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JPH0690785B2 - 磁気記録媒体用ベ−スフイルム - Google Patents

磁気記録媒体用ベ−スフイルム

Info

Publication number
JPH0690785B2
JPH0690785B2 JP61102187A JP10218786A JPH0690785B2 JP H0690785 B2 JPH0690785 B2 JP H0690785B2 JP 61102187 A JP61102187 A JP 61102187A JP 10218786 A JP10218786 A JP 10218786A JP H0690785 B2 JPH0690785 B2 JP H0690785B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
thin film
magnetic recording
group
recording medium
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP61102187A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS62259227A (ja
Inventor
欣治 長谷川
久 浜野
秀雄 加藤
陸男 三浦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Teijin Ltd
Original Assignee
Teijin Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Teijin Ltd filed Critical Teijin Ltd
Priority to JP61102187A priority Critical patent/JPH0690785B2/ja
Publication of JPS62259227A publication Critical patent/JPS62259227A/ja
Publication of JPH0690785B2 publication Critical patent/JPH0690785B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Magnetic Record Carriers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は磁気記録媒体用ベースフイルムに関し、更に詳
しくは平坦で走行性に優れ、長時間記録の可能な金属薄
膜磁気記録媒体用ポリエステルベースフイルムに関す
る。
従来技術 近年、高密度磁気記録用媒体として、バインダーを用い
ず、磁気記録層として強磁性金属薄膜を真空蒸着やスパ
ツタリングの知き真空沈着法又はメツキ法によつて非磁
性支持体上に形成して、この強磁性金属を薄膜磁気記録
材としたものが提案されている。例えばCoの蒸着テープ
（特開昭54-147010号公報）、Co-Cr合金からなる垂直磁
化膜（特開昭52-134706号公報）等が提案されている。
このような蒸着，スパツタ又はイオンプレーテイング等
の薄膜形成手段によつて形成される金属薄膜は、厚みが
３μｍ以上である従来の塗布型記録媒体と同等以上の性
能が期待される。
ところで、静的特性である保磁力Hc,またはヒステリシ
スループの角形比のような磁気特性は、用いられる非磁
性支持体の表面状態にあまり依存しないという考えによ
つたものとして米国特許3,787,327号明細書に開示され
たような真空蒸着によるCo−Crの多層構造の例が挙げら
れる。しかしながら、形成される金属薄膜は厚さが薄
く、非磁性支持体の表面状態（表面凹凸）がそのまま磁
性膜の凹凸として発現し、それが雑音の原因となること
が欠点とされていた。このため、雑音の観点からは、非
磁性支持体の表面状態が出来るだけ平滑であることが好
ましい。
一方、フイルム巻取，巻出しといつたハンドリングの観
点からは、フイルム表面が平坦であると、フイルム−フ
イルム相互の滑り性が悪く、またブロツキング現象が発
生して製品にはなり得ず、ベースフイルム表面が粗であ
ることが要求される。
更に電磁変換特性という観点からは、非磁性支持体の表
面が平坦であることが要求され、一方ハンドリング性の
観点からは粗であることが要求される。
これら両者の二律背反する性質を同時に満足することが
ベースフイルムに求められている。
更に、金属薄膜磁気記録媒体としては、実際に使用され
る時の重大な問題は金属薄膜面の走行性である。従来の
塗布型磁気記録媒体の場合には、磁性体粉末の有機バイ
ンダー中に滑剤を入れて磁性面の走行性を向上させるこ
とができるが、金属薄膜磁気記録媒体の場合の走行性を
安定して保つのは非常に困難であり、特に、高温高湿時
の走行性が特に劣るなどの欠点を有していた。更に長時
間記録化のとき、ヘツドの出力波形（以下エンベロープ
とする）の初期との差が著るしく大きく、出力が低下
し、長時間の記録が困難である等の欠点を有していた。
発明の目的 本発明は、平坦であり、走行性に優れた長時間記録が可
能である金属薄膜を形成することが可能な金属薄膜磁気
記録媒体用ポリエステルベースフイルムを提供すること
にある。
発明の構成・効果 本発明の目的は、本発明によれば、下記特性(イ)〜(ホ)を
満足する二軸配向ポリエステルフイルムの片面に、 (イ)縦方向のヤング率 600Kg/mm2以上 (ロ)横方向のヤング率 450〜550Kg/mm2 (ハ)横方向の150℃での熱収縮率 １〜５％ (ニ)表面の中心線平均粗さ（Ra） 0.001〜0.003μ (ホ)高さ(h)が0.27〜0.54μの突起の数 0.2個／mm2以下 ポリウレタン，アクリル樹脂，低分子量ポリオレフイン
ワツクス及び平均粒径が0.01〜0.15μの粗面化物質を主
成分とする組成物からなり、表面の中心線平均粗さRaが
0.002〜0.01μでありかつ表面には山脈状の凹凸がない
薄膜を形成し、該薄膜を形成しないポリエステルフイル
ム表面を金属薄膜形成面とする磁気記録媒体用ベースフ
イルムによつて達成される。
本発明においてポリエステルとは、芳香族二塩基酸また
はそのエステル形成性誘導体とジオールまたはそのエス
テル形成性誘導体とから合成される線状飽和ポリエステ
ルである。かかるポリエステルの具体例として、ポリエ
チレンテレフタレート，ポリエチレンイソフタレート，
ポリブチレンテレフタレート，ポリ（1,4−シクロヘキ
シレンジメチレンテレフタレート），ポリエチレン−2,
6−ナフタレンジカルボキシレート等が例示でき、これ
らの共重合体またはこれらと小割合の他樹脂とのブレン
ド物なども含まれる。
本発明の二軸配向ポリエステルフイルムは、下記特性
(イ)〜(ホ)を満足するフイルムである。
(イ)縦方向のヤング率 600Kg/mm2以上 (ロ)横方向のヤング率 450〜550Kg/mm2 (ハ)横方向の150℃での熱収縮率 １〜５％ (ニ)表面の中心線平均粗さ（Ra） 0.001〜0.003μ (ホ)突起高さ(h)が0.27〜0.54μの突起の数0.2個／mm2以
下 ポリエステルフイルムにおいて縦方向のヤング率が600K
g/mm2未満であると、テープ走行時にかかる張力によっ
て変形が生じ易く、電磁変換特性が低下するので好まし
くない。テープの変形防止の点では縦方向のヤング率は
大きい程好ましいが、一方フイルムの生産効率（製膜安
定性）の確保の点から1500Kg/mm2以下とするのが望まし
い。横方向のヤング率が550Kg/mm2を超えるとテープの
反りが生じ易くなり、一方450Kg/mm2未満であるとエン
ベロープが低下し好ましくない。横方向の熱収縮率（15
0℃）が１％未満であるとまた５％を超えると、テープ
の反り（カール、カッピング）が生じ好ましくない。フ
イルム表面の中心線平均粗さ（Ra）が0.001μ未満であ
ると金属薄膜面の走行耐久性が低下し、一方0.003μを
超えると電磁変換特性が低下し好ましくない。高さが0.
27〜0.54μの突起の数が0.2個／mm2より多くなると、記
録再生時の信号欠落（ドロップアウト）が多くなり好ま
しくない。
この二軸配向ポリエステルフイルムは、ポリエステルを
溶融押出し急冷して未延伸フイルムとし、次いで該未延
伸フイルムを逐次二軸延伸する方法をベースにして作る
ことができる。例えば、上記特性(イ)〜(ホ)を満足する二
軸配向ポリエチレンテレフタレートフイルムは、滑剤を
含有するポリエチレンテレフタレートをダイから溶融押
出し、キヤステングドラム上で急冷して未延伸フイルム
とし、次いで該未延伸フイルムを二軸方向に逐次延伸し
熱処理して作るが、その際フイルムが上記特性を有する
ように製膜条件を縦方向延伸倍率3.5〜4.5倍，横方向延
伸倍率3.0〜3.8倍，延伸温度夫々80〜120℃，熱固定温
度150〜240℃の範囲から選択する。また、横方向の熱収
縮率は横方向に弛緩させるか、緊張させるかして所望の
値とすることができる。
二軸配向ポリエステルフイルムは４〜15μ，更には５〜
13μの厚みのものが好ましい。更に縦方向のヤング率は
650Kg/mm2以上が好ましく、横方向のヤング率は450〜50
0Kg/mm2が好ましく、横方向の150℃での熱収縮率は２〜
４％が好ましく、表面の中心線平均粗さRaは0.0015〜0.
0025μが好ましく、また表面における突起高さ(h)が0.2
7〜0.54μの突起の数は０個／mm2が好ましい。
上記表面の中心線平均粗さRaや突起の数は通常ポリエス
テル中に分散含有させる滑剤によつて調節できる。この
滑剤としては平均粒径が20〜100mμ・特に30〜80mμの
酸化ケイ素が好ましく挙げられ、該酸化ケイ素は0.005
〜0.1重量％，特に0.008〜0.05重量％の割合でポリエス
テル中に分散含有させるのが好ましい。滑剤は粗大粒子
例えば凝集粒子を含まないことが好ましく、例えば酸化
ケイ素をポリエステル製造過程で添加する場合、該酸化
ケイ素は一旦水分散ゾルとした後水をグリコール（例え
ばエチレングリコール）で置換してグリコール分散液と
してから用いるのが好ましい。酸化ケイ素を直接グリコ
ールに分散させたものは添加時に凝集が生じ、フイルム
表面に粗大突起を形成するようになるので好ましくな
い。滑剤特に酸化ケイ素の平均粒径が20mμ未満ではフ
イルム表面が完全に平坦になつてしまい、走行耐久性が
悪くなり、一方100mμを越えるとフイルム表面の突起が
大きくなり、電磁変換特性としての出力低下が大きく、
好ましくない。また滑剤の含有量が少なすぎるとフイル
ム表面が平坦になりすぎ、一方多すぎるとフイルム表面
の突起が高くなりすぎ、好ましくない。
本発明においては上記特性を満足する二軸配向ポリエス
テルフイルムの片面に、ポリウレタン，アクリル樹脂，
低分子量ポリオレフインワツクス及び平均粒径が0.01〜
0.15μの粗面化物質を主成分とする組成物からなり、表
面の中心線平均粗さRaが0.002〜0.01μであり、かつ山
脈状の凹凸がなく、微小凹凸の表面状態にある薄膜を形
成する。
薄膜表面の中心線平均粗さ（Ra）が0.002μ未満である
とフイルムの滑り性（ハンドリング性）が悪く、一方0.
01μを超えると金属薄膜面への裏写りが生じ、電磁変換
特性（C/N）が低下し好ましくない。
このポリエステルフイルム表面上に薄膜を形成する塗液
は水性塗液が好ましく、該塗液中のポリウレタンは水性
ポリウレタンが好ましく、これはカルボン酸塩基，スル
ホン酸塩基または硫酸半エステル塩基によつて水への親
和性が高められたポリウレタンであり、通常かかる水親
和性付与基はポリウレタン合成時ないし合成後に導入さ
れる。
カルボン酸塩基，スルホン酸塩基，硫酸半エステル塩基
等の塩基の量は0.5〜15重量％が好ましい。塩基の割合
が少なすぎるとポリウレタンの水親和性が不足して塗布
液の調製が難しくなり、また多すぎるとポリウレタン本
来の特性が損われるので、好ましくない。かかる水性ポ
リウレタンは、所望により分散剤を用いて、安定な水分
散液を形成するものないし水溶液を形成するものであ
る。
ポリウレタンの合成に用いるポリヒドロキシ化合物とし
ては、例えばポリエチレングリコール，ポリプロピレン
グリコール，ポリエチレン・プロピレングリコール，ポ
リテトラメチレングリコール，ヘキサメチレングリコー
ル，テトラメチレングリコール,1,5−ペンタンジオー
ル，ジエチレングリコール，トリエチレングリコール，
ポリカプロラクトン，ポリヘキサメチレンアジペート，
ポリヘキサメチレンセバケート，ポリテトラメチレンア
ジペート，ポリテトラメチレンセバケート，トリメチロ
ールプロパン，トリメチロールエタン，ペンタエリスト
ール，グリセリン等を挙げることができる。ポリイソシ
アネート化合物としては、例えばヘキサメチレンジイソ
シアネート，ジフエニルメタンジイソシアネート，トリ
レンジイソシアネート，イソホロンジイソシアネート，
トリレンジイソシアネートとトリメチロールプロパンの
付加物，ヘキサメチレンジイソシアネートとトリメチロ
ールエタンの付加物等を挙げることができる。カルボン
酸含有ポリオールとしては、例えばジメチロールプロピ
オン酸，ジメチロール酪酸，ジメチロール吉草酸，トリ
メリツト酸ビス（エチレングリコール）エステル等を挙
げることができる。アミノ基含有カルボン酸としては、
例えばβ−アミノプロピオン酸，γ−アミノ酪酸,p−ア
ミノ安息香酸等を挙げることができる。水酸基含有カル
ボン酸としては、例えば３−ヒドロキシプロピオン酸，
γ−ヒドロキシ酪酸,p−（２−ヒドロキシエチル）安息
香酸，リンゴ酸等を挙げることができる。アミノ基また
は水酸基とスルホン基を有する化合物としては、例えば
アミノメタンスルホン酸,2−アミノエタンスルホン酸,2
−アミノ−５−メチルベンゼン−２−スルホン酸，β−
ヒドロキシエタンスルホン酸ナトリウム，脂肪族ジ第１
級アミン化合物のプロパンサルトン，ブタンサルトン付
加生成物等が挙げられ、好ましくは脂肪族ジ第１級アミ
ン化合物のプロパンサルトン付加物があげられる。更
に、アミノ基または水酸基と硫酸半エステル基を含有す
る化合物としては、例えばアミノエタノール硫酸，エチ
レンジアミンエタノール硫酸，アミノブタノール硫酸，
ヒドロキシエタノール硫酸，γ−ヒドロキシプロパノー
ル硫酸，α−ヒドロキシブタノール硫酸等があげられ
る。
これら化合物を用いてのポリウレタンの合成は、従来か
ら良く知られている方法で合成することができる。
本発明における薄膜形成成分のアクリル樹脂としては、
メチルメタクリレート成分が40〜80モル％であり、これ
と共重合可能な他のビニルモノマー成分を20〜60％有す
る水性アクリル樹脂であることが好ましい。アクリル樹
脂中のメチルメタクリレート成分が40モル％未満では、
塗膜の強度低下，軟質化傾向を示し、耐ブロツキングの
悪化によるハンドリング性の低下等が生じ、好ましくな
い。一方、メチルメタクリレート成分が80モル％を越え
ると、塗膜の硬質化傾向を示し、塗膜が脆くなり、基材
との密着性が低下したり、造膜性が劣る等を生じ、好ま
しくない。
上記メチルメタクリレートと共重合可能な他のビニルモ
ノマーとしては、例えば、アルキルアクリレート（アル
キル基としてはメチル基，エチル基,n−プロピル基，イ
ソプロピル基,n−ブチル基，イソブチル基,t−ブチル
基,2−エチルヘキシル基，シクロヘキシル基，フエニル
基，ベンジル基，フエニルエチル基等）；アルキルメタ
クリレート（アルキル基としては上記アルキルアクリレ
ートのメチル基を除くアルキル基等）;2−ヒドロキシエ
チルアクリレート,2−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト,2−ヒドロキシプロピルアクリレート,2−ヒドロキシ
プロピルメタクリレート等のヒドロキシ含有モノマー；
アクリルアミド，メタクリルアミド,N−メチルメタクリ
ルアミド,N−メチルアクリルアミド,N−メチロールアク
リルアミド,N−メチロールメタクリルアミド,N,N−ジメ
チロールアクリルアミド,N−メトキシメチルアクリルア
ミド,N−メトキシメチルメタクリルアミド,N−フエニル
アクリルアミド等のアミド基含有モノマー;N,N−ジエチ
ルアミノエチルアクリレート,N,N−ジエチルアミノエチ
ルメタクリレート等のアミノ基含有モノマー；グリシジ
ルアクリレート，グリシジルメタクリレート，アリルグ
リシジルエーテル等のエポキシ基含有モノマー；スチレ
ンスルホン酸，ビニルスルホン酸およびそれらの塩（ナ
トリウム塩，カリウム塩，アンモニウム塩等）等のスル
ホン酸基またはその塩を含有するモノマー；クロトン
酸，イタコン酸，アクリル酸，マレイン酸，フマール酸
及びそれらの塩（ナトリウム塩，カリウム塩，アンモニ
ウム塩等）等のカルボキシル基またはその塩を含有する
モノマー；無水マレイン酸，無水イタコン酸等の酸無水
物を含有するモノマー；その他，ビニルイソシアネート
アリルイソシアネート，スチレン，ビニルメチルエーテ
ル，ビニルエチルエーテル，ビニルトリスアルコキシシ
ラン，アルキルマレイン酸モノエステル，アルキルフマ
ール酸モノエステル，アクリロニトリル，メタクリロニ
トリル，アルキルイタコン酸モノエステル，塩化ビニリ
デン，酢酸ビニル，塩化ビニル等が挙げられる。
メチルメタクリレートと共重合される上述のモノマーは
１種若しくは２種以上の組合せで自由に選択されるが、
アクリル樹脂への親水性付与，水性液の分散安定性，ポ
リエステルフイルムとの密着性等の点から、水酸基，ア
ミド基やカルボキシル基またはその塩（ナトリウム塩，
カリウム塩，アンモニウム塩等）等の官能基を有するも
のが好ましい。また、塗膜の耐熱性，強度，耐水性等の
改善には、熱硬化タイプが好適であり、例えば、エポキ
シ基含有モノマーとアミノ基，酸無水物基，アルボキシ
ル基，ヒドロキシル基またはＮ−メチロール基を含有す
るモノマーとの組合せ;N−メチロールまたはＮ−メチロ
ールエーテル基を含有するモノマーとカルボキシル基ま
たはアミノ基を含有するモノマーとの組合せ等、また、
カルボン酸塩基やメチロール基のように単独でも熱硬化
性を有するモノマーを例示できる。これらの反応性基の
１種または２種以上の組合せは１種のアクリル樹脂また
は２種以上のアクリル樹脂に任意に導入することがで
き、要すれば、加熱時互に反応し得る基を有するアクリ
ル樹脂の組合せにすれば良い。また、低分子量物質（例
えば、アルキロール化メラミン等）でアクリル樹脂中の
反応性基と加熱時互に反応し得る基を有するものを１種
以上添加することもできる。
アクリル樹脂の水性液の製造法は公知の任意の方法で実
施できる。その際、必要に応じて、分子量調整剤（例え
ばメルカプタン類）や分散補助剤（例えばポリビニルア
ルコール，ヒドロキシメチルセルロース等の高分子保護
コロイド類）等を添加しても良い。
その他、低分子量界面活性剤，高分子量界面活性剤，反
応性界面活性剤等の応用，界面活性剤を含有しない、所
謂ソープフリー重合による製造法も採用し得る。
本発明における薄膜形成成分の低分子量ポリオレフイン
ワツクスとは、高分子量ポリオレフイン樹脂に類似の物
理的，化学的性質を有しながら、溶融粘度が極端に低
く、且つワツクス類例えばパラフインワツクス，ミクロ
クリスタリンワツクス，カルナバワツクス，モンタンワ
ツクス等に比べて融点が高い特徴を有するものである。
特に低分子量ポリプロビレンは150℃という高い融点を
持つている。
これらポリオレフインワツクスの水性化は、例えば溶融
ポリオレフインと乳化剤（界面活性剤等）入り熱水とを
混合してO/W型エマルジヨン等公知の製造方法によつて
可能であり、また、酸化して分子中にカルボキシル基を
含有させたポリオレフインでは水での乳化が更に容易と
なる。これら低分子量ポリオレフインのなかでもポリエ
レチレンワツクスが好ましく、就中平均分子量1,000〜1
0,000、密度0.91〜0.97（g/ml），ブルツクフイールド
粘度計での溶融粘度（140℃,cps）が約20〜約700の範囲
にあるポリエチレンワツクスが好ましい。更には、分子
量2,000〜4,000の範囲のものが水性化し易く、ポリエチ
レンワツクスとしての滑性等の特性を満足し、好まし
い。尚、高分子量ポリエチレン（分子量20,000）では約
8,000万cpsと溶融粘度が極端に高くなるため、水性化が
極めて困難となる。
本発明において、上記ポリウレタン及びアクリル系樹脂
及び低分子量ポリオレフインワツクスの水性液（水溶液
または分散液若しくは乳化液）と混合させる粗面化物質
としては、ポリスチレン，ポリメチルメタクリレート，
メチルメタクリレート共重合体，ポリテトラフルオロエ
チレン，ポリビニリデンフルオライド若しくはポリアク
リロニトリル，ベンゾグアナミン樹脂等の如き有機質微
粉末、またはシリカ，アルミナ，二酸化チタン，カオリ
ン，タルク，グラフアイト，炭酸カルシウム，長石，二
硫化モリブデン，カーボンブラツクもしくは硫酸バリウ
ム等の如き無機質微粉末等が挙げられ、これらは乳化剤
等を用いて水性分散液としたものであつてもよく、ま
た、微粉末状でポリウレタン水性液，アクリル樹脂水性
液，低分子量ポリオレフインワツクス水性液に添加でき
るものであつてもよい。この粗面化物質は平均粒径0.01
〜0.15μの微粒子であり、好ましくは0.01〜0.1μであ
る。また、これらの水不溶性の固体物質は水分散液中で
沈降するのを避けるため、比重が３を超えない超微粒子
であることが好ましい。平均粒径が0.15μより大きくな
ると薄膜表面が粗れすぎて、一方0.01μ未満であると滑
り性が低下し好ましくない。
粗面化物質は薄膜自体の微小突起の均一形成を促進する
効果と微粉末自体による薄膜の補強効果とを奏し、更に
はアクリル樹脂，低分子量ポリオレフインワツクスの薄
膜への耐プロツキング性，摩擦力の低減性等の寄与効果
並びに両者の相乗効果による薄膜への耐スクラツチ性寄
与効果とあいまつて、ポリエステルフイルムに優れた易
滑性効果を賦与する。
薄膜の主成分たるポリウレタン(A)，アクリル樹脂(B)，
低分子量ポリオレフインワツクス(C)及び粗面化物質(D)
の混合割合は、通常、〔(A)＋(B)＋(C)〕／(D)＝98/2〜
40/60,〔(A)＋(B)〕／(C)＝98/2〜40/60,且つ(A)／(B)
＝90/10〜10/90（固型分換算：重量％）の範囲であるこ
とが好ましく、更には、〔(A)＋(B)＋(C)〕／(D)＝95/5
〜60/40,〔(A)＋(B)〕／(C)＝95/5〜60/40,(A)／(B)＝8
0/20〜20/80（重量比）の範囲にあるのが好ましい。ア
クリル樹脂，低分子量ポリオレフインワツクスの混合割
合が少なすぎると、摩擦力が上昇してハンドリング性を
悪化させ、一方多すぎると薄膜とポリエステルフイルム
との密着性を低下させたり、薄膜の脆化を招いたりし
て、フイルムの易滑性が低減してくる。また、粗面化物
質の混合割合が少なすぎると、添加される粗面化物質
の、薄膜中での微細突起形成物質としての突起均一形成
効果の減少，微粉末自体としての薄膜への補強効果の減
少により、フイルムの易滑性が低減し、一方この割合が
多すぎると、粗面化物質の比率が高くなり、薄膜とポリ
エステルフイルムとの密着性が低下したり、薄膜が脆く
なるなどにより、微小突起が使用時にフイルムに負荷さ
れる程度の摩擦力で破壊され、薄膜が摩減することか
ら、易滑化効果の持続性が損われる。
ポリウレタン，アクリル樹脂及び低分子量ポリオレフイ
ンワックス(C)と粗面化物質(D)との混合は、それぞれを
水分散液の状態としてから行なつてもよく、(A)，(B)若
しくは(C)，または(A)，(B)，(C)全体の水分散液の中に
粉末状粗面化物質を、要すれば乳化剤を添加し、攪拌分
散してもよい。
本発明におけるポリエステルフイルム上の薄膜は、上述
の塗液を配向結晶化の過程が完了する前のポリエステル
フイルムの表面に塗布する手段で形成するのが好まし
い。その際塗膜を円滑に塗設できるようにするために予
備処理としてフイルム表面にコロナ放電処理を施すか、
または薄膜形成組成物とともにこれと化学的に不活性な
界面活性剤を併用することが好ましい。
界面活性剤は塗液の表面張力を40dyne/cm以下に降下で
きるようなポリエステルフイルムへの濡れを促進するも
のであり、例えば、ポリオキシエチレンアルキルフエニ
ルエーテル，ポリオキシエチレン−脂肪酸エステル，ソ
ルビタン脂肪酸エステル，グリセリン脂肪酸エステル，
脂肪酸金属石鹸，アルキル硫酸塩，アルキルスルホン酸
塩，アルキルスルホコハク酸塩等のアニオン型，ノニオ
ン型界面活性剤等を挙げることができる。更に、本発明
の効果を消失させない範囲において、例えば帯電防止
剤，紫外線吸収剤，潤滑剤等の他の添加剤を混合するこ
とができる。
ここで、上記結晶配向が完了する前のポリエステルフイ
ルムとしては、未延伸フイルム，一軸方向に延伸された
状態のフイルム，二軸方向に延伸されているが少くとも
いずれか一方の延伸配向が所定の配向度になつていない
フイルム等が挙げられる。
塗液の固形分濃度は、通常30重量％以下であり、15重量
％以下が好ましい。粘度は100cps以下、好ましくは20cp
s以下が適当である。塗布量は走行しているフイルム１m
2当り約0.5〜20g、更には１〜10gが好ましい。換言すれ
ば、最終的に得られる二軸延伸フイルムにおいて、フイ
ルムの一表面に１m2当り約0.001〜1g、更には約0.01〜
0.3gの固形分が好ましい。
塗布方法としては、公知の任意の塗工法が適用できる。
例えばロールコート法，グラビアコート法，ロールブラ
ツシユ法，スプレーコート法，エアーナイフコート法，
含浸法およびカーテンコート法などを単独または組み合
せて適用するとよい。
上記塗液は、好ましくは縦一軸延伸が施された直後のフ
イルムに塗布され、次いでフイルムは横延伸および熱固
定のためのテンターに導びかれるのが好ましい。塗布物
は未固化の塗膜の状態でフイルムの延伸に伴つてその面
積が拡大されかつ加熱されて水を揮散し、二軸延伸され
たフイルム表面に強固に固着される。
本発明における上記塗液は基材の延伸工程および熱処理
工程によつて、上述の如く、多数の微小突起を有する固
体塗膜に変換される。この加熱は、好ましくは約100〜
約240℃の温度で約１〜20秒間行われる。
かくしてポリエステルフイルムの片面に形成される薄膜
は、表面の中心線平均粗さが0.002〜0.01μでありかつ
表面には山脈状の凹凸がなく、均一な微小凹凸のあるも
のである。
本発明によれば、フイルム表面が平坦であり、かつ走行
性に優れた金属薄膜面を形成できる金属薄膜磁気記録媒
体用二軸配向ポリエステルフイルムを提供でき、特に雑
音が飛躍的に減少し、ノイズレベルが格段に優れ、かつ
金属薄膜面の走行性に優れ、かつ、長時間記録の場合の
走行耐久性に優れた金属薄膜磁気記録媒体の製造に有用
な二軸配向ポリエステルフイルムを提供できる。
実施例 以下、実施例を掲げて本発明を更に説明する。なお、フ
イルムの物性は以下の方法で測定した。
1.中心線平均粗さRa JIS B0601に準じ、（株）小坂研究所製の高精度表面粗
さ計SE-3FATを使用して、針の半径２μｍ、測定荷重30m
gで拡大倍率20万倍、カツトオフ0.08mmの条件下にチヤ
ートをかかせ、フイルム表面粗さ曲線からその中心線の
方向に測定長さＬの部分を抜き取り、この抜き取り部分
の中心線をＸ軸，縦倍率の方向をＹ軸として、粗さ曲線
をＹ＝ｆ(x)で表わした時、次の式で与えられた値をμ
ｍ単位で表わす。
この測定は測定長を1.25mmとして４個測定し、平均値で
表わす。
2.表面突起数 フイルム表面に400〜500Å乃至それ以下の厚みにアルミ
ニウムを均一に真空蒸着し、反対の非蒸着面（フイルム
面）にコロジオン貼付けし、乾燥して後、可視単色光多
重干渉反射式顕微鏡（例えば、Carl Zeiss JENA社製）
を用い100倍で任意の10ケ所を撮り、各写真中の突起物
の突起高さに対応する突起数を求め１mm2当りに換算す
る。この時写真10枚の視野は1.55mm2である。
3.電磁変換特性（記録密度特性） 10KBPI 記録再生時のS/N（dB）比及び10KBPI 記録再
生時の出力に対する50KBPI 記録再生時の出力の低下率
により、高密度記録特性、特にノイズレベルの大きさを
評価する。
4.長時間耐久性 市販のVHS方式のVTRを用いて録画再生を繰返し、100回
繰返し走行後の再生画面より次の基準で評価する。
○：走行順調で再生画面のゆらきが全くない ×：再生画面にゆらぎが生ずる 5.繰返し走行時の耐久性 図−１に示す如く、25℃，相対湿度 60％で金属薄膜テープの金属面と反対側の面を外径20mm
φのsus27固定棒（表面粗さ0.3S）に角度 （152°）で接触させ毎秒25cm/secの速さで移動、摩擦
させる。入口テンシヨンT1が30gとなるようテンシヨン
コントローラーを調整し、30m走行させ回きもどし、再
び走行をくり返す。この往復を１回とし、50回くり返し
走行後のテープのエツジのダメージにより下記基準で評
価する。
◎：テープのエツジは走行前とほとんど変らないもの ○：テープのエツジはわずかに損傷を受けただけのもの ×：テープのエツジが大巾に損傷を受けたもの 6.ヤング率 フイルムを試料巾10mm,長さ150mmに切断し、チヤツク間
100mmにして、引張速度10mm/分，チヤート速度500mm/分
にて、インストロンタイプの万能引張試験装置で引張
る。得られた荷重−伸び曲線の立上り部の接線より、ヤ
ング率を計算する。
7.熱収縮率 150℃の熱風循環式炉（ギヤー老化試験機）にて30分間
自由熱収縮させて下記式で算出する。
原長としては300mmを採用する。
実施例１〜３及び比較例１〜３ ジメチルテレフタレート100重量部及びエチレングリコ
ール70重量部に触媒として酢酸亜鉛0.023重量部（0.020
モル％対ジメチルテレフタレート）を加え、150〜240℃
で４時間メタノールを留去しつつエステル交換反応を行
い、次いで安定剤（燐化合物のグリコール溶液）をトリ
メチルホスフエート換算で0.014重量部添加し、次に、
重縮合触媒として0.04重量部の三酸化アンチモンを添加
し、さらに表−１に記載した粒径および構成比を有する
酸化ケイ素を所定量添加して、1mmHg以下の高真空で４
時間重縮合反応を行い、固有粘度（η:o−クロロフエノ
ール溶媒,25℃測定）0.65のポリエチレンテレフタレー
トを得た。
これらポリエチレンテレフタレートを各々常法に従つて
溶融押出し急冷して未延伸フイルムとし、次いで、縦方
向に90℃で4.2倍，横方向に100℃で3.5倍逐次二軸延伸
を行ない、更に205℃で30秒間熱固定を行ない、各々10
μの二軸配向フイルムを作成した。
上記二軸延伸フイルムの製造において、縦延伸が終了し
た一軸延伸フイルムがテンターに入る直前の位置で、こ
のフイルムの片面上に、下記の塗布液をキスコート法に
て均一に塗布した。このときの平均塗布量は上記一軸延
伸フイルム１mm2当り約4gウエツト量であつた（この量
は、下記の二軸延伸フイルムでは１mm2当り約0.02gに相
当する）。次いで片面塗布を施した一軸延伸フイルムを
熱固定し、二軸配向ポリエステルフイルムを製造した。
得られたフイルムの特性を表−１に示す。
＜塗布液調製＞ カルボン酸アミン塩基を有するポリウレタン水分散液
〔東洋ポリマー（株）製：商品名メルシー585〕28重量
部（非揮発成分として），アクリル樹脂エマルジヨン
〔メタクリル酸メチル／アクリル酸エチル／アクリルア
ミド＝49/43/8（モル％）〕28重量部，ポリエチレンワ
ツクスエマルジヨン（融点約105℃）７重量部，コロイ
ダルシリカ水分散液（平均粒径40〜50mμ）27重量部及
びポリオキシエチレンノニルフエニルエーテル〔日本油
脂（株）製：商品名NS-208.5〕10重量部をイオン交換水
で希釈溶解し、固形分濃度２重量％の塗布液を調製し
た。
更に、この二軸配向ポリエステルフイルムの塗布処理を
しなかつた表面〔以下、表面(I)という）に真空蒸着に
よりコバルト−ニツケル合金薄膜を1000Åの膜厚で形成
した。続いて1/4″巾にフイルムの機械方向に切断し、
金属薄膜磁気記録テープとし、0.3μｍのギヤツプ長の
リングヘツドを用いて9.5cm/secのスピードで記録再生
し、電磁変換特性（デジタルの記録密度特性）を評価し
た。この結果を表−１に示す。
この結果から、本発明のフイルムをベースとした磁気記
録媒体はS/Nが大きく、ノイズレベルが格段に優れてお
り、かつ長時間の耐久性に優れることがわかる。
実施例４〜６及び比較例４〜６ 実施例２と同じポリマーを用い、未延伸フイルムを作成
して各々、表−２に記載の製膜条件によつて（ただし、
表に記載されていないものは、実施例−２と同一条件で
ある。）厚さ10μｍの二軸配向フイルムを作成し、フイ
ルム片面に実施例−２と同じ組成の塗液を塗布した。
このポリエステルフイルムの塗布処理しなかつた表面
（以下、表面(I)という）に真空蒸着によりコバルト−
ニツケル合金薄膜を1000Åの薄膜で形成した。続いて1/
4″巾にフイルムの機械方向に切断し、金属薄膜磁気記
録テープとし、0.3μｍのギヤツプ長のリングヘツドを
用いて9.5cm/secのスピードで記録再生し、電磁変換特
性（デジタルの記録密度特性）を評価した。この結果を
表−２に示す。
この結果から、本発明のフイルムをベースとした磁気記
録媒体は、繰返し走行時の耐久性に優れ、S/Nが大き
く、ノイズレベルが格段に優れていることがわかる。
【図面の簡単な説明】
図−１は繰り返し走行時の耐久性を評価するのに用いた
装置の説明図である。 １……送り出し側ロール、13……巻き取り側ロール、４
……入口テンシヨンコントローラー、10……出口テンシ
ヨンコントローラー、７……固定棒、2,6,8,12……フリ
ーロール
フロントページの続き (72)発明者 三浦 陸男 神奈川県相模原市小山３丁目37番19号 帝 人株式会社プラスチツク研究所内 (56)参考文献 特開 昭54−40883（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−111849（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−202530（ＪＰ，Ａ)

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】（１）下記特性（イ）〜（ホ）を満足する
    二軸配向ポリエステルフイルムの片面に、 （イ）縦方向のヤング率600Kg/mm2以上 （ロ）横方向のヤング率450〜550Kg/mm2 （ハ）横方向の150℃での熱収縮率１〜５％ （ニ）表面の中心線平均粗さ（Ra）0.001〜0.003μ （ホ）高さ（ｈ）が0.27〜0.54μの突起物の数0.2個／m
    m2以下 （２）ポリウレタン，アクリル樹脂，低分子量ポリオレ
    フインワックス及び平均粒径が0.01〜0.15μの粗面化物
    質を主成分とする組成物よりなり、表面の中心線平均粗
    さRaが0.002〜0.01μでありかつ表面には山脈状の凹凸
    がない薄膜を形成し、該薄膜を形成してないポリエステ
    ルフイルム表面を金属薄膜形成面とする磁気記録媒体用
    ベースフイルム。
  2. 【請求項２】前記ポリウレタン（Ａ）、アクリル樹脂
    （Ｂ）、低分子量ポリオレフインワックス（Ｃ）及び粗
    面化物質（Ｄ）の混合割合が［（Ａ）＋（Ｂ）＋
    （Ｃ）］／（Ｄ）＝98/2〜40/60、［（Ａ）＋（Ｂ）］
    ／（Ｃ）＝98/2〜40/60、且つ（Ａ）／（Ｂ）＝90/10〜
    10/90（固型分換算：重量％）の範囲である特許請求の
    範囲第１項記載の磁気記録媒体用ベースフイルム。
  3. 【請求項３】二軸配向ポリエステルフイルムが平均粒径
    20〜100mμの酸化ケイ素を0.005〜0.1重量％含有する特
    許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体用ベースフイル
    ム。
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