JPH07169220A - 磁気ディスク - Google Patents
磁気ディスクInfo
- Publication number
- JPH07169220A JPH07169220A JP31509493A JP31509493A JPH07169220A JP H07169220 A JPH07169220 A JP H07169220A JP 31509493 A JP31509493 A JP 31509493A JP 31509493 A JP31509493 A JP 31509493A JP H07169220 A JPH07169220 A JP H07169220A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- magnetic disk
- less
- radial direction
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 磁気ディスクからの磁気ヘッドの浮上高さを
低く設定しても傷が付き難い、磁気ディスクを提供す
る。 【構成】 表面に略円周状に微細な加工溝が形成された
非磁性基板上に、磁気記録層が形成されてなる磁気ディ
スクにおいて、前記加工溝が、円周方向に対する平行度
を３゜以下、半径方向の表面粗さＲａを５０Å以下およ
びその山部先端における半径方向の平均曲率半径を２０
ｎｍ以下とされていることを特徴とする。
低く設定しても傷が付き難い、磁気ディスクを提供す
る。 【構成】 表面に略円周状に微細な加工溝が形成された
非磁性基板上に、磁気記録層が形成されてなる磁気ディ
スクにおいて、前記加工溝が、円周方向に対する平行度
を３゜以下、半径方向の表面粗さＲａを５０Å以下およ
びその山部先端における半径方向の平均曲率半径を２０
ｎｍ以下とされていることを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ＣＳＳ（コンタクト・
スタート・ストップ）方式を採用した磁気ディスク装置
等に適用される磁気ディスクに関する。
スタート・ストップ）方式を採用した磁気ディスク装置
等に適用される磁気ディスクに関する。
【０００２】
【従来の技術】上記磁気ディスクとしては、ラップ加
工、ポリッシュ加工、テクスチャ加工等の表面処理を施
して表面に略円周状に微細な加工溝が形成された非磁性
基板上に、磁気記録層が形成され、該磁気記録層上にこ
れを保護するためのカーボン，ＳｉＯ2等からなる保護
層が形成され、更に、該保護層上に潤滑層が形成された
ものが知られている。
工、ポリッシュ加工、テクスチャ加工等の表面処理を施
して表面に略円周状に微細な加工溝が形成された非磁性
基板上に、磁気記録層が形成され、該磁気記録層上にこ
れを保護するためのカーボン，ＳｉＯ2等からなる保護
層が形成され、更に、該保護層上に潤滑層が形成された
ものが知られている。
【０００３】ところで、近年、磁気ディスクの高密度化
に伴い、磁気ディスクと磁気ヘッドの間隔は益々狭くな
る傾向にある。そこで、上記磁気ディスクに対し磁気ヘ
ッドの浮上量を低く設定するためには、上記加工溝の粗
さの程度を低くしなければならない。すると、磁気ディ
スクと磁気ヘッドの接触面積が増加しこの部分の摺動が
増加するため、磁気ディスクに傷が付き易くなって長期
間の使用に耐えられなくなるという問題点があった。
に伴い、磁気ディスクと磁気ヘッドの間隔は益々狭くな
る傾向にある。そこで、上記磁気ディスクに対し磁気ヘ
ッドの浮上量を低く設定するためには、上記加工溝の粗
さの程度を低くしなければならない。すると、磁気ディ
スクと磁気ヘッドの接触面積が増加しこの部分の摺動が
増加するため、磁気ディスクに傷が付き易くなって長期
間の使用に耐えられなくなるという問題点があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
問題点を解消し、磁気ディスク面からの磁気ヘッドの浮
上量を低く設定しても、傷が付き難い磁気ディスクを提
供することにある。
問題点を解消し、磁気ディスク面からの磁気ヘッドの浮
上量を低く設定しても、傷が付き難い磁気ディスクを提
供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するものとして、前記磁気ディスクにおいて、前記加
工溝が、円周方向に対する平行度を３゜以下、半径方向
の表面粗さＲａを５００ｎｍ以下およびその山部先端に
おける半径方向の平均曲率半径を２０ｎｍ以下とされて
いることを特徴とする磁気ディスクである。
成するものとして、前記磁気ディスクにおいて、前記加
工溝が、円周方向に対する平行度を３゜以下、半径方向
の表面粗さＲａを５００ｎｍ以下およびその山部先端に
おける半径方向の平均曲率半径を２０ｎｍ以下とされて
いることを特徴とする磁気ディスクである。
【０００６】
【作用】本発明の磁気ディスクにおいて、非磁性基板
は、アルミニウム合金の如き非磁性金属、ガラス、樹脂
等の剛性を有する基板に対して、その全面に亘って硬度
が高く、切削性の良好な硬化層が形成されたものであ
る。このような硬化層が設けられた非磁性基板には、平
面化研磨加工が施された後、その表面の粗面化がテクス
チャ加工によって行なわれ、表面に略円周状に微細な加
工溝が形成される。
は、アルミニウム合金の如き非磁性金属、ガラス、樹脂
等の剛性を有する基板に対して、その全面に亘って硬度
が高く、切削性の良好な硬化層が形成されたものであ
る。このような硬化層が設けられた非磁性基板には、平
面化研磨加工が施された後、その表面の粗面化がテクス
チャ加工によって行なわれ、表面に略円周状に微細な加
工溝が形成される。
【０００７】本発明において、この際形成される加工溝
が、円周方向に対する平行度を３゜以下、半径方向の表
面粗さＲａ（中心線平均粗さ）を５００ｎｍ以下および
その山部先端における半径方向の平均曲率半径を２０ｎ
ｍ以下とされている。
が、円周方向に対する平行度を３゜以下、半径方向の表
面粗さＲａ（中心線平均粗さ）を５００ｎｍ以下および
その山部先端における半径方向の平均曲率半径を２０ｎ
ｍ以下とされている。
【０００８】円周方向に対する平行度が３゜を超える
と、加工溝の交点近傍において異常な切削痕が発生し易
く、ヘッドヒット特性が低下する。また、Ｒａが５００
ｎｍを超えると、半径方向における微小なうねりが大き
くなり、やはりヘッドヒット特性が低下する。更に、山
部先端における半径方向の平均曲率半径が２０ｎｍを超
えると、磁気ヘッドに対する接触面積が大きくなりＣＳ
Ｓ試験による耐久性が低下する。
と、加工溝の交点近傍において異常な切削痕が発生し易
く、ヘッドヒット特性が低下する。また、Ｒａが５００
ｎｍを超えると、半径方向における微小なうねりが大き
くなり、やはりヘッドヒット特性が低下する。更に、山
部先端における半径方向の平均曲率半径が２０ｎｍを超
えると、磁気ヘッドに対する接触面積が大きくなりＣＳ
Ｓ試験による耐久性が低下する。
【０００９】このような状態の加工溝を形成するには、
例えば、次のように行なう。即ち、粒径が４μｍ以下の
ダイヤモンド、アルミナ、シリコンカーバイドまたは酸
化クロムの砥粒を水溶液中に分散させたスラリーを加工
液として用い、この加工液を含浸した研磨布を回転する
基板の硬化層面上に押し付ける。この際、基板の回転
数、硬化層面上への押し付け力、研磨布の巻取り速度、
研磨布を基板の半径方向に微小揺動させる振動の周期な
どを適宜調整する。
例えば、次のように行なう。即ち、粒径が４μｍ以下の
ダイヤモンド、アルミナ、シリコンカーバイドまたは酸
化クロムの砥粒を水溶液中に分散させたスラリーを加工
液として用い、この加工液を含浸した研磨布を回転する
基板の硬化層面上に押し付ける。この際、基板の回転
数、硬化層面上への押し付け力、研磨布の巻取り速度、
研磨布を基板の半径方向に微小揺動させる振動の周期な
どを適宜調整する。
【００１０】上記加工溝が形成された非磁性基板には、
必要により磁気記録層の磁気特性を調整する等のためＣ
ｒ，Ｃｒ合金等からなる下地層が形成された後、例え
ば、Ｃｏ系、Ｃｏ−Ｎｉ系、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ系のよう
な磁気記録層が形成される。次に、この磁気記録層上
に、これを保護するためのカーボン、ＳｉＯ2 等からな
る保護層が形成され、更に、この保護層上に潤滑層が形
成され、以て目的とする磁気ディスクとされる。
必要により磁気記録層の磁気特性を調整する等のためＣ
ｒ，Ｃｒ合金等からなる下地層が形成された後、例え
ば、Ｃｏ系、Ｃｏ−Ｎｉ系、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ系のよう
な磁気記録層が形成される。次に、この磁気記録層上
に、これを保護するためのカーボン、ＳｉＯ2 等からな
る保護層が形成され、更に、この保護層上に潤滑層が形
成され、以て目的とする磁気ディスクとされる。
【００１１】
実施例１〜４、比較例１〜６ 基板に外径９５ｍｍ、内径２５ｍｍ、厚さ１．２７ｍｍ
のアルミニウム合金材料を用い、その両面に公知の無電
解メッキ法によりＮｉ−Ｐ合金層を１５μｍの厚みで形
成した後、ラップ加工およびポリッシュ加工によりＲａ
が５ｎｍの鏡面とした。
のアルミニウム合金材料を用い、その両面に公知の無電
解メッキ法によりＮｉ−Ｐ合金層を１５μｍの厚みで形
成した後、ラップ加工およびポリッシュ加工によりＲａ
が５ｎｍの鏡面とした。
【００１２】次に、この鏡面加工された基板を５００ｒ
ｐｍで回転させながら、研磨布に対して加工液をノズル
より滴下して供給し、更にロールにより研磨布を基板に
押し付けてテクスチャ加工を行なった。なお、上記加工
液は、粒径が９０重量％が１〜３μｍの範囲に入るダイ
ヤモンド砥粒と粒径が９０重量％が３〜７μｍの範囲に
入るダイヤモンド砥粒とをスラリーに調整して使用し
た。また、上記テクスチャ加工は、形成される加工溝の
平行度、Ｒａおよび山部先端における半径方向の平均曲
率半径を種々変えて行なった。
ｐｍで回転させながら、研磨布に対して加工液をノズル
より滴下して供給し、更にロールにより研磨布を基板に
押し付けてテクスチャ加工を行なった。なお、上記加工
液は、粒径が９０重量％が１〜３μｍの範囲に入るダイ
ヤモンド砥粒と粒径が９０重量％が３〜７μｍの範囲に
入るダイヤモンド砥粒とをスラリーに調整して使用し
た。また、上記テクスチャ加工は、形成される加工溝の
平行度、Ｒａおよび山部先端における半径方向の平均曲
率半径を種々変えて行なった。
【００１３】このようにして得られた種々の基板につい
て、円周方向に対する平行度、半径方向の表面粗さＲａ
および加工溝山部先端における半径方向の平均曲率半径
を走査電子トンネル型顕微鏡によって測定した。これら
の結果を表１に示す。
て、円周方向に対する平行度、半径方向の表面粗さＲａ
および加工溝山部先端における半径方向の平均曲率半径
を走査電子トンネル型顕微鏡によって測定した。これら
の結果を表１に示す。
【００１４】その後、これらの基板上に、ＤＣマグネト
ロンスパッタリング法によりＣｒ下地膜を成膜し、次に
この下地膜上に上記法によりＣｏＣｒＴａ磁気記録層を
成膜した。更に、この磁気記録層上に上記Ｃｒ下地膜の
成膜と同様の条件でカーボン保護膜を成膜し、その上に
スピンコート法により潤滑層を成膜した。このようにし
て得られた種々の磁気ディスクについて、ヘッドヒット
特性、ＣＳＳ試験による耐久性および吸着特性の評価を
行った。
ロンスパッタリング法によりＣｒ下地膜を成膜し、次に
この下地膜上に上記法によりＣｏＣｒＴａ磁気記録層を
成膜した。更に、この磁気記録層上に上記Ｃｒ下地膜の
成膜と同様の条件でカーボン保護膜を成膜し、その上に
スピンコート法により潤滑層を成膜した。このようにし
て得られた種々の磁気ディスクについて、ヘッドヒット
特性、ＣＳＳ試験による耐久性および吸着特性の評価を
行った。
【００１５】ヘッドヒット特性は、振動センサを取り付
けた磁気ヘッドを浮上させて磁気ディスクと磁気ヘッド
との接触回数を１０枚（２０面）につき測定し、磁気ヘ
ッドの浮上高さが０．０５μｍ以上でヘッドヒットが生
じなかったものを◎、そして、磁気ヘッドの浮上高さが
０．０９μｍ以上、０．０７μｍ以上０．０９μｍ未
満、０．０５μｍ以上０．０７μｍ未満でヘッドヒット
が生じたものを夫々×、△、○とした。
けた磁気ヘッドを浮上させて磁気ディスクと磁気ヘッド
との接触回数を１０枚（２０面）につき測定し、磁気ヘ
ッドの浮上高さが０．０５μｍ以上でヘッドヒットが生
じなかったものを◎、そして、磁気ヘッドの浮上高さが
０．０９μｍ以上、０．０７μｍ以上０．０９μｍ未
満、０．０５μｍ以上０．０７μｍ未満でヘッドヒット
が生じたものを夫々×、△、○とした。
【００１６】また、ＣＳＳ試験による耐久性は、磁気デ
ィスクに磁気ヘッドをおいた後、０ｒｐｍ→３６００ｒ
ｐｍ→０ｒｐｍの工程を３０秒周期で行なった。１０，
０００回毎に工程を中断して４枚（８面）の磁気ディス
ク面における摺動傷の有無を観察した。摺動傷が観察さ
れないものは試験を継続し、観察されたものは試験を中
止した。
ィスクに磁気ヘッドをおいた後、０ｒｐｍ→３６００ｒ
ｐｍ→０ｒｐｍの工程を３０秒周期で行なった。１０，
０００回毎に工程を中断して４枚（８面）の磁気ディス
ク面における摺動傷の有無を観察した。摺動傷が観察さ
れないものは試験を継続し、観察されたものは試験を中
止した。
【００１７】更に、吸着特性は、磁気ディスクに磁気ヘ
ッドをおき、３０℃、相対湿度８０％の環境下に１００
時間放置した後の磁気ヘッド−磁気ディスク間の静止摩
擦係数と放置する前の磁気ヘッド−磁気ディスク間の静
止摩擦係数との比を４枚（８面）につき求めた。この比
が１．２未満、１．２以上３未満、３以上のものを夫々
◎、○、×とした。以上の結果を表１に示す。
ッドをおき、３０℃、相対湿度８０％の環境下に１００
時間放置した後の磁気ヘッド−磁気ディスク間の静止摩
擦係数と放置する前の磁気ヘッド−磁気ディスク間の静
止摩擦係数との比を４枚（８面）につき求めた。この比
が１．２未満、１．２以上３未満、３以上のものを夫々
◎、○、×とした。以上の結果を表１に示す。
【００１８】
【表１】
【００１９】
【発明の効果】本発明は、磁気ディスクからの磁気ヘッ
ドの浮上高さを０．０５μｍ程度まで低く設定しても傷
が付き難い磁気ディスクを提供することができる。
ドの浮上高さを０．０５μｍ程度まで低く設定しても傷
が付き難い磁気ディスクを提供することができる。
Claims (1)
- 【請求項１】 表面に略円周状に微細な加工溝が形成さ
れた非磁性基板上に、磁気記録層が形成されてなる磁気
ディスクにおいて、前記加工溝が、円周方向に対する平
行度を３゜以下、半径方向の表面粗さＲａを５００ｎｍ
以下およびその山部先端における半径方向の平均曲率半
径を２０ｎｍ以下とされていることを特徴とする磁気デ
ィスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31509493A JPH07169220A (ja) | 1993-12-15 | 1993-12-15 | 磁気ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31509493A JPH07169220A (ja) | 1993-12-15 | 1993-12-15 | 磁気ディスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07169220A true JPH07169220A (ja) | 1995-07-04 |
Family
ID=18061343
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31509493A Pending JPH07169220A (ja) | 1993-12-15 | 1993-12-15 | 磁気ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07169220A (ja) |
-
1993
- 1993-12-15 JP JP31509493A patent/JPH07169220A/ja active Pending
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