JPH0639484B2 - 共役ジエンおよび随意なモノアルケニル芳香族炭化水素のポリマの製造方法 - Google Patents
共役ジエンおよび随意なモノアルケニル芳香族炭化水素のポリマの製造方法Info
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- JPH0639484B2 JPH0639484B2 JP60055739A JP5573985A JPH0639484B2 JP H0639484 B2 JPH0639484 B2 JP H0639484B2 JP 60055739 A JP60055739 A JP 60055739A JP 5573985 A JP5573985 A JP 5573985A JP H0639484 B2 JPH0639484 B2 JP H0639484B2
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- C08F36/02—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, at least one having two or more carbon-to-carbon double bonds the radical having only two carbon-to-carbon double bonds
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- C08F4/46—Metals; Metal hydrides; Metallo-organic compounds; Use thereof as catalyst precursors selected from light metals, zinc, cadmium, mercury, copper, silver, gold, boron, gallium, indium, thallium, rare earths or actinides selected from alkali metals
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Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は共役ジエンおよび随意なモノアルケニル芳香族
炭化水素モノマを炭化水素希釈剤、ヒドロカルビルアル
カリ金属化合物およびルイス塩基の存在下に重合させる
ことによる共役ジエンおよび随意なモノアルケニル芳香
族炭化水素のポリマの製造方法に関する。
炭化水素モノマを炭化水素希釈剤、ヒドロカルビルアル
カリ金属化合物およびルイス塩基の存在下に重合させる
ことによる共役ジエンおよび随意なモノアルケニル芳香
族炭化水素のポリマの製造方法に関する。
(従来技術) ルイス塩基は重合された共役ジエン中のビニル含有分を
増大させ一般に改質剤として知られている。本明細書中
で用いる「ビニル含有分」という用語はポリマ中に含有
される1,2−または3,4−部位で重合された共役ジ
エンの重量単位の含有分を指す。
増大させ一般に改質剤として知られている。本明細書中
で用いる「ビニル含有分」という用語はポリマ中に含有
される1,2−または3,4−部位で重合された共役ジ
エンの重量単位の含有分を指す。
一般に知られているように、共役ジエンおよび随意なモ
ノアルケニル芳香族炭化水素のヒドロカルビルアルキル
金属化合物の存在下での重合はリビングポリマ、すなわ
ちアルカリ金属を少なくともその一方の末端に存するポ
リマを経て進行する。この重合はリビングポリマの不活
性化すなわちポリマからのアルカリ金属部分の除去によ
つて、またはリビングポリマをたとえば四塩化ケイ素な
どのような結合剤によつてカツプリングさせることによ
つて停止される。
ノアルケニル芳香族炭化水素のヒドロカルビルアルキル
金属化合物の存在下での重合はリビングポリマ、すなわ
ちアルカリ金属を少なくともその一方の末端に存するポ
リマを経て進行する。この重合はリビングポリマの不活
性化すなわちポリマからのアルカリ金属部分の除去によ
つて、またはリビングポリマをたとえば四塩化ケイ素な
どのような結合剤によつてカツプリングさせることによ
つて停止される。
(発明が解決しようとする問題点) 広く推奨されているメチルジグリコールメチルエーテル
(ジグライム)などのようなこれまで提案されている改
質剤の多くのものは重合反応を早目に停止させおよび/
またはカツプリング反応を妨害する傾向がある。これら
の作用の結果として得られるポリマは広い分子量分布を
示しかつモノマ転化率およびカツプリング率が比較的低
いものになる。
(ジグライム)などのようなこれまで提案されている改
質剤の多くのものは重合反応を早目に停止させおよび/
またはカツプリング反応を妨害する傾向がある。これら
の作用の結果として得られるポリマは広い分子量分布を
示しかつモノマ転化率およびカツプリング率が比較的低
いものになる。
(問題点を解決するための手段) 本発明によれば、前記の重合の早期の停止および/また
はカツプリング反応に対する干渉を生ぜずまたはこれら
を減少させる種類の改質剤が発見された。
はカツプリング反応に対する干渉を生ぜずまたはこれら
を減少させる種類の改質剤が発見された。
したがつて、本発明は共役ジエンおよび随意なモノアル
ケニル芳香族炭化水素モノマを炭化水素希釈剤、ヒドロ
カルビルアルカリ金属化合物およびルイス塩基の存在下
に重合させることによる共役ジエンおよび随意なモノア
ルケニル芳香族炭化水素のポリマの製造方法において、
前記ルイス塩基が式: (式中: R1は2〜18の炭素原子を有するアルキル基であり、
R2およびR3は水素原子または1〜4の炭素原子を有す
るアルキル基であり、R4は水素原子または1〜6の炭
素原子を有するアルキル基であり、そしてR5は1〜1
8の炭素原子を有するアルキル基である。)を有する化
合物であることを特徴とする共役ジエンおよび随意なモ
ノアルケニル芳香族炭化水素のポリマの製造方法に関す
る。
ケニル芳香族炭化水素モノマを炭化水素希釈剤、ヒドロ
カルビルアルカリ金属化合物およびルイス塩基の存在下
に重合させることによる共役ジエンおよび随意なモノア
ルケニル芳香族炭化水素のポリマの製造方法において、
前記ルイス塩基が式: (式中: R1は2〜18の炭素原子を有するアルキル基であり、
R2およびR3は水素原子または1〜4の炭素原子を有す
るアルキル基であり、R4は水素原子または1〜6の炭
素原子を有するアルキル基であり、そしてR5は1〜1
8の炭素原子を有するアルキル基である。)を有する化
合物であることを特徴とする共役ジエンおよび随意なモ
ノアルケニル芳香族炭化水素のポリマの製造方法に関す
る。
好ましくはR1は3〜6の炭素原子を有するアルキル基
であり、R2およびR3は水素であり、そしてR4および
R5は1〜4の炭素原子を有するアルキル基である。よ
り好ましくはR1はn−ブチルであり、R4はメチルであ
つてR5はイソブチルであり、一方R2およびR3は水素
である。
であり、R2およびR3は水素であり、そしてR4および
R5は1〜4の炭素原子を有するアルキル基である。よ
り好ましくはR1はn−ブチルであり、R4はメチルであ
つてR5はイソブチルであり、一方R2およびR3は水素
である。
加えられるルイス塩基の量は好ましくは希釈剤およびモ
ノマの全重量に基づいて計算して10〜1000ppmそ
してより好ましくは80〜700ppmの範囲である。
ノマの全重量に基づいて計算して10〜1000ppmそ
してより好ましくは80〜700ppmの範囲である。
炭化水素希釈剤は1分子当りに4〜10の炭素原子を有
する脂肪族、脂環式あるいは芳香族炭化水素またはそれ
らの混合物の中から便宜に選ばれる。このような希釈剤
の例としてはn−ヘキサン、n−ヘプタン、2,2,4−ト
リメチルペンタン、シクロヘキサン、ベンゼンおよびト
ルエンがあげられ、シクロヘキサンが好ましい。溶媒は
モノマ100重量部に対して100重量部以上そして好
ましくは200〜1500重量部の量で用いられる。
する脂肪族、脂環式あるいは芳香族炭化水素またはそれ
らの混合物の中から便宜に選ばれる。このような希釈剤
の例としてはn−ヘキサン、n−ヘプタン、2,2,4−ト
リメチルペンタン、シクロヘキサン、ベンゼンおよびト
ルエンがあげられ、シクロヘキサンが好ましい。溶媒は
モノマ100重量部に対して100重量部以上そして好
ましくは200〜1500重量部の量で用いられる。
開始剤として加えられるヒドロカルビルアルカリ金属化
合物は一般に一つまたは二つ以上のリチウム原子を含む
ヒドロカルビルリチウム化合物である。好ましくはモノ
リチウム化合物が用いられる。ヒドロカルビル基は1〜
20の炭素原子を含む脂肪族、脂環式または芳香族基か
ら選ばれる。開始剤の例としてはn−ブチルリチウム、
s−ブチルリチウム、メチルリチウム、フエニルリチウ
ム、ナフチルリチウム、p−トリルリチウム、シクロヘ
キシルリチウムおよびエイコシルリチウムが挙げられ
る。s−ブチルリチウムがもつとも好ましい開始剤であ
る。
合物は一般に一つまたは二つ以上のリチウム原子を含む
ヒドロカルビルリチウム化合物である。好ましくはモノ
リチウム化合物が用いられる。ヒドロカルビル基は1〜
20の炭素原子を含む脂肪族、脂環式または芳香族基か
ら選ばれる。開始剤の例としてはn−ブチルリチウム、
s−ブチルリチウム、メチルリチウム、フエニルリチウ
ム、ナフチルリチウム、p−トリルリチウム、シクロヘ
キシルリチウムおよびエイコシルリチウムが挙げられ
る。s−ブチルリチウムがもつとも好ましい開始剤であ
る。
本発明の方法に用いられる共役ジエンモノマは一般に4
〜8の炭素原子を1分子当りについて含むものである。
このような適当な共役ジエンモノマの例としては、1,3
−ブタジエン、イソプレン、2,3−ジメチル−1,3−ブタ
ジエンおよびピペリレンが挙げられ、1,3−ブタジエン
がもつとも好ましい。
〜8の炭素原子を1分子当りについて含むものである。
このような適当な共役ジエンモノマの例としては、1,3
−ブタジエン、イソプレン、2,3−ジメチル−1,3−ブタ
ジエンおよびピペリレンが挙げられ、1,3−ブタジエン
がもつとも好ましい。
随意に用いられるモノアルケニル芳香族炭化水素はスチ
レン、3−メチルスチレン、4−n−プロピルスチレ
ン、4−シクロヘキシルスチレン、4−デシルスチレ
ン、4−p−トルイルスチレン等の核置換スチレン、な
らびにα−メチルスチレンおよびビニルナフタレンから
選ばれる。スチレンがもつとも好ましい。
レン、3−メチルスチレン、4−n−プロピルスチレ
ン、4−シクロヘキシルスチレン、4−デシルスチレ
ン、4−p−トルイルスチレン等の核置換スチレン、な
らびにα−メチルスチレンおよびビニルナフタレンから
選ばれる。スチレンがもつとも好ましい。
(作用) 重合は一般に2分〜6時間、好ましくは10分〜3時間
の時間で20〜100℃好ましくは30〜80℃の間の
温度で行なわれる。
の時間で20〜100℃好ましくは30〜80℃の間の
温度で行なわれる。
反応が所定の転化率まで進行したときに、当該技術分野
で一般に知られている方法で不活性化することによつて
反応が終結される。または重合反応が所望の転化率まで
進行した後に結合剤によつてリビングポリマがカツプリ
ングされる。結合剤は二官能性または多官能性のいずれ
でもよい。従来技術で知られている任意の結合剤を用い
ることができる。二官能性結合剤としてのジブロモエタ
ン、および多官能性結合剤としてのジエチルアジペー
ト、CHSiCl3およびSiCl4が好ましいものである。結合剤
の好ましい添加量はその官能度によつて変わる。一般に
ジブロモエタンの量は添加される開始剤1モル当りにつ
いて0.25〜0.75モルの範囲であり、四官能性結
合剤の量は添加される開始剤の1モル当りについて0.
1〜0.5モルの範囲である。
で一般に知られている方法で不活性化することによつて
反応が終結される。または重合反応が所望の転化率まで
進行した後に結合剤によつてリビングポリマがカツプリ
ングされる。結合剤は二官能性または多官能性のいずれ
でもよい。従来技術で知られている任意の結合剤を用い
ることができる。二官能性結合剤としてのジブロモエタ
ン、および多官能性結合剤としてのジエチルアジペー
ト、CHSiCl3およびSiCl4が好ましいものである。結合剤
の好ましい添加量はその官能度によつて変わる。一般に
ジブロモエタンの量は添加される開始剤1モル当りにつ
いて0.25〜0.75モルの範囲であり、四官能性結
合剤の量は添加される開始剤の1モル当りについて0.
1〜0.5モルの範囲である。
重合反応または重合反応とカツプリングとの組合せは当
該技術で公知の方法によつて連続的にバツチ式にまたは
半バツチ式に行なわれる。
該技術で公知の方法によつて連続的にバツチ式にまたは
半バツチ式に行なわれる。
本発明による改質剤は(1)共役ジエン特にブタジエンま
たはイソプレンのホモポリマ、(2)共役ジエン特にブタ
ジエンおよびイソプレンのコポリマ、(3)共役ジエンお
よびモノアルケニル芳香族炭化水素のブロツクコポリマ
特にブタジエンとスチレンまたはイソプレンとスチレン
を含むブロツクコポリマ、(4)前記(3)に記載したものと
同種のモノマのテーパー化ブロツクコポリマ、および
(5)前記(3)に記載したものと同種のモノマのランダムコ
ポリマの生成を含む共役ジエンおよび随意なモノアルケ
ニル芳香族炭化水素のポリマの製造のための方法に適用
される。これらの方法は従来技術で一般に知られてい
る。好ましくは、改質剤は前記ホモポリマ、ブロツクコ
ポリマおよびランダムコポリマの製造方法に適用され
る。
たはイソプレンのホモポリマ、(2)共役ジエン特にブタ
ジエンおよびイソプレンのコポリマ、(3)共役ジエンお
よびモノアルケニル芳香族炭化水素のブロツクコポリマ
特にブタジエンとスチレンまたはイソプレンとスチレン
を含むブロツクコポリマ、(4)前記(3)に記載したものと
同種のモノマのテーパー化ブロツクコポリマ、および
(5)前記(3)に記載したものと同種のモノマのランダムコ
ポリマの生成を含む共役ジエンおよび随意なモノアルケ
ニル芳香族炭化水素のポリマの製造のための方法に適用
される。これらの方法は従来技術で一般に知られてい
る。好ましくは、改質剤は前記ホモポリマ、ブロツクコ
ポリマおよびランダムコポリマの製造方法に適用され
る。
共役ジエンのホモポリマを製造する場合には、それらの
平均分子量はゲル透過クロマトグラフによつて測定して
1000〜1,000,000の範囲となる。
平均分子量はゲル透過クロマトグラフによつて測定して
1000〜1,000,000の範囲となる。
生成されるブロツクコポリマとしてはポリスチレン−ポ
リイソプレン、ポリスチレン−ポリブタジエン、ポリス
チレン−ポリイソプレン ポリスチレン−ポリブタジエン 、ポリスチレン−(ポリイソプレン−ポリスチレ
ン)m、ポリスチレン−(ポリブタジエン−ポリスチレ
ン)m(但し、mは1〜5の範囲好ましくは1であり、
nは2〜15の範囲好ましくは2または3である)が挙
げられる。これらの直鎖ブロツクコポリマは逐次重合法
により、またはn=1の場合は逐次重合法とカツプリン
グ法との組合せによつて生成される。枝分れブロツクコ
ポリマは逐次重合法とカツプリング法との組合せによ
り、または開始剤が少なくとも三つのリチウム原子を含
む場合には逐次重合法のみによつて生成される。これら
のブロツクコポリマ中でポリスチレンのブロツクが最初
に生成される場合には、ルイス塩基はすでにこの段階で
存在させるかまたは共役ジエンモノマを加える際に反応
器に加えられる。一般にこれらのブロツクコポリマ中の
ポリスチレンブロツクの数平均分子量はゲル透過クロマ
トグラフで測定して1000〜100,000であり、かつこ
れらのブロツクコポリマのスチレン含有分は赤外線分光
分析によつて測定した場合ブロツクコポリマの重量を基
準として10〜55重量%である。
リイソプレン、ポリスチレン−ポリブタジエン、ポリス
チレン−ポリイソプレン ポリスチレン−ポリブタジエン 、ポリスチレン−(ポリイソプレン−ポリスチレ
ン)m、ポリスチレン−(ポリブタジエン−ポリスチレ
ン)m(但し、mは1〜5の範囲好ましくは1であり、
nは2〜15の範囲好ましくは2または3である)が挙
げられる。これらの直鎖ブロツクコポリマは逐次重合法
により、またはn=1の場合は逐次重合法とカツプリン
グ法との組合せによつて生成される。枝分れブロツクコ
ポリマは逐次重合法とカツプリング法との組合せによ
り、または開始剤が少なくとも三つのリチウム原子を含
む場合には逐次重合法のみによつて生成される。これら
のブロツクコポリマ中でポリスチレンのブロツクが最初
に生成される場合には、ルイス塩基はすでにこの段階で
存在させるかまたは共役ジエンモノマを加える際に反応
器に加えられる。一般にこれらのブロツクコポリマ中の
ポリスチレンブロツクの数平均分子量はゲル透過クロマ
トグラフで測定して1000〜100,000であり、かつこ
れらのブロツクコポリマのスチレン含有分は赤外線分光
分析によつて測定した場合ブロツクコポリマの重量を基
準として10〜55重量%である。
ランダムコポリマは一般にバツチ式、半バツチ式または
連続的に加えられるブタジエンおよびスチレンの双方の
存在下で重合を行なうことによつて生成される。好まし
くはブタジエンおよびスチレンの双方の一部を炭化水素
希釈剤およびルイス塩基をすでに含む反応器に加え、開
始剤を添加した後にこれらブタジエンおよびスチレンの
残部を所望のポリマにしたがつて夫々一定のまたは可変
の割合で反応器に供給する(必要によつてはさらに炭化
水素希釈剤、ルイス塩基および開始剤と共に)。本発明
により生成されるランダムコポリマの重量平均分子量は
ゲル透過クロマトグラフによつて測定して1,000〜
1,000,000の範囲にあり、スチレン含有分は赤外線分光
分析によつて測定した場合ランダムコポリマの全重量を
基準として一般に1〜55重量%である。多くの公知の
ルイス塩基と同様に、本発明によるものはスチレンおよ
びブタジエンのこれらモノマの共重合における反応速度
定数の差を減少させる。したがつて、ルイス塩基を存在
させない同様な共重合の場合に比較して、より多量のス
チレンを反応の開始直後からランダムコポリマ中に含ま
せることができる。
連続的に加えられるブタジエンおよびスチレンの双方の
存在下で重合を行なうことによつて生成される。好まし
くはブタジエンおよびスチレンの双方の一部を炭化水素
希釈剤およびルイス塩基をすでに含む反応器に加え、開
始剤を添加した後にこれらブタジエンおよびスチレンの
残部を所望のポリマにしたがつて夫々一定のまたは可変
の割合で反応器に供給する(必要によつてはさらに炭化
水素希釈剤、ルイス塩基および開始剤と共に)。本発明
により生成されるランダムコポリマの重量平均分子量は
ゲル透過クロマトグラフによつて測定して1,000〜
1,000,000の範囲にあり、スチレン含有分は赤外線分光
分析によつて測定した場合ランダムコポリマの全重量を
基準として一般に1〜55重量%である。多くの公知の
ルイス塩基と同様に、本発明によるものはスチレンおよ
びブタジエンのこれらモノマの共重合における反応速度
定数の差を減少させる。したがつて、ルイス塩基を存在
させない同様な共重合の場合に比較して、より多量のス
チレンを反応の開始直後からランダムコポリマ中に含ま
せることができる。
本発明によりコポリマ中に生成されるビニル含有分は赤
外線分光分析によつて測定した場合一般に25〜75重
量%の範囲にある。
外線分光分析によつて測定した場合一般に25〜75重
量%の範囲にある。
本発明の方法によつて製造されるポリマは当該技術分野
で一般に知られているエラストマ組成物中に有利に用い
られる。たとえばこれらのポリマはタイヤ用途に特に適
している。
で一般に知られているエラストマ組成物中に有利に用い
られる。たとえばこれらのポリマはタイヤ用途に特に適
している。
(実施例) 本発明を以下の実施例によつて説明する。
実施例1 N2パージした500mの血清びん中で12gのスチ
レンおよび40gのブタジエンを50℃で2.5時間、
250mのシクロヘキサン中において0.4ミリモル
のs−ブチルリチウムおよびモノマおよび溶媒を基準と
して計算した450ppmのルイス塩基の存在下に重合さ
せた。次いでこのコポリマをジエチルアジペート(DEA
P)によつて30分間50℃でカツプリングした。s−
ブチルリチウムのDEAPに対するモル比は4であつた。こ
のポリマのカツプリング前後におけるピーク分子量およ
びカツプリング率を求めるためにカツプリングの前後で
ゲル透過クロマトグラフによつてポリマを分析した。コ
ポリマ中のビニル含有分およびスチレンの含有量を赤外
線分光分析によつて測定した。これらの結果ならびにそ
の他のデータを表1の実験1〜6に示す。
レンおよび40gのブタジエンを50℃で2.5時間、
250mのシクロヘキサン中において0.4ミリモル
のs−ブチルリチウムおよびモノマおよび溶媒を基準と
して計算した450ppmのルイス塩基の存在下に重合さ
せた。次いでこのコポリマをジエチルアジペート(DEA
P)によつて30分間50℃でカツプリングした。s−
ブチルリチウムのDEAPに対するモル比は4であつた。こ
のポリマのカツプリング前後におけるピーク分子量およ
びカツプリング率を求めるためにカツプリングの前後で
ゲル透過クロマトグラフによつてポリマを分析した。コ
ポリマ中のビニル含有分およびスチレンの含有量を赤外
線分光分析によつて測定した。これらの結果ならびにそ
の他のデータを表1の実験1〜6に示す。
実施例2 N2パージした500mの血清びん中で7gのスチレ
ンを250mのシクロヘキサン中において0.45ミ
リモルのs−ブチルリチウムおよび600ppm(第2段
階で加えるブタジエンを含めた溶媒およびモノマを基準
として計算)のルイス塩基の存在下に40℃で20分間
重合させた。次いで40gのブタジエンを加え重合を1
時間40℃で続けた。次にブロツクコポリマをメチルト
リクロルシランによつて1.5時間40℃でカツプリン
グした。s−ブチルリチウムのメチルトリクロルシラン
に対するモル比は2.9であつた。このポリマを実施例
1と同様の分析法に付した。結果およびその他のデータ
を表1の実験7および8に示す。
ンを250mのシクロヘキサン中において0.45ミ
リモルのs−ブチルリチウムおよび600ppm(第2段
階で加えるブタジエンを含めた溶媒およびモノマを基準
として計算)のルイス塩基の存在下に40℃で20分間
重合させた。次いで40gのブタジエンを加え重合を1
時間40℃で続けた。次にブロツクコポリマをメチルト
リクロルシランによつて1.5時間40℃でカツプリン
グした。s−ブチルリチウムのメチルトリクロルシラン
に対するモル比は2.9であつた。このポリマを実施例
1と同様の分析法に付した。結果およびその他のデータ
を表1の実験7および8に示す。
実施例3 N2パージした500mの血清ビン中で40gのブタ
ジエンを250mのシクロヘキサン中において0.3
ミリモルのs−ブチルリチウムおよび450ppm(モノ
マおよび溶媒を基準として計算)のルイス塩基の存在下
に50℃で2.5時間重合させた。次いでリビリングポ
リブタジエンをジエチルアジペート(s−ブチルリチウ
ム/ジエチルアジペートのモル比=4:1)で1.5時
間50℃でカツプリングした。このポリマを実施例1と
同様の分析法に付した。別のデータおよび結果を表1の
実験9および10に示す。
ジエンを250mのシクロヘキサン中において0.3
ミリモルのs−ブチルリチウムおよび450ppm(モノ
マおよび溶媒を基準として計算)のルイス塩基の存在下
に50℃で2.5時間重合させた。次いでリビリングポ
リブタジエンをジエチルアジペート(s−ブチルリチウ
ム/ジエチルアジペートのモル比=4:1)で1.5時
間50℃でカツプリングした。このポリマを実施例1と
同様の分析法に付した。別のデータおよび結果を表1の
実験9および10に示す。
実験例4 N2パージした500mの血清びん中でスチレンおよ
びブタジエンを250mのシクロヘキサン中において
開始剤としてのs−ブチルリチウムおよび種々の量のル
イス塩基を用いて共重合させた。改質剤の共重合に対す
るランダム化効果を見るために重合を短時間で行なつ
た。反応をメタノールによつて終結させた。ポリマ中の
ビニル含有分およびスチレンの含有量を求めるためにこ
のようにして得られたポリマを赤外線分光分析に付し
た。更なるデータおよび結果を表2に示す。
びブタジエンを250mのシクロヘキサン中において
開始剤としてのs−ブチルリチウムおよび種々の量のル
イス塩基を用いて共重合させた。改質剤の共重合に対す
るランダム化効果を見るために重合を短時間で行なつ
た。反応をメタノールによつて終結させた。ポリマ中の
ビニル含有分およびスチレンの含有量を求めるためにこ
のようにして得られたポリマを赤外線分光分析に付し
た。更なるデータおよび結果を表2に示す。
Claims (11)
- 【請求項1】共役ジエンおよび随意なモノアルケニル芳
香族炭化水素モノマを炭化水素希釈剤、ヒドロカルビル
アルカリ金属化合物およびルイス塩基の存在下に重合さ
せることによる共役ジエンおよび随意なモノアルケニル
芳香族炭化水素のポリマの製造方法において、前記ルイ
ス塩基が式: (式中: R1は2〜18の炭素原子を有するアルキル基であり、
R2およびR3は水素原子または1〜4の炭素原子を有す
るアルキル基であり、R4は水素原子または1〜6の炭
素原子を有するアルキル基であり、そしてR5は1〜1
8の炭素原子を有するアルキル基である。)を有する化
合物であることを特徴とする前記共役ジエンおよび随意
なモノアルケニル芳香族炭化水素のポリマの製造方法。 - 【請求項2】R1が3〜6の炭素原子を有するアルキル
基であり、R2およびR3が水素であり、そしてR4およ
びR5が1〜4の炭素原子を有するアルキル基である、
特許請求の範囲第1項記載の方法。 - 【請求項3】R1がn−ブチルであり、R4がメチルであ
りそしてR5がイソブチルである、特許請求の範囲第2
項記載の方法。 - 【請求項4】前記方法が共役ジエンのホモポリマを製造
することからなる、特許請求の範囲第1項ないし第3項
の中のいずれか一項に記載された方法。 - 【請求項5】前記方法が共役ジエンとモノアルケニル芳
香族炭化水素とのブロツクコポリマを製造することから
なる、特許請求の範囲第1項ないし第3項の中のいずれ
か一項に記載された方法。 - 【請求項6】前記方法が共役ジエンとモノアルケニル芳
香族炭化水素とのランダムコポリマを製造することから
なる、特許請求の範囲第1項ないし第3項の中のいずれ
か一項に記載された方法。 - 【請求項7】ヒドロカルビルアルカリ金属化合物がヒド
ロカルビルリチウム化合物である、特許請求の範囲第1
項ないし第6項の中のいずれか一項に記載された方法。 - 【請求項8】共役ジエンがイソプレンまたは1,3−ブ
タジエンである、特許請求の範囲第1項ないし第7項の
中のいずれか一項に記載された方法。 - 【請求項9】モノアルケニル芳香族炭化水素がスチレン
である、特許請求の範囲第1項ないし第3項および第5
項ないし第8項の中のいずれか一項に記載された方法。 - 【請求項10】重合に引き続いてリビングポリマをカツ
プリングさせる、特許請求の範囲第1項ないし第9項の
中のいずれか一項に記載された方法。 - 【請求項11】リビングポリマをジブロモエタン、ジエ
チルアジペート、CH3SiCl3またはSiCl4によ
つてカツプリングさせる、特許請求の範囲第10項記載
の方法。
Applications Claiming Priority (2)
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|---|---|---|---|
| GB8407629 | 1984-03-23 | ||
| GB848407629A GB8407629D0 (en) | 1984-03-23 | 1984-03-23 | Preparation of polymers |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60217225A JPS60217225A (ja) | 1985-10-30 |
| JPH0639484B2 true JPH0639484B2 (ja) | 1994-05-25 |
Family
ID=10558600
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60055739A Expired - Lifetime JPH0639484B2 (ja) | 1984-03-23 | 1985-03-22 | 共役ジエンおよび随意なモノアルケニル芳香族炭化水素のポリマの製造方法 |
Country Status (14)
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|---|---|
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| EP (1) | EP0162483B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0639484B2 (ja) |
| KR (1) | KR930003104B1 (ja) |
| AU (1) | AU564906B2 (ja) |
| BR (1) | BR8501263A (ja) |
| CA (1) | CA1249696A (ja) |
| DE (1) | DE3563973D1 (ja) |
| ES (1) | ES8606430A1 (ja) |
| GB (1) | GB8407629D0 (ja) |
| IN (1) | IN163184B (ja) |
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| TR (1) | TR22128A (ja) |
| ZA (1) | ZA852114B (ja) |
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-
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- 1985-02-21 EP EP85200236A patent/EP0162483B1/en not_active Expired
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- 1985-03-22 JP JP60055739A patent/JPH0639484B2/ja not_active Expired - Lifetime
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