JPH07113146B2 - Surface treatment method for aluminum or its alloys - Google Patents
Surface treatment method for aluminum or its alloysInfo
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- JPH07113146B2 JPH07113146B2 JP60010410A JP1041085A JPH07113146B2 JP H07113146 B2 JPH07113146 B2 JP H07113146B2 JP 60010410 A JP60010410 A JP 60010410A JP 1041085 A JP1041085 A JP 1041085A JP H07113146 B2 JPH07113146 B2 JP H07113146B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、アルミニウムまたはアルミニウム合金の表面
処理方法に係り、特にある所定の温度のフラックス溶液
にアルミニウムまたはその合金からなる板,管、その他
の構造物を浸漬する工程を有していることにより、それ
らの構造物に優れた耐食性を持たせることができる表面
処理方法に関する。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a surface treatment method for aluminum or an aluminum alloy, and particularly to a plate, a tube or the like made of aluminum or its alloy in a flux solution at a predetermined temperature. The present invention relates to a surface treatment method capable of imparting excellent corrosion resistance to these structures by having a step of immersing the structures.
従来、アルミニウム(以下、Alと元素記号で表示する)
またはAl合金の耐食性を向上させる先行技術として、電
気化学的処理が存在する。この電気化学的処理は、Alま
たはAl合金の表面に亜鉛(以下、Znと元素記号で表示す
る)のメッキ層を形成することを内容とするものであ
る。しかし、この電気化学的処理では、Znメッキ層の剥
離の問題と、メッキ層が薄いことによる早期にZnが腐食
によりなくなるために、AlまたはAl合金の耐食性には充
分といえない。さらに、このZnがメッキされたAlまたは
Al合金のろう付けする際には、被ろう付け部材表面に化
学的に安定なZn被膜ができるためにろう付けが困難とな
る。Conventionally, aluminum (hereinafter referred to as Al and elemental symbols)
Or, as a prior art for improving the corrosion resistance of Al alloy, there is an electrochemical treatment. This electrochemical treatment is to form a zinc (hereinafter referred to as Zn) plating layer on the surface of Al or Al alloy. However, this electrochemical treatment is not sufficient for the corrosion resistance of Al or Al alloys because the Zn plating layer is peeled off and Zn is eliminated early by corrosion due to the thin plating layer. In addition, this Zn-plated Al or
When brazing an Al alloy, a chemically stable Zn coating is formed on the surface of the member to be brazed, which makes brazing difficult.
そこで、AlまたはAl合金の耐食性を向上させる目的で、
表面にZnの被膜を形成し、加熱処理を行ってZnをAlまた
はAl合金中に拡散する従来例が存在する(住友軽金属技
法,1980年4月号、第12頁〜第19頁)。この従来例は、A
lまたはAl合金を犠牲陽極による陰極防食によってその
耐食性を図ろうとするものである。しかし、この従来例
による防食法では、AlまたはAl合金中へのZnの拡散が充
分図れないという虞れがある。Therefore, for the purpose of improving the corrosion resistance of Al or Al alloy,
There is a conventional example in which a Zn film is formed on the surface and heat-treated to diffuse Zn into Al or an Al alloy (Sumitomo Light Metal Co., Ltd., April 1980, pages 12 to 19). This conventional example is A
The purpose is to improve the corrosion resistance of Al or Al alloy by cathodic protection with a sacrificial anode. However, there is a concern that Zn cannot be sufficiently diffused into Al or Al alloy by the anticorrosion method according to this conventional example.
本発明の目的は、アルミニウムまたはアルミニウム合金
中へZnを充分拡散すさせることによって、より耐食性に
優れたアルミニウムまたはその合金の表面処理方法を提
供することにある。An object of the present invention is to provide a surface treatment method for aluminum or its alloy, which is more excellent in corrosion resistance, by sufficiently diffusing Zn into the aluminum or aluminum alloy.
本発明は、重量比で、ZnF2:3〜35%、AlF3:38〜54%、K
F:25〜40%を含むフッ素系フラックス粉末または、ZnCl
2:6〜10%、KCl:30〜55%、NaCl:20〜30%、LiCl:13〜4
0%を含む塩素系フラックス粉末が、重量比で85%以上
含まれてなる60〜80℃である水溶液に、アルミニウムま
たはその合金からなる被処理部材を浸漬し、当該被処理
部材の表面に亜鉛被膜および前記フラックス粉末の付着
層を同時に形成し、その後亜鉛の溶融温度以上でかつ前
記被処理部材の溶融温度以下に加熱し、亜鉛を被処理部
材中に拡散させると同時にろう付けすることを特徴とす
るアルミニウムまたはその合金の表面処理方法である。The present invention is, by weight ratio, ZnF 2: 3~35%, AlF 3: 38~54%, K
F: Fluorine-based flux powder containing 25-40% or ZnCl
2 : 6-10%, KCl: 30-55%, NaCl: 20-30%, LiCl: 13-4
Chlorine-based flux powder containing 0% is immersed in an aqueous solution containing 60% to 80 ° C in a weight ratio of 85% or more, and a member to be treated made of aluminum or its alloy is dipped into the surface of the member to be treated with zinc. A coating film and an adhesion layer of the flux powder are formed at the same time, and then heated to a temperature above the melting temperature of zinc and below the melting temperature of the member to be treated to diffuse zinc into the member to be treated and to braze at the same time. And a surface treatment method for aluminum or its alloy.
上記本発明に用いられるフラックス粉末には、フッ素系
のものと塩素系のものが存在する。これらのフラックス
には、Zn層を被処理部材表面に形成させるためにZn化合
物が必須成分として含まれている。The flux powder used in the present invention includes fluorine-based powder and chlorine-based powder. These fluxes contain a Zn compound as an essential component for forming the Zn layer on the surface of the member to be treated.
フッ素系フラックスの場合の主成分は、重量比で、38〜
54%AlF3、25〜40%KF、3〜35%ZnF2が含まれている。In the case of fluorine-based flux, the main component is 38-
It contains 54% AlF 3 , 25-40% KF, and 3-35% ZnF 2 .
塩素系フラックスの主成分は、30〜55%KCl、20〜30%N
aCl、13〜40%LiCl、6〜10%ZnCl2である。The main components of chlorine-based flux are 30-55% KCl, 20-30% N
aCl, 13~40% LiCl, is 6~10% ZnCl 2.
これらのフラックスの主成分は、フラックスの全体重量
に対して85%以上含まれていることが望ましい。85%よ
り小さい場合には、フラックスの融点が上昇するため
に、被処理部材表面に形成されたZn層を被処理部材中に
拡散させる際に不都合が生じる。It is desirable that the main component of these fluxes is 85% or more based on the total weight of the flux. If it is less than 85%, the melting point of the flux rises, which causes inconvenience in diffusing the Zn layer formed on the surface of the member to be processed into the member to be processed.
上記フラックスにおいて、主成分の他に加えられる成分
として、アルカリ金属とフッ素からなるLIF,NaF,MgF,Ca
Fから選んだ少なくとも一種以上を0.5〜9重量%添加し
ても有効である。フラックスの成分範囲として特に好ま
しい範囲は、フッ素系フラックスの場合重量比で44〜50
%AlF3、32〜36%KF、7〜15%ZnF2および3〜6%LiF
である。In the above flux, LIF, NaF, MgF, Ca consisting of alkali metal and fluorine are added as a component in addition to the main component.
It is effective to add 0.5 to 9% by weight of at least one selected from F. A particularly preferable range for the composition of the flux is 44-50 by weight in the case of a fluorine-based flux.
% AlF 3 , 32-36% KF, 7-15% ZnF 2 and 3-6% LiF
Is.
本発明に用いられるフラックスは、塩素系のフラックス
に比較してフッ素系のフラックスの方が有効性を有す
る。これは、被処理部材中にZnを拡散したのち被処理部
材を冷却するが、塩素系フラックスの場合は被処理部材
の表面上に残る残滓フラックスが吸湿性を有するので、
この吸湿に従って塩素イオンが発生し、被処理部材表面
を腐食させる。したがって、塩素系フラックスを用いた
場合は、Znを拡散後被処理部材表面を充分洗浄する必要
がある。これに対してフッ素系フラックスの場合は吸湿
性を有しないため、このような被処理部材表面上の腐食
および洗浄を行うという煩雑さがない。As the flux used in the present invention, a fluorine-based flux is more effective than a chlorine-based flux. This is to cool the member to be processed after diffusing Zn into the member to be processed, but in the case of chlorine-based flux, since the residual flux remaining on the surface of the member to be processed has hygroscopicity,
Chloride ions are generated according to this moisture absorption, and corrode the surface of the member to be treated. Therefore, when a chlorine-based flux is used, it is necessary to thoroughly wash the surface of the member to be processed after diffusing Zn. On the other hand, the fluorine-based flux does not have hygroscopicity, and thus there is no need to perform such corrosion and cleaning on the surface of the member to be treated.
上記フラックス粉末は、微粉末の方が水に懸濁しやすい
ので有効である。例えばフッ素フラックスに含まれるAl
F3の場合、AlF3が製造される前に生成されるAlF3・3H2O
の微粉末を用いた方がより好ましい。またZnF2の場合
は、水和物であるZnF2・4H2Oを用いても有効である。The above-mentioned flux powder is effective because the fine powder is more easily suspended in water. For example, Al contained in fluorine flux
For F 3, AlF generated before the AlF 3 is manufactured 3 · 3H 2 O
It is more preferable to use the fine powder of. In the case of ZnF 2 , it is also effective to use ZnF 2 · 4H 2 O which is a hydrate.
フラックスが懸濁される温熱水溶液のフラックス濃度は
3%より低いと、均一のZn被膜を形成しにくく、Znの被
処理部材表面への濡れ性も低下する。また、濃度が50よ
りも高い場合、Znを被処理部材中に拡散後のフラックス
の残滓の除去が困難になる。フラックス濃度の特に好ま
しい範囲は、10〜20%である。If the flux concentration of the hot aqueous solution in which the flux is suspended is lower than 3%, it is difficult to form a uniform Zn film, and the wettability of Zn on the surface of the member to be treated also decreases. Further, if the concentration is higher than 50, it becomes difficult to remove the residue of the flux after Zn is diffused in the member to be treated. A particularly preferred range of flux concentration is 10-20%.
上記本発明に用いられるフラックス粉末が懸濁する水溶
液には、水の換わりにアルコール等の溶液を用いること
ができる。フラックスが懸濁される溶液は、水の場合に
は60〜80℃の温熱溶液が望ましい。温度が50℃以下で
は、Zn層およびフラックス層の形成に時間がかかり過
ぎ、80℃以上ではZn層の密着性,均一性の点で劣ること
によるものである。For the aqueous solution in which the flux powder used in the present invention is suspended, a solution of alcohol or the like can be used instead of water. The solution in which the flux is suspended is preferably a hot solution of 60 to 80 ° C in the case of water. This is because if the temperature is 50 ° C or lower, it takes too long to form the Zn layer and the flux layer, and if the temperature is 80 ° C or higher, the adhesion and uniformity of the Zn layer are poor.
被処理部材表面のZn濃度を高めるためには、フラックス
中のZn化合物例えばZnF2量を多くするか、フラックス水
溶液濃度を高くして、被処理部材表面へのフラックス付
着量を多くする必要がある。しかし、後者のフラックス
付着量を多くすることは、フラックスの融点の上昇、残
渣の増大、さらには表面処理がなされた被処理部材のろ
う付け性能の低下等の問題がある。そこで、被処理部材
のAlとフラックス中のZnの反応を早めるために、フラッ
クス水溶液を加熱してその中に予め前処理を行った被処
理部材を浸漬する。このことによって、被処理部材表面
上にZn層が形成され、さらにこのZn層の上にフラックス
層が形成される。そして、Znの溶融温度以上でかつ被処
理部材の溶融温度以下に加熱することによって耐食性の
優れた被処理部材が得られる。上記の被処理部材表面上
に形成されたZn層は、被処理部材の浸漬部分の全体にわ
たって均一に形成されている。In order to increase the Zn concentration on the surface of the member to be treated, it is necessary to increase the amount of Zn compound in the flux, for example ZnF 2, or increase the concentration of the aqueous flux solution to increase the amount of flux attached to the surface of the member to be treated. . However, the latter method of increasing the amount of adhered flux has problems such as an increase in the melting point of the flux, an increase in residues, and a decrease in the brazing performance of the surface-treated member to be treated. Therefore, in order to accelerate the reaction between Al of the member to be treated and Zn in the flux, the aqueous flux solution is heated and the member to be pretreated in advance is immersed therein. As a result, a Zn layer is formed on the surface of the member to be treated, and a flux layer is further formed on this Zn layer. Then, by heating above the melting temperature of Zn and below the melting temperature of the member to be treated, a member to be treated having excellent corrosion resistance can be obtained. The Zn layer formed on the surface of the member to be processed is uniformly formed over the entire immersed portion of the member to be processed.
フラックス粉末が懸濁する温熱水溶液に被処理部材を浸
漬してZn層およびフラックス層を形成させたのち、Znを
拡散する前にこの被処理部材を乾燥させる必要がある。
乾燥時にもフラックス水溶液は加熱されるので、乾燥温
度も高い方が効果があるが、フラックス水溶液を加熱し
た方がZn拡散の効果は大きいものとなる。After a member to be treated is dipped in a hot aqueous solution in which flux powder is suspended to form a Zn layer and a flux layer, it is necessary to dry the member to be treated before diffusing Zn.
Since the aqueous flux solution is also heated during drying, the higher the drying temperature is, the more effective it is. However, heating the aqueous flux solution is more effective in diffusing Zn.
Zn層の厚さは、フラックス水溶液への被処理部材の浸漬
時間を長くすることによって厚くすることができる。し
かし、あまりに層の厚さが厚くなりすぎると剥離が生じ
やすくなる。例えば、90℃で10分間被処理部材を懸濁溶
液中に浸漬すると、約5μmのZn層を得ることができる
が、乾燥時にそのZn層が剥離する虞れがあるために、浸
漬時間は5分以内にとどめるのが好ましい。通常望まし
いZn層の厚さは、螢光X線厚さ計で測定して1〜5μm
程度である。The thickness of the Zn layer can be increased by increasing the immersion time of the member to be treated in the aqueous flux solution. However, if the layer is too thick, peeling easily occurs. For example, if a member to be treated is immersed in a suspension solution at 90 ° C. for 10 minutes, a Zn layer having a thickness of about 5 μm can be obtained, but the Zn layer may peel off during drying, so the immersion time is 5 minutes. It is preferable to stay within minutes. Usually the desired Zn layer thickness is 1-5 μm as measured by a fluorescent X-ray thickness gauge.
It is a degree.
被処理部材をフラックス粉末が懸濁する温熱水溶液に浸
漬した際に、フラックス中のZnが減少し、Zn膜形成能力
が低下した場合には、Zn化合物、例えばフッ素系フラッ
クスの場合はZnF2を添加するだけでZn膜形成能力は回復
する。When the member to be treated is immersed in a hot aqueous solution in which the flux powder is suspended, Zn in the flux decreases, and if the Zn film forming ability decreases, Zn compound, for example, in the case of fluorine-based flux, ZnF 2 is used. The Zn film forming ability is restored only by adding.
被処理部材をフラックス粉末の懸濁する温熱水溶液に浸
漬して表面にZn層およびフラックスを形成したのち、こ
の被処理部を乾燥させる。そしてZnの溶融温度以上でか
つ被処理部材の溶融温度以下でZnを被処理部材中に拡散
させる。この溶融温度(融点)は、Znが420℃で、被処
理部材のAlが660℃なので、600℃程度で行う。The member to be treated is immersed in a hot aqueous solution in which flux powder is suspended to form a Zn layer and a flux on the surface, and then this treated portion is dried. Then, Zn is diffused into the member to be treated at a temperature not lower than the melting temperature of Zn and not higher than the melting temperature of the member to be treated. The melting temperature (melting point) is about 600 ° C. because Zn is 420 ° C. and Al of the member to be processed is 660 ° C.
被処理部材を600℃に加熱すると、フラックス層が活性
化して、Al表面およびZn表面の酸化物と結合して、その
表面を純粋なものとする。When the member to be treated is heated to 600 ° C., the flux layer is activated and combines with the oxides on the Al surface and the Zn surface to make the surface pure.
被処理部材を600℃付近で加熱すると、被処理部材上に
形成されたZn層が被処理部材中に拡散する。この拡散
は、被処理部材表面上のAlに対するZnの濃度が1〜2%
であり、拡散層の深さは100μm程度である。そして拡
散が終了したのちは冷却し、被処理部材上に存在する残
渣を洗浄して除去する。被処理部材中に拡散したZnは、
周囲の腐食環境に対して犠牲陽極的に腐食するために、
被処理部材であるAlまたはその合金を防食することがで
きる。When the member to be processed is heated near 600 ° C., the Zn layer formed on the member to be processed diffuses in the member to be processed. This diffusion is caused by a Zn concentration of 1-2% relative to Al on the surface of the member to be treated.
And the depth of the diffusion layer is about 100 μm. Then, after the diffusion is completed, it is cooled, and the residue present on the member to be treated is washed and removed. Zn diffused in the member to be treated is
For sacrificial anodic corrosion against the surrounding corrosive environment,
It is possible to prevent corrosion of Al or its alloy that is the member to be treated.
このようなZn拡散層は、被処理部材中に均一に形成され
ているものである。Such a Zn diffusion layer is uniformly formed in the member to be processed.
フッ化物系フラックスに用いられるAlF3は、製造方法に
湿式と乾式の方法がある。今日では、その生産のほとん
どは乾式法で、湿式法はわが国の全生産量の10%にも満
たないのが現状である。AlF 3 used for a fluoride-based flux has a wet method and a dry method as a manufacturing method. Today, most of its production is the dry method, and the wet method currently accounts for less than 10% of the total production of Japan.
湿式法によるAlF3は、硅フッ化水素酸の熱水溶液に当量
の水酸化アルミニウムを加え、準安定性のAlF3とシリカ
ゲルの沈澱を作り、速やかにシリカゲルを瀘別して、瀘
液を晶析器に移し、種晶を加えて100℃で3〜4時間攪
拌すれば、β−AlF3・3H2Oの結晶が析出する。AlF3は、
この結晶を乾燥後、600℃に加熱焼成することによって
得られる。このAlF3の製造途中で得られるAlF3・3H2Oは
微粉末であり、フラックスとしては好ましいものであ
る。また、湿式法によって得られたAlF3の結晶は、β−
AlF3・3H2Oの結晶水が除かれた状態であるため多孔質と
なり、表面積が増えるため、加熱したフラックス水溶液
中でKFやZnF2と反応し、Zn被膜の形成に効果がある。For AlF 3 by the wet method, an equivalent amount of aluminum hydroxide is added to a hot aqueous solution of hydrofluoric acid to form a metastable AlF 3 and silica gel precipitate, and the silica gel is rapidly separated, and the filtrate is crystallized by a crystallizer. And adding seed crystals and stirring at 100 ° C. for 3 to 4 hours, β-AlF 3 .3H 2 O crystals are precipitated. AlF 3 is
This crystal is obtained by drying and then heating and baking at 600 ° C. AlF 3 · 3H 2 O obtained in the course of manufacturing of the AlF 3 is fine powder, the flux is preferred. In addition, AlF 3 crystals obtained by the wet method are β-
Since the water of crystallization of AlF 3 3H 2 O is removed, it becomes porous and its surface area increases. Therefore, it reacts with KF and ZnF 2 in the heated flux aqueous solution, and is effective in forming a Zn film.
一方、乾式法によるAlF3の製造は、フッ化水素と水酸化
アルミニウムの流動反応による流動床を用いる連続生成
方式による。この乾式法は、水酸化アルミニウムとアル
ミニウムとフッ化水素のガスの固相−気相反応により製
造する方法で、反応熱により水酸化アルミニウムの脱水
とフッ素化を行う。乾式法により製造したAlF3の結晶は
緻密な結晶である。On the other hand, the production of AlF 3 by the dry method is a continuous production method using a fluidized bed by a fluid reaction of hydrogen fluoride and aluminum hydroxide. This dry method is a method in which aluminum hydroxide, aluminum and a gas of hydrogen fluoride are produced by a solid-gas phase reaction, and dehydration and fluorination of aluminum hydroxide are performed by reaction heat. The AlF 3 crystal produced by the dry method is a dense crystal.
湿式法および乾式法によるAlF3の差はX線回折法による
分析では認められない。しかし、フラックスの原料とし
て使用し、フラックスとして用いた場合、そのフラック
ス水溶液でAlまたはAl合金の表面にZn被膜を形成する
と、その差は歴然となる。つまり、湿式法によるAlF3を
用いたフラックスではZn被膜が形成されるが、乾式法に
よるAlF3を用いたフラックスではZn被膜が形成されな
い。No difference in AlF 3 between the wet method and the dry method is recognized by the analysis by the X-ray diffraction method. However, when used as a flux raw material and used as a flux, when the Zn coating film is formed on the surface of Al or Al alloy with the flux aqueous solution, the difference becomes obvious. That is, the Zn coating is formed by the flux using AlF 3 by the wet method, but the Zn coating is not formed by the flux using AlF 3 by the dry method.
湿式法によるAlF3および乾式法によるAlF3をそれぞれ1g
ずつpH5.7の脱イオン水100mlに溶かし、pHを測った結
果、湿式法AlF3は54.5、乾式法AlF3は6.00であることが
解った。また、15%のフラックス水溶液のpHも、乾式Al
F3使用フラックスは7.15、湿式AlF3使用のフラックスは
5.61で、湿式AlF3使用のフラックスの方が酸性になって
いた。このことから、フラックス水溶液のpHは酸性の方
がZn被膜形成に好ましいことがわかる。フラックス水溶
液のpHは、一般に6.70以下でZn層の均一な形成には有効
であり、特に6.00以下で好ましい結果が得られる。特に
フラックス粉末の原料となるAlF3に乾式法により製造し
たAlF3を使用する場合には、このフラックス水溶液に有
機酸を加え、フラックス水溶液のpHを5.6以下、好まし
くは5.30以下にすることが必要である。1 g each of AlF 3 by the wet method and AlF 3 by the dry method
Each was dissolved in 100 ml of deionized water of pH 5.7 and the pH was measured. As a result, it was found that the wet method AlF 3 was 54.5 and the dry method AlF 3 was 6.00. Also, the pH of the 15% aqueous flux solution is
F 3 used flux is 7.15, wet AlF 3 used flux is
At 5.61, the flux using wet AlF 3 was more acidic. From this, it is understood that the acidic pH of the aqueous flux solution is preferable for the Zn film formation. The pH of the aqueous flux solution is generally 6.70 or less, which is effective for uniform formation of the Zn layer, and particularly 6.00 or less, a preferable result is obtained. In particular, when using AlF 3 produced by a dry method for AlF 3 which is a raw material of flux powder, it is necessary to add an organic acid to this flux aqueous solution so that the pH of the flux aqueous solution is 5.6 or less, preferably 5.30 or less. Is.
フラックス水溶液を酸性にする有機酸としては、サリチ
ル酸、シュウ酸、酢酸、フタル酸、酒石酸、アスコルビ
ン酸等の酸が好ましく用いられ、特に好ましいのは酢酸
である。As the organic acid that makes the aqueous flux solution acidic, acids such as salicylic acid, oxalic acid, acetic acid, phthalic acid, tartaric acid, and ascorbic acid are preferably used, and acetic acid is particularly preferable.
以下、実施例1〜4までにおいて、ろう付前の段階まで
を説明し、実施例5〜7においてろう付工程を含むもの
を説明する。Hereinafter, Examples 1 to 4 will be described up to the stage before brazing, and Examples 5 to 7 will be described including a brazing step.
実施例1 重量で49%AlF3、37%KF、14%ZnF2からなるフッ化物系
フラックス(1)、46%AlF3、34%KF、14%ZnF2、6%
LiFからなるフッ化物系フラックス(2)、および25%N
aCl、45%KCl、14%LiCl、8%ZnCl2、8%LiFからなる
塩化物系フラックス(3)粉末を水に懸濁し、15重量%
(残水分)の水溶液とした。なお、AlF3は湿式法により
製造したものである。Example 1 Fluoride-based flux (1) consisting of 49% AlF 3 , 37% KF and 14% ZnF 2 by weight, 46% AlF 3 , 34% KF, 14% ZnF 2 and 6%
Fluoride flux composed of LiF (2) and 25% N
Chloride flux consisting of aCl, 45% KCl, 14% LiCl, 8% ZnCl 2 and 8% LiF (3) Suspended powder in water, 15% by weight
An aqueous solution of (remaining water content) was prepared. AlF 3 was manufactured by a wet method.
フラックスの製造方法は、フラックスの原料となる化合
物の粉末を混合し、水を加えてペースト状にする。この
場合、フラックスの原料1に対して水0.6〜0.8の重量比
がよく、水の中に原料を少量ずつ添加してペースト状に
なるまで乳鉢で混練した。その後、120℃の恒温槽内で2
5時間乾燥し、冷却後粉砕した。原料となる粉末は、予
る振動ミルにより粒径を40μm以下(−400メッシュ)
に粉砕しておいた。この粉末フラックスを水に懸濁させ
てフラックス水溶液とした。In the method for producing the flux, the powder of the compound that is the raw material of the flux is mixed and water is added to form a paste. In this case, the weight ratio of water 0.6 to 0.8 to the raw material 1 of the flux was good, and the raw materials were added little by little into water and kneaded in a mortar until a paste was formed. After that, in a 120 ° C constant temperature bath, 2
It was dried for 5 hours, cooled, and then ground. The powder used as the raw material has a particle size of 40 μm or less (-400 mesh) with a vibrating mill.
I had crushed it. This powder flux was suspended in water to obtain a flux aqueous solution.
このフラックス水溶液を加熱攪拌し、予め脱脂洗浄処理
を施した、50mm×50mm×1mmのAl板(A1050)を浸漬し、
所定の温度で30秒間保持したのち引き上げる。次いで、
表面に付着したフラックスを水洗により除去し、乾燥さ
せたのちに螢光X線分析装置によりAl板表面のZn分析を
行った。測定条件は、2次ターゲット:Ge、一次X線管
電圧:25kV、一次X線管電流:10mA、測定時間:500秒、Z
線照射面積:φ24mmである。This flux aqueous solution is heated and stirred, and a 50 mm x 50 mm x 1 mm Al plate (A1050), which has been subjected to degreasing and cleaning treatment in advance, is immersed,
Hold at the specified temperature for 30 seconds and then pull up. Then
The flux adhering to the surface was removed by washing with water, and after drying, the Zn analysis on the surface of the Al plate was performed by a fluorescent X-ray analyzer. The measurement conditions are: secondary target: Ge, primary X-ray tube voltage: 25 kV, primary X-ray tube current: 10 mA, measurement time: 500 seconds, Z
Line irradiation area: φ24 mm.
第1図にAl表面のX線強度と各種フラックス水溶液温度
の関係を示す。フッ化物系フラックス(1)および
(2)では、フラックスの溶温が50℃以上で急激にZnの
X線強度が強くなっているのがわかる。Fig. 1 shows the relationship between the X-ray intensity of the Al surface and the temperature of various flux aqueous solutions. With the fluoride-based fluxes (1) and (2), it can be seen that the X-ray intensity of Zn sharply increases when the flux melting temperature is 50 ° C or higher.
Al表面に形成したZn被膜は、目視によっても確認でき、
その色が黒みがかった灰色である。塩化物系フラックス
(3)では、60℃以上でX線強度は強くなるが、目視で
確認できるほど着色してはおらず、90℃でもフッ化物系
フラックス(1),(2)の1/10程度であった。しか
し、90℃で30分間処理するとAl表面は金属Znの光沢を呈
し、密着性も良好であった。The Zn coating formed on the Al surface can be visually confirmed,
Its color is blackish gray. With the chloride flux (3), the X-ray intensity becomes strong at 60 ° C and above, but it is not colored enough to be visually confirmed, and even at 90 ° C it is 1/10 of that of the fluoride flux (1) and (2). It was about. However, when treated at 90 ° C for 30 minutes, the Al surface exhibited the gloss of metallic Zn and the adhesion was good.
また、フッ化物系フラックス(2)により形成したZn被
膜を、走査型電子顕微鏡により観察した結果、被膜の均
一性,密着性の点から60〜70℃のフラックス温度が最も
良好であることがわかった。Moreover, the Zn coating formed by the fluoride flux (2) was observed by a scanning electron microscope, and it was found that the flux temperature of 60 to 70 ° C was the best in terms of coating uniformity and adhesion. It was
Zn被膜の厚みは、フラックス水溶液への浸漬時間を長く
することにより厚くできるが、厚くし過ぎると剥離しや
すくなる。例えば、90℃で10分間保持すると、約5μm
に達するが乾燥時に剥離する虞れがあるので、5分以内
にとどめるのが好ましい。この剥離を防止するのも一方
法である。The thickness of the Zn coating can be increased by prolonging the immersion time in the aqueous flux solution, but if it is too thick, peeling easily occurs. For example, holding at 90 ℃ for 10 minutes, about 5μm
However, there is a risk of peeling at the time of drying, so it is preferable to stay within 5 minutes. One method is to prevent this peeling.
実施例2 実施例1において製造したフラックス水溶液を60℃に加
熱した中に、50mm×25mm×1mmのAl板(01050)を60秒間
浸漬後引き上げ、120℃で5分間乾燥し、N2ガス露点を
−30℃以下とした雰囲気600℃に加熱して、ZnをAl板中
に拡散させた。Znを拡散させたAl板のZnの表面濃度およ
び拡散深さは、EPMAにより測定した。Zn濃度は重量で0.
1%,0.5%,1.0%,5.0%,残Alの標準試料から検量線を
作成し、概算した。その結果を第2図に示す。図から明
らかなように、フッ化物系フラックス(1),(2)お
よび塩化物系フラックス(3)のいずれで処理してもAl
中のZn濃度はほぼ同じで、表面で1.5%、拡散深さは0.1
2〜0.13mmである。しかし、塩化物系フラックス(3)
では、拡散処理後のフラックス残渣除去工程は避けられ
ず、特に複雑構造物においては、フラックス残渣除去工
程は不可欠である。Example 2 An Al plate (01050) of 50 mm × 25 mm × 1 mm was immersed for 60 seconds in the flux aqueous solution produced in Example 1 while being heated to 60 ° C., then pulled up, dried at 120 ° C. for 5 minutes, and degassed with N 2 gas. Was heated to 600 ° C. in an atmosphere of −30 ° C. or lower to diffuse Zn into the Al plate. The Zn surface concentration and the diffusion depth of the Al plate in which Zn was diffused were measured by EPMA. Zn concentration is 0 by weight.
A calibration curve was created from the standard samples of 1%, 0.5%, 1.0%, 5.0% and the remaining Al, and estimated. The results are shown in FIG. As is clear from the figure, Al is treated with any of the fluoride fluxes (1) and (2) and the chloride flux (3).
The Zn concentration is almost the same, 1.5% on the surface, and the diffusion depth is 0.1.
It is 2 to 0.13 mm. However, chloride flux (3)
Therefore, the flux residue removing step after the diffusion treatment is unavoidable, and the flux residue removing step is indispensable especially for complex structures.
実施例3 第3図は、Zn被膜形成能力を示したものである。脱イオ
ン水42.5gに対し、フッ化物系フラックス(2)を7.5g
添加した水溶液を作成し、そのフラックス水溶液を60℃
に加熱し、所定の面積のAl板(A1050)を150秒間浸漬し
た。浸漬後引き上げたのち、フラックス中のZnF2の減量
を化学分析により測定した。フラックス中のZnF2は、Zn
被膜形成面積が1000cm2まではほぼ直線的に減少してい
る(図中の(1))。その後、減少率が低下し、Zn被膜
形成能力は低下するが、ZnF2を添加することにより形成
能力は回復する(図中の(2))。Example 3 FIG. 3 shows the Zn film forming ability. 7.5g of fluoride flux (2) against 42.5g of deionized water
Make the added aqueous solution and apply the flux aqueous solution at 60 ℃
Then, the Al plate (A1050) having a predetermined area was immersed for 150 seconds. After withdrawing after immersion, the amount of ZnF 2 in the flux was measured by chemical analysis. ZnF 2 in the flux is Zn
The film formation area decreases almost linearly up to 1000 cm 2 ((1) in the figure). Thereafter, the decrease rate decreases and the Zn film forming ability decreases, but the forming ability is restored by adding ZnF 2 ((2) in the figure).
実施例4 乾式法により製造したAlF3を使用して、重量で46%Al
F3、34%KF、14%ZnF2、6%LiFからなるフッ化物系フ
ラックス粉末(4)を水に懸濁し、15重量%(残水分)
の水溶液とした。フラックスの製造方法は実施例1と同
じである。Example 4 Using AlF 3 produced by the dry method, 46% Al by weight
Fluoride flux powder (4) consisting of F 3 , 34% KF, 14% ZnF 2 and 6% LiF was suspended in water, and 15% by weight (residual water content)
Of water. The manufacturing method of the flux is the same as that of the first embodiment.
このフラックス水溶液に酢酸を滴下し、フラックス水溶
液のpHを変えて60℃に加熱し、予め脱脂洗浄処理を施し
た、50mm×50mm×1mmのAl板(A1050)を60秒間浸漬し、
引き上げ、表面に付着したフラックスを水洗により除去
した。除去後、Al板を乾燥させた後に、螢光X線分析装
置によりAl板表面のZnの分析を行った。測定条件は実施
例1と同じである。比較のため、フッ化物系フラックス
(2)についても同じ条件で測定した。Acetic acid was added dropwise to this aqueous flux solution, the pH of the aqueous flux solution was changed to 60 ° C., and a 50 mm × 50 mm × 1 mm Al plate (A1050) that had been degreased and washed was immersed for 60 seconds.
It was pulled up and the flux adhering to the surface was removed by washing with water. After the removal, the Al plate was dried, and then the Zn on the surface of the Al plate was analyzed by a fluorescent X-ray analyzer. The measurement conditions are the same as in Example 1. For comparison, the fluoride-based flux (2) was also measured under the same conditions.
第4図にAl表面のX線強度とフラックス水溶液のpHの関
係を示す。pHの値が6.7より小さくなると、急激にZnの
X線強度が強くなっているのがわかる。Fig. 4 shows the relationship between the X-ray intensity on the Al surface and the pH of the aqueous flux solution. It can be seen that when the pH value becomes smaller than 6.7, the X-ray intensity of Zn is rapidly increased.
酢酸以外のサリチル酸、シュウ酸、フタル酸、酒石酸、
アスコルビン酸等の有機酸でも同様な効果があったが、
フッ酸、硝酸ではほとんど効果がなかった。Salicylic acid other than acetic acid, oxalic acid, phthalic acid, tartaric acid,
Similar effects were obtained with organic acids such as ascorbic acid,
Almost no effect was obtained with hydrofluoric acid and nitric acid.
実施例5 本実施例は、最終目的である拡散処理でZnをAlまたはAl
合金の中へ充分拡散させると同時にろう付を行う表面処
理方法である。Example 5 In this example, Zn is Al or Al in the final purpose diffusion treatment.
This is a surface treatment method in which it is sufficiently diffused into the alloy and at the same time brazing is performed.
第5図はフィンとチューブから構成されるコルゲート型
熱交換器の斜視図である。第5図(A)において、偏平
チューブ5と偏平チューブ5との間にフィン6が配置さ
れ、各々の接触部がろう付けされる。偏平チューブ5は
JIS規格のA1050のAl材で、その断面寸法は20mm×5mmの
中空(穴数6)になっていて、フィン6はAl板からなる
心材(JIS規格A3003)7の表面に、Al−Si系のろう材
(BA4343)8をクラッドしたブレージングシートによっ
て形成され、その断面寸法は22mm×0.1mmである。偏平
チューブ5と偏平チューブ5の間隙は16mmで、この間隙
に成型したフィン6を挿入し、3段に組み合わせた。こ
の被ろう付部材を60℃に加熱したフラックス濃度3,5,1
5,30,50重量%(残水分)の水溶液に90秒間浸漬し、そ
の後120℃で乾燥して水分を蒸発させた。続いて、N2ガ
スの露点を−30℃以下とした雰囲気で615℃に加熱し
て、ZnをAlに拡散させながらろう付けした。なお、ここ
で使用したフラックスは、実施例1の方法で製造したフ
ラックスで、重量で46%AlF3、34%KF、14%ZnF2、6%
LiF2からなるフッ化物系フラックス(2)および実施例
4で説明したフッ化物系フラックス(4)である。フッ
化物系フラックス(4)は、酢酸によりpHを5.6に調整
して使用した。比較のために、フッ化物系フラックス
(2)を用いて室温のフラックス水溶液に90秒間浸漬
し、他は全て同じ条件でろう付けを行った。FIG. 5 is a perspective view of a corrugated heat exchanger composed of fins and tubes. In FIG. 5 (A), fins 6 are arranged between the flat tubes 5 and the respective contact portions are brazed. Flat tube 5
JIS standard A1050 Al material, the cross-sectional dimension of which is hollow with 20 mm x 5 mm (6 holes), and the fins 6 are Al-Si series on the surface of the core material (JIS standard A3003) 7 made of Al plate. The brazing material (BA4343) 8 is clad with a brazing sheet, and its cross-sectional dimension is 22 mm × 0.1 mm. The gap between the flat tubes 5 and the flat tubes 5 was 16 mm, and the fins 6 formed in this gap were inserted and combined in three stages. Flux concentration of this brazed material heated to 60 ° C 3,5,1
It was immersed in an aqueous solution of 5,30,50% by weight (residual water content) for 90 seconds and then dried at 120 ° C. to evaporate the water content. Subsequently, the N 2 gas was heated to 615 ° C. in an atmosphere with a dew point of −30 ° C. or lower, and brazing was performed while Zn was diffused in Al. The flux used here is the flux produced by the method of Example 1, and is 46% AlF 3 , 34% KF, 14% ZnF 2 , 6% by weight.
The fluoride-based flux (2) made of LiF 2 and the fluoride-based flux (4) described in Example 4. The fluoride type flux (4) was used after adjusting the pH to 5.6 with acetic acid. For comparison, the fluoride type flux (2) was immersed in a flux aqueous solution at room temperature for 90 seconds, and brazing was performed under the same conditions except for the above.
ろう付けが終了すると、第5図(B)に示すように、心
材7の表面にはろう材の被覆層が形成され、偏平チュー
ブ5との間にフィレット9が形成される。When brazing is completed, as shown in FIG. 5 (B), a brazing material coating layer is formed on the surface of the core material 7, and a fillet 9 is formed between the core material 7 and the flat tube 5.
フィン6とチューブ5のZn拡散による表面処理効果につ
いては、JISH8681で規定しているキャス試験法(Alおよ
びAl合金の陽極酸化被膜の耐食性試験方法)で200時間
にわたって行い、孔食深さで評価した。またチューブ5
表面のZn濃度および拡散深さをEPMAにより測定した。測
定用の試験片は熱交換器の一部を切り出して当てた。そ
れらの結果を第1表に示す。チューブ5とフィン6のろ
う付け性については、接触部に形成されるフィレット9
の形状で判定した。The surface treatment effect of Zn diffusion on the fins 6 and tubes 5 was performed for 200 hours by the Cass test method (corrosion resistance test method for anodic oxide coatings of Al and Al alloys) specified in JIS H8681, and evaluated by pitting depth. did. Again tube 5
The Zn concentration and the diffusion depth of the surface were measured by EPMA. A test piece for measurement was applied by cutting out a part of the heat exchanger. The results are shown in Table 1. Regarding the brazability of the tube 5 and the fin 6, the fillet 9 formed at the contact portion
The shape was determined.
チューブ表面のZn濃度、チューブへのZn拡散深さ、キャ
ス試験200時間後の孔食深さのいずれもフラックス水溶
液を加熱して被処理部材を処理した効果があらわれてい
る。本来、拡散深さは加熱温度と加熱時間によって決ま
るものであるが、フラックス濃度が低いと浅くなる傾向
があった。The Zn concentration on the tube surface, the Zn diffusion depth into the tube, and the pitting corrosion depth after 200 hours of the cass test all show the effect of heating the aqueous flux solution to treat the member to be treated. Originally, the diffusion depth was determined by the heating temperature and the heating time, but it tended to become shallow when the flux concentration was low.
またキャス試験200時間におけるチューブの最大孔食深
さは、フッ化物系フラックス(2)の水溶液温度20℃の
フラックス濃度3%が0.85mm、5%が0.50mmで、15%、
30%、50%は全面腐食の形態を示している。これに対し
て、本発明の処理方法により処理した試料は、全て全面
腐食の形態を示しており、フラックス濃度5%では、最
大孔食深さが0.12mmおよび0.15mmで、(2)の20℃の50
%より浅くなっている。この結果から、フラックス濃度
5%以上でフラックス水溶液濃度が60℃のとき、耐孔食
性に優れていることが明らかとなった。In addition, the maximum pitting depth of the tube in the Cass test for 200 hours was 15% at a flux concentration of 3% of 0.85 mm, 5% of 0.50 mm at a solution temperature of 20 ° C.
30% and 50% show the form of general corrosion. On the other hand, all the samples treated by the treatment method of the present invention showed the form of general corrosion, and at the flux concentration of 5%, the maximum pitting corrosion depth was 0.12 mm and 0.15 mm, which was 20 of (2). ℃ 50
It is shallower than%. From this result, it was revealed that the pitting corrosion resistance was excellent when the flux concentration was 5% or more and the flux aqueous solution concentration was 60 ° C.
Zn被膜が形成されたことによりろう付け性の低下はほと
んど認められず、フラックス濃度が3%でフィレット形
成がやや不良であったが、接合は充分に行われていた。
外観はフラックス濃度が高くなるに従って、フラックス
残渣が多くなるため、仕上がりが悪くなる。熱交換器に
使用する場合にはフィンの目づまりを起こし、通風抵抗
を大きくするので、フラックス濃度は30%以下が好まし
い。Almost no decrease in brazing property was observed due to the formation of the Zn coating, and the fillet formation was slightly poor at the flux concentration of 3%, but the joining was sufficiently performed.
As for the appearance, as the flux concentration increases, the amount of flux residue increases, resulting in poor finish. When used in a heat exchanger, the flux concentration is preferably 30% or less because it causes clogging of fins and increases ventilation resistance.
実施例6 実施例5で用いたと同じ熱交換器の表面処理およびろう
付けをフッ化物系フラックス(1)、塩化物系フラック
ス(3)により行い、キャス試験200時間後の最大孔食
深さを測定した。フラックスの製造法および表面処理方
法は、実施例5と全て同じにしてフラックス濃度15%に
ついて行った。その結果を第2表に示す。Example 6 Surface treatment and brazing of the same heat exchanger as used in Example 5 were performed with a fluoride flux (1) and a chloride flux (3), and the maximum pitting depth after 200 hours of the cass test was determined. It was measured. The flux production method and the surface treatment method were all the same as in Example 5, and the flux concentration was 15%. The results are shown in Table 2.
比較例がいずれも孔食があるのに対して、本発明の実施
例では、全面腐食の形態を示しており、耐孔食性に優れ
ていることは明らかである。 While all the comparative examples have pitting corrosion, the examples of the present invention show a mode of general corrosion, and it is clear that they are excellent in pitting corrosion resistance.
熱交換器のチューブとフィンのろう付けを行う場合、フ
ラックスの塗布方法はフラックスの水溶液にチューブと
フィンを浸漬し、フラックスを付着せる方法がとられて
いる。When brazing the tubes and fins of the heat exchanger, the flux is applied by immersing the tubes and fins in an aqueous solution of flux to attach the flux.
実施例7 本実施例では、従来のメッキによる電気化学的処理の表
面処理法との比較試験を行った。Example 7 In this example, a comparative test with a conventional surface treatment method of electrochemical treatment by plating was performed.
50mm×50mm×1mmのAl板(A1050)を15%濃度のフッ化物
系フラックス(1)水溶液、塩化物系フラックス(3)
水溶液にそれぞれ浸漬した。浸漬条件は60℃で90秒であ
る。その後引き上げ、120℃で乾燥し、N2雰囲気中で600
℃に加熱し、ZnをAl中に拡散させて腐食試験片とした。
また、同じ形状のAl板(A1050)に5μmの電気メッキ
を施したままで腐食試験片とした。腐食試験はキヤス試
験を行った。その結果を第6図に示す。図において、図
中(1)は弗化物系フラックスのときの結果、図中
(2)は液化物系フラックスのときの結果、図中(3)
はメッキ法のときの結果を示す。50mm × 50mm × 1mm Al plate (A1050) with 15% concentration of fluoride flux (1) solution, chloride flux (3)
Each was immersed in the aqueous solution. Immersion conditions are 60 ° C. and 90 seconds. Then pull up, dry at 120 ° C, and 600 in N 2 atmosphere.
It was heated to ℃ and Zn was diffused into Al to obtain a corrosion test piece.
Further, an Al plate (A1050) having the same shape was used as a corrosion test piece while being electroplated with 5 μm. As the corrosion test, a cast test was performed. The result is shown in FIG. In the figure, (1) in the figure is the result for the fluoride flux, (2) is the result for the liquefaction flux, and (3) in the figure.
Indicates the result of the plating method.
フラックスを用いた表面処理がキヤス試験720時間で最
大孔食深さは、約300μmであったのに対して、5μm
電気メッキでは200時間で全面腐食を呈しており、210μ
mの深さであった。なお、この試験片表面のZnメッキ膜
は、試験途中で溶出したか、メッキ面剥離を起こしてし
まったものと思われる。いずれにしても、Zn被膜はなく
なっているので、腐食は急激に進行するものと思われ
る。The maximum pitting depth was about 300 μm in 720 hours of the surface test using flux, whereas it was 5 μm.
In electroplating, total corrosion was exhibited in 200 hours, 210μ
It was a depth of m. The Zn-plated film on the surface of the test piece is considered to have been eluted during the test or the plating surface was peeled off. In any case, since the Zn coating has disappeared, it seems that the corrosion proceeds rapidly.
以上説明したように、本発明によれば、温度が60から80
℃であるフラックス水溶液にアルミニウムまたはその合
金からなる板、管、その他の構造物を浸漬する工程を有
していることにより、被処理部材へのZn拡散が充分に行
われ、それらの構造物は優れた耐食性を得ることができ
る。また、構造物を浸漬する上記フラックス水溶液のpH
を6.7以上の範囲にすることにより、さらに、均一に、
且つ高い密着性をもってZn皮膜を構造物に形成すること
ができ、これも構造物は優れた耐食性を得ることにつな
がる。As explained above, according to the present invention, the temperature is 60 to 80
By having a step of immersing a plate, tube, or other structure made of aluminum or its alloy in a flux aqueous solution at a temperature of ℃, Zn is sufficiently diffused into the member to be treated, and those structures are It is possible to obtain excellent corrosion resistance. Also, the pH of the above flux aqueous solution for dipping the structure
By setting the range to 6.7 or more, more evenly,
Moreover, the Zn film can be formed on the structure with high adhesion, which also leads to the structure having excellent corrosion resistance.
第1図はフラックス水溶液温度と被処理部材表面のZnの
X線強度の関係を示すグラフ、第2図は被処理部材の表
面のZn濃度と拡散深さの関係を示すグラフ、第3図はZn
皮膜形成面積とフラックス中のZnF2量との関係を示すグ
ラフ、第4図はフラックスのpHと被処理部材表面のZnの
X線強度の関係を示すグラフ、第5図(A)は本発明に
係る表面処理方法の適用例である一例を示す熱交換器の
斜視図、第5図(B)は第5図(A)のろう付け部拡大
図、第6図はメッキによる表面処理と本発明にかかる表
面処理との試験時間と孔食深さの関係を示すグラフであ
る。 1……フッ化物系フラックス(1)、2……フッ化物系
フラックス(2)、3……塩化物系フラックス(3)、
4……フッ化物系フラックス(4)、75……偏平チュー
ブ、6……フィン、7……心材、8……ろう材、9……
フィレット。FIG. 1 is a graph showing the relationship between the flux aqueous solution temperature and the X-ray intensity of Zn on the surface of the member to be treated, FIG. 2 is a graph showing the relationship between the Zn concentration on the surface of the member to be treated and the diffusion depth, and FIG. 3 is Zn
A graph showing the relationship between the film forming area and the amount of ZnF 2 in the flux, FIG. 4 is a graph showing the relationship between the pH of the flux and the X-ray intensity of Zn on the surface of the member to be treated, and FIG. 5 (A) is the present invention. FIG. 5B is a perspective view of a heat exchanger showing an example of an application of the surface treatment method according to FIG. 5, FIG. 5B is an enlarged view of the brazing part of FIG. 5A, and FIG. It is a graph which shows the test time with the surface treatment concerning invention, and the relationship of pitting depth. 1 ... Fluoride flux (1), 2 ... Fluoride flux (2), 3 ... Chloride flux (3),
4 ... Fluoride flux (4), 75 ... Flat tube, 6 ... Fin, 7 ... Core material, 8 ... Brazing material, 9 ...
Fillet.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中田 一成 茨城県日立市久慈町4026番地 株式会社日 立製作所日立研究所内 (56)参考文献 特開 昭59−205467(JP,A) 特開 昭59−47088(JP,A) 特公 昭55−36433(JP,B2) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Kazushige Nakata 4026 Kuji Town, Hitachi City, Ibaraki Prefecture Hitachi Research Laboratory, Hitate Manufacturing Co., Ltd. (56) References JP-A-59-205467 (JP, A) JP-A-SHO 59-47088 (JP, A) JP-B-55-36433 (JP, B2)
Claims (3)
%、KF:25〜40%を含むフッ素系フラックス粉末また
は、ZnCl2:6〜10%、KCl:30〜55%、NaCl:20〜30%、Li
Cl:13〜40%を含む塩素系フラックス粉末が、重量比で8
5%以上含まれてなる60〜80℃の水溶液に、アルミニウ
ムまたはその合金からなる被処理部材を浸漬し、当該被
処理部材の表面に亜鉛被膜および前記フラックス粉末の
付着層を同時に形成し、その後亜鉛の溶融温度以上でか
つ前記被処理部材の溶融温度以下に加熱し、亜鉛を被処
理部材中に拡散させると同時にろう付けすることを特徴
とするアルミニウムまたはその合金の表面処理方法。1. A weight ratio of ZnF 2 : 3 to 35% and AlF 3 : 38 to 54
%, KF: fluorine-based containing 25% to 40% flux powder or, ZnCl 2: 6~10%, KCl : 30~55%, NaCl: 20~30%, Li
Chlorine flux powder containing 13: 40% Cl: 8 by weight
A member to be treated made of aluminum or its alloy is dipped in an aqueous solution of 60 to 80 ° C. containing 5% or more to simultaneously form a zinc coating and an adhesion layer of the flux powder on the surface of the member to be treated, and thereafter. A surface treatment method for aluminum or an alloy thereof, which comprises heating to a temperature not lower than a melting temperature of zinc and not higher than a melting temperature of the member to be treated to diffuse zinc into the member to be treated and at the same time brazing.
6.7以下であることを特徴とするアルミニウムまたはそ
の合金の表面処理方法。2. The pH of the solution according to claim 1 is
A surface treatment method for aluminum or its alloy, which is 6.7 or less.
を、酢酸、サリチル酸、シュウ酸、フタル酸、酒石酸、
アスコルビン酸から選ばれた少なくとも1種の酸を加え
ることによりpHが6.7以下とすることを特徴とするアル
ミニウムまたはその合金の表面処理方法。3. The pH of the solution according to claim 1.
Acetic acid, salicylic acid, oxalic acid, phthalic acid, tartaric acid,
A surface treatment method for aluminum or its alloy, wherein the pH is adjusted to 6.7 or less by adding at least one acid selected from ascorbic acid.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60010410A JPH07113146B2 (en) | 1985-01-23 | 1985-01-23 | Surface treatment method for aluminum or its alloys |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60010410A JPH07113146B2 (en) | 1985-01-23 | 1985-01-23 | Surface treatment method for aluminum or its alloys |
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| JPS61170557A JPS61170557A (en) | 1986-08-01 |
| JPH07113146B2 true JPH07113146B2 (en) | 1995-12-06 |
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ID=11749372
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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-
1985
- 1985-01-23 JP JP60010410A patent/JPH07113146B2/en not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017008356A (en) * | 2015-06-19 | 2017-01-12 | 三菱アルミニウム株式会社 | Aluminum alloy tube for heat exchanger and production method for the same, and heat exchanger core |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61170557A (en) | 1986-08-01 |
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