JPH06309911A - エッジライトパネル及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） ［目的］ エッジライトパネルの輝度を向上し，且つそ
の生産性を高める。 ［構成］ ＰＥＴ樹脂製の長尺ロールフィルムによる転
写ベース２０に断続的に乱反射パタン５を印刷し，この
乱反射パタン５を射出面として透明基板２の射出成型を
行って乱反射パタン５を透明基板２に転写する，転写成
型によってエッジライトパネル１を製造する。これによ
り乱反射パタン５は，その各乱反射単位が３次元の乱反
射面をなすように透明基板２に埋込み配設され，乱反射
面積の拡大化，乱反射方向の拡散化が図られて入射光の
乱反射が増大促進してエッジライトパネル１の輝度が向
上する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は，液晶バックライト，照
明看板，照明サイン，照明体等の各種面光源装置に用い
られるエッジライトパネル及びその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば本発明者らの特開昭６３−６２１
０４号，特開平２−２６９３８２号，特開平４−２１８
０８９号，特開平４−２３４７８６号等に示されるよう
に，一般にこの種エッジライトパネルは，アクリル等透
明基板の一側表面，特に裏面に乱反射単位の集合体とし
ての乱反射パタンをスクリン印刷するものとされてい
る。

【０００３】このとき乱反射パタンは，その乱反射単位
をドット，ラインとするドットパタン，ラインパタンと
するのが一般であるとともに乱反射パタンは，一次光源
を臨設するエッジライトパネルの端面から面内の光源離
隔方向所定位置に向けて乱反射量を増大するように，そ
の乱反射単位の面積を無段階的に拡大するものとされ
る。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】この乱反射パタンを透
明基板にスクリン印刷したエッジライトパネルは，高輝
度にして高均一な好ましい面照明を行うものとして，各
種の面光源装置に多く用いられている。

【０００５】然しながら，面光源装置は，例えば液晶表
示面のカラー化，一次光源の省電力用低ワット化等の状
況からより高輝度とすることが要求されているところ，
従来のエッジライトパネルの完成度から，その更なる輝
度向上を行うことは必ずしも容易ではないと予想されて
おり，従って上記従来のエッジライトパネルに代る，更
に輝度向上を実現可能なエッジライトパネルが求められ
ている。

【０００６】更に従来のエッジライトパネルにあって
は，透明基板にスクリン印刷を施す必要があるから，例
えばＡ４，Ｂ５のように相当程度の面積を有する場合に
は好適であるとしても，例えばオーディオ機器のチャン
ネル表示部用の液晶バックライトのように小型の面光源
装置においては透明基板の小型化によりスクリン印刷が
煩雑で，必ずしも生産性を良好に得難いという問題点が
残されている。

【０００７】本発明はかかる事情に基づいてなされたも
のであって，その解決課題とする処は，従来のエッジラ
イトパネルに代って更に輝度向上を実現可能な新規なエ
ッジライトパネルを提供するにあり，また小型のエッジ
ライトパネルを含めて，上記輝度向上実現可能であると
ともにその生産性を良好とし得るエッジライトパネル及
びその製造方法を提供するにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】そこで本発明は，透明基
板と乱反射パタンとの関係に着目し，透明基板の一側表
面側に乱反射パタンを埋込み配設することによって，従
来のスクリン印刷による乱反射単位が２次元の乱反射面
をなしているのに対して，乱反射単位を３次元の乱反射
面をなすものとし，これによって乱反射面積の拡大化，
乱反射方向の拡散化を図り，一次光源による入射光の乱
反射を更に増大促進するようにしたものであり，また上
記透明基板に対する乱反射パタンの埋込み配設を，好ま
しくは成型転写又はインモールド成型の手段によるもの
として，エッジライトパネルの生産性を良好に確保する
ようにしたものであって，即ち本発明は，乱反射単位を
３次元の乱反射面とするように透明基板の一側表面側に
乱反射パタンを埋込み配設せしめてなることを特徴とす
るエッジライトパネル（請求項１），乱反射単位を３次
元の乱反射面とするように成型転写により透明基板の一
側表面側に乱反射パタンを埋込み配設せしめてなること
を特徴とするエッジライトパネル（請求項２），乱反射
単位を３次元の乱反射面とするようにインモールド成型
により透明基板の一側表面側に乱反射パタンを封入状に
埋込み配設してなることを特徴とするエッジライトパネ
ル（請求項３），転写ベースに３次元の乱反射単位によ
る乱反射パタンを印刷する印刷工程と，印刷乱反射パタ
ン側を射出面として金型内で透明基板を射出成型し，転
写ベースの印刷乱反射パタンを透明基板の一側表面側に
３次元的に転写埋込み配設する成型転写工程とを備えて
なることを特徴とするエッジライトパネルの製造方法
（請求項４）及びラミネートベースに３次元の乱反射単
位による乱反射パタンを印刷する印刷工程と，印刷乱反
射パタンを射出面として金型内で透明基板を射出成型
し，ラミネートベースを透明基板と一体接合するととも
にその乱反射パタンを透明基板の一側表面側に３次元的
に封入埋込み配設するインモールド成型工程とを備えて
なることを特徴とするエッジライトパネルの製造方法
（請求項５）に係り且つこれらをそれぞれ発明の要旨と
して上記課題解決の手段としたものである。

【０００９】なお本発明にあって乱反射パタンは，ドッ
ト又はラインを乱反射単位として一次光源による入射光
の乱反射を人為的に促進するように設定された所定のパ
タンを呈するものを意味し，従って，例えば人為的に所
定パタンを呈し得ないようにランダムのものは乱反射パ
タンに含まない。

【００１０】

【実施例】以下実施例を示す図面に従って本発明を更に
具体的に説明すれば，図１乃至図４においてＡは液晶バ
ックライト，１はエッジライトパネル，１０はその表面
側に積層した７５μｍ厚乳白色ポリエステルシートによ
る拡散シート，１１はその裏面側に積層した１８８μｍ
厚同じく乳白色ポリエステルシートによる反射シート，
１２はその一側端面に臨設した細幅の冷陰極管による一
次光源である。

【００１１】エッジライトパネル１は，透明基板２とこ
の透明基板２の一側表面側，本例において裏面側に，乱
反射単位６を３次元の乱反射面とするように埋込み配設
した乱反射パタン５とを備えたものとしてある。

【００１２】透明基板２は，例えば１．５ｍｍに薄肉化
したアクリル透明樹脂製にして，例えば１１．８ｍｍ×
７．５ｍｍの比較的小面積小型のものとしてあり，乱反
射パタン５は，一次光源１２側の入射端面３から面内方
向所定位置に向けて乱反射単位６のドット面積を，その
位置関係を変えることなく無段階的に拡大し，非光源側
の反射端面４近傍でその面積を最大とするとともに反射
端面４に向けて対称的にドット面積を無段階的に減少し
たものとしてある。

【００１３】本例のエッジライトパネル１における乱反
射パタン５の透明基板２の一側表面側への埋込み配設は
成型転写によって行ったものとしてあり，従って乱反射
パタン５は，各乱反射単位６が透明基板２の裏面と面一
となるように該透明基板２に食い込み状となるようにし
て埋込み埋設されており，またこのとき各乱反射単位６
はそれぞれ透明基板２に対してその肉厚方向に３次元の
球状乃至丘状をなすようにしてある。

【００１４】このように構成されたエッジライトパネル
１を，その製造方法から説明すると，この製造方法は，
転写ベース２０に３次元の乱反射単位６による乱反射パ
タン５を印刷する印刷工程と，印刷乱反射パタン５を射
出面として金型２１内で透明基板２を射出成型し，転写
ベース２０の印刷乱反射パタン５を透明基板２の一側表
面側に３次元的に転写埋込み配設する成型転写工程とを
備えたものとしてある。

【００１５】転写ベース２０には，例えば剥離性及び耐
熱性を有するＰＥＴ樹脂製の長尺ロールフィルムを用い
てあり，乱反射パタン５はこの転写ベース２０の長手方
向断続的に多数の同一パタンを印刷してある。この印刷
は，例えば剥離剤を極く少量添加し，白色系顔料を含有
した転写インクを用いて，例えばスクリン印刷，活版印
刷等によって，最大厚さを１０μｍｍ〜５０μｍｍ程度
となるように行うものとしてある。

【００１６】このとき乱反射パタン５の乱反射単位６
は，転写ベース２０に上記球状乃至丘状の３次元形状を
なして硬化しているので，これを射出面として透明基板
２の射出成型を行うことによって，透明基板２の一側表
面側に好ましい態様で乱反射パタン５を埋込み配設した
成型転写を行うことができる。

【００１７】成型転写工程は更に具体的には，雄雌一対
の金型２１内に乱反射パタン５を印刷した転写ベース２
０を断続送り自在に介装し，乱反射パタン５位置で位置
決めする位置決め工程と，該位置決め状態で雄雌一対の
金型２１を型締めする型締め工程と，該型締め状態で透
明基板２のアクリル樹脂を射出供給するとともにこれを
冷却する射出冷却工程と，その後に金型２１を型開きし
てエッジライトパネル１を取出す型開き取出工程とによ
って構成するものとしてある。

【００１８】本例のエッジライトパネル１にあっては，
乱反射パタン５の各乱反射単位６が３次元の乱反射面を
なし，これによって乱反射面積の拡大化，乱反射方向の
拡散化が図られ，一次光源１２による入射光の乱反射が
増大促進することによって輝度向上がなされるに至る。
また透明基板２は上記射出成型されることにより，その
裏面と面一になる各乱反射単位６はＰＥＴ樹脂製の転写
ベース２０によってそれぞれ平滑鏡面化されるので，全
体として鏡面化したエッジライトパネル１が得られるこ
とになり，エッジライトパネル１内における入射光の反
射性が良好となり，特に乱反射単位６内に至った入射光
が該乱反射単位６から外部に放出されるのを防止するこ
とにより併せて輝度向上がなされる。

【００１９】本例のエッジライトパネル１は，同一の乱
反射パタンを同一厚の透明基板にスクリン印刷したエッ
ジライトパネルに対して２０乃至３０％の輝度向上を行
い得るものとなった。

【００２０】そして本例のエッジライトパネル１の生産
は，自動化に好適なものとなるとともに歩留りが良好で
生産性の高いものとなった。

【００２１】図５はエッジライトパネル１の他の例を示
したもので，本例にあってエッジライトパネル１は，乱
反射単位６を上記と同様に３次元の乱反射面とするよう
にインモールド成型により透明基板２内に乱反射パタン
５を封入状に埋込み配設した例であり，このときその製
造方法を，アクリル製フィルムによるラミネートベース
に３次元の乱反射単位６による乱反射パタン５を印刷す
る印刷工程と，印刷乱反射パタン５を射出面として金型
内で同じくアクリル樹脂の透明基板２を射出成型し，ラ
ミネートベースを透明基板２と一体接合するとともにそ
の乱反射パタン５を透明基板２に３次元的に封入埋込み
配設するインモールド成型工程とを備えるようにするこ
とによって上記エッジライトパネル１を得るものとして
ある。

【００２２】ラミネートベースを透明基板２と同一組成
の樹脂とすることによって該ラミネートベースは乱反射
パタン５を裏面側から封入状にして，それ自体透明基板
２の一部をなすことになり，乱反射パタン５はこの封入
状の状態に裏面近傍位置で同じく透明基板２の肉厚方向
に球状乃至丘状に埋込み配設されることになる。

【００２３】なお本例のインモールド成型は上記成型転
写工程に準じて行うようにすればよいが，長尺ロールフ
ィルムのラミネートベースは金型内にカットした上で供
給されるようにし，必要に応じてこれを金型内で真空吸
収乃至真空成型した後に同様にアクリル樹脂の射出供給
を行う点で異なる。

【００２４】本例のエッジライトパネル１も同様に輝度
向上を実現するものであるとともに生産性の高いものと
なった。

【００２５】図示した例は以上の如くに構成したが，本
発明にあって乱反射単位を３次元の乱反射面とするよう
に透明基板に乱反射パタンを埋込み配設するについて
は，上記成型転写，インモールド成型に比して生産性が
低下し易いが，例えば乱反射パタンを上面側にした透明
樹脂の流し込み成型，透明基板の乱反射パタンに添う微
細孔へのインク等乱反射物質の刷り込み等の方法による
ことも可能であり，更に，例えば透明基板の一側表面，
特に裏面に常法による乱反射パタンを印刷後に該乱反射
パタン印刷面にアクリル等の透明樹脂を塗布する印刷及
び塗布法によることも併せて可能である。

【００２６】また乱反射単位を３次元の乱反射面とする
のは，これをドットとする場合，方形乃至矩形の立方体
等多角形体状のものとし，またこれをラインとする場合
は断面矩形乃至半円状，蒲鉾状等とすればよく，特定の
形状に限る必要はない。

【００２７】なおインモールド成型により透明基板内に
乱反射パタンを封入状に埋込み配設するものにあって
は，例えばラミネートベースを反射シートを兼ねる如く
に反射性を持たせたものとすることは好ましくはなく，
ラミネートベースは透明基板と同質の透明材料とするこ
とが不可欠である。

【００２８】更に透明基板に或いはこれと材質を共通と
するラミネートベースにアクリル樹脂以外の，例えばポ
リカーボネート等他の材料を使用すること，乱反射パタ
ンを前記従来のエッジライトパネルに用いられる均一化
を図る措置を施したパタンとすること等を含めて本発明
の実施に当って，乱反射単位，乱反射パタン，エッジラ
イトパネル，好ましいものとして用いる成型転写，イン
モールド成型，その製造方法に用いる印刷工程，成型転
写工程，インモールド成型工程等の各具体的材質，形
状，構造，寸法，数量，更にはこれらに対する付加等に
ついては，前記発明の要旨に反しない限り様々に変更す
ることが可能であり，もとより以上に具体的に例示した
ものに限定するには及ばない。

【００２９】

【発明の効果】本発明は以上のとおり請求項１におい
て，乱反射単位を３次元の乱反射面とするように透明基
板の一側表面側に乱反射パタンを埋込み配設せしめてな
ることを特徴とし，請求項２において，乱反射単位を３
次元の乱反射面とするように成型転写により透明基板の
一側表面側に乱反射パタンを埋込み配設せしめてなるこ
とを特徴とし，また請求項３において，乱反射単位を３
次元の乱反射面とするようにインモールド成型により透
明基板の一側表面側に乱反射パタンを封入状に埋込み配
設してなることを特徴とするから，乱反射面積の拡大
化，乱反射方向の拡散化を図り，一次光源による入射光
の乱反射を増大促進することによって，輝度向上を実現
可能なエッジライトパネルを提供することができ，請求
項２及び３にあってはこれに加えて小型のもの，更に
は，例えば湾曲面や凹凸面をなすような特殊形状のもの
を含めて生産性を良好とし得るエッジライトパネルを提
供することができる。

【００３０】請求項４は，転写ベースに３次元の乱反射
単位による乱反射パタンを印刷する印刷工程と，印刷乱
反射パタン側を射出面として金型内で透明基板を射出成
型し，転写ベースの印刷乱反射パタンを透明基板の一側
表面側に３次元的に転写埋込み配設する成型転写工程と
を備えてなることを特徴とし，請求項５は，ラミネート
ベースに３次元の乱反射単位による乱反射パタンを印刷
する印刷工程と，印刷乱反射パタンを射出面として金型
内で透明基板を射出成型し，ラミネートベースを透明基
板と一体接合するとともにその乱反射パタンを透明基板
の一側表面側に３次元的に封入埋込み配設するインモー
ルド成型工程とを備えてなることを特徴とするから，上
記輝度向上を実現し得るエッジライトパネルの製造を自
動化に好適なものとし，生産性を高めた製造方法を提供
することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】液晶バックライトの分解斜視図

【図２】透明基板と乱反射パタンの関係をモデル的に示
す拡大縦断面図

【図３】エッジライトパネルの製造方法を示す工程図

【図４】転写ベースとエッジライトパネルの関係をモデ
ル的に示す型開き取出工程の金型斜視図

【図５】他の例に係る透明基板と乱反射パタンの関係を
モデル的に示す拡大縦断面図

【符号の説明】

Ａ 液晶バックライト １ エッジライトパネル ２ 透明基板 ５ 乱反射パタン ６ 乱反射単位 ２０ 転写ベース ２１ 金型

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 乱反射単位を３次元の乱反射面とするよ
   うに透明基板の一側表面側に乱反射パタンを埋込み配設
   せしめてなることを特徴とするエッジライトパネル。
2. 【請求項２】 乱反射単位を３次元の乱反射面とするよ
   うに成型転写により透明基板の一側表面側に乱反射パタ
   ンを埋込み配設せしめてなることを特徴とするエッジラ
   イトパネル。
3. 【請求項３】 乱反射単位を３次元の乱反射面とするよ
   うにインモールド成型により透明基板の一側表面側に乱
   反射パタンを封入状に埋込み配設してなることを特徴と
   するエッジライトパネル。
4. 【請求項４】 転写ベースに３次元の乱反射単位による
   乱反射パタンを印刷する印刷工程と，印刷乱反射パタン
   側を射出面として金型内で透明基板を射出成型し，転写
   ベースの印刷乱反射パタンを透明基板の一側表面側に３
   次元的に転写埋込み配設する成型転写工程とを備えてな
   ることを特徴とするエッジライトパネルの製造方法。
5. 【請求項５】 ラミネートベースに３次元の乱反射単位
   による乱反射パタンを印刷する印刷工程と，印刷乱反射
   パタンを射出面として金型内で透明基板を射出成型し，
   ラミネートベースを透明基板と一体接合するとともにそ
   の乱反射パタンを透明基板の一側表面側に３次元的に封
   入埋込み配設するインモールド成型工程とを備えてなる
   ことを特徴とするエッジライトパネルの製造方法。