JPH0650710B2 - Method for manufacturing solid electrolytic capacitor - Google Patents
Method for manufacturing solid electrolytic capacitorInfo
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- JPH0650710B2 JPH0650710B2 JP25780985A JP25780985A JPH0650710B2 JP H0650710 B2 JPH0650710 B2 JP H0650710B2 JP 25780985 A JP25780985 A JP 25780985A JP 25780985 A JP25780985 A JP 25780985A JP H0650710 B2 JPH0650710 B2 JP H0650710B2
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Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、電導性高分子化合物を固体導電体として用い
た、性能の良好な固体電解コンデンサの製造方法に関す
るものである。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for producing a solid electrolytic capacitor having good performance, which uses a conductive polymer compound as a solid conductor.
[従来の技術] 従来の固体電解コンデンサ、例えばアルミニウム電解コ
ンデンサは、エッチング処理した比表面積の大きい多孔
質アルミニウム箔の上に誘電体である酸化アルミニウム
層を設け、陰極箔との間の電解紙に液状の電解液を含浸
させた構造からなっているが、電解液が液状であるため
に液漏れ等の問題を引き起こし好ましいものではなく、
従って、この電導層を固体導電体で代替する試みがなさ
れている。それらの固体電解コンデンサは、陽極酸化被
膜を有するアルミニウム、タンタルなど被膜形成金属に
固体導電体を付着した構造を有したものであり、この種
の固体コンデンサの固体導電体には主に硝酸マンガンの
熱分解により形成される二酸化マンガンが用いられてい
る。しかし、この固体電解コンデンサは、熱分解の際に
要する高熱と発生するNOxガスの酸化作用などによっ
て、誘電体であるアルミニウム、タンタルなどの金属酸
化被膜の損傷があり、そのため耐電圧は低下し、漏れ電
流が大きくなり、誘電特性を劣化させるなど極めて大き
な欠点がある。[Prior Art] In a conventional solid electrolytic capacitor, for example, an aluminum electrolytic capacitor, an aluminum oxide layer as a dielectric is provided on a porous aluminum foil having a large specific surface area that has been subjected to etching treatment, and an electrolytic paper between the cathode foil and Although it has a structure impregnated with a liquid electrolyte, it is not preferable because it causes a problem such as liquid leakage because the electrolyte is liquid,
Therefore, attempts have been made to replace this conductive layer with a solid conductor. These solid electrolytic capacitors have a structure in which a solid conductor is attached to a film-forming metal such as aluminum or tantalum having an anodized film, and the solid conductor of this type of solid capacitor is mainly composed of manganese nitrate. Manganese dioxide formed by thermal decomposition is used. However, in this solid electrolytic capacitor, due to the high heat required for thermal decomposition and the oxidizing action of NO x gas generated, the metal oxide film such as aluminum and tantalum, which is a dielectric, is damaged, and the withstand voltage is lowered. However, there is an extremely large defect that the leakage current becomes large and the dielectric characteristics are deteriorated.
これらの欠点を補うため、高熱を付加せずに固体導電体
を形成する方法として、高電導性の有機半導体材料を固
体導電体とする方法が試みられている。その例として
は、特開昭52−79255号公報に記載されるように7,7,8,8
−テトラシアノキノジメタン(TCNQ)錯塩を含む電
導性有機化合物を固体導電体の主成分とする固体電解コ
ンデンサが知られている。しかしながら、この固体電解
コンデンサは、TCNQ錯塩が陽極酸化被膜との付着性
に劣り、電導度も10-3〜10-2S/cmと不十分であるため、
コンデンサの容量値は小さく、誘電損失も大きく、また
熱的経時的な安定性も劣り信頼性が低い。また、TCN
Q錯塩はコストが高いため、固体電解コンデンサ全体の
製造コストが高くつくという問題があった。In order to compensate for these drawbacks, a method of using a highly conductive organic semiconductor material as a solid conductor has been attempted as a method of forming a solid conductor without applying high heat. As an example, as described in JP-A-52-79255, 7,7,8,8
There is known a solid electrolytic capacitor in which a conductive organic compound containing a tetracyanoquinodimethane (TCNQ) complex salt is a main component of a solid conductor. However, in this solid electrolytic capacitor, the TCNQ complex salt is inferior in adhesion to the anodic oxide coating and the electric conductivity is insufficient as 10 −3 to 10 −2 S / cm.
The capacitance value of the capacitor is small, the dielectric loss is large, the thermal stability over time is poor, and the reliability is low. Also, TCN
Since the Q complex salt is expensive, there is a problem that the manufacturing cost of the solid electrolytic capacitor as a whole is high.
近年、電導度が高く、誘電体被膜との付着性がよく、ま
た安価な電導性高分子化合物を固体導電体に用いた固体
電解コンデンサを提供する試みがなされている。この試
みにおいては、誘電体として用いる多孔質金属酸化物の
被膜上に電導性高分子化合物を付着させる際に、多孔質
金属酸化物の細孔内に電導性高分子化合物を巧みに導入
して安定化させることが、最も重要な課題となってい
る。一般に、電導性高分子化合物は不溶、不融であり賦
形性、加工性が著しく劣っている。このため殆どの電導
性高分子化合物は、溶融成形や、キャスティング法によ
る成形などができないため、固体導電体としてのすぐれ
た性能を有しながら、多孔質金属酸化物の細孔内に導入
することができず、従って固体電解コンデンサには用い
ることのできない場合が多かった。In recent years, attempts have been made to provide a solid electrolytic capacitor having a high conductivity, good adhesion to a dielectric film, and an inexpensive conductive polymer compound as a solid conductor. In this attempt, the conductive polymer compound was skillfully introduced into the pores of the porous metal oxide when the conductive polymer compound was deposited on the film of the porous metal oxide used as the dielectric. Stabilization is the most important issue. In general, a conductive polymer compound is insoluble and infusible, and is extremely inferior in shapeability and processability. For this reason, most conductive polymer compounds cannot be melt-molded or molded by the casting method, so that they should be introduced into the pores of the porous metal oxide while having excellent performance as a solid conductor. In many cases, it cannot be used for solid electrolytic capacitors.
[発明が解決しようとする問題点] 本発明の目的は、上述した従来技術の問題点を解決し、
多孔質誘電体の細孔内に固体導電体としての性能のすぐ
れている電導性高分子化合物を容易に導入することがで
き、さらに誘電体被膜との付着性が良好で、しかも製造
コストが低い電導性高分子化合物を固体導電質とする固
体電解コンデンサの製造方法を提供することにある。[Problems to be Solved by the Invention] An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art,
A conductive polymer compound, which has excellent performance as a solid conductor, can be easily introduced into the pores of the porous dielectric, and the adhesion to the dielectric film is good, and the manufacturing cost is low. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a solid electrolytic capacitor which uses a conductive polymer compound as a solid conductor.
[問題点を解決するための手段] 本発明に従えば、電導性高分子化合物を固体導電体とす
る固体電解コンデンサを製造するにあたり、該電導性高
分子化合物を部分的に金属の露出した多孔質誘電体の金
属面を起点として電解重合を実施することにより、多孔
質誘電体層表面に析出・成長させた後、陽極酸化によっ
て露出金属表面上に誘電体層を形成させることを特徴と
する固体電解コンデンサの製造方法が提供される。[Means for Solving Problems] According to the present invention, in producing a solid electrolytic capacitor using a conductive polymer compound as a solid conductor, the conductive polymer compound is partially exposed to a porous metal. The present invention is characterized in that electrolytic polymerization is carried out starting from the metal surface of a porous dielectric material to deposit and grow on the surface of the porous dielectric layer, and then a dielectric layer is formed on the exposed metal surface by anodic oxidation. A method for manufacturing a solid electrolytic capacitor is provided.
本発明方法において、部分的に金属の露出した多孔質誘
電体の金属面を起点として電解重合により多孔質誘電体
層表面に析出・成長させる固体導電体として用いられる
電導性高分子化合物とは、π電子共役系を有する高分子
化合物のことであり、電気伝導度が10-3S/cm以上の値
を有するものが望ましい。このような電導性高分子化合
物の代表例としては、ポリアセチレン、ポリパラフェニ
レン、ポリピロール、ポチオフェン、ポリシアノアセチ
レン、ポリイソチアナフテン、ポリジアセチレン、ポリ
アニリン、ポリフタロシアニン及びこれらのポリマーを
構成するモノマーの誘電体の重合体等をあげることがで
きる。これらの電導性高分子化合物のうち、好ましい電
導性高分子化合物としては、ポリチオフェン、ポリ
(1,3−イソチアナフテン)、ポリピロールをあげる
ことができ、さらに好ましくはポリチオフェンをあげる
ことができる。In the method of the present invention, the conductive polymer compound used as a solid conductor to be deposited and grown on the surface of the porous dielectric layer by electrolytic polymerization starting from the metal surface of the partially exposed metal porous dielectric, It is a polymer compound having a π-electron conjugated system, and one having an electric conductivity of 10 −3 S / cm or more is desirable. Typical examples of such conductive polymer compounds include polyacetylene, polyparaphenylene, polypyrrole, pothiophene, polycyanoacetylene, polyisothianaphthene, polydiacetylene, polyaniline, polyphthalocyanine and dielectrics of monomers constituting these polymers. Examples thereof include polymers of the body. Among these conductive polymer compounds, preferred conductive polymer compounds include polythiophene, poly (1,3-isothianaphthene), and polypyrrole, and more preferably polythiophene.
上記の電導性高分子化合物の中には、中性の状態で10-3
S/cm以上の電気伝導度を有するものもあれば、電子供与
性あるいは電子吸引性のドーパントをドープすることに
よって10-3S/cm以上の電気伝導度を有するものもあり、
いずれも固体導電体として用いることができる。Among the above conductive polymer compounds, 10 -3 in the neutral state
Some have an electrical conductivity of S / cm or more, and some have an electrical conductivity of 10 -3 S / cm or more by doping with an electron donating or electron withdrawing dopant.
Any of them can be used as a solid conductor.
後者の場合、ドーピングは化学的ドーピング、電気化学
的ドーピングのいずれの方法を採用してもよい。化学的
にドーピングするドーパントとしては、従来から知られ
ている種々の電子受容性化合物及び電子供与性化合物、
例えば(I)沃素、臭素及び沃化臭素の如きハロゲン、
(II)五弗化砒素、五弗化アンチモン、四弗化珪素、五
塩化燐、五弗化燐、塩化アルミニウム、臭化アルミニウ
ム及び弗化アルミニウムの如き金属ハロゲン化物、(II
I)硫酸、硝酸、フルオロ硫酸、トリフルオロメタン硫
酸及びクロロ硫酸の如きプロトン酸、(IV)三酸化硫
黄、二酸化窒素、ジフルオロフルホニルパーオキシドの
如き酸化剤、(V)AgClO4、(VI)テトラシアノ
エチレン、テトラシアノキノジメタン、クロラニール、
2,3−ジクロル−5,6−ジシアノパラベンゾキノン、2,3
−ジブロム−5,6−ジシアノパラベンゾキノン、(VII)
Li,Na,Kの如きアルカリ金属等を用いることがで
きる。一方、電気化学的にドーピングするドーパントと
しては、(I)PF,SbF,AsF,SbCl
の如きVa族の元素のハロゲン化物アニオン、BF
の如きIIIa族の元素のハロゲン化物アニオン、I
−(I),Br−,Cl−の如きハロゲンアニオン、
ClOの如き過塩素酸アニオン等の陰イオン・ドーパ
ント及び(II)Li+,Na+,K+,Rb+,Cs+
の如きアルカリ金属イオン、一般式R4−XM+HXま
たはR3M1 +〔式中、RはC1からC10のアルキル
基、フェニル、ハロフェニル、アルキルフェニル等のア
リール基、MはN,P,As、M1は0又はS、xは0
又は1を表す。〕で示されるテトラアルキルアンモニウ
ムイオン、テトラアルキルホスホニウムイオン、テトラ
アルキルアルソニウムイオン、トリアルキルオキソニウ
ム、トリアルキルスルホニウムイオン等の陽イオン・ド
ーパント等をあげることができるが、必ずしもこれらに
限定されるものではない。In the latter case, the doping may be either chemical doping or electrochemical doping. As the chemically doped dopant, various conventionally known electron-accepting compounds and electron-donating compounds,
For example, (I) iodine, halogen such as bromine and bromine iodide,
(II) Metal halides such as arsenic pentafluoride, antimony pentafluoride, silicon tetrafluoride, phosphorus pentachloride, phosphorus pentafluoride, aluminum chloride, aluminum bromide and aluminum fluoride, (II
I) Protic acids such as sulfuric acid, nitric acid, fluorosulfuric acid, trifluoromethane sulfuric acid and chlorosulfuric acid, (IV) Sulfur trioxide, nitrogen dioxide, oxidizing agents such as difluorofurfonyl peroxide, (V) AgClO 4 , (VI) tetra Cyanoethylene, tetracyanoquinodimethane, chloranil,
2,3-dichloro-5,6-dicyanoparabenzoquinone, 2,3
-Dibromo-5,6-dicyanoparabenzoquinone, (VII)
Alkali metals such as Li, Na and K can be used. On the other hand, as the dopant to be electrochemically doped, (I) PF, SbF, AsF, SbCl
Halide anions of Va group elements such as BF
Halide anions of group IIIa elements such as I,
- (I), Br -, Cl - such halogen anions,
Anion dopants such as perchlorate anions such as ClO and (II) Li + , Na + , K + , Rb + , Cs +
Alkali metal ions such as R 4, X M + H X or R 3 M 1 + [wherein R is a C 1 to C 10 alkyl group, an aryl group such as phenyl, halophenyl, alkylphenyl, and M is N, P, As, M 1 is 0 or S, x is 0
Or represents 1. ] Tetraalkylammonium ions, tetraalkylphosphonium ions, tetraalkylarsonium ions, trialkyloxonium, trialkylsulfonium ions, and other cations / dopants, etc. can be mentioned, but are not necessarily limited to these is not.
本発明において使用する多孔質誘電体の種類に特に限定
はないが、例えばアルミニウム、タンタル、ニオブ等の
金属の酸化物を好適に使用することができる。多孔質誘
電体に金属面を部分的に露出させる方法には特に限定は
なく、例えば多孔質誘電体を切断するときに生じる金属
面を使用するとか、一面に斑点状に金属面を露出させて
使用することができる。The type of the porous dielectric material used in the present invention is not particularly limited, but for example, an oxide of a metal such as aluminum, tantalum or niobium can be preferably used. There is no particular limitation on the method of partially exposing the metal surface to the porous dielectric, and for example, by using the metal surface generated when the porous dielectric is cut, or by exposing the metal surface in spots on one surface. Can be used.
多孔質誘電体の金属露出部分の表面積は、電導性高分子
化合物を与える重合用モノマーの種類によって異なるの
で一概には決められないが、一般には多孔質誘電体全表
面積に対して、0.001〜10%、好ましくは0.01〜5%の
範囲内が好ましい。The surface area of the metal exposed portion of the porous dielectric cannot be determined unconditionally because it varies depending on the type of the monomer for polymerization that gives the conductive polymer compound, but it is generally 0.001 to 10 with respect to the total surface area of the porous dielectric. %, Preferably 0.01 to 5%.
本発明における電解重合法とは、例えば前記電導性高分
子化合物を与える重合用モノマーを含む電解液を電解し
て、モノマーの酸化重合を行なう方法のことであり、各
種重合用モノマーに対し公知の適切な重合条件を選ぶこ
とによって行なうことができる。これまでに知られてい
る電解重合法では、陽極として、例えば金、白金など電
気化学的に安定な材質が使用されているが、本発明にお
いては、前述のように部分的に金属の露出した多孔質誘
電体が使用される。この金属面を起点として重合反応は
速やかに進行し、電導性高分子化合物が誘電体表面を覆
うように成長していく。The electrolytic polymerization method in the present invention is, for example, a method of electrolyzing an electrolytic solution containing a monomer for polymerization to give the conductive polymer compound, and performing oxidative polymerization of the monomer, which is known for various monomers for polymerization. This can be done by selecting appropriate polymerization conditions. In the electrolytic polymerization method known so far, as the anode, an electrochemically stable material such as gold or platinum is used, but in the present invention, as described above, the metal is partially exposed. A porous dielectric is used. The polymerization reaction proceeds rapidly starting from this metal surface, and the conductive polymer compound grows so as to cover the surface of the dielectric.
電解重合の重合温度には特に限定はないが、一般には−
60℃から80℃、好ましくは−20℃から30℃の間の温度で
実施する。The polymerization temperature of electrolytic polymerization is not particularly limited, but in general-
It is carried out at temperatures between 60 ° C and 80 ° C, preferably between -20 ° C and 30 ° C.
重合時間は、電導性高分子化合物の析出・成長程度を観
察判断することにより適宜選定されるが、一般には数分
〜数時間程度である。The polymerization time is appropriately selected by observing and determining the degree of precipitation / growth of the conductive polymer compound, but it is generally several minutes to several hours.
重合圧力には特に限定はないが、一般には重合開始前に
減圧操作により、多孔質誘電体層細孔内を電解液で満た
した後、常圧に戻し重合操作を実施する。The polymerization pressure is not particularly limited, but generally, the inside of the pores of the porous dielectric layer is filled with the electrolytic solution by a depressurization operation before the initiation of the polymerization, and then the pressure is returned to normal pressure to carry out the polymerization operation.
重合後、部分的に金属が露出している多孔質誘電体の金
属表面を修復するための陽極酸化(後化成)としては、
非水系、水系、或いは固相系などにより行なわれるが、
電導性高分子化合物の種類により、適当な系を選択する
ことができる。As anodization (post chemical conversion) for repairing the metal surface of the porous dielectric where the metal is partially exposed after polymerization,
It is performed by non-aqueous system, aqueous system, solid phase system, etc.
A suitable system can be selected depending on the kind of the conductive polymer compound.
[発明の効果] 本発明に方法によって製造される固体電解コンデンサ
は、従来の無機酸化物半導体や有機半導体を用いた固体
電解コンデンサに比較して、容量、誘電損失、経時安定
性において著しくすぐれた性能を有している。[Effects of the Invention] The solid electrolytic capacitor manufactured by the method of the present invention is remarkably excellent in capacity, dielectric loss, and stability over time as compared with conventional solid electrolytic capacitors using an inorganic oxide semiconductor or an organic semiconductor. Has performance.
また、本発明の方法によって製造される固体電解コンデ
ンサは、従来公知の固体電解コンデンサに比較して、以
下のような利点を有している。The solid electrolytic capacitor manufactured by the method of the present invention has the following advantages as compared with the conventionally known solid electrolytic capacitors.
高温に加熱することなく、多孔質誘電体層上に電導性
高分子化合物を形成できるので、陽極の酸化被膜の損傷
がない。そのため、定格電圧を従来の数倍に上げること
ができ、同容量、同定格電圧のコンデンサを得るのに、
従来のものに比較して形状を小型化できる。Since the conductive polymer compound can be formed on the porous dielectric layer without heating to a high temperature, the oxide film of the anode is not damaged. Therefore, the rated voltage can be increased several times that of the conventional one, and to obtain a capacitor with the same capacity and rated voltage,
The shape can be made smaller than the conventional one.
電導性高分子化合物と誘電体被膜との付着性が良好で
あるため、漏れ電流が小さい。Since the adhesion between the conductive polymer compound and the dielectric film is good, the leakage current is small.
高耐圧のコンデンサを作製することができる。A high breakdown voltage capacitor can be manufactured.
電導性高分子化合物の電導度が10-3S/cm以上で十分
に高いため、グラファイト等の導電層を設ける必要がな
く、そのための工程が簡略化することができる。Since the electric conductivity of the conductive polymer compound is sufficiently high at 10 −3 S / cm or more, it is not necessary to provide a conductive layer such as graphite, and the process therefor can be simplified.
周波数特性が良い。Good frequency characteristics.
製造コストが低い。Manufacturing cost is low.
[実施例] 以下、実施例及び比較例をあげて本発明を更に詳細に説
明する。[Examples] Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples.
なお、各例の固体電解コンデンサの特性値は表に示し
た。The characteristic values of the solid electrolytic capacitors of each example are shown in the table.
実施例1 厚さ100μmのアルミニウム箔(純度99.99%)を陽極と
し、直流及び交流の交互使用により、箔の表面を電気化
学的にエッチングして平均細孔径2μmで、比表面積が
12m2/gの多孔質アルミニウム箔とした。次いで、こ
のエッチング処理したアルミニウム箔を硼酸アンモニウ
ムの液中に浸漬し、液中で電気化学的にアルミニウム箔
の上に誘電体の薄層を形成した。Example 1 An aluminum foil having a thickness of 100 μm (purity 99.99%) was used as an anode, and the surface of the foil was electrochemically etched by alternating use of direct current and alternating current to have an average pore diameter of 2 μm and a specific surface area of 2 μm.
It was 12 m 2 / g of porous aluminum foil. Next, this etched aluminum foil was immersed in a solution of ammonium borate to electrochemically form a thin layer of a dielectric on the aluminum foil in the solution.
このようにして作製したアルミニウム箔の外周部分を裁
断することにより、部分的にアルミニウム金属表面を露
出させた。アルミニウム金属の露出部分は、多孔質誘電
体の全表面積の0.1%であった。これを陽極として使用
し、白金板を陰極として使用し、0.1mol/チオフェン
と0.05mol/LiBF4とを含むベンゾニトリル溶液
にアルゴンガス雰囲気中、常温、常圧で4〜5V、2m
A/cm2の電流を2時間流し、チオフェンを電気化学的
に重合して前記陽極板上にポリチオフェンフィルムを析
出させた。このポリチオフェンフィルムの電導度は20S
/cmであった。次にこのポリチオフェンフィルムで覆わ
れたアルミニウム箔を陽極とし、白金板を陰極として、
ホウ酸アンモニウムのエチレングリコール溶液中で後化
成を9V、10分間実施した。この後化成物を陽極とし、
陰極にアルミニウム箔を用いてゴムで封止して固体電解
コンデンサを作製した。The aluminum metal surface was partially exposed by cutting the outer peripheral portion of the aluminum foil thus produced. The exposed portion of aluminum metal was 0.1% of the total surface area of the porous dielectric. Using this as an anode, a platinum plate as a cathode, and a benzonitrile solution containing 0.1 mol / thiophene and 0.05 mol / LiBF 4 in an argon gas atmosphere at room temperature and atmospheric pressure at 4 to 5 V for 2 m.
A current of A / cm 2 was applied for 2 hours to electrochemically polymerize thiophene to deposit a polythiophene film on the anode plate. The conductivity of this polythiophene film is 20S
It was / cm. Next, the aluminum foil covered with this polythiophene film was used as an anode, and the platinum plate was used as a cathode.
Post chemical conversion was carried out at 9 V for 10 minutes in a solution of ammonium borate in ethylene glycol. After this, the chemical compound is used as an anode,
Aluminum foil was used for the cathode and sealed with rubber to produce a solid electrolytic capacitor.
実施例2 実施例1と同じ陽極を用い、炭素板を陰極として使用し
て、0.1mol/の1,3−イソチアナフテンと0.05mol
/のテトラフェニルフォスフォニウムクロライドとを
含むアセトニトリル溶液にアルゴンガス雰囲気中、常
温、常圧で2〜3V、1mA/cm2の電流を2時間流
し、イソチアナフテンを電気化学的に重合して、陽極板
上にポリイソチアナフテンフィルムを析出させた。この
ポリ(1,3−イソチアナフテン)フィルムの電導度は
10S/cmであった。実施例1と同様に後化成した後、陰
極にアルミニウム箔を用いてゴムで封止して固体電解コ
ンデンサを作製した。Example 2 Using the same anode as in Example 1 but using a carbon plate as the cathode, 0.1 mol / l of 1,3-isothianaphthene and 0.05 mol
/ 3 Tetraphenylphosphonium chloride in an acetonitrile solution containing argon gas at room temperature and atmospheric pressure with a current of 2 to 3 V and 1 mA / cm 2 for 2 hours to electrochemically polymerize isothianaphthene. A polyisothianaphthene film was deposited on the anode plate. The conductivity of this poly (1,3-isothianaphthene) film is
It was 10 S / cm. After post-chemical formation in the same manner as in Example 1, an aluminum foil was used as the cathode and sealed with rubber to produce a solid electrolytic capacitor.
実施例3 実施例1と同じ陽極を用い、白金板を陰極として使用し
て、0.1mol/のピロールと0.05mol/のp−トルエ
ンスルホン酸のトリ−n−ブチルアンモニウム塩とを含
むアセトニトリル溶液にアルゴンガス雰囲気中、常温、
常圧で3〜4V、1mA/cm2の電流を2時間流し、ピ
ロールを電気化学的に重合して陽極板上にポリピロール
フィルムを析出させた。このポリピロールフィルムの電
導度は50S/cmであった。実施例1と同様に後化成した
後、陰極にアルミニウム箔を用い、ゴム封止して固体電
解コンデンサを作製した。Example 3 Using the same anode as in Example 1 and using a platinum plate as the cathode, a solution of acetonitrile containing 0.1 mol / pyrrole and 0.05 mol / tri-n-butylammonium salt of p-toluenesulfonic acid was prepared. In an argon gas atmosphere, at room temperature,
A current of 3 to 4 V and 1 mA / cm 2 was applied at normal pressure for 2 hours to electrochemically polymerize pyrrole to deposit a polypyrrole film on the anode plate. The conductivity of this polypyrrole film was 50 S / cm. After post-chemical formation in the same manner as in Example 1, an aluminum foil was used as the cathode and rubber sealing was performed to produce a solid electrolytic capacitor.
比較例 実施例1と同じ誘電体層を有するアルミニウム箔を使用
し、従来の二酸化マンガンを固体導電体とし、陰極をア
ルミニウム箔とした固体電解コンデンサを作製した。Comparative Example Using the aluminum foil having the same dielectric layer as that of Example 1, a conventional solid electrolytic capacitor was prepared in which conventional manganese dioxide was used as the solid conductor and the cathode was the aluminum foil.
Claims (1)
体電解コンデンサを製造するにあたり、該電導性高分子
化合物を部分的に金属の露出した多孔質誘電体の金属面
を起点として電解重合を実施することにより、多孔質誘
電体層表面に析出・成長させた後、陽極酸化によって露
出金属表面上に誘電体層を形成させることを特徴とする
固体電解コンデンサの製造方法。1. When producing a solid electrolytic capacitor using a conductive polymer compound as a solid conductor, electrolytic polymerization is carried out by using the conductive polymer compound as a starting point from a metal surface of a porous dielectric having a partially exposed metal. By depositing and growing on the surface of the porous dielectric layer, and then forming the dielectric layer on the exposed metal surface by anodic oxidation.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25780985A JPH0650710B2 (en) | 1985-11-19 | 1985-11-19 | Method for manufacturing solid electrolytic capacitor |
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| JP25780985A JPH0650710B2 (en) | 1985-11-19 | 1985-11-19 | Method for manufacturing solid electrolytic capacitor |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62118511A JPS62118511A (en) | 1987-05-29 |
| JPH0650710B2 true JPH0650710B2 (en) | 1994-06-29 |
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1985
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