfo
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- JPH07176278A JPH07176278A JP31963293A JP31963293A JPH07176278A JP H07176278 A JPH07176278 A JP H07176278A JP 31963293 A JP31963293 A JP 31963293A JP 31963293 A JP31963293 A JP 31963293A JP H07176278 A JPH07176278 A JP H07176278A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 耐高温酸化性を有し、使用に際してゲッタ材
の爆発的な飛散や浮き上がりのような障害を伴うことの
ない、高品位電子管用のゲッタ装置を提供する。
【構成】 金属製のゲッタ容器内に、少なくとも Ba-Al
合金粉末と Ni-Al合金粉末とを含む混合粉末を、ゲッタ
材として充填した電子管用ゲッタ装置である。Ni粉末に
代えて、主に Ni-Al合金粉末を使用することにより、大
気中での高温加熱時の NiOの生成が抑制され、ゲッタフ
ラッシュ時のBaの爆発的な飛散を防止することが可能と
なる。(57) [Summary] [Purpose] To provide a getter device for a high-quality electron tube, which has high-temperature oxidation resistance and does not cause obstacles such as explosive scattering and floating of the getter material during use. [Composition] At least Ba-Al in the metal getter container.
A getter device for an electron tube, wherein a mixed powder containing alloy powder and Ni-Al alloy powder is filled as a getter material. By mainly using Ni-Al alloy powder instead of Ni powder, it is possible to suppress the generation of NiO during high temperature heating in the atmosphere and prevent the explosive scattering of Ba during getter flash. Becomes
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、電子管用のゲッタ装置
に係り、特に高品位電子管に使用される気化性ゲッタ装
置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a getter device for an electron tube, and more particularly to a vaporizable getter device used for a high quality electron tube.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来から、カラーテレビジョン等に使用
される電子管においては、排気終了後の管内の不要な酸
化性ガス等を完全に除去するために、ゲッタ装置が使用
されている。ゲッタ装置は、例えばステンレス等の金属
製のゲッタ容器内に、 Ba-Al合金粉末とNi粉末との混合
粉末からなる所定量のゲッタ材を充填したものであり、
通常排気、封止された電子管内の所定の位置に配設され
る。そして、高周波誘導加熱等の外部からの加熱により
Baを気化(以下、ゲッタフラッシュと記す)させ、管内
壁にBaのゲッタ膜を形成する。しかし、このようなゲッ
タ装置は、電子管の組立て工程で余儀なく所望しない加
熱を被る場合がある。2. Description of the Related Art Conventionally, a getter device has been used in an electronic tube used for a color television or the like in order to completely remove unnecessary oxidizing gas and the like in the tube after exhaustion. The getter device is, for example, a getter container made of metal such as stainless steel and filled with a predetermined amount of getter material made of a mixed powder of Ba-Al alloy powder and Ni powder,
Usually, it is placed at a predetermined position in the electron tube which is evacuated and sealed. And by external heating such as high frequency induction heating
Ba is vaporized (hereinafter referred to as getter flash) to form a getter film of Ba on the inner wall of the tube. However, such getter devices may inevitably undergo undesired heating during the electron tube assembly process.
【0003】例えば、最近の大型電子管やCDT(カラ
ーディスプレイ用電子管)等においては、高品位化の要
求を満たすための高解像度化の実現により、偏向ヨーク
の周波数の向上が図られ、それによりゲッタ装置をマス
クフレーム等に取付けることを余儀なくされている。す
なわち、従来からゲッタ装置は、電子銃のコンバー部に
ステンレス製のアンテナを介して取付けられてきたが、
偏向ヨーク内に配置されたアンテナのごくわずかの磁性
により、電子銃から発射される電子ビームが影響を受
け、所定の位置にビームが当たらず色ずれが発生すると
いう問題があった。このような問題から、ゲッタ装置の
偏向ヨーク以外のマスクフレーム等への取付けが余儀な
くされている。そして、このようなゲッタ装置の取付け
は、電子管を構成するパネル部とファンネル部との接合
の前に行われ、ゲッタ装置の取付け後、大気中約 450℃
で 1時間程度加熱し、ガラスフリットによりパネル部と
ファンネル部とを封着している。For example, in recent large-sized electron tubes, CDTs (color display electron tubes), etc., the frequency of the deflection yoke is improved by the realization of high resolution to satisfy the demand for high quality, and thereby the getter is obtained. It is obligatory to mount the device on a mask frame or the like. That is, the getter device has conventionally been attached to the convertor part of the electron gun via a stainless steel antenna,
There is a problem that the electron beam emitted from the electron gun is affected by the slight magnetism of the antenna arranged in the deflection yoke, and the beam does not strike a predetermined position, resulting in color shift. Due to such a problem, it is inevitable to attach the getter device to a mask frame or the like other than the deflection yoke. The getter device is attached before the panel part and the funnel part of the electron tube are joined. After the getter device is attached, the getter device is installed in the atmosphere at about 450 ° C.
After heating for about 1 hour, the panel part and the funnel part are sealed with glass frit.
【0004】しかし、通常の Ba-Al合金(例えばBaA
l4 )粉末とNi粉末との混合粉末(混合重量比 1:1)を
含有するゲッタ材は、上述したように、大気中約 450℃
で 1時間加熱されると酸化し、酸化ニッケル(NiO)を生
ずる。そして、ゲッタ装置内にNiOが生成されると、 Ni
OとBaAl4 とが高温で急激に反応するため、ゲッタフラ
ッシュの際にBaの爆発的な飛散がもたらされ、 NiOの生
成量がさらに多くなると、金属製のゲッタ容器までが溶
断して、ゲッタ材と共に爆発的に飛散するようになる。
このようなBaの爆発的な飛散は、例えばカラーテレビジ
ョン用等の電子管において、耐圧不良等の大きな原因と
なるため、絶対に避けなければならない。以上の理由か
ら、大気中で高温に曝されてもゲッタ材の酸化が起こら
ず、なんら障害を生じないゲッタ装置が必要とされてい
る。However, conventional Ba-Al alloys (eg BaA
l 4 ) The getter material containing the mixed powder of powder and Ni powder (mixing weight ratio 1: 1) is about 450 ° C in the atmosphere as described above.
When heated at 1 hour, it oxidizes to form nickel oxide (NiO). When NiO is generated in the getter device, Ni
O and BaAl 4 react rapidly at high temperature, resulting in explosive scattering of Ba during getter flash, and when the amount of NiO generated further increases, even the metal getter container melts down, It will be explosively scattered with the getter material.
Such explosive scattering of Ba is a major cause of pressure resistance failure in an electron tube for a color television, and must be absolutely avoided. For the above reasons, there is a need for a getter device that does not oxidize the getter material even when it is exposed to high temperatures in the atmosphere and does not cause any trouble.
【0005】従来から、このような目的のために、ゲッ
タ材の表面に有機シランを被覆したゲッタ装置(特開昭
52-84960号公報参照)や、酸化シリコンを被覆したゲッ
タ装置(特開昭 52-139355号公報参照)が提案されてい
る。例えば、特開昭52-84960号公報には、アルキル、ア
リール、アラルキル、アルカリール、または水素を含む
ポリシロキサン等の有機シランにより被覆されたゲッタ
材を有する装置が、大気中 420℃で 1時間の加熱に耐
え、爆発的な飛散を呈することなく、Baを蒸発気化させ
得ることが記されている。Conventionally, for such a purpose, a getter device in which the surface of the getter material is coated with an organic silane (Japanese Patent Laid-Open No. Sho 61-96, 1988).
No. 52-84960) and a getter device coated with silicon oxide (see Japanese Patent Laid-Open No. 52-139355). For example, in JP-A-52-84960, an apparatus having a getter material coated with an organic silane such as polysiloxane containing alkyl, aryl, aralkyl, alkaryl, or hydrogen is disclosed in the air at 420 ° C. for 1 hour. It is described that Ba can be vaporized and vaporized without enduring the explosive scattering of the material.
【0006】しかし、このように有機シランにより被覆
されたゲッタ装置は、その使用において次のような欠点
を有している。すなわち、このゲッタ装置は、ゲッタフ
ラッシュの際に主として炭化水素系の気体を多量に放出
し、その放出気体は容易にゲッタ膜に吸着されないた
め、ゲッタフラッシュ後しばらくの間は、管内圧力が0.
133Pa程度の低真空度に放置される。周知のように、多
量の残留ガスは、テレビジョン用電子管等の高電圧が負
荷された空間内では、イオン化された後加速されて陰極
または陽極に衝突する。そして、このようなスパッタリ
ング効果により、陰極上の電子放射性物質の一部分が他
の好ましくない箇所に被着し、耐圧特性を著しく劣化さ
せる結果になることが容易に推察される。However, the getter device thus coated with organosilane has the following drawbacks in its use. That is, this getter device mainly releases a large amount of hydrocarbon gas during getter flush, and the released gas is not easily adsorbed on the getter film, so that the pipe internal pressure is 0.
It is left in a low vacuum of about 133Pa. As is well known, a large amount of residual gas is ionized and then accelerated and collides with a cathode or an anode in a space where a high voltage is loaded such as a television electron tube. It is easily inferred that due to such a sputtering effect, a part of the electron emissive material on the cathode is deposited on other undesired locations, resulting in a significant deterioration in pressure resistance.
【0007】また、特開昭 52-139355号公報において
は、ゲッタ材が酸化シリコン層により被覆されたゲッタ
装置が、大気中約 450℃ 1時間の加熱に耐えることが記
され、さらにこのような酸化シリコン層が、ゲッタ装置
を例えばエチルシリケート溶液中に浸漬した後に残るケ
イ酸塩を、真空中 120℃に加熱することにより得られる
ことが示されている。こうして得られるゲッタ装置は、
以下に示すように、高温酸化に対してある程度の耐酸化
性を示す。すなわち、ゲッタ材表面を酸化シリコン層で
被覆した装置を、大気中で約 450℃ 1時間の加熱をした
後、真空中でゲッタフラッシュをさせた場合、Baの爆発
的な飛散の程度がかなり改善され、少量のゲッタ材の脱
落と一部焼結したゲッタ材の容器外への浮き上がりが認
められる程度とすることができる。Further, JP-A-52-139355 discloses that a getter device in which a getter material is coated with a silicon oxide layer can withstand heating at about 450 ° C. for 1 hour in the atmosphere. It has been shown that a silicon oxide layer is obtained by heating the silicate remaining after dipping the getter device in, for example, an ethyl silicate solution to 120 ° C. in vacuum. The getter device thus obtained is
As shown below, it exhibits some oxidation resistance against high temperature oxidation. In other words, when the getter material surface is coated with a silicon oxide layer and heated in the atmosphere at about 450 ° C for 1 hour and then getter flashed in vacuum, the degree of explosive scattering of Ba is considerably improved. Therefore, a small amount of the getter material is removed and the partially sintered getter material is lifted to the outside of the container.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ゲッタ
材中のNiの酸化によるBaの爆発的な飛散とゲッタ材の浮
き上がりは、いかに軽度のものであっても耐圧特性を著
しく劣化させるため、完全に避けなければならない。ま
た、このような爆発的な飛散は、管内の所望しない箇所
への飛散粒子の被着を生起し、耐圧特性の劣化のみなら
ず回路の短絡を引き起こす場合さえある。さらに、ゲッ
タ材の浮き上がりは、管内の不所望な箇所へのBa膜の形
成を引き起こし、これもまた耐圧特性を劣化させる原因
となる。However, the explosive scattering of Ba and the floatation of the getter material due to the oxidation of Ni in the getter material cause the deterioration of the withstand voltage characteristics significantly, no matter how slight it is. Must be avoided. Further, such explosive scattering causes deposition of scattered particles to an undesired portion in the tube, which may not only deteriorate the pressure resistance but also cause a short circuit in the circuit. Furthermore, the lift of the getter material causes the formation of a Ba film at an undesired portion in the tube, which also causes deterioration of the withstand voltage characteristic.
【0009】本発明は、このような課題に対処するため
になされたもので、耐高温酸化性を有し、使用に際して
ゲッタ材の爆発的な飛散や浮き上がりのような障害を伴
うことのない、高品位電子管用のゲッタ装置を提供する
ことを目的としている。The present invention has been made in order to cope with such a problem, has high temperature oxidation resistance, and is free from obstacles such as explosive scattering and floating of the getter material during use. An object is to provide a getter device for a high-quality electron tube.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】本発明の電子管用ゲッタ
装置は、金属製のゲッタ容器内にゲッタ材を充填してな
る電子管用ゲッタ装置において、前記ゲッタ材は、少な
くとも Ba-Al合金粉末と Ni-Al合金粉末とを含むことを
特徴としている。A getter device for an electron tube according to the present invention is a getter device for an electron tube, wherein a getter material is filled in a metal getter container, wherein the getter material is at least a Ba-Al alloy powder. It is characterized by containing a Ni-Al alloy powder.
【0011】本発明に使用される Ni-Al合金粉末として
は、 Ba-Al合金粉末の組成や Ba-Al合金粉末との混合比
によっても異なるが、基本的にはゲッタフッシュ後の残
渣となる Ni-Al(Ba-Al合金粉末中のAlも含む)が、Niと
Alとの金属間化合物例えばNi3 AlやNiAl等を形成し得る
ような組成比のものを用いるものとする。具体的には、
例えば Ni:Al=75mol%:25mol%や Ni:Al=50mol%:50mol%の
比率で混合溶融した合金を、アトマイズ法等により粉末
化した後、ふるい分けすることにより製造される。Niと
Alとの組成比は、Al量を25〜50mol%程度の範囲で調整し
てもよい。 Ni-Al金粉末の平均粒径は、 3〜 7μm 程度
とすることが好ましい。このような Ni-Al合金粉末にお
いては、ゲッタフラッシュ前の加熱に対して、粉体表面
近傍のAlが酸化することによって、それ以上の酸化すな
わち NiOの生成が抑制される。The Ni-Al alloy powder used in the present invention basically depends on the composition of the Ba-Al alloy powder and the mixing ratio with the Ba-Al alloy powder, but basically it is a residue after getter-fishing. Ni-Al (including Al in Ba-Al alloy powder)
An intermetallic compound with Al, for example, having a composition ratio capable of forming Ni 3 Al, NiAl, or the like is used. In particular,
For example, it is produced by pulverizing an alloy obtained by mixing and melting at a ratio of Ni: Al = 75 mol%: 25 mol% or Ni: Al = 50 mol%: 50 mol% by an atomizing method and then sieving. Ni and
The composition ratio with Al may be adjusted such that the amount of Al is in the range of about 25 to 50 mol%. The average particle size of the Ni-Al gold powder is preferably about 3 to 7 μm. In such a Ni-Al alloy powder, Al near the surface of the powder is oxidized by heating before the getter flash, so that further oxidation, that is, generation of NiO is suppressed.
【0012】また、 Ba-Al合金粉末としては、同様な方
法により製造された平均粒径が 210〜50μm 程度のもの
を使用することが好ましい。そして、このような Ba-Al
合金粉末と、上述した Ni-Al合金粉末との混合比率は、
これら合金粉末の組成比を考慮した上で設定するものと
するが、具体的には重量比で 60:40〜 40:60程度の範囲
とすることが好ましい。As the Ba-Al alloy powder, it is preferable to use a Ba-Al alloy powder having an average particle size of about 210 to 50 μm, which is manufactured by a similar method. And such Ba-Al
The mixing ratio of the alloy powder and the Ni-Al alloy powder described above is
Although it should be set in consideration of the composition ratio of these alloy powders, specifically, the weight ratio is preferably in the range of about 60:40 to 40:60.
【0013】また、本発明においては、ゲッタ材の流れ
性を上げ、プレスによる充填性を向上させるために、上
記した Ni-Al合金粉末と共に、Ni粉末を併用することが
できる。Ni粉末としては、平均粒径が 1〜 7μm 程度の
ものを使用することが好ましい。また、Ni粉末は、 Ni-
Al合金粉末に対して30重量% 以下程度の範囲で使用する
ことが好ましい。Ni粉末の使用量が Ni-Al合金粉末の40
重量% を超えると、耐高温酸化性が不十分となり、Baの
爆発的な飛散を招くおそれが生じる。Further, in the present invention, in order to improve the flowability of the getter material and improve the filling property by pressing, Ni powder can be used in combination with the above Ni-Al alloy powder. As the Ni powder, it is preferable to use one having an average particle size of about 1 to 7 μm. Ni powder is Ni-
It is preferably used in the range of about 30% by weight or less based on the Al alloy powder. The amount of Ni powder used is 40% of that of Ni-Al alloy powder.
If it exceeds 5% by weight, the high temperature oxidation resistance becomes insufficient, which may cause explosive scattering of Ba.
【0014】本発明の電子管用ゲッタ装置は、上述した
ような Ba-Al合金粉末と Ni-Al合金粉末とを、あるいは
Ba-Al合金粉末と Ni-Al合金粉末とNi粉末とを、所望の
混合比率で機械的に混合し、この混合物を金属製のゲッ
タ容器内に充填して、プレス装置等で加圧することによ
り得られる。The getter device for an electron tube according to the present invention comprises the above-mentioned Ba-Al alloy powder and Ni-Al alloy powder, or
Ba-Al alloy powder and Ni-Al alloy powder and Ni powder are mechanically mixed at a desired mixing ratio, the mixture is filled in a metal getter container, and pressed by a pressing device or the like. can get.
【0015】[0015]
【作用】本発明の電子管用ゲッタ装置においては、ゲッ
タ材として、 Ba-Al合金粉末と共に Ni-Al合金粉末を使
用している。この Ni-Al合金粉末は、大気中での高温加
熱(例えば電子管のパネル部とファンネル部との封着時
の加熱工程)によっても、Alの酸化層(Al2 O 3 )がNi
の酸化を抑えるため、酸化ニッケル(NiO)の生成を防止
することができる。従って、Baの爆発的な飛散やゲッタ
材の浮き上がりを防止することができ、安定したゲッタ
フラッシュを実現することが可能となる。また、ゲッタ
フラッシュ後においては、従来のゲッタ材と同様に、Ni
とAlとの金属間化合物(NiAl、Ni3 Al等)を生成して安
定化するため、電子管の動作等に対して悪影響を及ぼす
こともない。In the electron tube getter device of the present invention, the Ni-Al alloy powder is used as the getter material together with the Ba-Al alloy powder. This Ni-Al alloy powder has a Ni oxide layer (Al 2 O 3 ) that has a Ni oxide layer (Al 2 O 3 ) even when it is heated at a high temperature in the atmosphere (for example, a heating process at the time of sealing the panel portion and the funnel portion of the electron tube).
The formation of nickel oxide (NiO) can be prevented because the oxidation of nickel is suppressed. Therefore, it is possible to prevent the explosive scattering of Ba and the floating of the getter material, and it is possible to realize a stable getter flash. Also, after getter flashing, as with the conventional getter material, Ni
And an intermetallic compound of Al to stabilize generates a (NiAl, Ni 3 Al, etc.), nor adversely affect the operation of electronic tubes.
【0016】[0016]
【実施例】次に、本発明の電子管用ゲッタ装置の実施例
について説明する。EXAMPLES Examples of the getter device for an electron tube of the present invention will be described below.
【0017】実施例1 まず、 Ni:Al=75mol%:25mol%の比率で混合溶融した合金
を、アトマイズ法により粉末化した後にふるい分けし
て、平均粒径が 7μm の Ni-Al合金粉末を作製した。次
に、この Ni-Al合金粉末と、平均粒径が 100μm の Ba-
Al合金粉末(組成比;Ba:Al=55:45(重量比))とを、
重量比で 1:1となるように混合した。Example 1 First, an alloy obtained by mixing and melting at a ratio of Ni: Al = 75 mol%: 25 mol% was pulverized by an atomizing method and then sieved to produce a Ni-Al alloy powder having an average particle size of 7 μm. did. Next, this Ni-Al alloy powder and Ba- with an average particle size of 100 μm were used.
Al alloy powder (composition ratio; Ba: Al = 55: 45 (weight ratio))
The mixture was mixed at a weight ratio of 1: 1.
【0018】次に、 Ni-Al合金粉末と Ba-Al合金粉末と
の混合粉末に、窒素の供給放出源として数% の窒化鉄粉
末を加えてゲッタ材とした。このゲッタ材を、外径20m
m、内径10mm、高さ 2.0mmの断面U字形のステンレス製
環状ゲッタ容器内に充填し、プレス装置により加圧し
て、目的とする窒素放出源を有する発熱型Baゲッタ装置
を作製した。Next, several percent iron nitride powder was added as a nitrogen supply / release source to a mixed powder of Ni-Al alloy powder and Ba-Al alloy powder to obtain a getter material. This getter material has an outer diameter of 20 m
An exothermic Ba getter device having a target nitrogen emission source was manufactured by filling an annular getter container made of stainless and having a U-shaped cross section with m, an inner diameter of 10 mm, and a height of 2.0 mm, and pressurizing it with a pressing device.
【0019】このようにして得られたゲッタ装置を、大
気中 450℃で 2時間加熱した後、酸化ニッケル(NiO)の
生成量を測定したところ、ほとんど NiOが生成されてい
ないことが確認された。また、上記大気中での加熱を行
った後のゲッタ装置を、真空排気された真空容器内に設
置し、外部から高周波により誘導加熱して、ゲッタフラ
ッシュを行った。そして、このときのBa飛散量と放出ガ
ス量を測定したところ、フラッシュ開始時間13秒で、Ba
飛散量 120mg、放出ガス量10.6Pa・l と良好な結果が得
られた。これらの値は、従来のBa-Al 合金粉末とNi粉末
との混合粉末を用いたゲッタ装置において、大気中加熱
を行うことなくゲッタフラッシュさせた場合と同様な値
である。また、形成したBa膜の分布を調べたところ、均
一にBaの飛散が行われたことを確認した。The getter device thus obtained was heated in air at 450 ° C. for 2 hours, and the amount of nickel oxide (NiO) produced was measured. As a result, it was confirmed that almost no NiO was produced. . Further, the getter device after heating in the atmosphere was installed in a vacuum container that was evacuated, and induction heating was performed by a high frequency from the outside to perform getter flash. Then, when the amount of scattered Ba and the amount of released gas at this time were measured, when the flash start time was 13 seconds,
Good results were obtained, with a scattered amount of 120 mg and an emitted gas amount of 10.6 Pa · l. These values are similar to those obtained when the getter flash is used without heating in the atmosphere in the getter device using the mixed powder of the conventional Ba—Al alloy powder and Ni powder. Moreover, when the distribution of the formed Ba film was examined, it was confirmed that Ba was uniformly dispersed.
【0020】なお、本発明との比較として、Ba-Al 合金
粉末とNi粉末との混合粉末(重量比=1:1)を用いたゲッ
タ装置を、大気中 450℃で 2時間加熱した後、酸化ニッ
ケル(NiO)の生成量を酸化増量にて測定したところ、
7.0重量% と多量に NiOが生成されていた。また、この
ゲッタ装置を、真空排気された真空容器内に設置し、外
部から高周波により誘導加熱して、ゲッタフラッシュを
行ったところ、Baの爆発的な飛散が起こり、フラッシュ
開始時間13秒で、Ba飛散量50mg、放出ガス量23.2Pa・l
という結果が得られた。As a comparison with the present invention, a getter device using a mixed powder of Ba—Al alloy powder and Ni powder (weight ratio = 1: 1) is heated at 450 ° C. in the atmosphere for 2 hours, When the amount of nickel oxide (NiO) produced was measured by increasing the amount of oxidation,
NiO was produced in a large amount of 7.0% by weight. In addition, when this getter device was installed in a vacuum container that was evacuated, and induction heating was performed from the outside with high frequency to perform getter flash, explosive scattering of Ba occurred and flash start time was 13 seconds, Ba scattering amount 50 mg, emission gas amount 23.2 Pa ・ l
The result was obtained.
【0021】実施例2 Ni:Al=50mol%:50mol%の比率で混合溶融した合金を、ア
トマイズ法により粉末化した後にふるい分けして、平均
粒径が 7μm の Ni-Al合金粉末を作製した。次いで、こ
の Ni-Al合金粉末と、平均粒径が 100μm の Ba-Al合金
粉末とを、重量比で 1:1となるように混合した。Example 2 An alloy obtained by mixing and melting at a ratio of Ni: Al = 50 mol%: 50 mol% was pulverized by an atomizing method and then sieved to produce a Ni-Al alloy powder having an average particle size of 7 μm. Next, the Ni-Al alloy powder and the Ba-Al alloy powder having an average particle size of 100 μm were mixed in a weight ratio of 1: 1.
【0022】次に、 Ni-Al合金粉末と Ba-Al合金粉末と
の混合粉末に、窒素の供給放出源として数% の窒化鉄粉
末を加えてゲッタ材とした。このゲッタ材を、外径20m
m、内径10mm、高さ 2.0mmの断面U字形のステンレス製
環状ゲッタ容器内に充填し、プレス装置により加圧し
て、目的とする窒素放出源を有する発熱型Baゲッタ装置
を作製した。Next, several percent iron nitride powder as a nitrogen supply / release source was added to a mixed powder of Ni-Al alloy powder and Ba-Al alloy powder to obtain a getter material. This getter material has an outer diameter of 20 m
An exothermic Ba getter device having a target nitrogen emission source was manufactured by filling an annular getter container made of stainless and having a U-shaped cross section with m, an inner diameter of 10 mm, and a height of 2.0 mm, and pressurizing it with a pressing device.
【0023】このようにして得られたゲッタ装置を、大
気中 450℃で 2時間加熱した後、酸化ニッケル(NiO)の
生成量を測定したところ、ほとんど NiOが生成されてい
ないことが確認された。また、上記大気中での加熱を行
った後のゲッタ装置を、真空排気された真空容器内に設
置し、外部から高周波により誘導加熱して、ゲッタフラ
ッシュを行った。そして、このときのBa飛散量と放出ガ
ス量を測定したところ、フラッシュ開始時間13秒で、Ba
飛散量 100mg、放出ガス量 9.8Pa・l と、飛散量は多少
減少するも使用可能な範囲であった。The getter device thus obtained was heated in air at 450 ° C. for 2 hours, and the amount of nickel oxide (NiO) produced was measured. As a result, it was confirmed that almost no NiO was produced. . Further, the getter device after heating in the atmosphere was installed in a vacuum container that was evacuated, and induction heating was performed by a high frequency from the outside to perform getter flash. Then, when the amount of scattered Ba and the amount of released gas at this time were measured, when the flash start time was 13 seconds,
The amount of scattering was 100 mg, and the amount of released gas was 9.8 Pa · l. Although the amount of scattering was slightly reduced, it was within the usable range.
【0024】[0024]
【発明の効果】以上説明したように、本発明の電子管用
ゲッタ装置によれば、大気中で高温加熱を行っても、酸
化ニッケルがほとんど生成されないため、Baの爆発的な
飛散やゲッタ容器の酸化を引き起こすことがなく、よっ
て安定して均一なゲッタフラッシュを起こすことができ
る。従って、本発明のゲッタ装置は、高品位の電子管に
対して特に優れた効果を発揮し、電子管の品質および信
頼性の向上に大きく寄与するものである。As described above, according to the getter device for an electron tube of the present invention, nickel oxide is scarcely generated even when it is heated at a high temperature in the atmosphere. Oxidation is not caused, and thus a stable and uniform getter flash can be generated. Therefore, the getter device of the present invention exerts a particularly excellent effect on a high-quality electron tube and greatly contributes to the improvement of the quality and reliability of the electron tube.
【0025】[0025]
Claims (1)
してなる電子管用ゲッタ装置において、 前記ゲッタ材は、少なくとも Ba-Al合金粉末と Ni-Al合
金粉末とを含むことを特徴とする電子管用ゲッタ装置。1. A getter device for an electron tube, comprising a metal getter container filled with a getter material, wherein the getter material contains at least Ba—Al alloy powder and Ni—Al alloy powder. Getter device for electron tubes.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31963293A JP3290789B2 (en) | 1993-12-20 | 1993-12-20 | Getter device for electron tube |
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| JP31963293A JP3290789B2 (en) | 1993-12-20 | 1993-12-20 | Getter device for electron tube |
Publications (2)
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| JPH07176278A true JPH07176278A (en) | 1995-07-14 |
| JP3290789B2 JP3290789B2 (en) | 2002-06-10 |
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ID=18112465
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP31963293A Expired - Fee Related JP3290789B2 (en) | 1993-12-20 | 1993-12-20 | Getter device for electron tube |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3290789B2 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018095923A (en) * | 2016-12-13 | 2018-06-21 | 有限会社真空実験室 | Non-evaporable getter powder material, method for producing non-evaporable getter powder material, non-evaporable getter and non-evaporable getter pump |
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|---|---|---|---|---|
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1993
- 1993-12-20 JP JP31963293A patent/JP3290789B2/en not_active Expired - Fee Related
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