JPH07100042B2 - スライドファスナー用エレメント列の表面処理方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、連続した合成樹脂製スライドファスナー用エ
レメント列の改良に関するものである。

［従来の技術］ 従来、連続した合成樹脂製エレメント列に金属物質を付
着させて装飾性を付与したものは知られている。この場
合の金属物質の付着はメッキ処理で施したものである。
メッキ処理には多くの工程があり、各工程共に薬品槽の
中へエレメント列を水平方向に供給しながら処理する必
要がある。

［発明が解決しようとする課題］ 従来のメッキ処理を施すものは、エレメント列を薬品槽
の中へ水平方向に供給する必要があるため、エレメント
列の長手方向に引張り荷重がかかり、エレメント列のピ
ッチの狂いを生じやすくしていた。エレメント列にピッ
チの狂いが生じると、ファスナー機能を損うことにな
る。

また、メッキ処理した金属物質はエレメント列の表面に
対して膜状に付着しただけのものであり、しかも膜自体
が硬く、エレメント列の曲げに対して柔軟性がなくひび
が大きく生じ、これにスライダーの摺動を加えること
で、広い範囲にわたって剥離しやすいものとなり、外観
の見苦しい製品となる問題点がある。

そこで、本発明では、エレメント列のピッチの狂いを引
き起すことなく、金属粒子の付着を強固にしたスライド
ファスナー用エレメント列の表面処理方法を提供するも
のである。

［課題を解決するための手段］ 連続した合成樹脂製エレメント列にエッチング加工を施
した後、エレメント列のピッチに変化を生じないような
状態ですなわちエレメント列を垂下した状態あるいは横
方向に供給するためにエレメント列を下方から保持して
供給しながらこれにスパッタリングを施すことによっ
て、前記エレメント列の表面に金属の粒子をそれぞれ独
立した状態で付着するようにコーティングするスライド
ファスナー用エレメント列の表面処理方法である。

本発明におけるエッチング加工は、真空室内に適当なガ
ス例えばアルゴンガス、酸素ガス、窒素ガスの内の１種
類ガスもしくは２種以上の混合ガスを導入し、また室内
に陰極板と陽極板とを平行して配置すると共にそれらの
間にエレメント列を平行して配置し、陰極板を高周波電
源と連結し、陰極板に電圧をかけると、陰極と陽極との
間にプラズマが発生する。これによって照射イオンが発
生し、この照射イオンがエレメント列に照射すると、エ
レメント列の表面に官能基が生成したり、局所的な分子
の分解を起して超微細な凹みが発生する。この凹みがエ
レメント列表面にアンカリング効果を生ぜしめる。

エッチング加工は化学的方法によって行うこともでき
る。例えばエレメント列がポリエチレンテレフタレート
のポリエステル樹脂で形成したものは、アミン水溶液や
クロム酸水溶液で処理してエレメント列表面を粗化す
る。

エレメント列のエッチング加工した表面に金属粒子をそ
れぞれ独立した状態で付着させるにはスパッタリングを
用いる。

スパッタリングは、真空室内にアルゴンガスを導入し、
ターゲットを陰極として室内エレメント列と平行に配置
し、ターゲットに電圧をかけると、ターゲットとエレメ
ント列との間に放電してアルゴンプラズマが発生する。
このアルゴンプラズマ中の高エネルギーイオンをターゲ
ットに照射することで、ターゲットよりターゲットを構
成する金属分子がはじき出され、これがエレメント列の
エッチングした表面に粒子状に付着する。エレメント列
を連続して供給しながらスパッタリングを施せば、金属
粒子がエレメント列の長手方向に連続して付着する。

特にスパッタリングはマグネトロンスパッタ法で実施す
ればターゲット表面に磁界を作ることで、その磁界中に
プラズマの熱電子を集めることができる。このためこの
プラズマの外にエレメント列を配置すれば熱電子による
エレメント列の温度上昇を避けることができるので、真
空蒸着やイオンプレーティングのように金属物質の溶融
による輻射熱によって引き起されるエレメント列のピッ
チの狂いや熱変形が無い。

ターゲットがアルミニウム、クロム、銀、チタン等であ
る場合にはエレメント列の表面に銀色の金属粒子が付着
する。また、ターゲットが銅と亜鉛、銅とアルミニウム
の各合金や金等である場合には、エレメント例の表面に
金色の金属粒子が付着する。

このようにターゲットは単一組成の金属だけでなく合金
の使用も可能となり、エレメント列の表面に種々の金属
調の色や光沢のものを自由に付着することができる。

エッチングとスパッタリングは連続的に行うことができ
る。

［作用］ 連続した合成樹脂製エレメント列のエッチング加工した
表面に、金属粒子がそれぞれ独立した状態で付着してい
るため、付着した金属粒子は硬化せず、曲げやすいエレ
メント列とすることができ、又、上記金属粒子の付着を
エレメント列のピッチに変化を生じないような状態でエ
レメント列を供給しながら行うためエレメント列のピッ
チの狂いもない。

［実施例］ 第１図は本発明を実施するに適した装置の概略断面図で
ある。装置の上部位には予め表面にエッチングを施した
連続した合成樹脂製エレメント列１を巻回したボビン２
を収納し、送りローラー３を介してエレメント列１を下
方へ繰り出すようになっている。中央部はスパッタ室４
となっている。下部位は適宜の容器５を配置して、スパ
ッタリング処理したエレメント列を順次に収納するよう
になっている。エレメント列１は送りローラー３を介し
てスパッタ室４にエレメント列１のピッチに変化を生じ
ないように縦方向に垂下した状態で供給される。

スパッタ室４は真空ポンプ（図示せず）に連結する排気
口６を有し、又、アルゴンガスを導入するアルゴンガス
導入口７を有している。８はエレメント列１と平行に配
置したターゲットであり、コーティングすべき金属粒子
に合わせた材質のものである。ターゲット８は陰極とし
て高圧電源９に連結している。なお、陽極は金属製の装
置そのものとすることができる。

ボビン２から送りローラー３を介して予め表面をエッチ
ングしたエレメント列１をスパッタ室４内に垂下させ、
スパッタ室４内を真空にし、ここへアルゴンガス導入口
７からアルゴンガスを導入する。ターゲット８に電圧を
印加するとターゲット８とエレメント列１との間に放電
が起り、アルゴンプラズマが発生する。このアルゴンプ
ラズマ中の高エネルギーイオンをターゲット８に照射す
ることで、ターゲット８よりターゲットを構成する金属
分子がはじき出され、これがエレメント列１のエッチン
グした表面に粒子状に付着する。かかるコーティングは
連続的に行われる。

次に本発明に適用する連続した合成樹脂製エレメント列
について第２図（イ）から第６図（ロ）に従って説明す
ると、第２図（イ）はコイル状エレメント列10の例を示
し、第２図（ロ）に示す如くファスナーテープ11に縫糸
により取付けたものである。第３図（イ）は同じくコイ
ル状エレメント列12の例を示し、この場合には芯紐13を
長手方向に内在したものであり、第３図（ロ）に示す如
くファスナーテープ14に縫糸により、取付けたもの、又
は第３図（ハ）に示す如くファスナーテープ14′の縁部
にテープの織成と同時に織込むものとしてある。

第４図（イ）はジグザグ状エレメント列15の例を示し、
第４図（ロ）に示す如く、ファスナーテープ16の縁部に
またがらせ、縫糸により取付けたものであり、第５図
（イ）は合成樹脂押出機により長手方向の離隔した２本
の連結紐17に沿って噛合部材18をハシゴ状に成形し、こ
れを噛合部を中心にしてＵ字状に折曲してなるエレメン
ト列19の例を示し、第５図（ロ）に示す如く、ファスナ
ーテープ20の縁部にまたがらせ、縫糸により取付けたも
のであり、第６図（イ）は合成樹脂射出成形機により、
連結紐21に沿って個々の務歯22を成形してなるエレメン
ト列23の例を示し、第６図（ロ）に示す如くファスナー
テープ24の縁部にテープの織成と同時に織込むものとし
てある。

これら各種の連続した合成樹脂製エレメント列はいずれ
もエッチング加工を施した後、第１図に示した装置に供
給しながら、スパッタリングを施すことになっている
が、特に第２図（イ）、第４図（イ）に示したエレメン
ト列は合成樹脂モノフィラメントを長手方向にコイル状
またはジグザグ状に成形したものであり、エレメント列
と長手方向の寸法が不安定なものとなっているため、ス
パッタリングを施す場合、エレメント列のピッチに変化
を生じないように供給し、また第３図（イ）、第５図
（イ）、第６図（イ）に示したエレメント列はそのエレ
メント列に芯紐や連結紐を長手方向に沿って設けたもの
となっているが、芯紐や連結紐は繊維材からなり、それ
自体伸縮性を有するため、長手方向の寸法性が不安定で
あり、スパッタリングを施す場合、エレメント列のピッ
チに変化を生じないように供給する。

第１図の装置においてはエレメント列の片面にのみスパ
ッタリングを施すようにしてあるが、第７図に示すよう
にエレメント列の両側にターゲット8,8を配置して、エ
レメント列の表裏面に同時にスパッタリングを施しても
よいし、第８図に示すようにエレメント列とターゲット
８とを相対的に回転させてエレメント列の表裏面にスパ
ッタリングを施すようにしてもよい。この場合エレメン
ト列の表裏面だけでなく、噛合部分においても全面的に
スパッタリングを施すことができる。

また第２図（イ）、第３図（イ）、第４図（イ）、第５
図（イ）、第６図（イ）に示す如く、単一のエレメント
列を供給しながら、これにスパッタリングを施しても良
いし、または一対の噛合したエレメント列を供給しなが
ら、これにスパッタリングを施してもよい。

第９図は他の第２の実施例を説明するもので、前記第１
図の実施例にエッチング室25を組込んだものに相当す
る。

すなわち、スパッタ室４とボビン２を収納した上位部と
の間にエッチング室25を設け、エレメント列１はそのピ
ッチに変化を生じないように垂下した状態で、エッチン
グ室25からスパッタ室４へ供給するようにしてある。エ
ッチング室25には真空ポンプに連結する排気口26と、エ
ッチングするために適当なガス例えばアルゴンガス、酸
素ガス、窒素ガスの中の１種以上のガスを導入するガス
導入口27が設けてある。又、室内には陰極板28と陽極板
29とを平行に配置すると共に、これらの間にエレメント
列１を平行して配置し、陰極板28を高周波電源30と連結
する。

エッチング室25内に上述の適当なガスをガス導入口27か
ら導入し、陰極板28に電圧を印加すると、陰極板28と陽
極板29との間にプラズマが発生する。これによって照射
イオンが発生し、この照射イオンがエレメント列１に照
射すると、エレメント列１の表面に官能基が生成した
り、局所的な分子の分解を起して超微細な凹みが発生す
る。この凹みが次工程におけるスパッタリングによって
付着する金属粒子に対してアンカリング効果をもち強固
に付着させる。

以上の本発明の実施例はエレメント列を縦方向に供給し
ながらこれにスパッタリングを施すものとしたが、第10
図の他の第３の実施例に示すようなエレメント列１を横
方向に供給しながらこれにスパッタリングを施すように
したものでもよい。

すなわち、上流側にエレメント列１を収納した容器31を
配置し、次いでエッチング室25とスパッタ室４を横方向
に連設し、下流側にスパッタリングを施したエレメント
列１を収納する容器32を配置してあると共に、上流側か
ら下流側にわたって多数の送りローラー33…を横方向に
同一線となるように配置してあり、エレメント列１のピ
ッチに変化を生じないような状態でエレメント列１を多
数の送りローラー33…により下方から保持しながら供給
して、エッチング加工し、スパッタリングを施すことに
なっている。なお多数の送りローラー33…全ては駆動源
に連係させ、互いに同調して回転するようにした方がよ
い。またこの実施例のエッチング室25とスパッタリング
室４については上述の実施例と同様なものである。

第11図は他の第４の実施例であり、この場合はエレメン
ト列１のピッチに変化を生じないような状態にエレメン
ト列１を横方向に配置した多数の送りローラー33…によ
り下方から保持しながら横方向に供給してエッチング加
工し、エレメント列１の一方面にスパッタリングを施
し、次いでエレメント列１のピッチに変化を生じないよ
うにエレメント列１を縦方向に垂下した状態で供給し
て、エレメント列１の他方面にスパッタリングを施すこ
とになっている。

第12図は他の第５の実施例であり、この場合はエレメン
ト列１のピッチに変化を生じないようにエレメント列１
を縦方向に垂下した状態で供給してエレメント列１にエ
ッチング加工し、エレメント列の一方面にスパッタリン
グを施し、次いでエレメント列のピッチに変化を生じな
いようにエレメント列１を横方向に配置した多数のロー
ラー33…により下方から保持しながら横方向に供給し
て、エレメント列１の他方面にスパッタリングを施すこ
とになっている。

第13図は他の第６の実施例であり、この場合はエレメン
ト列１のピッチに変化を生じないようにエレメント列１
を横方向に配置した多数のローラー33…により下方から
保持しながら横方向に供給してエッチング加工し、エレ
メント列１の一方面にスパッタリングを施し、次いでエ
レメント列１の供給方向を180度反転し、引続いてエレ
メント列１のピッチに変化を生じないようにエレメント
列１を横方向に配置した多数のローラー33…により下方
から保持しながら横方向に供給してエレメント列１の他
方面にスパッタリングを施すことになっている。

以上の第４、５、６の実施例全てはエレメント列１の表
面と裏面に順次スパッタリングを施すことができるもの
となっている。

上述したエレメント列１の横方向への供給においてはエ
レメント例１を横方向に配置した多数の送りローラー33
…により下方から保持してエレメント列１のピッチに変
化を生じないようにしたが、第14図に示したように、多
数の送りローラー33に代えて横方向に所定長さにわたし
たエンドレスベルト34にしてもよいし、第15図に示した
ように横方向に所定長さにわたしたキャタビラ状のベル
ト35にしてもよく、いずれもエレメント列１を下方から
保持しながらエレメント列１のピッチに変化を生じない
ように供給することができる。

なお、第３ないし第６の実施令においてはエッチング室
とスパッタ室の両方を連設したものとしてあるが、エレ
メント列１に予めエッチング加工したものであればエッ
チング室を省略してスパッタ室のみとすることもでき
る。

［発明の効果］ 本発明は連続した合成樹脂製エレメント列にエッチング
加工を施した後、エレメント列のピッチに変化を生じな
いような状態でエレメント列を供給しながらこれにスパ
ッタリングを施すことによって、エレメント列の表面
に、金属粒子をそれぞれ独立した状態で付着するように
コーティングしたから、エレメント列ピッチのくるいを
引き起すことがなく、エレメント列表面に金属粒子をエ
ッチングのアンカリング効果により強固に付着すること
ができる。

したがって、上述の方法によって得られたエレメント列
をファスナーテープに取付けたスライドファスナーは、
本来のファスナーとして機能を損わないし、スライダー
の摺動を受けてもコーティングの剥離を生じなく、常に
外観の良いスライドファスナー製品とすることができ
る。

また、エレメント列のエッチング加工した表面に金属粒
子がそれぞれ独立した状態で付着しているので、エレメ
ント列表面に付着した金属粒子は硬化せず、エレメント
列を取付けたスライドファスナを曲げたり、引張りして
も金属粒子の剥離が生じず、仮に剥離が入ったとしても
ごくわずかで局部的な金属粒子の離脱だけに止どめるこ
とができ、極端な剥離を起さず外観の良い製品に維持す
ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施に適した装置の概略断面図、第２
図（イ）〜第６図（ロ）は本発明を適用した各種のエレ
メント列の説明図、第７図、第８図はエレメント列の周
面にスパッタリングを行うときの説明図、第９図は本発
明の実施に適した他の装置の概略断面図、第10〜15図は
他の変形例の説明図である。 １……エレメント列、２……ボビン、 3,33……送りローラー、４……スパッタ室、 ５……容器、６……排気口、 ７……アルゴンガス導入口、８……ターゲット、 ９……高圧電源、10,12……コイル状エレメント列、 13……芯紐、17,21……連結紐、 11,14,14′16,20,24……ファスナーテープ、 15……ジグザグ状エレメント列、18……噛合部材、 22……務歯、25……エッチング室、26……排気口、 27……ガス導入口、28……陰極板、29……陽極板、 30……高周波電源、31,32……容器。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】連続した合成樹脂製エレメント列にエッチ
   ング加工を施した後、エレメント列のピッチに変化を生
   じないような状態でエレメント列を垂下した状態で供給
   しながらこれにスパッタリングを施すことによって、前
   記エレメント列の表面に金属の粒子をそれぞれ独立した
   状態で付着するようにコーティングすることを特徴とす
   るスライドファスナー用エレメント列の表面処理方法。
2. 【請求項２】連続した合成樹脂製エレメント列にエッチ
   ング加工を施した後、エレメント列のピッチに変化を生
   じないような状態で横方向に供給するためにエレメント
   列を下方から保持して供給しながらこれにスパッタリン
   グを施すことによって、前記エレメント列の表面に金属
   の粒子をそれぞれ独立した状態で付着するようにコーテ
   ィングすることを特徴とするスライドファスナー用エレ
   メント列の表面処理方法。