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JPH06226473A - Laser marking method - Google Patents

Laser marking method

Info

Publication number
JPH06226473A
JPH06226473A JP5019124A JP1912493A JPH06226473A JP H06226473 A JPH06226473 A JP H06226473A JP 5019124 A JP5019124 A JP 5019124A JP 1912493 A JP1912493 A JP 1912493A JP H06226473 A JPH06226473 A JP H06226473A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
work
lens
laser light
marking
laser
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5019124A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shuya Matsuyama
修也 松山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fuji Electric Co Ltd
Original Assignee
Fuji Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Electric Co Ltd filed Critical Fuji Electric Co Ltd
Priority to JP5019124A priority Critical patent/JPH06226473A/en
Publication of JPH06226473A publication Critical patent/JPH06226473A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Laser Beam Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】ワークの一回のセットだけで容易,迅速に、そ
の上面と側面とに同時にレーザマーキングする。 【構成】fθレンズ5 の周縁部を通るレーザ光は、反射
ミラー6 を介して反射された後にワーク10の側面に照射
され、同じくその中心部を通るレーザ光は、直接ワーク
10の上面に照射され、それぞれの箇所にマーキングがな
される。ここで、fθレンズ5 の周縁部を通るレーザ光
が、反射ミラー6 を介してワーク10の側面を照射すると
きの光路長は、同じレーザ光が直接ワーク10の上面の延
長面上を仮想的に照射するときの光路長と等しくなるよ
うに、反射ミラー6 を位置決めする必要がある。この方
法は、一般にワーク側面が上面に対して小さい傾斜角度
をとり、かつワーク側面のマーキング位置が上面に近い
場合に好適である。
(57) [Summary] [Purpose] Laser marking can be easily and quickly performed on the top and side surfaces of the workpiece simultaneously with just one set. [Structure] The laser light passing through the peripheral portion of the fθ lens 5 is reflected by a reflection mirror 6 and then radiated to the side surface of the work 10. Similarly, the laser light passing through the center of the work 10 directly passes through the work.
The top surface of 10 is illuminated and markings are made on each location. Here, the optical path length when the laser light passing through the peripheral portion of the fθ lens 5 irradiates the side surface of the work 10 via the reflection mirror 6 is the same as that of the laser light, but the same laser light is virtually on the extension surface of the upper surface of the work 10. It is necessary to position the reflection mirror 6 so that it becomes equal to the optical path length when irradiating the light. This method is generally suitable when the side surface of the work has a small inclination angle with respect to the upper surface and the marking position on the side surface of the work is close to the upper surface.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、ワークの上面と側面
とにそれぞれマーキングするとき、偏向ミラーによって
振られたレーザ光を、fθレンズを通してワークの上面
と側面とにそれぞれ照射し、ワークの位置決め,姿勢決
めを変更することなく容易,迅速におこなうレーザマー
キング方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention, when marking the upper surface and the side surface of a work, respectively, irradiates the upper surface and the side surface of the work with a laser beam oscillated by a deflecting mirror to position the work. The present invention relates to a laser marking method that can be easily and quickly performed without changing the attitude determination.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来例について、図3の構成図を参照し
ながら説明する。図において、ワーク9 の上面と、側面
とにそれぞれマーキングをおこなうものとする。YAG
レーザ用のレーザ発振器1から出射されたレーザ光が、
一対の偏向ミラー2u,2v によって互いに直角に振られ、
fθレンズ5 を通ってワーク9 を照射する。すなわち、
レーザ光の照射箇所が、各偏向ミラー2u,2v によって、
ワーク9 の表面で走査され、この走査軌跡の部分がレー
ザ光の熱作用によって浅く彫り込まれてマーキングされ
る。したがって、まず、ワーク9 の上面にマーキングす
るときには、ワーク9 は実線のように、その上面がfθ
レンズ5 に対向するように位置決め, 姿勢決めされる。
次に、ワーク9 の側面にマーキングするときには、ワー
ク9 は一点鎖線のように、その側面がfθレンズ5 に対
向するように位置決め, 姿勢決めが変更される。
2. Description of the Related Art A conventional example will be described with reference to the block diagram of FIG. In the drawing, the upper surface and the side surface of the work 9 are marked respectively. YAG
The laser light emitted from the laser oscillator 1 for laser is
Swung at right angles to each other by a pair of deflection mirrors 2u and 2v,
The work 9 is irradiated through the fθ lens 5. That is,
The irradiation point of laser light is changed by each deflection mirror 2u, 2v.
The surface of the work 9 is scanned, and the portion of this scanning locus is shallowly engraved and marked by the thermal action of the laser light. Therefore, first, when marking the upper surface of the work 9, the work 9 has an upper surface of fθ as shown by the solid line.
The lens is positioned and oriented so as to face the lens 5.
Next, when the side surface of the work 9 is marked, the positioning and orientation of the work 9 are changed so that the side surface of the work 9 faces the fθ lens 5 as indicated by the alternate long and short dash line.

【0003】各偏向ミラー2u,2v は、それぞれ各アクチ
ュエータ3u,3v を介して、制御部4によって角度位置が
制御される。なお、偏向ミラー2uの回転軸線は、中心部
を通り紙面に直角であり、偏向ミラー2vの回転軸線は、
ミラー面に含まれ、その中心を通って紙面に平行であ
る。したがって、レーザ発振器1 から出射されたレーザ
光は、偏向ミラー2uによって、ワーク9 の表面上で図の
横方向に振られ、かつ偏向ミラー2vによって、ワーク9
の表面上で紙面に直角に振られることになる。
The angular positions of the deflection mirrors 2u and 2v are controlled by the control unit 4 via the actuators 3u and 3v, respectively. The rotation axis of the deflection mirror 2u passes through the central portion and is perpendicular to the paper surface, and the rotation axis of the deflection mirror 2v is
It is included in the mirror plane and runs parallel to the plane of the paper through its center. Therefore, the laser light emitted from the laser oscillator 1 is swayed in the lateral direction of the figure on the surface of the work 9 by the deflection mirror 2u, and is deflected by the deflection mirror 2v.
Will be shaken at right angles to the paper surface.

【0004】また、fθレンズ5 は、特殊な集光レンズ
で、各偏向ミラー2u,2v によって振られて比較的大きい
入射角で入射するレーザ光を、その名称のfθの通り、
入射角に比例して、ワーク中心から偏位した位置( =f
θ、f:焦点距離) に合焦させる、つまりワーク表面を
焦点面として集光させることができる。したがって、マ
ーキング図形を正確に描かせるための各偏向ミラー2u,2
v の振れ角度の設定演算が容易であり、かつ入射角θが
大きくなっても集光点は焦点面上に位置するから、マー
キング品質が良好である。これに対して、通常の集光レ
ンズは、集光のワーク中心からの位置がレーザ光の入射
角の正接に比例し、その意味でftan θレンズと呼ばれ
る。この場合、マーキング図形を正確に描かせるための
各偏向ミラー2u,2v の振れ角度の設定演算が複雑になる
とともに、入射角θが大きくなるに応じて集光点は焦点
面から逸脱し、そのためマーキング加工の切れ味が鈍り
品質が低下する。
Further, the fθ lens 5 is a special condenser lens, and the laser light oscillated by the deflection mirrors 2u and 2v and incident at a relatively large incident angle is represented by fθ of its name.
Position deviated from the center of the work in proportion to the incident angle (= f
θ, f: focal length), that is, the work surface can be focused as the focal plane. Therefore, each deflection mirror 2u, 2
The setting calculation of the shake angle of v is easy, and the focusing point is located on the focal plane even if the incident angle θ becomes large, so the marking quality is good. On the other hand, in a normal condenser lens, the position of the condenser from the work center is proportional to the tangent of the incident angle of the laser light, and in that sense, it is called an ftan θ lens. In this case, the setting calculation of the deflection angles of the deflection mirrors 2u and 2v for accurately drawing the marking figure becomes complicated, and the converging point deviates from the focal plane as the incident angle θ increases, so The sharpness of the marking process becomes dull and the quality deteriorates.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】従来例には次の欠点が
ある。つまり、ワークの上面と側面とにそれぞれマーキ
ングしたいとき、その都度ワークの位置決め,姿勢決め
を変更する必要があり、そのためマーキングの容易性,
迅速性が阻害される。この発明の課題は、従来の技術が
もつ以上の問題点を解消し、偏向ミラーによって振られ
たレーザ光をfθレンズを通してワークの上面と側面と
にそれぞれ照射し、ワークの位置決め,姿勢決めを変更
することなく容易,迅速に、ワークの上面と側面とにそ
れぞれマーキングするレーザマーキング方法を提供する
ことにある。
The conventional example has the following drawbacks. In other words, when it is desired to mark the top surface and the side surface of the work respectively, it is necessary to change the positioning and orientation of the work each time, which facilitates marking.
Promptness is impeded. An object of the present invention is to solve the above problems of the conventional technique, and to irradiate the upper and side surfaces of a work with laser light oscillated by a deflecting mirror through the fθ lens to change the positioning and orientation of the work. It is an object of the present invention to provide a laser marking method for marking the upper surface and the side surface of a work respectively easily and quickly without performing the above.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】請求項1に係るレーザマ
ーキング方法は、偏向ミラーによって振られたレーザ光
を、入射角に応じて一平面上の偏位箇所に合焦,照射可
能なfθレンズを通してワークの上面と側面とにそれぞ
れ照射し、そこにマーキングする方法であって、fθレ
ンズの全領域の内いずれかの箇所を通るレーザ光を、反
射ミラーを介して反射した後にワーク側面に照射し、f
θレンズの全領域の内いずれかの箇所を通るレーザ光
を、直接ワーク上面に照射する。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a laser marking method capable of focusing and irradiating a laser beam oscillated by a deflecting mirror on a deviation point on a plane according to an incident angle. A method of irradiating the upper surface and the side surface of the work respectively through them and marking them, wherein the laser light passing through any part of the entire area of the fθ lens is reflected on a reflection mirror and then irradiated to the side surface of the work. And f
The upper surface of the work is directly irradiated with the laser light passing through any part of the entire area of the θ lens.

【0007】請求項2に係るレーザマーキング方法は、
偏向ミラーによって振られたレーザ光を、入射角に応じ
て一平面上の偏位箇所に合焦,照射可能なfθレンズを
通してワークの上面と側面とにそれぞれ照射し、そこに
マーキングする方法であって、fθレンズの全領域の内
いずれかの箇所を通るレーザ光を、第1の反射ミラーを
介して反射した後にワーク側面に照射し、fθレンズの
全領域の内いずれかの箇所を通るレーザ光を、第2の複
数個の反射ミラーを介して反射した後にワーク上面に照
射する。
A laser marking method according to claim 2 is
A laser beam oscillated by a deflecting mirror is focused on a deviation point on one plane according to an incident angle, and is irradiated onto the upper surface and side surface of a work through an fθ lens capable of irradiation, and marking is performed there. Laser light passing through any part of the entire area of the fθ lens is reflected by the first reflecting mirror and then radiated to the side surface of the work, and the laser light passing through any part of the entire area of the fθ lens. The light is reflected on the second plurality of reflection mirrors and then radiated on the upper surface of the work.

【0008】[0008]

【作用】請求項1に係るレーザマーキング方法では、f
θレンズの全領域の内いずれかの箇所を通るレーザ光
が、反射ミラーを介して反射された後にワーク側面に照
射され、fθレンズの全領域の内いずれかの箇所を通る
レーザ光が、直接ワーク上面に照射される。
In the laser marking method according to the first aspect, f
Laser light passing through any part of the entire area of the θ lens is reflected by the reflection mirror and then irradiated to the side surface of the work, and laser light passing through any part of the entire area of the fθ lens is directly reflected. It is irradiated on the upper surface of the work.

【0009】請求項2に係るレーザマーキング方法で
は、fθレンズの全領域の内いずれかの箇所を通るレー
ザ光が、第1の反射ミラーを介して反射された後にワー
ク側面に照射され、fθレンズの全領域の内いずれかの
箇所を通るレーザ光が、第2の複数個の反射ミラーを介
して反射された後にワーク上面に照射される。
In the laser marking method according to the second aspect of the present invention, the laser light passing through any part of the entire area of the fθ lens is reflected by the first reflecting mirror and then radiated to the side surface of the work, and the fθ lens is irradiated. Of the laser light passing through any part of the whole area of (1) is reflected on the second plurality of reflecting mirrors and then is irradiated on the upper surface of the work.

【0010】[0010]

【実施例】この発明に係るレーザマーキング方法の適用
例について、以下に図を参照しながら説明する。図1は
第1適用例であるレーザマーキング装置( 以下、第1装
置という) の側面図である。図において、第1装置が従
来例と異なるのは、ワーク10が従来例におけるものと異
なり、側面が上面に対して傾斜している点、およびその
側面の照射用に反射ミラー6 を追加設置した点である。
その外の部材は従来例と同じであり、同じ符号を付けて
ある。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An application example of the laser marking method according to the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a side view of a laser marking device (hereinafter referred to as a first device) as a first application example. In the figure, the first device is different from the conventional example in that the work 10 is different from that in the conventional example, the side surface is inclined with respect to the upper surface, and a reflection mirror 6 is additionally installed for irradiation of the side surface. It is a point.
The other members are the same as those in the conventional example and are designated by the same reference numerals.

【0011】したがって、fθレンズ5 の全領域の内い
ずれかの箇所を通る(この場合は、周縁部を通る)レー
ザ光が、反射ミラー6 を介して反射された後にワーク10
の側面に照射されるとともに、fθレンズ5 の全領域の
内いずれかの箇所を通る(この場合は、中心部を通る)
レーザ光が、直接ワーク10の上面に照射されて、それぞ
れの箇所にマーキングがおこなわれる。ここで、fθレ
ンズ5 の周縁部を通るレーザ光が、反射ミラー6 を介し
てワーク10の側面を照射するときの光路長は、その同じ
レーザ光が、直接ワーク10の上面の延長面上を仮想的に
照射するときの光路長と等しくなければならない。すな
わち、その条件が成り立つように、反射ミラー6 の位置
決めがなされる必要がある。言いかえれば、その条件に
対する誤差に応じてマーキング加工の切り味は鈍くな
り、品質が低下することになる。一般に、第1装置は、
ワーク側面が上面に対して小さい傾斜角度をとり、かつ
ワーク側面のマーキング位置が上面に近い場合に好適で
ある。
Therefore, the laser light passing through any part of the entire area of the fθ lens 5 (in this case, the peripheral portion) is reflected by the reflecting mirror 6, and then the work 10 is processed.
Of the fθ lens 5 and passes through any part of the entire area of the fθ lens 5 (in this case, it passes through the central portion).
Laser light is directly applied to the upper surface of the work 10 to mark each position. Here, the optical path length when the laser light passing through the peripheral portion of the fθ lens 5 irradiates the side surface of the work 10 via the reflection mirror 6 is the same laser light directly on the extension surface of the upper surface of the work 10. It must be equal to the optical path length when virtually illuminating. That is, the reflection mirror 6 must be positioned so that the condition is satisfied. In other words, the sharpness of the marking process becomes dull depending on the error with respect to the condition, and the quality deteriorates. Generally, the first device is
This is suitable when the work side surface has a small inclination angle with respect to the top surface and the marking position on the work side surface is close to the top surface.

【0012】図2は第2適用例であるレーザマーキング
装置( 以下、第2装置という) の側面図である。図にお
いて、第2装置が第1装置と異なるのは、上面の照射用
に一対の反射ミラー7A,7B を追加設置した点である。こ
の各反射ミラー7A,7B によって、fθレンズ5 の全領域
の内いずれかの箇所(この場合は周縁部)を通り反射ミ
ラー6 を介してワーク側面を照射する箇所と、同じくそ
の全領域の内いずれかの箇所(この場合は中心部)を通
りワーク上面を照射する箇所とが、共通な焦点面上に位
置するように調整される。なお、第2装置の場合のワー
ク9 は、第1装置のときと異なって、その側面が上面と
ほぼ直角である。
FIG. 2 is a side view of a laser marking apparatus (hereinafter referred to as a second apparatus) which is a second application example. In the figure, the second device is different from the first device in that a pair of reflection mirrors 7A and 7B are additionally installed for irradiation of the upper surface. By each of the reflection mirrors 7A and 7B, a part of the entire area of the fθ lens 5 is irradiated through the reflection mirror 6 to the side surface of the workpiece through any part (in this case, the peripheral edge portion) of the fθ lens 5, and the entire area of the same area It is adjusted so that a position passing through any one of the positions (in this case, the central portion) and irradiating the work upper surface is located on a common focal plane. Note that the work 9 in the case of the second device has a side surface substantially perpendicular to the top surface, unlike the case of the first device.

【0013】第2装置では、fθレンズ5 の全領域の内
いずれかの箇所(この場合は周縁部)を通る一方のレー
ザ光が、ワーク9 の側面に対応する反射ミラー6 を介し
て反射されてワーク側面に照射され、fθレンズ5 の全
領域の内いずれかの箇所(この場合は中心部)を通る他
方のレーザ光が、一対の反射ミラー7A,7B を介して反射
されてワーク上面に照射される。しかも、fθレンズ5
の全領域の内いずれかの箇所(この場合は周縁部)を通
り反射ミラー6 を介してワーク側面を照射する箇所と、
同じくその全領域の内いずれかの箇所(この場合は中央
部)を通り各反射ミラー7A,7B を介してワーク上面を照
射する箇所とが、共通な焦点面上に位置するから、ワー
ク9 の側面, 上面ともに正確にレーザ光が合焦状態で照
射され、品質の良好なマーキングがおこなわれる。しか
も、第1装置におけるのと異なって、ワーク側面の上面
に対する傾斜角度や、マーキング位置に係る制約が全く
ない。ところで、ワーク9 の上面に対応する反射ミラー
は、第2装置におけるように一対に限定されることはな
く、一般には複数個になる。
In the second device, one of the laser beams passing through any part (in this case, the peripheral part) of the entire area of the fθ lens 5 is reflected through the reflecting mirror 6 corresponding to the side surface of the work 9. The laser light of the other side, which is emitted to the side surface of the work and passes through any part (in this case, the central part) of the entire area of the fθ lens 5, is reflected by the pair of reflection mirrors 7A and 7B and is reflected on the top surface of the work. Is irradiated. Moreover, fθ lens 5
Of the whole area of (1) in which the side surface of the work is irradiated via the reflection mirror 6 through any one of the areas (in this case, the peripheral edge),
Similarly, the position where the upper surface of the work is irradiated through any one of the entire area (in this case, the central part) and via each of the reflection mirrors 7A and 7B is located on the common focal plane. Laser light is accurately focused on both the side and top surfaces for good quality marking. Moreover, unlike the first device, there is no restriction on the inclination angle of the side surface of the work with respect to the upper surface and the marking position. By the way, the reflection mirrors corresponding to the upper surface of the work 9 are not limited to a pair as in the second device, but are generally plural.

【0014】[0014]

【発明の効果】請求項1に係るレーザマーキング方法で
は、fθレンズの全領域の内いずれかの箇所を通るレー
ザ光が、反射ミラーを介して反射された後にワーク側面
に照射され、fθレンズの全領域の内いずれかの箇所を
通るレーザ光が、直接ワーク上面に照射される。したが
って、ワークの上面と側面とにそれぞれマーキングする
とき、ワークの位置決め,姿勢決めを変更することなく
一回のセットですみ、容易,迅速におこなうことができ
る。とくに、fθレンズの全領域の内いずれかの箇所を
通るレーザ光がワーク側面を、照射する箇所と、同じく
その全領域の内いずれかの箇所を通るレーザ光がワーク
上面を照射する箇所とがほぼ共通な焦点面上に位置する
ときには、反射ミラー1個だけの追加設置ですむから、
マーキング品質が維持されたまま、構造が簡単になり、
かつ調整工数も少なくてすみ、コスト低減が図れる。一
般に、ワーク側面が上面に対して小さい傾斜角度をと
り、かつワーク側面のマーキング位置が上面に近い場合
に好適である。
In the laser marking method according to the first aspect of the present invention, the laser light passing through any part of the entire area of the f.theta. The laser light passing through any one of the entire areas is directly irradiated on the upper surface of the work. Therefore, when marking the upper surface and the side surface of the work respectively, it is possible to perform the setting only once without changing the positioning and orientation of the work, and the operation can be performed easily and quickly. In particular, there are a position where the laser light passing through any part of the entire area of the fθ lens irradiates the side surface of the work and a part where the laser light passing through any part of the same area irradiates the work upper surface. When they are located on a common focal plane, only one reflecting mirror needs to be installed,
The structure is simplified while maintaining the marking quality,
Moreover, the number of adjustment man-hours is small, and the cost can be reduced. Generally, it is suitable when the work side surface has a small inclination angle with respect to the top surface and the marking position on the work side surface is close to the top surface.

【0015】請求項2に係るレーザマーキング方法で
は、fθレンズの全領域の内いずれかの箇所を通るレー
ザ光が、第1の反射ミラーを介して反射された後にワー
ク側面に照射され、fθレンズの全領域の内いずれかの
箇所を通るレーザ光が、第2の複数個の反射ミラーを介
して反射された後にワーク上面に照射される。したがっ
て、前項と同じ効果の外に、fθレンズの全領域の内い
ずれかの箇所を通るレーザ光が第1の反射ミラーを介し
てワーク側面を照射する箇所と、同じくその全領域の内
いずれかの箇所を通るレーザ光が第2の複数個の反射ミ
ラーを介してワーク上面を照射する箇所とが、正確に共
通な焦点面上に位置するように調整することができるか
ら、高品質のマーキングが得られる。しかも、ワーク側
面の上面に対する傾斜角度や、マーキング位置に係る制
約が全くなく、ワーク形状やマーキングに柔軟性をもた
せることができる。
In the laser marking method according to the second aspect, the laser light passing through any part of the entire area of the fθ lens is reflected on the first reflecting mirror and then radiated to the side surface of the work, and the fθ lens. Of the laser light passing through any part of the whole area of (1) is reflected on the second plurality of reflecting mirrors and then is irradiated on the upper surface of the work. Therefore, in addition to the same effect as in the preceding paragraph, the laser beam passing through any part of the entire area of the fθ lens irradiates the side surface of the work through the first reflecting mirror, and also within any of the whole area. It is possible to adjust so that the laser beam passing through the point of irradiates the upper surface of the work through the second plurality of reflection mirrors and is accurately located on the common focal plane, so that high-quality marking is possible. Is obtained. Moreover, since there is no restriction on the inclination angle of the side surface of the work with respect to the upper surface and the marking position, it is possible to give flexibility to the work shape and marking.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】発明に係る第1適用例であるレーザマーキング
装置の側面図
FIG. 1 is a side view of a laser marking device according to a first application example of the invention.

【図2】第2適用例であるレーザマーキング装置の側面
FIG. 2 is a side view of a laser marking device as a second application example.

【図3】従来例の側面図FIG. 3 is a side view of a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 レーザ発振器 2u,2v 偏向ミラー 3u,3v アクチュエータ 4 制御部 5 fθレンズ 6 反射ミラー 7A,7B 反射ミラー 9,10 ワーク 1 Laser Oscillator 2u, 2v Deflection Mirror 3u, 3v Actuator 4 Control Unit 5 fθ Lens 6 Reflection Mirror 7A, 7B Reflection Mirror 9,10 Work

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】偏向ミラーによって振られたレーザ光を、
入射角に応じて一平面上の偏位箇所に合焦,照射可能な
fθレンズを通してワークの上面と側面とにそれぞれ照
射し、そこにマーキングする方法であって、fθレンズ
の全領域の内いずれかの箇所を通るレーザ光を、反射ミ
ラーを介して反射した後にワーク側面に照射し、fθレ
ンズの全領域の内いずれかの箇所を通るレーザ光を、直
接ワーク上面に照射することを特徴とするレーザマーキ
ング方法。
1. A laser beam oscillated by a deflection mirror,
A method of irradiating the upper surface and the side surface of a work respectively through a fθ lens capable of focusing and irradiating a deviation point on one plane according to an incident angle, and marking there, which is one of all areas of the fθ lens The laser beam passing through any one of the points is reflected by a reflection mirror and then radiated to the side surface of the work, and the laser beam passing through any one of the entire area of the fθ lens is directly radiated to the upper surface of the work. Laser marking method.
【請求項2】偏向ミラーによって振られたレーザ光を、
入射角に応じて一平面上の偏位箇所に合焦,照射可能な
fθレンズを通してワークの上面と側面とにそれぞれ照
射し、そこにマーキングする方法であって、fθレンズ
の全領域の内いずれかの箇所を通るレーザ光を、第1の
反射ミラーを介して反射した後にワーク側面に照射し、
fθレンズの全領域の内いずれかの箇所を通るレーザ光
を、第2の複数個の反射ミラーを介して反射した後にワ
ーク上面に照射することを特徴とするレーザマーキング
方法。
2. A laser beam oscillated by a deflection mirror,
A method of irradiating the upper surface and the side surface of a work respectively through a fθ lens capable of focusing and irradiating a deviation point on one plane according to an incident angle, and marking there, which is one of all areas of the fθ lens The laser light passing through that point is reflected on the first reflecting mirror and then radiated to the side surface of the work,
A laser marking method, characterized in that a laser beam passing through any part of the entire area of the fθ lens is reflected on a second plurality of reflecting mirrors and then is irradiated onto the upper surface of the work.
JP5019124A 1993-02-08 1993-02-08 Laser marking method Pending JPH06226473A (en)

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JP5019124A JPH06226473A (en) 1993-02-08 1993-02-08 Laser marking method

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JP5019124A JPH06226473A (en) 1993-02-08 1993-02-08 Laser marking method

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