JPH0635505B2 - 組成物 - Google Patents
組成物Info
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- JPH0635505B2 JPH0635505B2 JP59106342A JP10634284A JPH0635505B2 JP H0635505 B2 JPH0635505 B2 JP H0635505B2 JP 59106342 A JP59106342 A JP 59106342A JP 10634284 A JP10634284 A JP 10634284A JP H0635505 B2 JPH0635505 B2 JP H0635505B2
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- bisphenol
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G63/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain of the macromolecule
- C08G63/64—Polyesters containing both carboxylic ester groups and carbonate groups
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
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- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 発明の背景 芳香族コポリエステルカーボネートは、カーボネートプ
リカーサー、２価フエノールおよび芳香族ジカルボン酸
または酸誘導体から誘導された共重合体として良く知ら
れている。これらの重合体を特長付ける性質の中に、芳
香族ポリカーボネートよりも負荷の下での高い変形温度
（DTUL）がある。最も簡単な芳香族ジカルボン酸または
酸誘導体を使用するとき、より高いDTULはメタ芳香族ジ
カルボン酸、イソフタル酸とは反対にパラ芳香族ジカル
ボン酸、テレフタル酸を多く使用したとき達成されるこ
とが一般に見出されている。約１６３℃のDTULが所望さ
れるとき、約７２重量％のエステルを有し、そのエステ
ルの８５％がテレフタレートであり、１５％がイソフタ
レートであり、ビスフエノールＡから誘導された芳香族
コポリエステルカーボネートを用いて達成できる。この
特別の重合体はノツチ付きアイゾツト装置で適度な衝撃
値を有する。厚さ3.2mmおよび6.4mmの両者の試験片は、
脆性破損の形で、約32.6kg f cm/cmノツチで破損する。
このコポリエステルカーボネートは実質的な数のビスフ
エノールＡポリカーボネートの性質を高度に保持する。
しかしながらこの特別の芳香族コポリエステルカーボネ
ート組成物は多くの環境の下で成形品の不利な応力亀裂
を示す。この応力亀裂は中でもオートクレープ処理、温
度サイクル、通常の処理条件下の成形によつて生じう
る。これらの試験条件下で、ビスフエノールＡポリカー
ボネートは応力亀裂に対するすぐれた抵抗性を示す。
リカーサー、２価フエノールおよび芳香族ジカルボン酸
または酸誘導体から誘導された共重合体として良く知ら
れている。これらの重合体を特長付ける性質の中に、芳
香族ポリカーボネートよりも負荷の下での高い変形温度
（DTUL）がある。最も簡単な芳香族ジカルボン酸または
酸誘導体を使用するとき、より高いDTULはメタ芳香族ジ
カルボン酸、イソフタル酸とは反対にパラ芳香族ジカル
ボン酸、テレフタル酸を多く使用したとき達成されるこ
とが一般に見出されている。約１６３℃のDTULが所望さ
れるとき、約７２重量％のエステルを有し、そのエステ
ルの８５％がテレフタレートであり、１５％がイソフタ
レートであり、ビスフエノールＡから誘導された芳香族
コポリエステルカーボネートを用いて達成できる。この
特別の重合体はノツチ付きアイゾツト装置で適度な衝撃
値を有する。厚さ3.2mmおよび6.4mmの両者の試験片は、
脆性破損の形で、約32.6kg f cm/cmノツチで破損する。
このコポリエステルカーボネートは実質的な数のビスフ
エノールＡポリカーボネートの性質を高度に保持する。
しかしながらこの特別の芳香族コポリエステルカーボネ
ート組成物は多くの環境の下で成形品の不利な応力亀裂
を示す。この応力亀裂は中でもオートクレープ処理、温
度サイクル、通常の処理条件下の成形によつて生じう
る。これらの試験条件下で、ビスフエノールＡポリカー
ボネートは応力亀裂に対するすぐれた抵抗性を示す。
従つて高テレフタル酸含有コポリエステルカーボネート
のできる限り多くの正の性質例えば高DTULを保ち、一方
で応力亀裂性を実質的に改良した芳香族コポリエステル
カーボネートを作ることが望まれている。
のできる限り多くの正の性質例えば高DTULを保ち、一方
で応力亀裂性を実質的に改良した芳香族コポリエステル
カーボネートを作ることが望まれている。
始めに応力亀裂問題を実質的に減じたコポリエステルカ
ーボネートは、約１００％のイソフタレート単位から誘
導された８０重量％エステルのポリエステルカーボネー
トであつた。しかしながらこのコポリエステルカーボネ
ートの厚さ3.2mmでの耐衝撃性は製造毎に一貫して保つ
ことができず、幾分分子量に依存していることが判つ
た。更に単一バツチで９〜１１kgのコポリエステルカー
ボネートを作るため反応の規模を大にして行く間に別の
問題が発生した。反応はクインの米国特許第４２３８５
９６号の記載に従い、芳香族ポリカーボネートの製造に
使用される方法に類似した典型的な界面重合でメチレン
クロライド中で実施されるが、生成物のコポリエステル
カーボネートはメチレンクロライド中に再可溶化するこ
とが困難である。この挙動を説明するための説明は知ら
れていない。従つて所望される性質、即ち高DTULおよび
最小の応力亀裂性を保持し、少なくとも3.2mmの断面
で、一貫して高いノツチ付きアイゾツト耐衝撃性を与え
る別のコポリエステルカーボネートが所望されていた。
ーボネートは、約１００％のイソフタレート単位から誘
導された８０重量％エステルのポリエステルカーボネー
トであつた。しかしながらこのコポリエステルカーボネ
ートの厚さ3.2mmでの耐衝撃性は製造毎に一貫して保つ
ことができず、幾分分子量に依存していることが判つ
た。更に単一バツチで９〜１１kgのコポリエステルカー
ボネートを作るため反応の規模を大にして行く間に別の
問題が発生した。反応はクインの米国特許第４２３８５
９６号の記載に従い、芳香族ポリカーボネートの製造に
使用される方法に類似した典型的な界面重合でメチレン
クロライド中で実施されるが、生成物のコポリエステル
カーボネートはメチレンクロライド中に再可溶化するこ
とが困難である。この挙動を説明するための説明は知ら
れていない。従つて所望される性質、即ち高DTULおよび
最小の応力亀裂性を保持し、少なくとも3.2mmの断面
で、一貫して高いノツチ付きアイゾツト耐衝撃性を与え
る別のコポリエステルカーボネートが所望されていた。
本発明の要約 本発明によれば２価フエノール、カーボネートプリカー
サー、テレフタル酸または酸誘導体およびイソフタル酸
または酸誘導体から誘導されたコポリエステルカーボネ
ートを含有する組成物にあり、上記コポリエステルカー
ボネートは、(1)約７０〜約９５重量％のエステル含有
率、および(2)上記コポリエステルカーボネートに対す
る一貫した高い3.2mmのノツチ付きアイゾツト耐衝撃性
を維持し、一方同時に高度の耐応力亀裂性を達成するテ
レフタレート基の範囲を有する。
サー、テレフタル酸または酸誘導体およびイソフタル酸
または酸誘導体から誘導されたコポリエステルカーボネ
ートを含有する組成物にあり、上記コポリエステルカー
ボネートは、(1)約７０〜約９５重量％のエステル含有
率、および(2)上記コポリエステルカーボネートに対す
る一貫した高い3.2mmのノツチ付きアイゾツト耐衝撃性
を維持し、一方同時に高度の耐応力亀裂性を達成するテ
レフタレート基の範囲を有する。
発明の詳細な開示 本発明において有用なコポリエステルカーボネートを作
るため使用できる２価フエノールには、一般にコポリエ
ステルカーボネートおよび芳香族ポリカーボネートを製
造するのに有用であることが見出されている２価フエノ
ールを含む。使用し得る代表的な２価フエノールには、 ２，２−ビス（４−ヒドロキシフエニル）プロパン（ビ
スフエノールＡ）； ２，４′−ジヒドロキシジフエニルメタン； ビス（２−ヒドロキシフエニル）メタン； ビス（４−ヒドロキシフエニル）メタン； ビス（４−ヒドロキシ−５−プロピルフエニル）メタ
ン； ビス（４−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−３−メトキ
シフエニル）メタン； １，１−ビス（４−ヒドロキシフエニル））エタン； １，１−ビス（４−ヒドロキシ−２−エチルフエニル）
エタン； ２，２−ビス（３−フエニル−４−ヒドロキシフエニ
ル）プロパン； ビス（４−ヒドロキシフエニル）シクロヘキシルメタ
ン；および ２，２−ビス（４−ヒドロキシフエニル）−１−フエニ
ルプロパン がある。
るため使用できる２価フエノールには、一般にコポリエ
ステルカーボネートおよび芳香族ポリカーボネートを製
造するのに有用であることが見出されている２価フエノ
ールを含む。使用し得る代表的な２価フエノールには、 ２，２−ビス（４−ヒドロキシフエニル）プロパン（ビ
スフエノールＡ）； ２，４′−ジヒドロキシジフエニルメタン； ビス（２−ヒドロキシフエニル）メタン； ビス（４−ヒドロキシフエニル）メタン； ビス（４−ヒドロキシ−５−プロピルフエニル）メタ
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シフエニル）メタン； １，１−ビス（４−ヒドロキシフエニル））エタン； １，１−ビス（４−ヒドロキシ−２−エチルフエニル）
エタン； ２，２−ビス（３−フエニル−４−ヒドロキシフエニ
ル）プロパン； ビス（４−ヒドロキシフエニル）シクロヘキシルメタ
ン；および ２，２−ビス（４−ヒドロキシフエニル）−１−フエニ
ルプロパン がある。
２個のフエノール間に炭素原子を有するもの以外のビス
フエノールも使用できる。かかる群のビスフエノールの
例にはビス（ヒドロキシフエニル）サルフアイド、ビス
（ヒドロキシフエニル）エーテルおよびビス（ヒドロキ
シフエニル）スルホキサイド等を含む。
フエノールも使用できる。かかる群のビスフエノールの
例にはビス（ヒドロキシフエニル）サルフアイド、ビス
（ヒドロキシフエニル）エーテルおよびビス（ヒドロキ
シフエニル）スルホキサイド等を含む。
好ましい群の２価フエノールは （式中Ｒ１およびＲ２は同じかまたは異なり、水素また
は炭素原子１〜６価のアルキル基である）で示される。
最も好ましい２価フエノールはビスフエノールＡであ
る。
は炭素原子１〜６価のアルキル基である）で示される。
最も好ましい２価フエノールはビスフエノールＡであ
る。
本発明のコポリエステルカーボネートの製造に使用する
芳香族ジカルボン酸はテレフタル酸およびイソフタル酸
およびそれらの反応性誘導体である。２価フエノールの
ヒドロキシル基と反応性であるカルボン酸の任意の誘導
体を使用できる。酸ハライドがそれらの反応性および入
手性の容易なため一般に使用される。酸クロライドが好
ましい。
芳香族ジカルボン酸はテレフタル酸およびイソフタル酸
およびそれらの反応性誘導体である。２価フエノールの
ヒドロキシル基と反応性であるカルボン酸の任意の誘導
体を使用できる。酸ハライドがそれらの反応性および入
手性の容易なため一般に使用される。酸クロライドが好
ましい。
ホスゲンプリカーサーが芳香族カーボネートまたはコポ
リエステルカーボネートを製造するため使用される標準
プリカーサーである。一般に任意のカルボニルハライド
が使用できる。ホスゲンが好ましい。
リエステルカーボネートを製造するため使用される標準
プリカーサーである。一般に任意のカルボニルハライド
が使用できる。ホスゲンが好ましい。
コポリエステルカーボネートは任意の一般法、例えばゴ
ールドベルグの米国特許第３１６９１２１号の方法で作
ることができる。しかしながら好ましい製造方法はクイ
ンの米国特許第4238596号に記載されている方法であ
り、この明細書はここに引用して組入れる。
ールドベルグの米国特許第３１６９１２１号の方法で作
ることができる。しかしながら好ましい製造方法はクイ
ンの米国特許第4238596号に記載されている方法であ
り、この明細書はここに引用して組入れる。
コポリエステルカーボネート中の重量％でのエステル含
有率は約７０〜約９５、好ましくは約７０〜９０であ
る。約９５重量％より多いエステル含有率ではコポリエ
ステルカーボネートが一般に処理するのに困難になる。
エステル含有率が約７０重量％未満ではコポリエステル
カーボネートのDTULが一般に所望より小さくなる。エス
テル含有率重量％は下記の方法で計算する、この場合２
価フエノールはビスフエノールＡである。
有率は約７０〜約９５、好ましくは約７０〜９０であ
る。約９５重量％より多いエステル含有率ではコポリエ
ステルカーボネートが一般に処理するのに困難になる。
エステル含有率が約７０重量％未満ではコポリエステル
カーボネートのDTULが一般に所望より小さくなる。エス
テル含有率重量％は下記の方法で計算する、この場合２
価フエノールはビスフエノールＡである。
３５８は、 の分子量である。
２５４は の分子量である。
コポリエステルカーボネート中に存在するテレフタル酸
単位の量が、一貫した高いノツチ付きアイゾツト3.2mm
耐衝撃性を達成すると同時に高度の耐応力亀裂性を有す
るのに重要である。
単位の量が、一貫した高いノツチ付きアイゾツト3.2mm
耐衝撃性を達成すると同時に高度の耐応力亀裂性を有す
るのに重要である。
エステル含有率の約２％未満がテレフタレートであると
（テレフタレート２％、イソフタレート９８％）、一般
にコポリエステルカーボネートは製造毎に厚さ3.2mmで
一貫した高ノツチ付きアイゾツト耐衝撃性を提供しな
い。更に生成物コポリエステルカーボネートに、生成物
を可溶化するため使用される通常の有機溶媒例えばメチ
レンクロライド中で結晶化度を示す傾向がある。結晶化
を生ずるとき、コポリエステルカーボネートは、材料を
一度可溶化する能力を有した有機溶媒中に完全には可溶
性でない。約５％より多いテレフタレートを使用するの
が好ましい。
（テレフタレート２％、イソフタレート９８％）、一般
にコポリエステルカーボネートは製造毎に厚さ3.2mmで
一貫した高ノツチ付きアイゾツト耐衝撃性を提供しな
い。更に生成物コポリエステルカーボネートに、生成物
を可溶化するため使用される通常の有機溶媒例えばメチ
レンクロライド中で結晶化度を示す傾向がある。結晶化
を生ずるとき、コポリエステルカーボネートは、材料を
一度可溶化する能力を有した有機溶媒中に完全には可溶
性でない。約５％より多いテレフタレートを使用するの
が好ましい。
約１５重量％より多いテレフタル酸では、コポリエステ
ルカーボネートの耐応力亀裂性が低下するようになる。
好ましい最大値は約１０％より少ないテレフタレートで
ある。
ルカーボネートの耐応力亀裂性が低下するようになる。
好ましい最大値は約１０％より少ないテレフタレートで
ある。
下記実施例は高テレフタレート含有コポリエステル（対
照例１）、イソフタレート、含有、テレフタレート不含
コポリエステルカーボネート（対照例２）、および本発
明範囲内の一連の例を示すためのものである。これらの
実施例は例示のためにのみ示し、本発明の範囲を狭くす
るものではない。全ての成形品にはホスフアイトおよび
エポキサイドの安定化有効量を含有させた。
照例１）、イソフタレート、含有、テレフタレート不含
コポリエステルカーボネート（対照例２）、および本発
明範囲内の一連の例を示すためのものである。これらの
実施例は例示のためにのみ示し、本発明の範囲を狭くす
るものではない。全ての成形品にはホスフアイトおよび
エポキサイドの安定化有効量を含有させた。
対照例１ ７２％のエステル含有率−８５％テレフタレ
ートを有するコポリエステルカーボネート 機械的攪拌機を備えた反応器に、１０の脱イオン水、
１６のメチレンクロライド、１９１０ｇ（8.35モル）
のビスフエノールＡ、２４mlのトリエチルアミン、3.4
ｇのグルコン酸ナトリウムおよび６５ｇ（0.43モル）の
ｐ−ｔ−ブチルフエノールを仕込んだ。この反応混合物
を攪拌し、攪拌した反応混合物に、メチレンクロライド
中の２５重量％固体分溶液として、９２６ｇのテレフタ
ロイルジクロライドおよび１６３ｇのイソフタロイルジ
クロライドの混合物を７〜１０分間で加えた。酸クロラ
イド添加中pHは水酸化ナトリウム２５％水溶液を加えて
8.5〜10.5の範囲に保つた。形成された混合物を、水酸
化ナトリウム水溶液を加えて、pHを9.5〜１２で保ちつ
つ、１５分間３６ｇ／分の速度でホスゲンを導入してホ
スゲン化した。ホスゲン化終了後６のメチレンクロラ
イドを加え、ブライン層を遠心分離で分離し、樹脂溶液
を酸水溶液および２回の水で洗浄した。樹脂を水蒸気沈
澱させ、約１１５℃で窒素流動床乾燥機で乾燥した。こ
の樹脂生成物を約３１５℃の温度で操作する押出機に供
給し、樹脂を押し出してストランドにし、ストランドを
ペレツトに切断した。次いでペレツトを約３４０℃で射
出成形して約63.5×12.7×3.2mmの寸法の試験試料にし
た。これらの試料の負荷下の加熱撓み温度（DTUL）、１
６６℃が改変ASTM Ｄ−６４８試験法で測定された。ア
イゾツト衝撃強さはASTM Ｄ−２５６試験法で測定し
た。
ートを有するコポリエステルカーボネート 機械的攪拌機を備えた反応器に、１０の脱イオン水、
１６のメチレンクロライド、１９１０ｇ（8.35モル）
のビスフエノールＡ、２４mlのトリエチルアミン、3.4
ｇのグルコン酸ナトリウムおよび６５ｇ（0.43モル）の
ｐ−ｔ−ブチルフエノールを仕込んだ。この反応混合物
を攪拌し、攪拌した反応混合物に、メチレンクロライド
中の２５重量％固体分溶液として、９２６ｇのテレフタ
ロイルジクロライドおよび１６３ｇのイソフタロイルジ
クロライドの混合物を７〜１０分間で加えた。酸クロラ
イド添加中pHは水酸化ナトリウム２５％水溶液を加えて
8.5〜10.5の範囲に保つた。形成された混合物を、水酸
化ナトリウム水溶液を加えて、pHを9.5〜１２で保ちつ
つ、１５分間３６ｇ／分の速度でホスゲンを導入してホ
スゲン化した。ホスゲン化終了後６のメチレンクロラ
イドを加え、ブライン層を遠心分離で分離し、樹脂溶液
を酸水溶液および２回の水で洗浄した。樹脂を水蒸気沈
澱させ、約１１５℃で窒素流動床乾燥機で乾燥した。こ
の樹脂生成物を約３１５℃の温度で操作する押出機に供
給し、樹脂を押し出してストランドにし、ストランドを
ペレツトに切断した。次いでペレツトを約３４０℃で射
出成形して約63.5×12.7×3.2mmの寸法の試験試料にし
た。これらの試料の負荷下の加熱撓み温度（DTUL）、１
６６℃が改変ASTM Ｄ−６４８試験法で測定された。ア
イゾツト衝撃強さはASTM Ｄ−２５６試験法で測定し
た。
またコポリエステルカーボネート樹脂について、樹脂の
加工性の指標または測度であるカシヤ（Kasha）指数（K
I）も測定した、即ちKIが小さければ小さい程溶融流動
速度は大であり、従つて加工性は良好である。基本的カ
シヤ指数は樹脂の溶融粘度の測定値である。カシヤ指数
の測定法は次のとおりである：１２５℃で最低９０分乾
燥した樹脂ペレツト７ｇを改チニアス−オルセンモデル
Ｔ３溶融指数測定装置に加え、測定装置の温度を３００
℃に保ち、樹脂をこの温度で６分間保ち、６分後樹脂を
4.737mmの半径および8.03kg fの力のプランジヤーを用
いて半径1.048mmのオリフイス中に強制的に送つた。50.
8mmを移動させるのにプランジヤー要にした時間をセン
チ秒で測定しこれをKIとして記録する。KIが大であれば
ある程、溶融粘度は大であり、樹脂がより粘稠性であ
り、加工するのにより困難である。
加工性の指標または測度であるカシヤ（Kasha）指数（K
I）も測定した、即ちKIが小さければ小さい程溶融流動
速度は大であり、従つて加工性は良好である。基本的カ
シヤ指数は樹脂の溶融粘度の測定値である。カシヤ指数
の測定法は次のとおりである：１２５℃で最低９０分乾
燥した樹脂ペレツト７ｇを改チニアス−オルセンモデル
Ｔ３溶融指数測定装置に加え、測定装置の温度を３００
℃に保ち、樹脂をこの温度で６分間保ち、６分後樹脂を
4.737mmの半径および8.03kg fの力のプランジヤーを用
いて半径1.048mmのオリフイス中に強制的に送つた。50.
8mmを移動させるのにプランジヤー要にした時間をセン
チ秒で測定しこれをKIとして記録する。KIが大であれば
ある程、溶融粘度は大であり、樹脂がより粘稠性であ
り、加工するのにより困難である。
成形品を下記の方法で耐応力性にいて試験した： １．オートクレーブ処理：成形品を飽和水蒸気中で１２
１℃で２４時間オートクレーブ処理し、少なくとも１８
時間室温に平衡化した、次いで成形品の表面に沿つた応
力亀裂を肉眼で検査した。
１℃で２４時間オートクレーブ処理し、少なくとも１８
時間室温に平衡化した、次いで成形品の表面に沿つた応
力亀裂を肉眼で検査した。
２．温度サイクル処理；成形品を−２０℃〜−４０℃に
少なくとも１時間冷却し、次いで１〜２時間１４０℃で
オーブンに入れた。各サイクル後および少なくとも１８
時間室温で平衡化した後表面に沿つた応力亀裂について
肉眼で部品を検査した。
少なくとも１時間冷却し、次いで１〜２時間１４０℃で
オーブンに入れた。各サイクル後および少なくとも１８
時間室温で平衡化した後表面に沿つた応力亀裂について
肉眼で部品を検査した。
３．結果；オートクレーブ処理試験においては、163.5m
m×9.5mm×3.2mmの寸法を有する４個の衝撃引張試験棒
を試験した。試験棒４本全部が表面および縁で著しい応
力亀裂を示した。
m×9.5mm×3.2mmの寸法を有する４個の衝撃引張試験棒
を試験した。試験棒４本全部が表面および縁で著しい応
力亀裂を示した。
種々な厚さのアイゾツト試験棒を温度サイクル処理試験
に供した。１回の「冷−熱」サイクル後6.4mmのアイゾ
ツト試験棒は表面に応力亀裂を示した、これは更にサイ
クルを繰返した後大きさが生長した。３個の3.2mmのア
イゾツト試験棒は７回のサイクル後ゲート面積の周囲に
応力亀裂を示した。亀裂は更にサイクルを繰返すと益々
悪くなつた。
に供した。１回の「冷−熱」サイクル後6.4mmのアイゾ
ツト試験棒は表面に応力亀裂を示した、これは更にサイ
クルを繰返した後大きさが生長した。３個の3.2mmのア
イゾツト試験棒は７回のサイクル後ゲート面積の周囲に
応力亀裂を示した。亀裂は更にサイクルを繰返すと益々
悪くなつた。
この特定重合体組成物は通常の加工条件で成形した部品
を製造し、使用した後自然発生応力亀裂をしばしば示し
た。応力亀裂を生じた成形品の例には厚さ3.2mmの直径1
01.6mmの盤、電気端子カバー、ゴルフテイー等を含む。
を製造し、使用した後自然発生応力亀裂をしばしば示し
た。応力亀裂を生じた成形品の例には厚さ3.2mmの直径1
01.6mmの盤、電気端子カバー、ゴルフテイー等を含む。
対照例２ ８０重量％のエステル含有率−全部イソフタ
レートを有するコポリエステルカーボネート 機械的攪拌機を備えた反応器に、１０の脱イオン水、
１６のメチレンクロライド、1.9kg（8.35モル）のビ
スフエノールＡ、２４mlのトリエチルアミン、3.4ｇの
グルコン酸ナトリウム、および37.6ｇ（0.25モル）のｐ
−ｔ−ブチルフエノールを仕込んだ。
レートを有するコポリエステルカーボネート 機械的攪拌機を備えた反応器に、１０の脱イオン水、
１６のメチレンクロライド、1.9kg（8.35モル）のビ
スフエノールＡ、２４mlのトリエチルアミン、3.4ｇの
グルコン酸ナトリウム、および37.6ｇ（0.25モル）のｐ
−ｔ−ブチルフエノールを仕込んだ。
この反応混合物を攪拌し、攪拌した反応混合物に、メチ
レンクロライド中の３０〜４５％の固体分溶液として、
工業用イソフタロイルクロライド（デユポン社で作られ
た99.7％のイソフタロイルクロライドと0.3％のテレフ
タロイルクロライドからなる）の1.27kg（6.27モル）を
７〜１０分で加えた。酸クロライド添加中pHを２５％水
酸化ナトリウム水溶液を加えて8.5〜10.5の範囲に保つ
た。形成された混合物を水酸化ナトリウム水溶液を加え
てpHを9.5〜１２に制御しつつ約１５分間３６ｇ／分の
速度でホスゲンを導入してホスゲン化した。ホスゲン化
終了後、６のメチレンクロライドを加え、ブライン層
を遠心分離により分離し、樹脂溶液を酸水溶液および２
回水で洗つた。樹脂を水蒸気沈澱させ、約１１５℃で窒
素流動床乾燥機で乾燥した。次いでこの樹脂混合物を約
３１５℃で操作する押出機に供給し、樹脂をストランド
に押し出し、ストランドをペレツトに切断した。次にペ
レツトを約３４０℃で射出成形して約63.5×12.7×3.2m
mの寸法の試料にした。配合物を前述した方法で試験し
た。加熱撓み温度（DTUL）は162.3℃であることが判つ
た。
レンクロライド中の３０〜４５％の固体分溶液として、
工業用イソフタロイルクロライド（デユポン社で作られ
た99.7％のイソフタロイルクロライドと0.3％のテレフ
タロイルクロライドからなる）の1.27kg（6.27モル）を
７〜１０分で加えた。酸クロライド添加中pHを２５％水
酸化ナトリウム水溶液を加えて8.5〜10.5の範囲に保つ
た。形成された混合物を水酸化ナトリウム水溶液を加え
てpHを9.5〜１２に制御しつつ約１５分間３６ｇ／分の
速度でホスゲンを導入してホスゲン化した。ホスゲン化
終了後、６のメチレンクロライドを加え、ブライン層
を遠心分離により分離し、樹脂溶液を酸水溶液および２
回水で洗つた。樹脂を水蒸気沈澱させ、約１１５℃で窒
素流動床乾燥機で乾燥した。次いでこの樹脂混合物を約
３１５℃で操作する押出機に供給し、樹脂をストランド
に押し出し、ストランドをペレツトに切断した。次にペ
レツトを約３４０℃で射出成形して約63.5×12.7×3.2m
mの寸法の試料にした。配合物を前述した方法で試験し
た。加熱撓み温度（DTUL）は162.3℃であることが判つ
た。
応力亀裂 対照例１で使用した応力亀裂試験を対照例２で繰返し
た。オートクレーブ処理に関しては、対照例１で使用し
た大きさの１２本の棒を対照例１と同じ方法で試験し
た。棒は表面に沿つて応力亀裂が発生しなかつた。
た。オートクレーブ処理に関しては、対照例１で使用し
た大きさの１２本の棒を対照例１と同じ方法で試験し
た。棒は表面に沿つて応力亀裂が発生しなかつた。
温度サイクル処理に関しては、２本の3.2mmアイゾツト
試験棒および２本の6.4mmアイゾツト試験棒を対照例１
と同じ試験条件にさらした。１２回のサイクル後応力亀
裂は見られなかつた。
試験棒および２本の6.4mmアイゾツト試験棒を対照例１
と同じ試験条件にさらした。１２回のサイクル後応力亀
裂は見られなかつた。
対照例１の組成物から成形したとき応力亀裂が著しかつ
た成形品も含む多くの種々異なる形の成形品を成形した
後、自然発生応力亀裂は見られなかつた。
た成形品も含む多くの種々異なる形の成形品を成形した
後、自然発生応力亀裂は見られなかつた。
衝撃強さ 3.2mmのノツチ付きアイゾツト試験法での衝撃強さは、K
Iで測定したときの分子量の関数として著しく変化し
た。更に高分子量、即ち高KIでさえも、耐衝撃性は著し
く変化した。
Iで測定したときの分子量の関数として著しく変化し
た。更に高分子量、即ち高KIでさえも、耐衝撃性は著し
く変化した。
分子量の相異に関しては、連鎖停止剤の濃度を変えて対
照例２の製造法に従つて行なつた。各分子量レベルで多
数の製造を行なつた。各製造からの５本の棒の組を3.2m
mのノツチ付きアイゾツト試験棒耐衝撃を測定した、そ
して平均値を記録した。下表に示す値は、測定した衝撃
値を与えたそれぞれのKI範囲での製造例数を示す。結果
を下表に示す。
照例２の製造法に従つて行なつた。各分子量レベルで多
数の製造を行なつた。各製造からの５本の棒の組を3.2m
mのノツチ付きアイゾツト試験棒耐衝撃を測定した、そ
して平均値を記録した。下表に示す値は、測定した衝撃
値を与えたそれぞれのKI範囲での製造例数を示す。結果
を下表に示す。
データから判るように、低分子量樹脂（低KI）は一般に
実質的に低い耐衝撃性を有する。分子量が増大するに従
い、一般に耐衝撃性も増大する。しかしながら高分子量
値、５０＋〜６０KIでさえも、製造した２０％以上（５
／２２）がなお比較的低い耐衝撃性であることを明示し
た。衝撃値は製造例毎に一致しない。
実質的に低い耐衝撃性を有する。分子量が増大するに従
い、一般に耐衝撃性も増大する。しかしながら高分子量
値、５０＋〜６０KIでさえも、製造した２０％以上（５
／２２）がなお比較的低い耐衝撃性であることを明示し
た。衝撃値は製造例毎に一致しない。
厚さ6.4mmのアイゾツト試験棒についての耐衝撃性約１
２kg f cm/cmノツチである。
２kg f cm/cmノツチである。
他の特性 更に対照例２の多くの製造例は不溶性生成物の少量の形
成をもたらした。
成をもたらした。
本発明の実施例 使用した連鎖停止剤の濃度を変え、デユポン社から得た
テレフタロイルクロライドに対応する量でイソフタロイ
ルクロライドの量を置換して対照例２の製造法に従つて
実施した。
テレフタロイルクロライドに対応する量でイソフタロイ
ルクロライドの量を置換して対照例２の製造法に従つて
実施した。
それぞれの製造例についてDTUL、3.2mmのアイゾツト耐
衝撃値、およびKIを測定した。更に成形品を、対照例１
に記載した試験法を用いて応力亀裂について肉眼で試験
した。下表IIに結果を示す。
衝撃値、およびKIを測定した。更に成形品を、対照例１
に記載した試験法を用いて応力亀裂について肉眼で試験
した。下表IIに結果を示す。
KIに対する各製造例についての個々の3.2mmのノツチ付
きアイゾツト値を下表IIIに示す。
きアイゾツト値を下表IIIに示す。
このデータから判るように、衝撃値はKI値に依存してお
らず、高KI値で、衝撃値は対照例２の製造例で得られた
値とは対照的に一貫して一致している。DTULは一貫して
高いままで、本質的に変化しなかつた。引張り強さおよ
び曲げ強さを含む他の試験した性質の全部が対照例２に
比較して実質的に変化せず、対照例２において得られた
場合と同様、6.4mmのアイゾツト試験棒衝撃値を除いて
対照例１と実質的に変らぬかそれより良好であつた。
らず、高KI値で、衝撃値は対照例２の製造例で得られた
値とは対照的に一貫して一致している。DTULは一貫して
高いままで、本質的に変化しなかつた。引張り強さおよ
び曲げ強さを含む他の試験した性質の全部が対照例２に
比較して実質的に変化せず、対照例２において得られた
場合と同様、6.4mmのアイゾツト試験棒衝撃値を除いて
対照例１と実質的に変らぬかそれより良好であつた。
応力亀裂 オートクレーブ処理については３〜１０％のテレフタレ
ートを有する１５の製造例から対照例１および２で使用
した大きさの試験棒を成形し、４８時間１２０℃でオー
トクレーブ処理した。応力亀裂は見られなかつた。オー
トクレーブ処理後試験した他の成形品は、１０％のテレ
フタレートで応力亀裂に僅かな増大を示した。
ートを有する１５の製造例から対照例１および２で使用
した大きさの試験棒を成形し、４８時間１２０℃でオー
トクレーブ処理した。応力亀裂は見られなかつた。オー
トクレーブ処理後試験した他の成形品は、１０％のテレ
フタレートで応力亀裂に僅かな増大を示した。
温度サイクル処理については、３〜１５％のテレフタレ
ートを有する１８の製造例から作つた6.4mmのアイゾツ
ト試験棒を、対照例１に記載した如き１０回の温度サイ
クルに供した。３〜５％のテレフタレートを含有する試
料においては応力亀裂は見られなかつた。７％のテレフ
タレートを含有する試料においてまれに小さい応力亀裂
が見られた。更にしばしば１０％以上のテレフタレート
を有する試料において小さい応力亀裂であるが見られ
た。
ートを有する１８の製造例から作つた6.4mmのアイゾツ
ト試験棒を、対照例１に記載した如き１０回の温度サイ
クルに供した。３〜５％のテレフタレートを含有する試
料においては応力亀裂は見られなかつた。７％のテレフ
タレートを含有する試料においてまれに小さい応力亀裂
が見られた。更にしばしば１０％以上のテレフタレート
を有する試料において小さい応力亀裂であるが見られ
た。
本実施例の何れの製造例から成形したどの成形品におい
ても自然発生応力亀裂は見られなかつた。
ても自然発生応力亀裂は見られなかつた。
他の特性 上述した各製造例におけるテレフタレートの導入は不溶
性生成物の形成を減少もしくはなくする。
性生成物の形成を減少もしくはなくする。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ウイリアム・ヒラコス アメリカ合衆国インデイアナ州47620マウ ント・ヴエルノン・ア−ル・ア−ル・ナン バ−１ (56)参考文献 特開 昭55−43159（ＪＰ，Ａ) 特開 昭55−38824（ＪＰ，Ａ) 特開 昭55−66925（ＪＰ，Ａ)
Claims (7)
- 【請求項１】２価フエノール、カーボネートプリカーサ
ー、テレフタル酸またはそのエステル形成性誘導体、お
よびイソフタル酸またはそのエステル形成性誘導体から
作られたコポリエステルカーボネートを含有し、エステ
ル含有率が７０〜９５重量％であり、コポリエステルカ
ーボネート中のテレフタレート単位対イソフタレート単
位の重量比が２：９８〜１５：８５であることを特徴と
する組成物。 - 【請求項２】エステル含有率が２〜１５％テレフタレー
トである特許請求の範囲第１項記載の組成物。 - 【請求項３】エステル含有率が５〜１０％テレフタレー
トである特許請求の範囲第２項記載の組成物。 - 【請求項４】２価フエノールがビスフエノールＡである
特許請求の範囲第１項記載の組成物。 - 【請求項５】２価フエノールがビスフエノールＡである
特許請求の範囲第２項記載の組成物。 - 【請求項６】２価フエノールがビスフエノールＡである
特許請求の範囲第３項記載の組成物。 - 【請求項７】重量％エステル含有率が７５〜９０である
特許請求の範囲第２項記載の組成物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US500846 | 1983-06-03 | ||
| US06/500,846 US4465820A (en) | 1983-06-03 | 1983-06-03 | Copolyestercarbonates |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59227928A JPS59227928A (ja) | 1984-12-21 |
| JPH0635505B2 true JPH0635505B2 (ja) | 1994-05-11 |
Family
ID=23991191
Family Applications (1)
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