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JPH07169801A - Prober - Google Patents

Prober

Info

Publication number
JPH07169801A
JPH07169801A JP5312394A JP31239493A JPH07169801A JP H07169801 A JPH07169801 A JP H07169801A JP 5312394 A JP5312394 A JP 5312394A JP 31239493 A JP31239493 A JP 31239493A JP H07169801 A JPH07169801 A JP H07169801A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
probe
semiconductor device
stage
prober
probe card
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5312394A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Sadao Matai
定男 又井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Yamaguchi Ltd
Original Assignee
NEC Yamaguchi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Yamaguchi Ltd filed Critical NEC Yamaguchi Ltd
Priority to JP5312394A priority Critical patent/JPH07169801A/en
Publication of JPH07169801A publication Critical patent/JPH07169801A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To prevent bringing to an unstable state of contact resistance due to the abrasion of the front end section of a probe for a probe card for conducting the electric test of a semiconductor device, and to perform the electric test correctly. CONSTITUTION:A prober is composed of a stage 6 for loading a wafer 5, an XYZ axis motor 7 for driving the stage 6, a counter 9 counting the number of the contacts of the electrode group of a semiconductor device and a probe 4 for a probe card 3 and a control section 8 for controlling these stage 6, motor 7 and counter 9, and the quantities of overdrives among the electrode group of the semiconductor device and the front end of the probe for the probe card are corrected, thus making contact resistance stable, then allowing the carrying- out of a correct test.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置の製造工程
中に半導体基板上に造り込まれた半導体装置の電気的特
性を検査するためのプローバに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a prober for inspecting the electrical characteristics of a semiconductor device built on a semiconductor substrate during the manufacturing process of the semiconductor device.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、半導体基板(以後ウェハーと呼
ぶ)上に造り込まれた複数個の半導体装置の電気的試験
を行う際、テスターとウェハー上の半導体装置とを接続
するために、テストボード及びプローブカードと呼ばれ
る治具を使用していた。
2. Description of the Related Art Conventionally, a test board is used to connect a tester to a semiconductor device on a wafer when performing an electrical test on a plurality of semiconductor devices built on a semiconductor substrate (hereinafter referred to as a wafer). And a jig called a probe card was used.

【0003】特にプローブカードは、半導体装置の電極
が通常約70〜100μm角と小さく、場合によって約
20μm角という極小の電極群にプローブを接触させ、
半導体装置の電気的試験を行う治具として使用されてい
る。このようにプローブカードのプローブ先端を半導体
装置の電極部に接触させ、所定の接触抵抗値が得られた
ら電気的試験を行うようになっている。
Particularly in the probe card, the electrodes of the semiconductor device are usually as small as about 70 to 100 μm square, and in some cases, the probe is brought into contact with a very small electrode group of about 20 μm square,
It is used as a jig for conducting electrical tests on semiconductor devices. In this way, the probe tip of the probe card is brought into contact with the electrode portion of the semiconductor device, and an electrical test is performed when a predetermined contact resistance value is obtained.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】上述した従来のプロー
バは、プローバのステージに搭載されたウェハー上の半
導体装置の電極群とプローブカードのプローブとの位置
を合わせ、次に半導体装置の電極とプローブカードのプ
ローブとの高さを合わせる。その後、電極とプローブと
は所定の抵抗値以下の接触を得るために、電極にプロー
ブを一定の高さ分押しつけ接触を図る。しかも電極上の
接触跡はできるだけ小さくなるようにしなければならな
い。この押しつけ量をオーバードライブと呼んでおり、
一般的にはオーバードライブ量は約50〜80μmで接
触を図っている。
In the conventional prober described above, the electrode group of the semiconductor device on the wafer mounted on the stage of the prober and the probe of the probe card are aligned, and then the electrode of the semiconductor device and the probe are aligned. Match the height of the card with the probe. After that, in order to obtain contact with the electrode and the probe having a predetermined resistance value or less, the probe is pressed against the electrode by a certain height to make contact. Moreover, the contact marks on the electrodes must be made as small as possible. This pressing amount is called overdrive,
Generally, the overdrive amount is about 50 to 80 μm to make contact.

【0005】しかし、一ウェハー上には数百個から多い
もので数千個の半導体装置が形成されており、ロット単
位では数万個から数10万個の半導体装置の電気的試験
を行わなければならない。そのため、ロットの最初の接
触状態に比べ最後の接触状態ではプローブ先端が大きく
磨耗し、頭初必要とされていた接触抵抗を得ることがで
きなくなり、半導体装置の電気的試験を正しく行うこと
ができなくなるという問題点があった。
However, several hundreds to several thousands of semiconductor devices are formed on one wafer, and tens of thousands to several hundreds of thousands of semiconductor devices must be electrically tested in lot units. I have to. As a result, the probe tip wears significantly in the last contact state compared to the first contact state in the lot, and the contact resistance that was initially required cannot be obtained, and the electrical test of the semiconductor device can be performed correctly. There was a problem of disappearing.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明のプローバは、ウ
ェハーを搭載するためのステージと、ステージを駆動さ
せるためのXYZ軸モーターと、半導体装置の電極群と
プローブカードのプローブとの接触回数をカウントする
カウンターと、これらを制御するための制御部とを有し
ている。
SUMMARY OF THE INVENTION A prober of the present invention provides a stage for mounting a wafer, an XYZ axis motor for driving the stage, a contact count of an electrode group of a semiconductor device and a probe of a probe card. It has a counter for counting and a control unit for controlling these.

【0007】[0007]

【実施例】次に、本発明について図面を参照して説明す
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, the present invention will be described with reference to the drawings.

【0008】図1は本発明の第1の実施例の断面図、図
2はそのフロー図である。
FIG. 1 is a sectional view of a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a flow chart thereof.

【0009】図1および図2において、パラメータ入力
(201)後、プローバ10のステージ6に搭載(20
2)されたウェハー5のアライメントとして、プローブ
カード3に設置されたプローブ4の位置関係を合せた後
に、XYZ軸モーター7でウェハー5上の半導体装置と
プローブ4の位置合せを行う(203)。
In FIG. 1 and FIG. 2, after the parameters are input (201), they are mounted on the stage 6 of the prober 10 (20
2) As the alignment of the wafer 5, after aligning the positional relationship of the probe 4 installed on the probe card 3, the semiconductor device on the wafer 5 and the probe 4 are aligned by the XYZ axis motor 7 (203).

【0010】次にウェハーの高さ合せとして半導体装置
の電極群とプローブ4の高さを一致させる(204)。
その後、所定の接触抵抗値を得るために電極群にプロー
ブ4を押しつける。通常は接触抵抗を0.5Ω以内とし
てオーバードライブ量を50〜80μmとして設定して
いる(205)。再度電極群とプローブ4との位置確認
を行い(206)、テスター1でウェハー上の半導体装
置の電気的試験を行う。
Next, as the height of the wafer, the heights of the electrode group of the semiconductor device and the probe 4 are matched (204).
After that, the probe 4 is pressed against the electrode group in order to obtain a predetermined contact resistance value. Normally, the contact resistance is set to within 0.5Ω and the overdrive amount is set to 50 to 80 μm (205). The position of the electrode group and the probe 4 is confirmed again (206), and the electrical test of the semiconductor device on the wafer is performed by the tester 1.

【0011】ウェハー上の半導体装置の電気的試験回数
が所定の設定回数に達したら、オーバードライブ量が数
μm自動的に多くなるようにプローバ10の制御部8に
設定しておき、カウンター9では電極とプローブ4の接
触回数をカウントする(207)。たとえば、オーバー
ドライブ量を50μmに設定し、半導体装置の電気的試
験回数が1万回に達したら次の半導体装置からは、オー
バードライブ量が52μmと自動的に2μmを補正する
(208)。
When the number of electrical tests of the semiconductor device on the wafer reaches a predetermined number of times, the control section 8 of the prober 10 is set so that the overdrive amount is automatically increased by several μm. The number of contact between the electrode and the probe 4 is counted (207). For example, when the overdrive amount is set to 50 μm and the number of electrical tests of the semiconductor device reaches 10,000, the next semiconductor device automatically corrects the overdrive amount to 52 μm, which is 2 μm (208).

【0012】このオーバードライブ量の補正値は、一律
に定めることはできない。つまり、プローブ4の磨耗分
の補正の適正値を決める要因としては、プローブ4の材
質がタングステン、パラジウム、ベリリウム銅などであ
り、且つプローブ4の太さも先端径で10μmのものか
ら50μmのものまであり、そのため半導体装置の種類
に合ったプローブカード3によりそれぞれ補正値を変え
て設定する必要がある。
The correction value for this overdrive amount cannot be uniformly set. That is, as a factor that determines the appropriate value for correcting the amount of wear of the probe 4, the material of the probe 4 is tungsten, palladium, beryllium copper, etc., and the thickness of the probe 4 ranges from 10 μm to 50 μm in tip diameter. Therefore, it is necessary to set different correction values depending on the probe card 3 suitable for the type of semiconductor device.

【0013】次に第2実施例を図3の断面図と図4のフ
ロー図により説明し、特に第1実施例と異なる部分につ
いてのみ説明する。
Next, a second embodiment will be described with reference to the sectional view of FIG. 3 and the flow chart of FIG. 4, and only the parts different from the first embodiment will be described.

【0014】本実施例の場合は、ウェハーの高さ合わせ
後、電気的試験に入る前にプローブ4の先端とプローブ
カード3の基板裏面13とのプローブ高さ12を予めセ
ンサー11で測定しておく(401)。半導体装置の電
気的試験回数が所定の回数に達した時点で再度プローブ
4の先端とプローブカード3の基板裏面13とのプロー
ブ高さ12をセンサー11で読み取り(402)、プロ
ーブ4の磨耗分のみを補正値としてオーバードライブ量
に加えるものであり、プローブ4の材質、形状にかかわ
ることなく適正なオーバードライブ量を加えることがで
きる。
In the case of this embodiment, after the height of the wafer is adjusted, the probe height 12 between the tip of the probe 4 and the back surface 13 of the substrate of the probe card 3 is measured by the sensor 11 before the electrical test. (401). When the number of electrical tests of the semiconductor device reaches a predetermined number, the probe height 12 between the tip of the probe 4 and the back surface 13 of the substrate of the probe card 3 is read again by the sensor 11 (402), and only the amount of wear of the probe 4 is read. Is added to the overdrive amount as a correction value, and an appropriate overdrive amount can be added regardless of the material and shape of the probe 4.

【0015】又、プローブカード3の基板裏面13から
プローブ4の先端までのプローブ高さ12が規格値以内
まで磨耗している時は、プローバ10の動作を停止させ
ることにより電極に対するブローブ4の跡が異常な状態
になることを未然に防止することができ、半導体装置の
電気的試験が安定して行えるという利点がある。
When the probe height 12 from the back surface 13 of the substrate of the probe card 3 to the tip of the probe 4 is worn to within the specified value, the prober 10 is stopped to trace the probe 4 on the electrode. It is possible to prevent the occurrence of an abnormal state in advance, and there is an advantage that the electrical test of the semiconductor device can be stably performed.

【0016】[0016]

【発明の効果】以上に説明したように本発明は、半導体
装置の電気的試験回数が所定の回数に達した時点でオー
バードライブ量に補正をかけることにより、半導体装置
の電極部とプローブカードのプローブ先端との接触抵抗
を安定に保つことができ、半導体装置の正しい電気的試
験ができる効果がある。
As described above, according to the present invention, the overdrive amount is corrected when the number of electrical tests of the semiconductor device reaches a predetermined number, so that the electrode portion of the semiconductor device and the probe card are corrected. The contact resistance with the tip of the probe can be kept stable, and the semiconductor device can be properly tested electrically.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1実施例の断面図である。FIG. 1 is a sectional view of a first embodiment of the present invention.

【図2】第1実施例のフロー図である。FIG. 2 is a flowchart of the first embodiment.

【図3】本発明の第2実施例の断面図である。FIG. 3 is a sectional view of a second embodiment of the present invention.

【図4】第2実施例のフロー図である。FIG. 4 is a flow chart of a second embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 テスター 2 テストボード 3 プローブカード 4 プローブ 5 ウェハー 6 ステージ 7 XYZ軸モータ 8 制御部 9 カウンター 10 プローバ 11 センサー 12 プローブ高さ 13 基板裏面 1 Tester 2 Test Board 3 Probe Card 4 Probe 5 Wafer 6 Stage 7 XYZ Axis Motor 8 Controller 9 Counter 10 Prober 11 Sensor 12 Probe Height 13 Substrate Backside

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ウェハーを搭載するためのステージと、
ステージを駆動させるためのXYZ軸モーターと、半導
体装置の電極群とプローブカードのプローブとの接触回
数をカウントするカウンターと、あらかじめ設定されて
いる接触回数をカウントした時点で電極群に対するプロ
ーブのオーバードライブ量を補正する制御部を備えるこ
とを特徴とするプローバ。
1. A stage for mounting a wafer,
An XYZ axis motor for driving the stage, a counter for counting the number of contact between the electrode group of the semiconductor device and the probe of the probe card, and an overdrive of the probe for the electrode group when the preset number of contact is counted. A prober comprising a controller for correcting the amount.
【請求項2】 プローブカード裏面からプローブ先端ま
での高さを半導体装置の試験中に読み取り、その高さが
設定値を超えた時点でプローバの動作を停止させる請求
項1記載のプローバ。
2. The prober according to claim 1, wherein the height from the back surface of the probe card to the tip of the probe is read during the test of the semiconductor device, and the operation of the prober is stopped when the height exceeds a set value.
JP5312394A 1993-12-14 1993-12-14 Prober Pending JPH07169801A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5312394A JPH07169801A (en) 1993-12-14 1993-12-14 Prober

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5312394A JPH07169801A (en) 1993-12-14 1993-12-14 Prober

Publications (1)

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Family

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JP (1) JPH07169801A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008243860A (en) * 2007-03-23 2008-10-09 Tokyo Electron Ltd Probe tip position detection method, alignment method, needle tip position detection device, and probe device
JP2016031339A (en) * 2014-07-30 2016-03-07 パナソニックIpマネジメント株式会社 Evaluation method and manufacturing method of solar cell module using the same, manufacturing system of solar cell module, solar cell module

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Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 19990622