JPH0693104A - リン含有オルガノポリシロキサンおよびその製造方法 - Google Patents
リン含有オルガノポリシロキサンおよびその製造方法Info
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ケイ素原子にオキシアルキレン基を介してリ
ン原子が結合し、かつ三官能性シロキサン単位(T単
位)を含有する、新規なリン含有オルガノポリシロキサ
ンおよびその製造方法を提供する。 【構成】 一般式: 【化1】 (式中、R1は一価炭化水素基であり、R2は二価炭化水
素基であり、R3は一価炭化水素基であり、またaは正数
であり、bは0または正数であり、cは正数であり、xは
0、1または2である。)で示されるリン含有オルガノ
ポリシロキサンおよびその製造方法。
ン原子が結合し、かつ三官能性シロキサン単位(T単
位)を含有する、新規なリン含有オルガノポリシロキサ
ンおよびその製造方法を提供する。 【構成】 一般式: 【化1】 (式中、R1は一価炭化水素基であり、R2は二価炭化水
素基であり、R3は一価炭化水素基であり、またaは正数
であり、bは0または正数であり、cは正数であり、xは
0、1または2である。)で示されるリン含有オルガノ
ポリシロキサンおよびその製造方法。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、新規なリン含有オルガ
ノポリシロキサンおよびその製造方法に関し、詳しく
は、ケイ素原子にオキシアルキレン基を介してリン原子
が結合し、かつ三官能性シロキサン単位(T単位)を含
有する、リン含有オルガノポリシロキサンおよびその製
造方法に関する。
ノポリシロキサンおよびその製造方法に関し、詳しく
は、ケイ素原子にオキシアルキレン基を介してリン原子
が結合し、かつ三官能性シロキサン単位(T単位)を含
有する、リン含有オルガノポリシロキサンおよびその製
造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】オルガノポリシロキサンの化学的および
物理的特性を向上させるため、ケイ素原子に、各種の官
能性基を導入してなる官能性基含有オルガノポリシロキ
サンが数多く提案されている。このような官能性基含有
オルガノポリシロキサンは、繊維処理剤、塗料添加剤、
樹脂改質剤、帯電防止剤、撥水撥油剤等に使用されてい
る。官能性基含有オルガノポリシロキサン、特に、リン
含有オルガノポリシロキサンとしては、一般式:
物理的特性を向上させるため、ケイ素原子に、各種の官
能性基を導入してなる官能性基含有オルガノポリシロキ
サンが数多く提案されている。このような官能性基含有
オルガノポリシロキサンは、繊維処理剤、塗料添加剤、
樹脂改質剤、帯電防止剤、撥水撥油剤等に使用されてい
る。官能性基含有オルガノポリシロキサン、特に、リン
含有オルガノポリシロキサンとしては、一般式:
【化2】 (式中、mおよびnは正数である。)で示されるホスフ
ィネートエステル基含有ジメチルポリシロキサン[オル
ガノメタリック ケミストリー レビューズ A(Orga
nometallic Chemistry ReviewsA,3(1968)469-496)、特
開昭62−292837号公報参照]、一般式:
ィネートエステル基含有ジメチルポリシロキサン[オル
ガノメタリック ケミストリー レビューズ A(Orga
nometallic Chemistry ReviewsA,3(1968)469-496)、特
開昭62−292837号公報参照]、一般式:
【化3】 (式中、nは正数である。)で示されるホスホネートエ
ステル基含有環状シロキサン、および一般式:
ステル基含有環状シロキサン、および一般式:
【化4】 (式中、pおよびqは正数である。)で示されるホスホ
ネートエステル基含有ジメチルポリシロキサン(特開昭
61−278564号公報参照)が提案されている。
ネートエステル基含有ジメチルポリシロキサン(特開昭
61−278564号公報参照)が提案されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】オルガノメタリック
ケミストリ レビューおよび特開昭62−292837
号に提案されたホスフィネートエステル基含有ジメチル
ポリシロキサンは、ケイ素原子にオキシアルキレン基を
介してリン素原子が結合する直鎖状のシロキサンであっ
た。また、特開昭61−278564号に提案されたホ
スホネートエステル基含有直鎖状または環状シロキサン
は、ケイ素原子に二価炭化水素基を介してリン原子が結
合する直鎖状または環状シロキサンであった。
ケミストリ レビューおよび特開昭62−292837
号に提案されたホスフィネートエステル基含有ジメチル
ポリシロキサンは、ケイ素原子にオキシアルキレン基を
介してリン素原子が結合する直鎖状のシロキサンであっ
た。また、特開昭61−278564号に提案されたホ
スホネートエステル基含有直鎖状または環状シロキサン
は、ケイ素原子に二価炭化水素基を介してリン原子が結
合する直鎖状または環状シロキサンであった。
【0004】本発明者は、ケイ素原子にオキシアルキレ
ン基を介してリン原子が結合し、かつ三官能性シロキサ
ン単位(T単位)を含有する、リン含有オルガノポリシ
ロキサンおよびその製造方法について鋭意研究した結
果、本発明に到達した。
ン基を介してリン原子が結合し、かつ三官能性シロキサ
ン単位(T単位)を含有する、リン含有オルガノポリシ
ロキサンおよびその製造方法について鋭意研究した結
果、本発明に到達した。
【0005】すなわち、本発明の目的は、ケイ素原子上
にオキシアルキレン基を介してリン原子を結合し、かつ
三官能性シロキサン単位(T単位)を含有する、リン含
有オルガノポリシロキサンおよびその製造方法を提供す
ることにある。
にオキシアルキレン基を介してリン原子を結合し、かつ
三官能性シロキサン単位(T単位)を含有する、リン含
有オルガノポリシロキサンおよびその製造方法を提供す
ることにある。
【0006】
【課題を解決するための手段およびその作用】本発明
は、一般式:
は、一般式:
【化5】 (式中、R1は一価炭化水素基であり、R2は二価炭化水
素基であり、R3は一価炭化水素基であり、またaは正数
であり、bは0または正数であり、cは正数であり、xは
0、1または2である。)で示されるリン含有オルガノ
ポリシロキサン、および、(A)一般式: (R1SiO3/2)a(R1 2SiO2/2)b(R1R4SiO
2/2)c (式中、R1は一価炭化水素基であり、R4はハロアルキ
ル基であり、またaは正数であり、bは0または正数であ
り、cは正数である。)で示されるハロアルキル基含有
オルガノポリシロキサンと(B)一般式: R3 x(R3O)(3-x)P=O (式中、R3は一価炭化水素基であり、xは0、1または
2である。)で示されるリン含有有機化合物とを、(C)
第3級アミン化合物の存在下で反応させることを特徴と
するリン含有オルガノポリシロキサンの製造方法に関す
る。
素基であり、R3は一価炭化水素基であり、またaは正数
であり、bは0または正数であり、cは正数であり、xは
0、1または2である。)で示されるリン含有オルガノ
ポリシロキサン、および、(A)一般式: (R1SiO3/2)a(R1 2SiO2/2)b(R1R4SiO
2/2)c (式中、R1は一価炭化水素基であり、R4はハロアルキ
ル基であり、またaは正数であり、bは0または正数であ
り、cは正数である。)で示されるハロアルキル基含有
オルガノポリシロキサンと(B)一般式: R3 x(R3O)(3-x)P=O (式中、R3は一価炭化水素基であり、xは0、1または
2である。)で示されるリン含有有機化合物とを、(C)
第3級アミン化合物の存在下で反応させることを特徴と
するリン含有オルガノポリシロキサンの製造方法に関す
る。
【0007】はじめに、本発明のリン含有オルガノポリ
シロキサンについて詳細に説明する。
シロキサンについて詳細に説明する。
【0008】本発明のリン含有オルガノポリシロキサン
は、一般式:
は、一般式:
【化6】 で示される。上式中、R1は一価炭化水素基であり、具
体的には、メチル基,エチル基,プロピル基,ブチル
基,ペンチル基,ヘキシル基等のアルキル基;フェニル
基,トリル基,キシリル基等のアリール基;ビニル基,
アリル基,ブテニル基,ペンテニル基,ヘキセニル基等
のアルケニル基;ベンジル基,フェネチル基等のアラル
キル基等の一価炭化水素基が例示される。また、R2は
二価炭化水素基であり、具体的には、メチレン基,エチ
レン基,プロピレン基,ブチレン基等アルキレン基;フ
ェニレン基等の二価炭化水素基が例示される。また、R
3は一価炭化水素基であり、具体的には、メチル基,エ
チル基,プロピル基,ブチル基,ペンチル基,ヘキシル
基等のアルキル基;フェニル基,トリル基,キシリル基
等のアリール基;ビニル基,アリル基,ブテニル基,ペ
ンテニル基,ヘキセニル基等のアルケニル基;ベンジル
基,フェネチル基等のアラルキル基等の一価炭化水素基
が例示される。
体的には、メチル基,エチル基,プロピル基,ブチル
基,ペンチル基,ヘキシル基等のアルキル基;フェニル
基,トリル基,キシリル基等のアリール基;ビニル基,
アリル基,ブテニル基,ペンテニル基,ヘキセニル基等
のアルケニル基;ベンジル基,フェネチル基等のアラル
キル基等の一価炭化水素基が例示される。また、R2は
二価炭化水素基であり、具体的には、メチレン基,エチ
レン基,プロピレン基,ブチレン基等アルキレン基;フ
ェニレン基等の二価炭化水素基が例示される。また、R
3は一価炭化水素基であり、具体的には、メチル基,エ
チル基,プロピル基,ブチル基,ペンチル基,ヘキシル
基等のアルキル基;フェニル基,トリル基,キシリル基
等のアリール基;ビニル基,アリル基,ブテニル基,ペ
ンテニル基,ヘキセニル基等のアルケニル基;ベンジル
基,フェネチル基等のアラルキル基等の一価炭化水素基
が例示される。
【0009】また、上式中、aは、式: R1SiO3/2 で示される三官能性シロキサン単位(T単位)の単位数
を示す正数であり、bは、式: R1 2SiO2/2 で示される二官能性シロキサン単位(D単位)の単位数
を示す0または正数であり、cは、式: R1R2SiO2/2 で示される二官能性シロキサン単位(D単位)の単位数
を示す正数である。また、xは、0、1または2であ
り、xが0である場合には、本発明のリン含有オルガノ
ポリシロキサンは、ホスフェートエステル基(リン酸エ
ステル基)含有オルガノポリシロキサンであり、xが1
である場合には、本発明のリン含有オルガノポリシロキ
サンはホスホネートエステル基(ホスホン酸エステル
基)含有オルガノポリシロキサンであり、xが2である
場合には、本発明のリン含有オルガノポリシロキサンは
ホスフィネートエステル基(ホスフィン酸エステル基)
含有オルガノポリシロキサンである。
を示す正数であり、bは、式: R1 2SiO2/2 で示される二官能性シロキサン単位(D単位)の単位数
を示す0または正数であり、cは、式: R1R2SiO2/2 で示される二官能性シロキサン単位(D単位)の単位数
を示す正数である。また、xは、0、1または2であ
り、xが0である場合には、本発明のリン含有オルガノ
ポリシロキサンは、ホスフェートエステル基(リン酸エ
ステル基)含有オルガノポリシロキサンであり、xが1
である場合には、本発明のリン含有オルガノポリシロキ
サンはホスホネートエステル基(ホスホン酸エステル
基)含有オルガノポリシロキサンであり、xが2である
場合には、本発明のリン含有オルガノポリシロキサンは
ホスフィネートエステル基(ホスフィン酸エステル基)
含有オルガノポリシロキサンである。
【0010】次に、本発明のリン含有オルガノポリシロ
キサンの製造方法について詳細に説明する。
キサンの製造方法について詳細に説明する。
【0011】本発明の製造方法において、(A)成分のハ
ロアルキル基含有オルガノポリシロキサンは主原料であ
り、一般式: (R1SiO3/2)a(R1 2SiO2/2)b(R1R4SiO
2/2)c で示される。上式中、R1は一価炭化水素基であり、具
体的には、メチル基,エチル基,プロピル基,ブチル
基,ペンチル基,ヘキシル基等のアルキル基;フェニル
基,トリル基,キシリル基等のアリール基;ビニル基,
アリル基,ブテニル基,ペンテニル基,ヘキセニル基等
のアルケニル基;ベンジル基,フェネチル基等のアラル
キル基等の一価炭化水素基が例示される。また、R4は
ハロアルキル基であり、具体的には、クロロメチル、ク
ロロエチル基、クロロプロピル基等のハロアルキル基が
例示される。また、上式中、aは、式: R1SiO3/2 で示される三官能性シロキサン単位(T単位)の単位数
を示す正数であり、bは、式: R1 2SiO2/2 で示される二官能性シロキサン単位(D単位)の単位数
を示す0または正数であり、cは、式: R1R4SiO2/2 で示される二官能性シロキサン単位(D単位)の単位数
を示す正数である。
ロアルキル基含有オルガノポリシロキサンは主原料であ
り、一般式: (R1SiO3/2)a(R1 2SiO2/2)b(R1R4SiO
2/2)c で示される。上式中、R1は一価炭化水素基であり、具
体的には、メチル基,エチル基,プロピル基,ブチル
基,ペンチル基,ヘキシル基等のアルキル基;フェニル
基,トリル基,キシリル基等のアリール基;ビニル基,
アリル基,ブテニル基,ペンテニル基,ヘキセニル基等
のアルケニル基;ベンジル基,フェネチル基等のアラル
キル基等の一価炭化水素基が例示される。また、R4は
ハロアルキル基であり、具体的には、クロロメチル、ク
ロロエチル基、クロロプロピル基等のハロアルキル基が
例示される。また、上式中、aは、式: R1SiO3/2 で示される三官能性シロキサン単位(T単位)の単位数
を示す正数であり、bは、式: R1 2SiO2/2 で示される二官能性シロキサン単位(D単位)の単位数
を示す0または正数であり、cは、式: R1R4SiO2/2 で示される二官能性シロキサン単位(D単位)の単位数
を示す正数である。
【0012】このような(A)成分のハロアルキル基含有
オルガノポリシロキサンは種種の方法により製造され
る。このような(A)成分の製造方法としては、例えば、
一価炭化水素基を有するトリハロシランと一価炭化水素
基を有するジクロロシランとを共加水分解し、次いでこ
れとハロアルキル基を有するジアルコキシシランとを反
応させる方法;一価炭化水素基を有するトリアルコキシ
シランと一価炭化水素基を有するジアルコキシシランと
を共加水分解し、次いでこれとハロアルキル基を有する
ジアルコキシシランと反応させる方法;一価炭化水素基
を有するトリアルコキシシランと一価炭化水素基を有す
るジアルコキシシランとハロアルキル基を有するジアル
コキシシシランとを共加水分解させる方法が挙げられ
る。(A)成分の製造方法で使用する、ハロアルキル基を
有するジアルコキシシランとして、具体的には、3−ク
ロロプロピル(メチル)ジメトキシシラン,3−クロロ
プロピル(エチル)ジメトキシシラン,3−ブロモプロ
ピル(メチル)ジメトキシシラン,3−ブロモプロピル
(エチル)ジメトキシシラン,3−クロロプロピル(メ
チル)ジエトキシシラン,3−クロロプロピル(エチ
ル)ジエトキシシラン,3−ブロモプロピル(メチル)
ジエトキシシラン,3−ブロモプロピル(エチル)ジエ
トキシシラン,クロロメチル(メチル)ジメトキシシラ
ン,2−クロロエチル(メチル)ジメトキシシラン,ブ
ロモメチル(メチル)ジメトキシシラン,2−ブロモエ
チル(メチル)ジメトキシシラン等が例示される。
オルガノポリシロキサンは種種の方法により製造され
る。このような(A)成分の製造方法としては、例えば、
一価炭化水素基を有するトリハロシランと一価炭化水素
基を有するジクロロシランとを共加水分解し、次いでこ
れとハロアルキル基を有するジアルコキシシランとを反
応させる方法;一価炭化水素基を有するトリアルコキシ
シランと一価炭化水素基を有するジアルコキシシランと
を共加水分解し、次いでこれとハロアルキル基を有する
ジアルコキシシランと反応させる方法;一価炭化水素基
を有するトリアルコキシシランと一価炭化水素基を有す
るジアルコキシシランとハロアルキル基を有するジアル
コキシシシランとを共加水分解させる方法が挙げられ
る。(A)成分の製造方法で使用する、ハロアルキル基を
有するジアルコキシシランとして、具体的には、3−ク
ロロプロピル(メチル)ジメトキシシラン,3−クロロ
プロピル(エチル)ジメトキシシラン,3−ブロモプロ
ピル(メチル)ジメトキシシラン,3−ブロモプロピル
(エチル)ジメトキシシラン,3−クロロプロピル(メ
チル)ジエトキシシラン,3−クロロプロピル(エチ
ル)ジエトキシシラン,3−ブロモプロピル(メチル)
ジエトキシシラン,3−ブロモプロピル(エチル)ジエ
トキシシラン,クロロメチル(メチル)ジメトキシシラ
ン,2−クロロエチル(メチル)ジメトキシシラン,ブ
ロモメチル(メチル)ジメトキシシラン,2−ブロモエ
チル(メチル)ジメトキシシラン等が例示される。
【0013】本発明の製造方法において、(B)成分のリ
ン含有有機化合物は、本発明のリン含有オルガノポリシ
ロキサンに、リン原子を導入するための成分であり、一
般式: R3 x(R3O)(3-x)P=O で示される。上式中、R3は一価炭化水素基であり、具
体的には、メチル基,エチル基,プロピル基,ブチル
基,ペンチル基,ヘキシル基等のアルキル基;フェニル
基,トリル基,キシリル基等のアリール基;ビニル基,
アリル基,ブテニル基,ペンテニル基,ヘキセニル基等
のアルケニル基;ベンジル基,フェネチル基等のアラル
キル基等の一価炭化水素基が例示される。また、上式
中、xは、0、1または2であり、xが0である場合に
は、(B)成分のリン含有有機化合物はホスフェートエス
テル化合物(リン酸エステル化合物)であり、xが1で
ある場合には、(B)成分のリン含有有機化合物はホスホ
ネートエステル化合物(ホスホン酸エステル化合物)で
あり、xが2である場合には、(B)成分のリン含有有機化
合物はホスフィネートエステル化合物(ホスフィン酸エ
ステル化合物)である。このような、(B)成分のリン含
有有機化合物として、具体的には、ジメチル−メチルホ
スホネート,ジエチル−メチルホスホネート,ジメチル
−フェニルホスホネート,ジメチル−ベンジルホスホネ
ート,ジエチル−ベンジルホスホネート,フェニル−ジ
メチルホスホネート,メチル−ジメチルホスフィネー
ト,エチル−ジメチルホスフィネート,メチル−メチル
フェニルホスフィネート,メチル−メチルベンジルホス
フィネート,フェニル−ジメチルホスフィネート,フェ
ニル−ジエチルホスフィネート,トリメチルホスフェー
ト,トリエチルホスフェート等が例示される。
ン含有有機化合物は、本発明のリン含有オルガノポリシ
ロキサンに、リン原子を導入するための成分であり、一
般式: R3 x(R3O)(3-x)P=O で示される。上式中、R3は一価炭化水素基であり、具
体的には、メチル基,エチル基,プロピル基,ブチル
基,ペンチル基,ヘキシル基等のアルキル基;フェニル
基,トリル基,キシリル基等のアリール基;ビニル基,
アリル基,ブテニル基,ペンテニル基,ヘキセニル基等
のアルケニル基;ベンジル基,フェネチル基等のアラル
キル基等の一価炭化水素基が例示される。また、上式
中、xは、0、1または2であり、xが0である場合に
は、(B)成分のリン含有有機化合物はホスフェートエス
テル化合物(リン酸エステル化合物)であり、xが1で
ある場合には、(B)成分のリン含有有機化合物はホスホ
ネートエステル化合物(ホスホン酸エステル化合物)で
あり、xが2である場合には、(B)成分のリン含有有機化
合物はホスフィネートエステル化合物(ホスフィン酸エ
ステル化合物)である。このような、(B)成分のリン含
有有機化合物として、具体的には、ジメチル−メチルホ
スホネート,ジエチル−メチルホスホネート,ジメチル
−フェニルホスホネート,ジメチル−ベンジルホスホネ
ート,ジエチル−ベンジルホスホネート,フェニル−ジ
メチルホスホネート,メチル−ジメチルホスフィネー
ト,エチル−ジメチルホスフィネート,メチル−メチル
フェニルホスフィネート,メチル−メチルベンジルホス
フィネート,フェニル−ジメチルホスフィネート,フェ
ニル−ジエチルホスフィネート,トリメチルホスフェー
ト,トリエチルホスフェート等が例示される。
【0014】本発明の製造方法において、(C)成分の第
3級アミン化合物は、(A)成分のハロアルキル基含有オ
ルガノポリシロキサンと(B)のリン含有有機化合物との
反応を促進させるための成分である。(C)成分の第3級
アミン化合物としては特に限定されず、具体的には、ト
リメチルアミン,トリエチルアミン,トリ(i−プロピ
ル)アミン,トリ(n−プロピル)アミン,トリ(t−
ブチル)アミン,トリ(n−ブチル)アミン,ジメチル
ベンジルアミン等が例示される。
3級アミン化合物は、(A)成分のハロアルキル基含有オ
ルガノポリシロキサンと(B)のリン含有有機化合物との
反応を促進させるための成分である。(C)成分の第3級
アミン化合物としては特に限定されず、具体的には、ト
リメチルアミン,トリエチルアミン,トリ(i−プロピ
ル)アミン,トリ(n−プロピル)アミン,トリ(t−
ブチル)アミン,トリ(n−ブチル)アミン,ジメチル
ベンジルアミン等が例示される。
【0015】本発明のリン含有オルガノポリシロキサン
は、(A)成分のハロアルキル基含有オルガノポリシロキ
サンと(B)成分のリン含有有機化合物とを、(C)成分の第
3級アミン化合物の存在下で反応させることにより製造
されるが、その反応温度は特に限定されず、例えば、室
温から250℃の範囲で反応させることができる。ま
た、本発明の製造方法において、有機溶媒を使用するこ
とができる。使用できる有機溶媒としては、具体的に
は、トルエン,キシレン等の芳香族系溶媒;ヘキサン,
ヘプタン,オクタン等の脂肪族系溶媒;メチルエチルエ
ーテル,テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒;酢酸
メチル,酢酸エチル,酢酸プロピル等のエステル系溶媒
等が例示される。
は、(A)成分のハロアルキル基含有オルガノポリシロキ
サンと(B)成分のリン含有有機化合物とを、(C)成分の第
3級アミン化合物の存在下で反応させることにより製造
されるが、その反応温度は特に限定されず、例えば、室
温から250℃の範囲で反応させることができる。ま
た、本発明の製造方法において、有機溶媒を使用するこ
とができる。使用できる有機溶媒としては、具体的に
は、トルエン,キシレン等の芳香族系溶媒;ヘキサン,
ヘプタン,オクタン等の脂肪族系溶媒;メチルエチルエ
ーテル,テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒;酢酸
メチル,酢酸エチル,酢酸プロピル等のエステル系溶媒
等が例示される。
【0016】本発明のリン含有オルガノポリシロキサン
は、分子中にリン原子を含有するため、電気特性、例え
ば、低抵抗性、高誘電正接、負摩擦帯電性等が優れてい
るので、静電現像剤の電気特性を制御する添加剤や電気
電子部品の帯電防止用コーテイング剤あるいは添加剤、
さらには防汚塗料等に使用することができる。
は、分子中にリン原子を含有するため、電気特性、例え
ば、低抵抗性、高誘電正接、負摩擦帯電性等が優れてい
るので、静電現像剤の電気特性を制御する添加剤や電気
電子部品の帯電防止用コーテイング剤あるいは添加剤、
さらには防汚塗料等に使用することができる。
【0017】
【実施例】本発明を実施例により説明する。なお、実施
例中、粘度の値は、25℃において測定した値である。
例中、粘度の値は、25℃において測定した値である。
【0018】
【参考例】攪拌機、温度計、滴下ロート付き2リットル
丸底フラスコに、水100g、イソプロピルアルコール
100gおよびトルエン400gを投入し、攪拌しなが
らこの系にフェニルトリクロロシラン297g(約1.
4モル)、ジフェニロジクロロシラン76g(約0.3
モル)およびジメチルジクロロシラン39g(約0.3
モル)の混合液を1時間かけて滴下した。滴下終了後、
この系を加熱し、2時間加熱還流させた後、冷却した。
静置後、下層を抜取り、10%濃度の炭酸水素ナトリウ
ム水溶液600gを投入し、30分攪拌後静置して下層
を抜取った。下層のpHは10であった。さらに、水6
00gを投入し、30分攪拌後静置して下層を抜取る操
作を2回繰り返した。得られたトルエン溶液を、エバポ
レーターによりトルエンと水を留去して、150℃での
揮発分が50%となるように調整した。得られたトルエ
ン溶液の粘度は6センチポイズであった。
丸底フラスコに、水100g、イソプロピルアルコール
100gおよびトルエン400gを投入し、攪拌しなが
らこの系にフェニルトリクロロシラン297g(約1.
4モル)、ジフェニロジクロロシラン76g(約0.3
モル)およびジメチルジクロロシラン39g(約0.3
モル)の混合液を1時間かけて滴下した。滴下終了後、
この系を加熱し、2時間加熱還流させた後、冷却した。
静置後、下層を抜取り、10%濃度の炭酸水素ナトリウ
ム水溶液600gを投入し、30分攪拌後静置して下層
を抜取った。下層のpHは10であった。さらに、水6
00gを投入し、30分攪拌後静置して下層を抜取る操
作を2回繰り返した。得られたトルエン溶液を、エバポ
レーターによりトルエンと水を留去して、150℃での
揮発分が50%となるように調整した。得られたトルエ
ン溶液の粘度は6センチポイズであった。
【0019】次に、このトルエン溶液500gに3−ク
ロロプロピル(メチル)ジメトキシシラン25gを投入
し、還流温度で5時間加熱攪拌し、一般式:
ロロプロピル(メチル)ジメトキシシラン25gを投入
し、還流温度で5時間加熱攪拌し、一般式:
【化7】 で示される3−クロロプロピル基含有オルガノポリシロ
キサンのトルエン溶液を調製した。
キサンのトルエン溶液を調製した。
【0020】
【実施例1】攪拌機、温度計、滴下ロート付き1l丸底
フラスコに、参考例で調製した3−クロロプロピル基含
有オルガノポリシロキサンのトルエン溶液525g、ジ
メチルメチルホスホネート25gおよびトリエチルアミ
ン2gを投入し、トルエン還流温度で6時間加熱攪拌し
た。この系から塩化メチルの発生が終了したことを確認
した後、エバポレーターにより150℃/5mmHgで
低沸点成分を留去し、留出物が出なくなってから直ちに
金属性バットに粘稠な液状物として取り出し、室温まで
冷却した。冷却後、微黄色透明固体を得た。この微黄色
透明固体は、軟化点が75〜85℃であり、赤外線分光
分析および13C−核磁気共鳴スペクトル分析の結果、下
式の構造を有するリン含有オルガノポリシロキサンであ
ることがわかった。
フラスコに、参考例で調製した3−クロロプロピル基含
有オルガノポリシロキサンのトルエン溶液525g、ジ
メチルメチルホスホネート25gおよびトリエチルアミ
ン2gを投入し、トルエン還流温度で6時間加熱攪拌し
た。この系から塩化メチルの発生が終了したことを確認
した後、エバポレーターにより150℃/5mmHgで
低沸点成分を留去し、留出物が出なくなってから直ちに
金属性バットに粘稠な液状物として取り出し、室温まで
冷却した。冷却後、微黄色透明固体を得た。この微黄色
透明固体は、軟化点が75〜85℃であり、赤外線分光
分析および13C−核磁気共鳴スペクトル分析の結果、下
式の構造を有するリン含有オルガノポリシロキサンであ
ることがわかった。
【化8】
【0021】
【実施例2】攪拌機、温度計、滴下ロート付き1リット
ル丸底フラスコに、参考例で調製した3−クロロプロピ
ル基含有オルガノポリシロキサンのトルエン溶液525
g、メチルフェニルメチルホスホネート35gおよびジ
メチルベンジルアミン2gを投入し、トルエン還流温度
に加熱して、6時間加熱攪拌した。塩化メチルの発生が
終了したことを確認した後、エバポレーターにより15
0℃/5mmHgで低沸点成分を留去し、留出物が出な
くなってから直ちに金属性バットに粘稠な液状物として
取り出し、室温まで冷却した。冷却後、微黄色透明固体
を得た。この微黄色透明固体は、軟化点が78〜88℃
であり、赤外線分光分析および13C−核磁気共鳴スペク
トル分析の結果、実施例1と同様の特性吸収を有するこ
とから、下式の構造を有するリン含有オルガノポリシロ
キサンであることがわかった。
ル丸底フラスコに、参考例で調製した3−クロロプロピ
ル基含有オルガノポリシロキサンのトルエン溶液525
g、メチルフェニルメチルホスホネート35gおよびジ
メチルベンジルアミン2gを投入し、トルエン還流温度
に加熱して、6時間加熱攪拌した。塩化メチルの発生が
終了したことを確認した後、エバポレーターにより15
0℃/5mmHgで低沸点成分を留去し、留出物が出な
くなってから直ちに金属性バットに粘稠な液状物として
取り出し、室温まで冷却した。冷却後、微黄色透明固体
を得た。この微黄色透明固体は、軟化点が78〜88℃
であり、赤外線分光分析および13C−核磁気共鳴スペク
トル分析の結果、実施例1と同様の特性吸収を有するこ
とから、下式の構造を有するリン含有オルガノポリシロ
キサンであることがわかった。
【化9】
【0022】
【発明の効果】本発明のオルガノポリシロキサンは、ケ
イ素原子上にオキシアルキレン基を介してリン原子を結
合し、かつ三官能性シロキサン単位(T単位)を含有す
る新規なリン含有オルガノポリシロキサンであり、また
本発明の製造方法は、このような新規なリン含有オルガ
ノポリシロキサンを製造することができるという特徴を
有する。
イ素原子上にオキシアルキレン基を介してリン原子を結
合し、かつ三官能性シロキサン単位(T単位)を含有す
る新規なリン含有オルガノポリシロキサンであり、また
本発明の製造方法は、このような新規なリン含有オルガ
ノポリシロキサンを製造することができるという特徴を
有する。
【図1】実施例1で調製したリン含有オルガノポリシロ
キサンの赤外線分光分析チャートである。
キサンの赤外線分光分析チャートである。
【図2】実施例1で調製したリン含有オルガノポリシロ
キサンの13C−核磁気共鳴スペクトルチャートである。
キサンの13C−核磁気共鳴スペクトルチャートである。
Claims (2)
- 【請求項1】 一般式: 【化1】 (式中、R1は一価炭化水素基であり、R2は二価炭化水
素基であり、R3は一価炭化水素基であり、またaは正数
であり、bは0または正数であり、cは正数であり、xは
0、1または2である。)で示されるリン含有オルガノ
ポリシロキサン。 - 【請求項2】 (A)一般式: (R1SiO3/2)a(R1 2SiO2/2)b(R1R4SiO
2/2)c (式中、R1は一価炭化水素基であり、R4はハロアルキ
ル基であり、またaは正数であり、bは0または正数であ
り、cは正数である。)で示されるハロアルキル基含有
オルガノポリシロキサンと(B)一般式: R3 x(R3O)(3-x)P=O (式中、R3は一価炭化水素基であり、xは0、1または
2である。)で示されるリン含有有機化合物とを、(C)
第3級アミン化合物の存在下で反応させることを特徴と
する請求項1記載のリン含有オルガノポリシロキサンの
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26947192A JPH0693104A (ja) | 1992-09-11 | 1992-09-11 | リン含有オルガノポリシロキサンおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26947192A JPH0693104A (ja) | 1992-09-11 | 1992-09-11 | リン含有オルガノポリシロキサンおよびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0693104A true JPH0693104A (ja) | 1994-04-05 |
Family
ID=17472903
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26947192A Pending JPH0693104A (ja) | 1992-09-11 | 1992-09-11 | リン含有オルガノポリシロキサンおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0693104A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8920931B2 (en) | 2010-08-23 | 2014-12-30 | Dow Corning Corporation | Phosphosiloxane resins, and curable silicone compositions, free-standing films, and laminates comprising the phosphosiloxane resins |
-
1992
- 1992-09-11 JP JP26947192A patent/JPH0693104A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8920931B2 (en) | 2010-08-23 | 2014-12-30 | Dow Corning Corporation | Phosphosiloxane resins, and curable silicone compositions, free-standing films, and laminates comprising the phosphosiloxane resins |
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