JPH06273307A - Method and equipment for evaluating concentration of particles - Google Patents
Method and equipment for evaluating concentration of particlesInfo
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- JPH06273307A JPH06273307A JP8678593A JP8678593A JPH06273307A JP H06273307 A JPH06273307 A JP H06273307A JP 8678593 A JP8678593 A JP 8678593A JP 8678593 A JP8678593 A JP 8678593A JP H06273307 A JPH06273307 A JP H06273307A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 周囲の光の影響を受けることなく、かつ小さ
なパーティクルの情報も得られるパーティクル濃度評価
方法および装置を提供することを目的とする。
【構成】 パーティクル濃度評価装置は、パルス状X線
源と、静電界生成用電極45、46と、ドリフトチュー
ブ47とコレクタ48を備えている。パーティクルをパ
ルス状X線24で帯電させ、帯電パーティクル44をド
リフトチューブ47内を走行させてコレクタ48に流入
させ、コレクタ流入電流対走行時間のプロファイルデー
タを得るようにする。
(57) [Abstract] [Purpose] An object of the present invention is to provide a particle concentration evaluation method and apparatus that can obtain information on small particles without being affected by ambient light. [Structure] The particle concentration evaluation device includes a pulsed X-ray source, electrostatic field generation electrodes 45 and 46, a drift tube 47, and a collector 48. The particles are charged by the pulsed X-rays 24, the charged particles 44 are caused to travel in the drift tube 47 and flow into the collector 48, and profile data of collector inflow current vs. running time is obtained.
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、X線を用いてパーテ
ィクル(浮遊粒子)の濃度を評価する方法および濃度評
価装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for evaluating the concentration of particles (suspended particles) using X-rays and a concentration evaluation device.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、パーティクルを検出測定する方式
としては、図4に示したように、レーザービーム1を拡
大投射させ、レーザー光路内のパーティクル2から散乱
光3を光電変換器4で検出し、その出力電気信号をパル
スカウンター5に伝えてカウントする方式が、代表的な
ものとして知られている(応用物理第54巻 第3号
(1985年)260〜268頁「レーザービーム走査
型ダストカウンター」)。2. Description of the Related Art Conventionally, as a method for detecting and measuring particles, as shown in FIG. 4, a laser beam 1 is projected in an enlarged manner, and scattered light 3 from particles 2 in a laser optical path is detected by a photoelectric converter 4. The method of transmitting the output electric signal to the pulse counter 5 and counting is known as a typical one (Applied Physics Vol. 54, No. 3 (1985), pages 260 to 268, "Laser Beam Scanning Dust Counter". )).
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】前記の測定方式は、周
囲が明るい場所では、散乱光がまわりの光の影響を受け
るので、一般的に計測は困難であった。また、パーティ
クルサイズが、0.5μm 程度以下の小さなパーティク
ルの検出ができなかった。パーティクルのサイズが小さ
くなるに従って散乱光の強度が下がり、光電変換器の感
度を下まわる為である。In the above-mentioned measuring method, scattered light is affected by surrounding light in a bright environment, so that it is generally difficult to measure. Further, it was impossible to detect small particles having a particle size of about 0.5 μm or less. This is because the intensity of scattered light decreases as the particle size decreases, and the sensitivity of the photoelectric converter decreases.
【0004】[0004]
【課題を解決する為の手段】この発明は、前記のような
問題点に鑑みてなされたもので、周囲の光の影響を受け
ることなく、かつ小さなパーティクルの情報も得られる
パーティクル濃度評価方法および装置を提供することを
目的としている。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and a particle concentration evaluation method which is not affected by ambient light and which can obtain information on small particles, and The purpose is to provide a device.
【0005】斯る目的を達成するこの発明のパーティク
ル濃度評価方法は、パーティクルにパルス状X線を照射
して帯電させ、帯電したパーティクルを静電界で吸引し
て一定距離走行させてからコレクタへ流入させ、コレク
タ流入電流又はパーティクル数の流入値対帯電パーティ
クルの走行時間のプロファイルデータを得るようにした
ことを特徴としている。According to the particle concentration evaluation method of the present invention which achieves the above object, the particles are irradiated with pulsed X-rays to be charged, the charged particles are attracted by an electrostatic field and run for a certain distance, and then flow into the collector. The profile data of the collector inflow current or the inflow value of the number of particles versus the transit time of the charged particles is obtained.
【0006】又、この発明のパーティクル濃度評価装置
は、パルス状X線源と、パルス状X線の放射空間に設置
された静電界生成用電極と、静電界生成用電極に隣接配
置したドリフトチューブと、ドリフトチューブの一端に
設置したコレクタを備えたことを特徴としている。Further, the particle concentration evaluation apparatus of the present invention comprises a pulsed X-ray source, an electrostatic field generating electrode installed in the radiation space of the pulsed X-ray, and a drift tube disposed adjacent to the electrostatic field generating electrode. And a collector installed at one end of the drift tube.
【0007】前記パルス状X線源としては、パルス状レ
ーザービーム源とターゲット又はパルス状電子ビーム源
とターゲットで構成することができる。The pulsed X-ray source may be composed of a pulsed laser beam source and a target or a pulsed electron beam source and a target.
【0008】又、パルス状X線源を構成したX線源室
と、静電界生成用電極、ドリフトチューブおよびコレク
タを収容した測定室を、X線用窓となる薄板を備えた仕
切板で分離した構成とすることができる。Further, the X-ray source chamber constituting the pulsed X-ray source and the measurement chamber containing the electrostatic field generating electrode, the drift tube and the collector are separated by a partition plate having a thin plate serving as an X-ray window. It can be configured.
【0009】[0009]
【作用】この発明のパーティクル濃度評価方法および装
置によれば、周囲の光の影響を殆ど受けないでパーティ
クルの検出が可能であり、かつ0.5μm 程度以下の小
さなパーティクルの検出が可能である。According to the particle concentration evaluation method and apparatus of the present invention, particles can be detected with little influence of ambient light, and small particles of 0.5 μm or less can be detected.
【0010】X線をパーティクルに照射するとパーティ
クルから光電子を放出させ、パーティクルを正に帯電さ
せる。これらの帯電パーティクルが発生する空間よりも
低い電位にした電極をこの空間の近くに配置すると、帯
電パーティクルは電極に引っぱられる。電極に適当な孔
を設けておくと、帯電パーティクルはその孔を通過して
行くので、帯電パーティクルをドリフトチューブ内に導
き、定速度で走行させコレクタへ流入させることができ
る。When the particles are irradiated with X-rays, photoelectrons are emitted from the particles and the particles are positively charged. When an electrode having a potential lower than the space where these charged particles are generated is arranged near this space, the charged particles are pulled by the electrode. When the electrode is provided with an appropriate hole, the charged particle passes through the hole, so that the charged particle can be guided into the drift tube and run at a constant speed to flow into the collector.
【0011】ドリフトチューブ内を帯電パーティクルが
走行するのに要する時間は、帯電電荷が大きい程短く、
また、パーティクルの質量が大きい程長くなる。即ち、
この走行時間はパーティクルの電荷対質量の比である比
電荷(e/m)に応じて変化する。The time required for the charged particles to travel inside the drift tube is shorter as the charged charge is larger,
Also, the larger the mass of the particles, the longer it becomes. That is,
This transit time changes according to the specific charge (e / m), which is the ratio of the charge to the mass of the particles.
【0012】ガス分子は比電荷が大きいので走行速度が
早く走行時間が極度に短い。室内のクリーン度を損うご
みに類したパーティクルは、ガス分子に比べて比電荷が
非常に小さく、長い走行時間を要する。パーティクルサ
イズが大きく、質量が大きい程、走行時間は長くなる。Since gas molecules have a large specific charge, the traveling speed is fast and the traveling time is extremely short. The dust-like particles that impair the cleanliness of the room have a much smaller specific charge than gas molecules and require a long running time. The larger the particle size and the larger the mass, the longer the running time.
【0013】従って、パルス状X線を発生させた時点か
らの刻々の微小時間毎のコレクタ電流値あるいは単位時
間当りコレクタに流入する帯電パーティクルの個数の経
時変化プロファイルは、比電荷の値に対応するガス分子
やパーティクルの濃度情報を与える。ガス分子とパーテ
ィクルは走行時間の差により分離でき、パーティクルサ
イズと走行時間の間には一定の関係があるので、結局パ
ーティクルサイズに応じた濃度プロファイルに関連する
情報を得ることができる。Therefore, the time-dependent change profile of the collector current value every minute time or the number of charged particles flowing into the collector per unit time from the time when the pulsed X-ray is generated corresponds to the value of the specific charge. Gives concentration information of gas molecules and particles. Gas molecules and particles can be separated by the difference in running time, and since there is a fixed relationship between the particle size and running time, it is possible to obtain information related to the concentration profile according to the particle size.
【0014】[0014]
【実施例】以下この発明の実施例について説明する。Embodiments of the present invention will be described below.
【0015】図1は実施例の真空室中のパーティクル濃
度評価用の装置であって、真空室11の容器壁12(一
部のみ図示)と隔離室13との間に開閉弁14を有する
接続部15を設け、隔離室13は更に所要波長域のX線
を通すX線用窓16を備えた仕切板17により測定室1
8とX線源室19とに分けられている。隔離室13の外
部に置かれたレーザー発信器20から発せられるパルス
状のレーザービーム21はレーザー用窓22からX線源
室19内に入り同室19内の金属ターゲット23に射突
して局所的にプラズマを発生させるようにしてある。こ
のレーザープラズマは瞬間的に強力なX線24を発生
し、その一部がX線用窓16を透過して隣接する測定室
18へ導入される。隔離室13に接続した真空配管25
は開閉弁26で測定室18とX線源室19との間の流通
経路を開いたり、閉じたりでき、開閉弁27により真空
ポンプ(図示せず)とX線源室19や測定室18との間
の排気路を開閉できるようにしてある。X線源室19に
は、レーザー用窓22を気密に保持する窓支持材28、
金属ターゲット23を巻きとったり巻き戻したりするた
めのローラー29、30、そして金属ターゲット23の
レーザービーム21照射部から発する金属などの蒸発物
が配管25の方へ入り込まないようにするためのベーパ
ーシールド31などを備えている。X線用窓16を備え
た仕切板17も測定室18側への金属蒸気などの流入を
防ぐ作用をする。FIG. 1 shows an apparatus for evaluating particle concentration in a vacuum chamber according to an embodiment, in which an opening / closing valve 14 is provided between a container wall 12 (only part of which is shown) of a vacuum chamber 11 and an isolation chamber 13. The isolation chamber 13 is provided with a section 15, and the isolation chamber 13 is further provided with a partition plate 17 having an X-ray window 16 for passing X-rays in a required wavelength range.
8 and an X-ray source room 19. A pulsed laser beam 21 emitted from a laser transmitter 20 placed outside the isolation chamber 13 enters the X-ray source chamber 19 through a laser window 22 and strikes a metal target 23 in the chamber 19 to locally It is designed to generate plasma. This laser plasma instantaneously generates a strong X-ray 24, and a part of it is transmitted through the X-ray window 16 and introduced into the adjacent measurement chamber 18. Vacuum piping 25 connected to the isolation chamber 13
The opening / closing valve 26 can open and close the flow path between the measurement chamber 18 and the X-ray source chamber 19, and the opening / closing valve 27 connects the vacuum pump (not shown) to the X-ray source chamber 19 and the measurement chamber 18. The exhaust passage between them can be opened and closed. In the X-ray source chamber 19, a window support member 28 that hermetically holds the laser window 22,
Rollers 29, 30 for winding and unwinding the metal target 23, and a vapor shield 31 for preventing vaporized substances such as metal emitted from the laser beam 21 irradiation portion of the metal target 23 from entering the pipe 25. And so on. The partition plate 17 provided with the X-ray window 16 also acts to prevent the inflow of metal vapor or the like into the measurement chamber 18 side.
【0016】真空室11内のパーティクル濃度を評価す
るさいは、予め測定室18とX線源室19を真空状態に
しておき、真空室11内のパーティクル濃度を評価する
ときに開閉弁14を開く。X線24はX線用窓16を透
過して測定室18内に存在するパーティクルなどの一部
に照射され、光電子を放出させて帯電粒子化する。この
帯電粒子をひっぱって一定距離走行させコレクタに流入
させるがこの測定部は図1中に図示を省略してあり、詳
細を図2に示す。When the particle concentration in the vacuum chamber 11 is evaluated, the measurement chamber 18 and the X-ray source chamber 19 are placed in a vacuum state in advance, and the on-off valve 14 is opened when the particle concentration in the vacuum chamber 11 is evaluated. . The X-rays 24 pass through the X-ray window 16 and are applied to a part of particles or the like existing in the measurement chamber 18, and emit photoelectrons to be charged particles. The charged particles are pulled and run for a certain distance to flow into the collector, but this measuring unit is not shown in FIG. 1, and details are shown in FIG.
【0017】図2は測定室18に設置した測定部の構成
例を示す説明図であって、X線シールド41、42の開
口部43を通り抜けてくるX線24が当たって光電子を
放出したパーティクルなどからなる正帯電粒子44は、
電子コレクタ45(例えば約+1kv)と電子コレクタ4
5より低電位(例えば約−1kv)の網状加速電極46か
らなる静電界生成用電極の間に形成される静電界により
加速電極46の方に引っぱられ、その大部分は加速電極
46の網をくぐり抜け、ドリフトチューブ47内の定電
位空間を定速運動して正帯電粒子44の発生部よりも低
電位のコレクタ48(例えば約−1kv)に流入するよう
にしてある。コレクタ48として二次電子増幅作用を有
するもの、例えばマイクロチャンネルプレートを用いる
とコレクタ48に流入する電流値は増倍されてその出力
段へとり出すことができ、以下、図示してないが出力段
の抵抗体の両端間に発生する電圧をオシロスコープの垂
直軸信号入力端子に加える。FIG. 2 is an explanatory view showing an example of the structure of the measuring section installed in the measuring chamber 18, in which particles emitted by the X-rays 24 passing through the openings 43 of the X-ray shields 41, 42 and emitting photoelectrons. The positively charged particles 44 composed of
The electron collector 45 (for example, about +1 kv) and the electron collector 4
5 is pulled toward the accelerating electrode 46 by the electrostatic field formed between the electrostatic field generating electrodes composed of the reticulated accelerating electrode 46 having a potential lower than 5 (for example, about −1 kv), and most of them are connected to the accelerating electrode 46 network. After passing through, the constant potential space in the drift tube 47 is moved at a constant speed and flows into the collector 48 (eg, about −1 kv) having a lower potential than the generation portion of the positively charged particles 44. If a collector having a secondary electron amplifying action is used as the collector 48, for example, a microchannel plate is used, the current value flowing into the collector 48 can be multiplied and taken out to the output stage. Apply the voltage generated across the resistor to the vertical signal input terminal of the oscilloscope.
【0018】一方、電子コレクタ45にはパーティクル
等が放出した光電子49が集められるので、この出力段
に発生する電圧を前記オシロスコープの掃引開始トリガ
ーとして用いたり、コレクタ48の出力段の出力電圧が
比較する基準電圧にしたりすることによりオシロスコー
プ上にコレクタ電流対走行時間の波形を描かせ記録す
る。なお、電子コレクタ45も増倍作用のあるマイクロ
チャンネルプレートを用いることができる。また一個以
上のX線反射ミラー50等をX線24の入射空間の周囲
に配し、正帯電粒子44の生成確率を上げるよう入射す
るX線24の少なくとも一部を何回か反射して空間に再
投射させるようにしてもよい。なお、前記した「コレク
タ電流」は、単位時間当たりに帯電粒子がコレクタへ流
入する個数のカウント値で表現してもよいものである。On the other hand, since photoelectrons 49 emitted from particles are collected in the electron collector 45, the voltage generated at this output stage is used as a sweep start trigger of the oscilloscope, or the output voltage at the output stage of the collector 48 is compared. The waveform of collector current vs. transit time is drawn and recorded on the oscilloscope by setting it as a reference voltage. The electron collector 45 may also be a microchannel plate having a multiplication effect. Further, one or more X-ray reflection mirrors 50 and the like are arranged around the incident space of the X-rays 24, and at least a part of the incident X-rays 24 are reflected several times so as to increase the generation probability of the positively charged particles 44. May be re-projected. The above-mentioned "collector current" may be expressed by a count value of the number of charged particles flowing into the collector per unit time.
【0019】図2に示す測定部が図1の測定室18内に
収めてあるが、図1の開閉弁14を開ける前にこの測定
部によりコレクタ電流対走行時間の波形を描かせパーテ
ィクル情報プロファイルを記録しておけば測定室18単
独での清浄度も評価可能で、いわゆるバックグラウンド
測定ができる。The measuring unit shown in FIG. 2 is housed in the measuring chamber 18 shown in FIG. 1. Before the opening / closing valve 14 shown in FIG. 1 is opened, the measuring unit draws a waveform of collector current vs. transit time. By recording, the cleanliness of the measuring chamber 18 alone can be evaluated, and so-called background measurement can be performed.
【0020】前記レーザー発信器20と金属ターゲット
23で構成したレーザープラズマX線源は、電子銃と金
属ターゲットを対向させたパルス状電子ビーム励起X線
源とすることもできる。The laser plasma X-ray source composed of the laser oscillator 20 and the metal target 23 may be a pulsed electron beam excitation X-ray source in which the electron gun and the metal target are opposed to each other.
【0021】図3はオシロスコープに描かれるパーティ
クル濃度プロファイルの一例である。FIG. 3 is an example of a particle concentration profile drawn on an oscilloscope.
【0022】横軸は、パルス状X線照射後の経過時間で
パーティクルの走行時間に相当し、ほぼパーティクルの
サイズに対応する。縦軸はコレクタ電流で、パーティク
ル濃度に相当している。The abscissa represents the elapsed time after the pulsed X-ray irradiation, which corresponds to the transit time of the particles, and corresponds to the size of the particles. The vertical axis represents the collector current, which corresponds to the particle concentration.
【0023】真空室やクリーンルームの室内におけるパ
ーティクルサイズに対するパーティクル数あるいはパー
ティクル濃度の関係は、通常、サイズが小さくなるほど
数が増大する傾向になる。しかしパーティクルサイズが
小さくなるとX線が衝突する断面積が減るので、前記プ
ロファイルは一般に図4の曲線aのようにサイズや走行
時間の大きい所と小さい所で下がるプロファイルとな
る。The relationship between the number of particles and the particle concentration with respect to the particle size in a vacuum chamber or a clean room usually tends to increase as the size decreases. However, as the particle size becomes smaller, the cross-sectional area where X-rays collide decreases, so that the profile generally becomes a profile that decreases at a place where the size and running time are large and a place where the running time is small as shown by the curve a in FIG.
【0024】経験的な事実として、真空室やクリーンル
ーム内において、あるサイズのパーティクル数が減れば
これと異なるサイズのパーティクル数も減る関係がある
ので、図4のようなプロファイルから、例えばサイズ相
当値が0.5μm 程度より小さいサイズのパーティクル
の濃度情報が得られれば、それより大きいサイズのパー
ティクル濃度の状況もほぼ判断できる。サイズが小さい
ところで上記パーティクル濃度情報の変化をモニタして
いればサイズに関係ないパーティクル濃度の全体像の変
化も察知できるわけである。As an empirical fact, there is a relationship that if the number of particles of a certain size decreases in a vacuum chamber or a clean room, the number of particles of a different size also decreases, so from the profile shown in FIG. If the density information of particles having a size smaller than about 0.5 μm is obtained, the situation of the particle density of particles having a size larger than that can be almost determined. If the change in the particle concentration information is monitored at a small size, it is possible to detect a change in the overall image of particle concentration regardless of the size.
【0025】本発明による評価方式はX線による物質の
イオン化原理に基づいているので、原理上、パーティク
ルサイズがいくら小さくても(極端に言えば原子1個の
大きさになっても)イオン化し、それを電界の作用で、
電流として検出することができる。即ち、パーティクル
サイズの小さい方は殆どガス分子サイズに近い極小のと
ころまでパーティクル濃度の大小やその増減変化の情報
を容易に得ることができる。半導体デバイスの製造など
では近時益々清浄な空間が必要とされるようになってお
り、例えばサイズが0.5μm 程度以上のパーティクル
の数が1立方フィート当たり10個以下とか1個以下と
いう超クリーン空間が要求されつつある。そのような超
クリーン空間でサイズ0.5μm 程度以上のパーティク
ル数が僅少の場合のパーティクル濃度情報も同図の曲線
bで定性的に示したように比較的容易かつ安定に知るこ
とができる。Since the evaluation method according to the present invention is based on the principle of ionizing a substance by X-rays, in principle, even if the particle size is small, no matter how small the particle size is, it becomes ionized. , By the action of the electric field,
It can be detected as a current. That is, the smaller particle size makes it possible to easily obtain the information on the particle concentration and its increase / decrease even at a local minimum close to the gas molecule size. In the production of semiconductor devices, clean spaces are becoming more and more necessary in recent years. For example, the number of particles with a size of 0.5 μm or more is less than 10 particles per cubic foot, or less than 1 particle. Space is being demanded. The particle concentration information when the number of particles having a size of about 0.5 μm or more in such an ultra-clean space is small can be relatively easily and stably known as qualitatively shown by the curve b in FIG.
【0026】そして浮遊パーティクルを直接測定評価で
きるばかりでなく、基板やウェハー上に付着したパーテ
ィクルの濃度情報も付着したパーティクルをX線で帯電
させて電界でひっぱり出すことにより求めることができ
る。また本方式はX線による光電子放出作用を利用して
いるので、まわりからの光が評価機能を妨げることも殆
どなく、強い紫外線の進入がないよう留意すればよい程
度である。Not only the floating particles can be directly measured and evaluated, but also the concentration information of the particles adhered on the substrate or wafer can be obtained by charging the adhered particles with X-rays and pulling them out with an electric field. Further, since this method utilizes the photoelectron emission effect by X-rays, light from the surroundings hardly interferes with the evaluation function, and it suffices to take care so that strong ultraviolet rays do not enter.
【0027】尚、前記プロファイルデータから、パーテ
ィクル数の定量的な値を求めるには、例えばポリスチレ
ンラテックスなどの標準粒子で感度校正を行なうことに
なる。In order to obtain a quantitative value of the number of particles from the profile data, sensitivity calibration is performed using standard particles such as polystyrene latex.
【0028】[0028]
【発明の効果】以上に説明したように、この発明によれ
ば、周囲の光の影響を受けないようにし、かつ直径0.
5μm 程度以下の小さなパーティクルも測定できるよう
にしたもので、特に超クリーンな空間を評価するのに有
用な手段が提供できる効果がある。As described above, according to the present invention, the influence of ambient light is eliminated and the diameter of 0.
It is designed to measure even small particles of 5 μm or less, and is effective in providing a useful means especially for evaluating an ultraclean space.
【0029】真空室内のパーティクル濃度の評価ばかり
でなく、空気中に置いてパーティクルを表面に溜めた基
板を測定室に収容して測定することにより空気中のパー
ティクル濃度情報を得ることもできる。又、空気を直接
測定室内に注入した後真空に排気し、そのとき残留して
いるパーティクルをX線照射により帯電させて測定評価
することもできる。Not only the particle concentration in the vacuum chamber can be evaluated, but also the particle concentration information in the air can be obtained by placing the substrate in the air and accommodating the substrate having the particles accumulated on the surface in the measuring chamber. It is also possible to directly inject air into the measurement chamber and then to evacuate it to a vacuum, and to charge the remaining particles by X-ray irradiation for measurement and evaluation.
【図1】この発明の実施例の構成図である。FIG. 1 is a configuration diagram of an embodiment of the present invention.
【図2】同じく実施例の測定部の構成図である。FIG. 2 is a configuration diagram of a measuring unit of the embodiment as well.
【図3】同じく実施例で得られるコレクタ電流対走行時
間のプロファイルデータの一例である。FIG. 3 is an example of profile data of collector current vs. transit time similarly obtained in the example.
【図4】従来のレーザービームの散乱光を利用する方式
の原理図である。FIG. 4 is a principle diagram of a conventional method that uses scattered light of a laser beam.
11 真空室 13 隔離室 14 開閉弁 16 X線用窓 18 測定室 19 X線源室 20 レーザー発信器 21 レーザービーム 23 金属薄板ターゲット 24 X線 25 真空配管 44 正帯電粒子 45 電子コレクタ 46 加速電極 47 ドリフトチューブ 48 コレクタ 11 vacuum chamber 13 isolation chamber 14 on-off valve 16 X-ray window 18 measurement chamber 19 X-ray source chamber 20 laser transmitter 21 laser beam 23 thin metal plate target 24 X-ray 25 vacuum piping 44 positively charged particles 45 electron collector 46 acceleration electrode 47 Drift tube 48 collector
─────────────────────────────────────────────────────
─────────────────────────────────────────────────── ───
【手続補正書】[Procedure amendment]
【提出日】平成5年4月23日[Submission date] April 23, 1993
【手続補正1】[Procedure Amendment 1]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】0023[Name of item to be corrected] 0023
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【0023】真空室やクリーンルームの室内におけるパ
ーティクルサイズに対するパーティクル数あるいはパー
ティクル濃度の関係は、通常、サイズが小さくなるほど
数が増大する傾向になる。しかしパーティクルサイズが
小さくなるとX線が衝突する断面積が減るので、前記プ
ロファイルは一般に図3の曲線aのようにサイズや走行
時間の大きい所と小さい所で下がるプロファイルとな
る。The relationship between the number of particles and the particle concentration with respect to the particle size in a vacuum chamber or a clean room usually tends to increase as the size decreases. However, since the cross-sectional area of the particle size decreases X-rays impinge is reduced, the profile will be generally profile decreases at where large size and the running time and small, such as curve a in FIG.
【手続補正2】[Procedure Amendment 2]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】0024[Name of item to be corrected] 0024
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【0024】経験的な事実として、真空室やクリーンル
ーム内において、あるサイズのパーティクル数が減れば
これと異なるサイズのパーティクル数も減る関係がある
ので、図3のようなプロファイルから、例えばサイズ相
当値が0.5μm 程度より小さいサイズのパーティクル
の濃度情報が得られれば、それより大きいサイズのパー
ティクル濃度の状況もほぼ判断できる。サイズが小さい
ところで上記パーティクル濃度情報の変化をモニタして
いればサイズに関係ないパーティクル濃度の全体像の変
化も察知できるわけである。[0024] As empirical facts, in a vacuum chamber or a clean room, there is a number of particles is also reduced relation size to differ from this as the number of particles of a certain size Helle, from the profile shown in FIG. 3, for example, the size corresponding value If the density information of particles having a size smaller than about 0.5 μm is obtained, the situation of the particle density of particles having a size larger than that can be almost determined. If the change in the particle concentration information is monitored at a small size, it is possible to detect a change in the overall image of particle concentration regardless of the size.
Claims (5)
帯電させ、帯電したパーティクルを静電界で吸引して一
定距離走行させてからコレクタへ流入させ、コレクタ流
入値対帯電パーティクルの走行時間のプロファイルデー
タを得るようにしたことを特徴とするパーティクル濃度
評価方法。1. A profile of a particle inflow value vs. a traveling time of a charged particle, which is obtained by irradiating a particle with pulsed X-rays to charge the particle, attracting the charged particle with an electrostatic field and causing the particle to travel for a predetermined distance before flowing into a collector. A particle concentration evaluation method characterized by obtaining data.
はコレクタ流入パーティクル数とする請求項1記載のパ
ーティクル濃度評価方法。2. The particle concentration evaluation method according to claim 1, wherein the collector inflow value is a collector inflow current or the number of collector inflow particles.
空間に設置された静電界生成用電極と、静電界生成用電
極に隣接配置したドリフトチューブと、ドリフトチュー
ブの一端に設置したコレクタを備えたことを特徴とする
パーティクル濃度評価装置。3. A pulsed X-ray source, an electrostatic field generation electrode installed in a pulsed X-ray radiation space, a drift tube disposed adjacent to the electrostatic field generation electrode, and installed at one end of the drift tube. A particle concentration evaluation device comprising a collector.
ーム源又はパルス状電子ビーム源とターゲットで構成し
た請求項3記載のパーティクル濃度評価装置。4. The particle concentration evaluation apparatus according to claim 3, wherein the pulsed X-ray source comprises a pulsed laser beam source or a pulsed electron beam source and a target.
静電界生成用電極、ドリフトチューブおよびコレクタを
収容した測定室が、X線用窓となる薄板を備えた仕切板
で分離されて構成してある請求項3又は4記載のパーテ
ィクル濃度評価装置。5. An X-ray source chamber comprising a pulsed X-ray source,
The particle concentration evaluation device according to claim 3, wherein the measurement chamber containing the electrostatic field generating electrode, the drift tube, and the collector is separated by a partition plate having a thin plate serving as an X-ray window.
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