JPH0651110A - 表面反射鏡 - Google Patents
表面反射鏡Info
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- JPH0651110A JPH0651110A JP20222192A JP20222192A JPH0651110A JP H0651110 A JPH0651110 A JP H0651110A JP 20222192 A JP20222192 A JP 20222192A JP 20222192 A JP20222192 A JP 20222192A JP H0651110 A JPH0651110 A JP H0651110A
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Landscapes
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】ガラスの表面に光反射層を形成した表面反射鏡
であって、該光反射層が物理蒸着法によりTiOx (ただし
0＜x ≦2)よりなる下地層と、AlOy (ただし 0＜y ≦3/
2)よりなる中間層と、Al反射層、およびこれを保護する
透明な金属酸化物、酸素窒化物あるいは酸素炭化物の層
を積層形成したことからなる。 【効果】各層相互の密着性が良好で、耐擦傷性、耐候性
等に優れ、また反射率も良好である。
であって、該光反射層が物理蒸着法によりTiOx (ただし
0＜x ≦2)よりなる下地層と、AlOy (ただし 0＜y ≦3/
2)よりなる中間層と、Al反射層、およびこれを保護する
透明な金属酸化物、酸素窒化物あるいは酸素炭化物の層
を積層形成したことからなる。 【効果】各層相互の密着性が良好で、耐擦傷性、耐候性
等に優れ、また反射率も良好である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、自動車用反射ミラー、
液晶プロジェクト用ミラー、バックライト液晶ディスプ
レー用ミラー、その他各種反射ミラーとして多用される
表面反射鏡に関する。
液晶プロジェクト用ミラー、バックライト液晶ディスプ
レー用ミラー、その他各種反射ミラーとして多用される
表面反射鏡に関する。
【０００２】
【従来技術とその問題点】表面反射鏡としては、ガラス
等の平滑基板にAl等の高反射率を有する金属膜を膜付け
し、あるいは更に透明保護膜を積層することは公知であ
る。
等の平滑基板にAl等の高反射率を有する金属膜を膜付け
し、あるいは更に透明保護膜を積層することは公知であ
る。
【０００３】特開昭61-133902 号には自動車用反射鏡に
おいて、ガラス基板にTiO2からなる薄膜と、その上にAl
-Ti 合金系あるいはAl-Cr 合金系等の反射層を積層する
ことが開示されている。上記膜構成は自動車用反射鏡の
反射率規格に適合せしめるとともに、薄膜と反射層間の
光の干渉作用により各種鏡面色相を得ることを目的とす
るものであって、本発明と目的、構成、効果において相
違する。
おいて、ガラス基板にTiO2からなる薄膜と、その上にAl
-Ti 合金系あるいはAl-Cr 合金系等の反射層を積層する
ことが開示されている。上記膜構成は自動車用反射鏡の
反射率規格に適合せしめるとともに、薄膜と反射層間の
光の干渉作用により各種鏡面色相を得ることを目的とす
るものであって、本発明と目的、構成、効果において相
違する。
【０００４】また特開昭60-178402 号にはハーフミラー
において、ガラス基板にTiO2等の下地薄膜層と、その上
にAlからなる半反射層と、さらにSiO2、SiO あるいはTi
O2等の表面薄膜層を積層することが開示されている。下
地薄膜層としてのTiO2は、それ自体ガラス基板同様のア
モルファス構造をとることができ、ガラス基板との密着
性に優れるが、金属Al層とは材質物性等が異なり、例え
ば金属Alの熱膨張係数が遙かに大きい等の理由からAl層
との密着性において、なお問題を残す。
において、ガラス基板にTiO2等の下地薄膜層と、その上
にAlからなる半反射層と、さらにSiO2、SiO あるいはTi
O2等の表面薄膜層を積層することが開示されている。下
地薄膜層としてのTiO2は、それ自体ガラス基板同様のア
モルファス構造をとることができ、ガラス基板との密着
性に優れるが、金属Al層とは材質物性等が異なり、例え
ば金属Alの熱膨張係数が遙かに大きい等の理由からAl層
との密着性において、なお問題を残す。
【０００５】本発明は上記問題点を解消し、容易に膜形
成できる表面反射鏡を提供するものである。
成できる表面反射鏡を提供するものである。
【０００６】
【問題点を解決するための手段】本発明は、ガラスの表
面に光反射層を形成した表面反射鏡であって、該光反射
層が物理蒸着法によりTiOx (ただし 0＜x ≦2)よりなる
下地層と、AlOy (ただし0＜y ≦3/2)よりなる中間層
と、Al反射層、およびこれを保護する透明な酸化物、酸
素窒化物あるいは酸素炭化物膜を積層形成してなるこ
と、さらに透明保護膜がTi、Si、TiSiまたはTaの酸化
物、酸素窒化物または酸素炭化物よりなる単層、または
これらを適宜選択した複数層よりなること、から構成さ
れる。
面に光反射層を形成した表面反射鏡であって、該光反射
層が物理蒸着法によりTiOx (ただし 0＜x ≦2)よりなる
下地層と、AlOy (ただし0＜y ≦3/2)よりなる中間層
と、Al反射層、およびこれを保護する透明な酸化物、酸
素窒化物あるいは酸素炭化物膜を積層形成してなるこ
と、さらに透明保護膜がTi、Si、TiSiまたはTaの酸化
物、酸素窒化物または酸素炭化物よりなる単層、または
これらを適宜選択した複数層よりなること、から構成さ
れる。
【０００７】前記物理蒸着法とは、スパッタリング法、
真空蒸着法、電子ビーム蒸着法その他の公知の物理的蒸
着手段を含むが、積層成膜が容易なこと、膜の密着性が
良好なこと等を勘案すればスパッタリング法が推奨され
る。
真空蒸着法、電子ビーム蒸着法その他の公知の物理的蒸
着手段を含むが、積層成膜が容易なこと、膜の密着性が
良好なこと等を勘案すればスパッタリング法が推奨され
る。
【０００８】TiOx下地層は、チタンターゲットを用い酸
素含有雰囲気下でスパッタリングすることにより得ら
れ、ガラス基板同様のアモルファス構造を呈するもの
で、それ自体堅固で特にガラス基板との密着性に優れ
る。
素含有雰囲気下でスパッタリングすることにより得ら
れ、ガラス基板同様のアモルファス構造を呈するもの
で、それ自体堅固で特にガラス基板との密着性に優れ
る。
【０００９】さらに該下地層と後述Al反射層との密着性
を向上するうえで間にAlOy層を介在させる。AlOy中間層
はアルミニウムターゲットを用い前記同様酸素含有雰囲
気下でスパッタリングするもので、やはりアモルファス
構造を採り、前記TiOx下地層に良好に密着するととも
に、後述Al反射層と同様のアルミニウムを主材とするこ
とによりAl反射層との密着性にも優れる。
を向上するうえで間にAlOy層を介在させる。AlOy中間層
はアルミニウムターゲットを用い前記同様酸素含有雰囲
気下でスパッタリングするもので、やはりアモルファス
構造を採り、前記TiOx下地層に良好に密着するととも
に、後述Al反射層と同様のアルミニウムを主材とするこ
とによりAl反射層との密着性にも優れる。
【００１０】Al反射層は、アルミニウムターゲットを用
い、不活性雰囲気下でスパッタリングするもので、可視
光を反射するうえで充分な膜厚、600A以上に成膜すれば
よい。
い、不活性雰囲気下でスパッタリングするもので、可視
光を反射するうえで充分な膜厚、600A以上に成膜すれば
よい。
【００１１】Al反射層の上には同様なスパッタリング法
により、所望の雰囲気下で保護膜としてのSi-O、Si-C-
O、Si-N-O、Ti-O、Ti-C-O、Ti-N-O、TiSi-O、Ta-O等の
層を一層ないし複数層膜付け積層するもので、耐候性、
耐擦傷性等を向上せしめることができる。
により、所望の雰囲気下で保護膜としてのSi-O、Si-C-
O、Si-N-O、Ti-O、Ti-C-O、Ti-N-O、TiSi-O、Ta-O等の
層を一層ないし複数層膜付け積層するもので、耐候性、
耐擦傷性等を向上せしめることができる。
【００１２】
【実施例】以下本発明の一例としてのスパッタリング法
を採用した具体的実施例を詳述するが、本発明はこれに
限定されるものではない。
を採用した具体的実施例を詳述するが、本発明はこれに
限定されるものではない。
【００１３】洗浄、乾燥した適宜サイズのガラス基板を
プラズマスパッタリング法によりTiターゲット採用、酸
素含有雰囲気下でTiOx層を40〜200Aの膜厚範囲で成膜す
る。なおx は 0より大で 2以下の範囲であればよく、好
適にはアルゴン- 酸素( 酸素50〜100 ％) 雰囲気下で 1
≦x ≦2 の範囲において、ガラス基板との密着性に優れ
たアモルファス状のTiOxが得られる。膜厚40A 未満では
下地層としての作用が不充分で密着性において満足でき
ず、200Aを越えても密着性がさらに向上するわけではな
く、経済性を阻害する。
プラズマスパッタリング法によりTiターゲット採用、酸
素含有雰囲気下でTiOx層を40〜200Aの膜厚範囲で成膜す
る。なおx は 0より大で 2以下の範囲であればよく、好
適にはアルゴン- 酸素( 酸素50〜100 ％) 雰囲気下で 1
≦x ≦2 の範囲において、ガラス基板との密着性に優れ
たアモルファス状のTiOxが得られる。膜厚40A 未満では
下地層としての作用が不充分で密着性において満足でき
ず、200Aを越えても密着性がさらに向上するわけではな
く、経済性を阻害する。
【００１４】次いでAlターゲット採用、酸素含有雰囲気
下でAlOy層を30〜100Aの膜厚範囲で成膜する。なおy は
0より大で3/2 以下の範囲であればよく、好適にはアル
ゴン- 酸素( 酸素0.5 〜数％) 雰囲気下で 1/2≦y ≦3/
2 の範囲において、TiOx層および後述するAl反射層との
密着性に優れたアモルファス状のAlOy層が得られる。膜
厚30A 未満では中間介在層としての作用が不充分で密着
性において満足できず、100Aを越えても密着性がさらに
向上するわけではなく、経済性を阻害する。
下でAlOy層を30〜100Aの膜厚範囲で成膜する。なおy は
0より大で3/2 以下の範囲であればよく、好適にはアル
ゴン- 酸素( 酸素0.5 〜数％) 雰囲気下で 1/2≦y ≦3/
2 の範囲において、TiOx層および後述するAl反射層との
密着性に優れたアモルファス状のAlOy層が得られる。膜
厚30A 未満では中間介在層としての作用が不充分で密着
性において満足できず、100Aを越えても密着性がさらに
向上するわけではなく、経済性を阻害する。
【００１５】さらにAlターゲット採用、アルゴン雰囲気
下でAl反射層を600 〜1200A の範囲で成膜する。Al層の
膜厚はTiOx、AlOyの膜厚とも関連するが、大略600A以上
であれば、光反射に充分である。
下でAl反射層を600 〜1200A の範囲で成膜する。Al層の
膜厚はTiOx、AlOyの膜厚とも関連するが、大略600A以上
であれば、光反射に充分である。
【００１６】透明保護層を形成するには、Tiターゲッ
ト、Siターゲット、TiSiターゲット、Taターゲット、あ
るいは前記金属の炭化物、窒化物ターゲットを適宜採用
することにより、所望の酸素含有雰囲気下でそれらの酸
化物、酸素窒化物、酸素炭化物を形成でき、さらにはそ
れらの積層膜とすることもできる。膜厚は光をよく透過
し、特に特定の光を吸収して着色を与えない範囲、他方
充分な耐擦傷性、耐候性を与える範囲を勘案し、膜種類
にもよるが100 〜500Aの膜厚範囲とするのが好ましい。
このようにすることにより表面反射鏡を完成するもので
ある。
ト、Siターゲット、TiSiターゲット、Taターゲット、あ
るいは前記金属の炭化物、窒化物ターゲットを適宜採用
することにより、所望の酸素含有雰囲気下でそれらの酸
化物、酸素窒化物、酸素炭化物を形成でき、さらにはそ
れらの積層膜とすることもできる。膜厚は光をよく透過
し、特に特定の光を吸収して着色を与えない範囲、他方
充分な耐擦傷性、耐候性を与える範囲を勘案し、膜種類
にもよるが100 〜500Aの膜厚範囲とするのが好ましい。
このようにすることにより表面反射鏡を完成するもので
ある。
【００１７】〔試験例、比較試験例〕上記製法に則り、
洗浄、乾燥したサイズ600mm ×600mm ×3mm(厚み) のガ
ラス基板に表１に示す膜構成で各種表面鏡を作成した。
洗浄、乾燥したサイズ600mm ×600mm ×3mm(厚み) のガ
ラス基板に表１に示す膜構成で各種表面鏡を作成した。
【００１８】該鏡について分光光度計 (U-400 型. 日立
製作所製) により反射率を測定し、JISZ8722に則り可視
光平均反射率を算定した。また接着テープ (スコッチメ
ンディングテープ 3M#800)を膜上に貼着後、これを引き
剥がし、45mmφ当たりの剥離、発生したピンホール数
(個数) を鏡下観察、測定した。
製作所製) により反射率を測定し、JISZ8722に則り可視
光平均反射率を算定した。また接着テープ (スコッチメ
ンディングテープ 3M#800)を膜上に貼着後、これを引き
剥がし、45mmφ当たりの剥離、発生したピンホール数
(個数) を鏡下観察、測定した。
【００１９】さらに別に膜表面に 6枚重ねのネルを介在
させて100g/cm2の重錘を乗せ、これをストローク距離10
0mm で100 回往復摺動して該摺動部のの透過率の変化(
初期において透過率 0％) を測定した。また50℃、95%R
H の雰囲気中に24hr放置し、曇りその他の変化を観察
し、これらを併せて総合評価した。結果を表１に示す。
させて100g/cm2の重錘を乗せ、これをストローク距離10
0mm で100 回往復摺動して該摺動部のの透過率の変化(
初期において透過率 0％) を測定した。また50℃、95%R
H の雰囲気中に24hr放置し、曇りその他の変化を観察
し、これらを併せて総合評価した。結果を表１に示す。
【００２０】
【表１】
【００２１】表から明らかなように、本発明の実施の態
様にかかる試験例の範囲において良好であり、他方比較
試験例は２項目ないしそれ以上において劣り、表面反射
鏡として不充分であることが明白であった。
様にかかる試験例の範囲において良好であり、他方比較
試験例は２項目ないしそれ以上において劣り、表面反射
鏡として不充分であることが明白であった。
【００２２】
【発明の効果】本発明によれば各層相互の密着性が良好
で、耐擦傷性、耐候性等に優れ、また反射率も良好であ
る。
で、耐擦傷性、耐候性等に優れ、また反射率も良好であ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 伊藤 俊明 三重県松阪市大口町1510番地 セントラル 硝子株式会社テクニカルセンター内
Claims (2)
- 【請求項１】ガラスの表面に光反射層を形成した表面反
射鏡であって、該光反射層が物理蒸着法によりTiOx (た
だし 0＜x ≦2)よりなる下地層と、AlOy (ただし 0＜y
≦3/2)よりなる中間層と、Al反射層、およびこれを保護
する透明な金属酸化物、酸素窒化物あるいは酸素炭化物
の層を積層形成してなる表面反射鏡。 - 【請求項２】透明保護層がTi、Si、TiSiまたはTaの酸化
物、酸素窒化物または酸素炭化物よりなる単層、または
これらを適宜選択した複数層よりなることを特徴とする
請求項１記載の表面反射鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20222192A JP2637016B2 (ja) | 1992-07-29 | 1992-07-29 | 表面反射鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20222192A JP2637016B2 (ja) | 1992-07-29 | 1992-07-29 | 表面反射鏡 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0651110A true JPH0651110A (ja) | 1994-02-25 |
| JP2637016B2 JP2637016B2 (ja) | 1997-08-06 |
Family
ID=16453973
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20222192A Expired - Fee Related JP2637016B2 (ja) | 1992-07-29 | 1992-07-29 | 表面反射鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2637016B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6957895B2 (en) | 2003-02-28 | 2005-10-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Reflection mirror and optical equipment using the same |
| JP2007065261A (ja) * | 2005-08-31 | 2007-03-15 | Asahi Glass Co Ltd | 反射鏡 |
| KR100698761B1 (ko) * | 2005-12-21 | 2007-03-26 | 주식회사 이엠따블유안테나 | 반사 특성을 갖는 기판 및 그 제조 방법 |
| JP2009003063A (ja) * | 2007-06-20 | 2009-01-08 | Central Glass Co Ltd | 表面鏡 |
| CN101180574B (zh) | 2005-06-02 | 2010-05-19 | 中央硝子株式会社 | 前表面镜 |
| WO2022177782A1 (en) * | 2021-02-22 | 2022-08-25 | Corning Incorporated | Laminates and methods of making the same |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5142372B2 (ja) | 2007-11-26 | 2013-02-13 | 株式会社リコー | ミラー、光走査装置及び画像形成装置 |
-
1992
- 1992-07-29 JP JP20222192A patent/JP2637016B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6957895B2 (en) | 2003-02-28 | 2005-10-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Reflection mirror and optical equipment using the same |
| CN100371739C (zh) * | 2003-02-28 | 2008-02-27 | 佳能株式会社 | 反射镜及使用此反射镜的光学仪器 |
| CN101180574B (zh) | 2005-06-02 | 2010-05-19 | 中央硝子株式会社 | 前表面镜 |
| JP2007065261A (ja) * | 2005-08-31 | 2007-03-15 | Asahi Glass Co Ltd | 反射鏡 |
| KR100698761B1 (ko) * | 2005-12-21 | 2007-03-26 | 주식회사 이엠따블유안테나 | 반사 특성을 갖는 기판 및 그 제조 방법 |
| WO2007073051A1 (en) * | 2005-12-21 | 2007-06-28 | E.M.W. Antenna Co., Ltd. | Plate with a reflective surface and method for producing the same |
| JP2009003063A (ja) * | 2007-06-20 | 2009-01-08 | Central Glass Co Ltd | 表面鏡 |
| WO2022177782A1 (en) * | 2021-02-22 | 2022-08-25 | Corning Incorporated | Laminates and methods of making the same |
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