JPH06294903A - Light directing film and manufacturing method thereof - Google Patents
Light directing film and manufacturing method thereofInfo
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- JPH06294903A JPH06294903A JP5104889A JP10488993A JPH06294903A JP H06294903 A JPH06294903 A JP H06294903A JP 5104889 A JP5104889 A JP 5104889A JP 10488993 A JP10488993 A JP 10488993A JP H06294903 A JPH06294903 A JP H06294903A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】光指向フィルムの生産性を改善し、性能に優れ
且つ安価な光指向フィルムを提供する。
【構成】透明な基材１の上に予め光吸収体２の形成材料
を塗布し、所望パターンに応じたサンドブラスト用マス
ク（レジスト）を介してサンドブラストにより不要部分
を除去し、目的のパターンを形成する。サンドブラスト
用マスクはフォトレジストをフォトリソグラフィー法に
より加工し形成する。光吸収体の細線パターンの間の凹
部には紫外線硬化型の光透過性樹脂３を充填し、硬化
後、その面に保護用透明フィルム４を積層する。
(57) [Summary] [Objective] To improve the productivity of a light directing film, to provide a light directing film which is excellent in performance and inexpensive. [Structure] A material for forming a light absorber 2 is applied on a transparent base material 1 in advance, and unnecessary portions are removed by sandblasting through a sandblasting mask (resist) according to a desired pattern to form a desired pattern. To do. The mask for sandblasting is formed by processing a photoresist by a photolithography method. The concave portion between the fine line patterns of the light absorber is filled with the ultraviolet-curable light-transmissive resin 3, and after curing, the protective transparent film 4 is laminated on the surface.
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、フィルムに対して浅い
角度で入射する光のみを選択的に遮断する光指向フィル
ムに関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a light directing film which selectively blocks only light incident on the film at a shallow angle.
【０００２】[0002]
【従来の技術】光指向フィルムは、従来より、光線−平
行化プラスチックフィルム、光制御フィルム、光線コン
トロールフィルム、或いはルーバーフィルムとして知ら
れ、公知のものである。このようなフィルムは全て透明
樹脂中に不透明なルーバーを設けた構成を採っている。2. Description of the Related Art Light directing films are conventionally known as light ray-collimating plastic films, light control films, light ray control films, or louver films. All such films have a structure in which an opaque louver is provided in a transparent resin.
【０００３】そして、このようなフィルムの製造方法と
しては、米国特許第Ｒｅ．２７，６１７号〔オルセン
（Ｏｌｓｅｎ）〕で比較的低い光学密度を有するプラス
チックと比較的高い光学密度を有するプラスチックが交
互に重なった層のビレットを薄く剥ぐことによって指向
フィルムを作る方法が開示されている。この他にも、米
国特許第３，１９８，８６０号、ベルギー特許第５５
９，１５号、日本特許特公昭６２−３８１４２号、日本
特許特開平４−２３２７１９号が知られているが、いず
れもビレットからフィルムを削成する方法に関する特許
である。As a method for producing such a film, US Pat. No. Re. No. 27,617 (Olsen) discloses a method of making a directional film by thinly stripping a billet of alternating layers of relatively low optical density plastic and relatively high optical density plastic. There is. In addition, U.S. Pat. No. 3,198,860 and Belgian patent 55.
Nos. 9,15, Japanese Patent Publication No. 62-38142, and Japanese Patent Laid-Open No. 4-232719 are known, all of which are patents relating to a method of shaving a film from a billet.
【０００４】しかし、これらビレットからフィルムを削
成する製造方法には、種々の問題点がある。第一に、ビ
レットを形成すること自体コストと時間のかかる作業で
ある。第二に、削成した表面が不規則表面になり、光の
透過性を損なうため表面を光学的に平滑にする処理（例
えば加熱してプレスする等）や保護フィルムの積層等の
処置が必要となる。第三に、ビレットから一定の厚みの
薄いフィルムをできるだけ広い幅で且つ長尺に得ること
は非常な困難を伴う作業である。However, there are various problems in the manufacturing method of cutting a film from these billets. First, forming the billet is a costly and time consuming operation. Secondly, the abraded surface becomes an irregular surface, which impairs light transmission and requires treatment such as optically smoothing the surface (eg, heating and pressing) or laminating a protective film. Becomes Thirdly, it is a very difficult task to obtain a thin film having a constant thickness from a billet as wide as possible and long.
【０００５】また、日本特許特開平２−９７９０４では
多数の溝を機械加工で作った金型を使用して透明樹脂を
圧縮成形し、多数の溝を有する透明フィルムを作成した
後、その溝の内部を吸光性にすることにより光指向フィ
ルムを製造する方法が開示されているが、この方法で
も、金型の溝の加工精度と圧縮成形の精度の点から溝が
大きなものになってしまい、必要以上に吸光性が大きく
なってしまうとか、また、圧縮成形加工では溝の側面を
垂直に立てることが困難であり、そのために光の指向性
が減少するなどの欠点がある。Further, in Japanese Patent Laid-Open No. 2-97904, a transparent resin is compression-molded by using a mold in which a large number of grooves are machined to form a transparent film having a large number of grooves, and then the grooves are formed. Although a method of manufacturing a light directing film by making the inside light-absorbing is disclosed, even in this method, the groove becomes large in terms of the processing accuracy of the groove of the mold and the accuracy of compression molding, There are disadvantages that the light absorbency becomes larger than necessary, and that it is difficult to make the side surfaces of the groove to be vertical by compression molding, which reduces the directivity of light.
【０００６】更に日本特許特開平３−３１８０４および
特開平２−６３００１では針状体を透明樹脂中に垂直な
いしは平行に配置してなる光指向フィルムを提案してい
るが、針状体を完全に連続したルーバーとして配置する
ことは困難である。Further, Japanese Patent Laid-Open Nos. 3-31804 and 2-63001 propose a light directing film in which a needle-shaped body is vertically or parallelly arranged in a transparent resin. It is difficult to arrange as a continuous louver.
【０００７】一方、サンドブラスト法は異方性エッチン
グ技術として有効な方法として知られている。微細パタ
ーン加工技術の中でも一般的によく用いられるケミカル
エッチング法は化学的なエッチングのために等方性のエ
ッチングであり、本発明のようなアスペクト比の大きい
凹凸形状を得ることは困難である。また、ドライエッチ
ング法は異方性エッチングであるために、本発明のよう
なアスペクト比の大きい凹凸形状を得ることは可能であ
るが、真空中での加工技術であるために生産性が悪く、
且つ設備のコストも高く、更に、大面積に対応すること
が困難であると言う欠点がある。On the other hand, the sandblast method is known as an effective method for anisotropic etching. Among the fine pattern processing techniques, the chemical etching method which is generally used is isotropic etching due to chemical etching, and it is difficult to obtain an uneven shape having a large aspect ratio as in the present invention. Further, since the dry etching method is anisotropic etching, it is possible to obtain an uneven shape having a large aspect ratio as in the present invention, but productivity is poor because it is a processing technique in a vacuum,
In addition, the cost of equipment is high, and it is difficult to deal with a large area.
【０００８】[0008]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記のよう
な公知の光指向フィルムの欠点を改善し、性能に優れ、
且つ安価な光指向フィルムを提供することを目的とす
る。DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention improves the drawbacks of the known light directing film as described above and has excellent performance.
Moreover, it aims at providing an inexpensive light directing film.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】上記の目的に鑑み、鋭意
研究の結果、透明な基材上に垂直方向に立った光吸収体
のパターンを形成するパターン形成材料を予め所定の膜
厚で塗布し、所望のパターンに応じたサンドブラスト用
マスクを介してサンドブラスト処理を行うことにより、
目的とする高さと幅を持ち、基材に垂直に立った光吸収
体を得られることを見いだし、この技術を応用すること
により本発明の完成に至ったものである。In view of the above object, as a result of earnest research, a pattern forming material for forming a pattern of a light absorber standing in a vertical direction is applied on a transparent substrate in a predetermined thickness. Then, by performing the sandblasting process through the sandblasting mask according to the desired pattern,
It was found that a light absorber having a target height and width and standing upright on a base material can be obtained, and by applying this technique, the present invention has been completed.
【００１０】即ち、本請求項１の発明は、透明な基材上
に垂直方向に立った光吸収体のパターンを形成するパタ
ーン形成材料を予め所定の膜厚で塗布し、所望のパター
ンに応じたサンドブラスト用マスクを介してサンドブラ
スト処理を行うことにより、目的とする高さと幅を持っ
た、基板に垂直に立った光吸収体を得ることを特徴とす
る光指向フィルムの製造方法からなる。That is, according to the first aspect of the invention, a pattern forming material for forming a pattern of a light absorber standing in a vertical direction is applied in advance to a transparent base material in a predetermined film thickness, and a pattern is formed according to a desired pattern. The method for producing a light directing film is characterized in that a light absorber having a desired height and width and standing upright on a substrate is obtained by performing a sandblasting treatment through a sandblasting mask.
【００１１】本請求項２の発明は、前記サンドブラスト
用マスクの材料としてフォトレジストを用い、フォトリ
ソグラフィー法により所望のパターンのサンドブラスト
用マスクを得ることを特徴とする請求項１記載の光指向
フィルムの製造方法である。また、本請求項３の発明
は、請求項１および２記載の製造方法により製造された
光指向フィルムからなる。According to a second aspect of the present invention, a photoresist is used as a material for the sandblast mask, and a sandblast mask having a desired pattern is obtained by a photolithography method. It is a manufacturing method. The invention of claim 3 is the light directing film manufactured by the manufacturing method according to claim 1 or 2.
【００１２】本請求項４の発明は、前記光指向フィルム
において、透明な基材にポリカーボネートフィルムを使
用した請求項３記載の光指向フィルムからなる。そし
て、本請求項５の発明は、前記光指向フィルムにおい
て、基材に垂直に立った光吸収体の間を光透過性樹脂で
埋め、更に、その上に保護用の透明フィルムを積層した
構成の請求項３記載の光指向フィルムからなっている。The invention according to claim 4 is the light directing film according to claim 3, wherein a polycarbonate film is used as a transparent substrate in the light directing film. Further, the invention of claim 5 is such that, in the light directing film, a space between the light absorbers standing upright on the base material is filled with a light transmissive resin, and a transparent film for protection is further laminated thereon. The light directing film according to claim 3.
【００１３】次に、図面を用いて本発明を更に詳細に説
明する。図１は、本発明の光指向フィルムの実施例の構
成を示す模式断面図である。即ち、本発明の光指向フィ
ルムは、透明な基材１の上に光吸収体２を所望のパター
ンで垂直方向に立つように設け、その光吸収体の間を光
透過性樹脂３で埋め、更に、その上に保護用の透明フィ
ルム４を積層した構成である。尚、この構成は、本発明
の光指向フィルムの一実施例を示すもので、これに限定
するものではない。Next, the present invention will be described in more detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing the constitution of an embodiment of the light directing film of the present invention. That is, in the light directing film of the present invention, the light absorber 2 is provided on the transparent base material 1 so as to stand vertically in a desired pattern, and the space between the light absorbers is filled with the light transmissive resin 3. Further, the transparent film 4 for protection is laminated on it. It should be noted that this configuration shows one example of the light directing film of the present invention, and is not limited to this.
【００１４】図２の（ａ）〜（ｆ）は、本発明の光指向
フィルムの製造方法の主要部分の手順を示す半製品模式
断面図である。（ａ）は透明な基材１に光吸収体２′を
塗布した状態を示し、（ｂ）は光吸収体２′の上にサン
ドブラストのためのレジスト５を塗布した状態を示す。
（ｃ）は前記レジスト５をフォトリソグラフィー法によ
り所望のパターンにするためマスク６をかけ、露光７を
行っている図。（ｄ）は露光したレジスト５を現像し、
レジストパターン５′を形成した図である。（ｅ）はレ
ジストパターン５′の上からサンドブラスト８により光
吸収体２′をエッチングし、所望のパターンの光吸収体
２を形成した図である。そして（ｆ）は、（ｅ）で得た
透明基材１に所望のパターンの光吸収体２（レジスト付
き）が形成されたフィルムからレジスト部分を剥離液で
剥がした状態を示す図である。2A to 2F are schematic cross-sectional views of semi-finished products showing the procedure of the main part of the method for producing a light directing film of the present invention. (A) shows a state where the light absorber 2'is applied to the transparent substrate 1, and (b) shows a state where the resist 5 for sandblasting is applied on the light absorber 2 '.
FIG. 6C is a diagram in which a mask 6 is applied to expose the resist 5 into a desired pattern by photolithography and exposure 7 is performed. (D) develops the exposed resist 5,
It is the figure which formed resist pattern 5 '. (E) is a diagram in which the light absorber 2 ′ having a desired pattern is formed by etching the light absorber 2 ′ by sandblasting 8 on the resist pattern 5 ′. And (f) is a diagram showing a state in which the resist portion is peeled off with a peeling liquid from the film in which the light absorber 2 (with a resist) having a desired pattern is formed on the transparent substrate 1 obtained in (e).
【００１５】次に、本発明の光指向フィルムの製造に使
用する材料と加工方法について追加説明する。先ず、透
明な基材としては、光指向フィルムの特性から見て透明
度が最も重要であり、これに加工条件に関連する硬さ、
耐衝撃性などを加味してポリカーボネートフィルムが適
している。更に、ポリカーボネートフィルムがサンドブ
ラストにより傷が付くことを防ぐため、その加工面にハ
ードコート層を設けることが好ましい。尚、保護用とし
て光吸収体の上に積層する透明フィルムにもポリカーボ
ネートフィルムを使用するのが良い。Next, materials and processing methods used for producing the light directing film of the present invention will be additionally described. First, as a transparent substrate, the transparency is the most important in terms of the characteristics of the light directing film, and the hardness related to the processing conditions,
Polycarbonate film is suitable considering impact resistance. Further, in order to prevent the polycarbonate film from being scratched by sandblasting, it is preferable to provide a hard coat layer on the processed surface. Incidentally, it is preferable to use a polycarbonate film as a transparent film laminated on the light absorber for protection.
【００１６】光吸収体の材料は、基本的には着色顔料と
バインダーから構成されるが、サンドブラスト時のエッ
チング形状をできるだけ垂直に近い形にするためには、
光吸収体の材料にある程度の硬さが必要であり、無機フ
ィラー等の添加剤により硬さを調整することが望まし
い。具体的には、黒色顔料にバインダーとして、例えば
エチルセルロースを添加し、これにガラスフリット、有
機溶剤等を加えてインキ化したもの（硬質インキ）が使
用でき、ブレードコート等により塗布できる。The material of the light absorber is basically composed of a color pigment and a binder, but in order to make the etching shape during sandblasting as close to vertical as possible,
The material of the light absorber needs to have a certain degree of hardness, and it is desirable to adjust the hardness with an additive such as an inorganic filler. Specifically, a material obtained by adding, for example, ethyl cellulose to a black pigment as a binder, and adding glass frit, an organic solvent or the like to form an ink (hard ink) can be used, and application can be performed by blade coating or the like.
【００１７】次に、サンドブラスト用のマスク材となる
レジストについては、フォトリソグラフィー法によりパ
ターン化するため、種々のフォトレジストやドライフィ
ルムの中からパターンの形状、寸法やガードされる光吸
収体の材質に対応して、また、サンドブラスト処理のマ
スクとしての適性の良いものを適宜選択できる。そし
て、レジストの露光は、超高圧水銀灯を光源とする平行
光を、プリンターを用いてラインパターンマスクを介し
て紫外線によりパターン露光できる。フォトレジストの
露光後の現像は、レジストに応じた現像液（多くの場合
水系）を使用して浸漬、スプレー等により行うことがで
きる。Next, the resist used as the mask material for sandblasting is patterned by the photolithography method, and therefore, the shape and size of the pattern and the material of the light absorber to be guarded are selected from various photoresists and dry films. Corresponding to the above, a suitable one as a mask for sandblasting can be selected as appropriate. The exposure of the resist can be performed by patterning parallel light using an ultrahigh pressure mercury lamp as a light source with ultraviolet rays through a line pattern mask using a printer. The development of the photoresist after exposure can be performed by dipping, spraying or the like using a developing solution (often an aqueous system) suitable for the resist.
【００１８】サンドブラストについては、公知の装置を
使用できるが、研磨材はレジストのパターンが細線であ
るため、例えば褐色溶融アルミナ（＃８００）等が使用
できる。また、噴出圧力は、１〜３ｋｇｆ／ｃｍ2 程度
で行える。なお、サンドブラスト後のレジストの除去
は、レジストの種類に対応する剥離液を用いて行うが、
例えばポリビニルアルコール（ＰＶＡ）のジアゾ感光体
をレジストに用いた場合は、過ヨウ素酸水溶液が使用で
きる。A known apparatus can be used for sandblasting. However, since the abrasive has a fine resist pattern, for example, brown fused alumina (# 800) can be used. Moreover, the ejection pressure can be about 1 to 3 kgf / cm 2 . Note that the removal of the resist after sandblasting is performed using a stripping solution corresponding to the type of resist,
For example, when a diazo photoconductor of polyvinyl alcohol (PVA) is used for the resist, a periodic acid aqueous solution can be used.
【００１９】そして、レジストを除去した後、光吸収体
の間を埋める光透過性樹脂には、紫外線硬化型のアクリ
ル系樹脂、例えばテトラヒドロフルフリルアクリレー
ト、テトラヒドロフルフリルメタアクリレート等が使用
でき、このような樹脂を塗布し、過剰の樹脂をかき取っ
た後、紫外線を照射して硬化させることによって埋めら
れる。After the resist is removed, as the light-transmissive resin filling the space between the light absorbers, an ultraviolet-curable acrylic resin such as tetrahydrofurfuryl acrylate or tetrahydrofurfuryl methacrylate can be used. Such a resin is applied, the excess resin is scraped off, and then the resin is irradiated with ultraviolet rays to be cured to be buried.
【００２０】[0020]
【作用】本発明の光指向フィルムは、透明基材上に直接
光吸収体をコーティングによって形成する方式を採って
いるため、ブレードコートやスクリーン印刷と言った方
法により光吸収体の高さを任意に、且つ均一な高さに形
成することができ、また、光吸収体の幅も、サンドブラ
スト用マスクをフォトリソグラフィー法により形成する
ことで数μｍのオーダー迄細くできるようになった。こ
の結果、光吸収体の高さ／幅の比を大きくすることが可
能となり、光指向性の高いフィルムを容易に得られるも
のである。The light directing film of the present invention employs a method of directly forming a light absorber on a transparent substrate, so that the height of the light absorber can be arbitrarily adjusted by a method such as blade coating or screen printing. In addition, the width of the light absorber can be reduced to the order of several μm by forming the sandblast mask by the photolithography method. As a result, the height / width ratio of the light absorber can be increased, and a film with high light directivity can be easily obtained.
【００２１】また、透明基材としてポリカーボネートフ
ィルムを採用することにより、その特性である透明度、
硬さ、耐衝撃性などが活かされ、光指向フィルムの性能
が向上する。Further, by adopting a polycarbonate film as the transparent substrate, the transparency which is its characteristic,
The hardness and impact resistance are used to improve the performance of the light directing film.
【００２２】[0022]
【実施例】以下に実施例により本発明を詳細に説明す
る。 （実施例１）透明な基材として、厚さ２００μｍのポリ
カーボネートフィルム（ユーピロンフィルム：三菱瓦斯
化学株式会社製）を使用し、このフィルムの一方の面に
光吸収体を形成する下記の組成の硬質インキをブレード
コート法により塗布、乾燥し、厚さ１００μｍの光吸収
体の塗膜を形成した。The present invention will be described in detail below with reference to examples. (Example 1) As a transparent base material, a polycarbonate film (Eupiron film: manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Inc.) having a thickness of 200 μm is used, and a hard material having the following composition for forming a light absorber on one surface of the film. The ink was applied by a blade coating method and dried to form a coating film of a light absorber having a thickness of 100 μm.
【００２３】光吸収体用硬質インキ組成 エチルセルロース ３重量％ 黒色顔料 ７重量％ ガラスフィラー ７０重量％ 有機溶剤 ２０重量％ Hard ink composition for light absorber Ethyl cellulose 3% by weight Black pigment 7% by weight Glass filler 70% by weight Organic solvent 20% by weight
【００２４】次に、この光吸収体の塗膜上に、サンドブ
ラストのマスク用レジストとして、ＰＶＡにジアゾ感光
体を混合したネガレジストを使用し、スピンコート法に
より塗布、乾燥し、厚さ約１０μｍのレジスト塗膜を形
成した。Next, a negative resist in which PVA and a diazo photosensitive material are mixed is used as a resist for sandblasting mask on the coating film of the light absorber, and is applied by a spin coating method and dried to have a thickness of about 10 μm. To form a resist coating film.
【００２５】このレジスト塗膜面に、超高圧水銀灯を光
源とする平行光をプリンターを用いて、線幅４０μｍ、
ピッチ１２０μｍのラインパターンマスクを介して紫外
線照射によるパターン露光を行った。続いて、水に約２
分間浸漬し膨潤させた後、水によるスプレー現像を行っ
た。以上の工程により線幅４０μｍ、ピッチ１２０μｍ
のサンドブラスト用マスクの付いた光吸収体塗布フィル
ムを得た。その後、乾燥工程を経てサンドブラストによ
る光吸収体の不要部分の除去を行った。尚、研磨材はア
ルミナを用いて噴出圧力は３ｋｇｆ／ｃｍ2 の条件とし
た。On the resist coating surface, parallel light with an ultra-high pressure mercury lamp as a light source was used with a printer to obtain a line width of 40 μm,
Pattern exposure was performed by ultraviolet irradiation through a line pattern mask having a pitch of 120 μm. Then about 2 in water
After immersing for a minute for swelling, spray development with water was performed. Through the above steps, line width 40 μm, pitch 120 μm
A light absorber coated film with a sandblasting mask of was obtained. Then, after a drying step, unnecessary portions of the light absorber were removed by sandblasting. Alumina was used as the abrasive and the ejection pressure was 3 kgf / cm 2 .
【００２６】前記の試料について、過ヨウ素酸水溶液を
使用してレジストの剥離を行い、線幅４０μｍ、ピッチ
１２０μｍ、高さ１００μｍの光吸収体パターンの付い
た透明基材フィルムを得た。次に、このフィルムの光吸
収体パターンの強度を確保すると共に光学的に表面を平
滑にするために、光吸収体の間の凹部に光透過性樹脂と
して紫外線硬化型のテトラヒドロフルフリルアクリレー
トからなるニスを充填し、紫外線照射により硬化させ
た。その後、最終工程としてこの面を保護するため厚さ
１００μｍのポリカーボネートフィルムを接着剤を用い
て積層し、本発明の光指向フィルムを得た。The resist was stripped from the above sample using an aqueous solution of periodic acid to obtain a transparent substrate film with a light absorber pattern having a line width of 40 μm, a pitch of 120 μm and a height of 100 μm. Next, in order to secure the strength of the light absorber pattern of this film and to make the surface optically smooth, the recesses between the light absorbers are made of UV-curable tetrahydrofurfuryl acrylate as a light-transmitting resin. It was filled with a varnish and cured by UV irradiation. Then, as a final step, a polycarbonate film having a thickness of 100 μm was laminated with an adhesive in order to protect this surface to obtain a light directing film of the present invention.
【００２７】[0027]
【発明の効果】本発明の光指向フィルムは、透明基材上
に直接光吸収体をコーティングによって形成する方式を
採っているため、ブレードコートやスクリーン印刷と言
った方法により光吸収体の高さを任意に、且つ均一な高
さに形成することができる。また、光吸収体の幅も、サ
ンドブラスト用マスクをフォトリソグラフィー法により
形成するため数μｍのオーダー迄細くできるようにな
り、高細線パターンが実施可能である。更に、サンドブ
ラスト処理の採用により垂直なエッチングができるた
め、光の指向性の点でも優れている。このようなの製造
方法を採ることにより、光吸収体が透明基材に垂直で、
且つ高さ／幅の比を大きくすることが可能となり、ま
た、本発明の構成により透明度が高く、光指向性の高い
極めて性能に優れた光指向フィルムを容易に得られると
言う効果を奏するものである。Since the light directing film of the present invention employs a method of directly forming a light absorber on a transparent substrate by coating, the height of the light absorber is increased by a method such as blade coating or screen printing. Can be formed arbitrarily and at a uniform height. Further, the width of the light absorber can be reduced to the order of several μm because the sandblast mask is formed by the photolithography method, and a high fine line pattern can be implemented. Furthermore, since sandblasting enables vertical etching, it is also excellent in directivity of light. By adopting such a manufacturing method, the light absorber is perpendicular to the transparent substrate,
Further, it is possible to increase the height / width ratio, and the effect of being able to easily obtain a light directing film having a high transparency and a high light directivity and extremely excellent performance by the constitution of the present invention is obtained. Is.
【図１】図１は、本発明の光指向フィルムの実施例の構
成を示す模式断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a configuration of an embodiment of a light directing film of the present invention.
【図２】図２の（ａ）〜（ｆ）は、本発明の光指向フィ
ルムの製造方法の主要部分の手順を示す半製品の模式断
面図である。2 (a) to 2 (f) are schematic cross-sectional views of semi-finished products showing the procedure of the main part of the method for producing a light directing film of the present invention.
１ 透明な基材 ２、２′光吸収体 ３ 光透過性樹脂 ４ 保護用透明フィルム ５、５′レジスト ６ 露光用マスク ７ 露光（紫外線） ８ サンドブラスト 1 transparent base material 2 2'light absorber 3 light transmissive resin 4 protective transparent film 5 5'resist 6 exposure mask 7 exposure (ultraviolet) 8 sandblast
Claims (5)
のパターンを形成するパターン形成材料を予め所定の膜
厚で塗布し、所望のパターンに応じたサンドブラスト用
マスクを介してサンドブラスト処理を行うことにより、
目的とする高さと幅を持った、基板に垂直に立った光吸
収体を得ることを特徴とする光指向フィルムの製造方
法。1. A pattern forming material for forming a pattern of a light absorber standing vertically on a transparent base material is applied in advance with a predetermined film thickness, and sandblasting is performed through a sandblasting mask corresponding to the desired pattern. By performing processing,
A process for producing a light directing film, which comprises obtaining a light absorber having a desired height and width and standing vertically on a substrate.
フォトレジストを用い、フォトリソグラフィー法により
所望のパターンのサンドブラスト用マスクを得ることを
特徴とする請求項１記載の光指向フィルムの製造方法。2. The method for producing a light directing film according to claim 1, wherein a photoresist is used as a material for the sandblasting mask, and a sandblasting mask having a desired pattern is obtained by a photolithography method.
造されたことを特徴とする光指向フィルム。3. A light directing film manufactured by the manufacturing method according to claim 1.
がポリカーボネートフィルムであることを特徴とする請
求項３記載の光指向フィルム。4. The light directing film according to claim 3, wherein in the light directing film, the transparent substrate is a polycarbonate film.
に立った光吸収体の間を光透過性樹脂で埋め、更に、そ
の上に保護用の透明フィルムを積層したことを特徴とす
る請求項３記載の光指向フィルム。5. The light directing film according to claim 1, wherein a space between the light absorbers standing upright on the substrate is filled with a light transmissive resin, and a protective transparent film is further laminated thereon. Item 3. The light directing film according to item 3.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5104889A JPH06294903A (en) | 1993-04-08 | 1993-04-08 | Light directing film and manufacturing method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5104889A JPH06294903A (en) | 1993-04-08 | 1993-04-08 | Light directing film and manufacturing method thereof |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06294903A true JPH06294903A (en) | 1994-10-21 |
Family
ID=14392744
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5104889A Withdrawn JPH06294903A (en) | 1993-04-08 | 1993-04-08 | Light directing film and manufacturing method thereof |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06294903A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6684504B2 (en) * | 2001-04-09 | 2004-02-03 | Lexmark International, Inc. | Method of manufacturing an imageable support matrix for printhead nozzle plates |
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| KR100993232B1 (en) * | 2006-10-13 | 2010-11-10 | 엔이씨 엘씨디 테크놀로지스, 엘티디. | Method for manufacturing optical element, optical element, illumination optical device, display device and electronic device |
-
1993
- 1993-04-08 JP JP5104889A patent/JPH06294903A/en not_active Withdrawn
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