JPH06176994A - Manufacturing-rule check system - Google Patents
Manufacturing-rule check systemInfo
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- JPH06176994A JPH06176994A JP5050432A JP5043293A JPH06176994A JP H06176994 A JPH06176994 A JP H06176994A JP 5050432 A JP5050432 A JP 5050432A JP 5043293 A JP5043293 A JP 5043293A JP H06176994 A JPH06176994 A JP H06176994A
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Links
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 278
- 239000000047 product Substances 0.000 claims description 117
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 59
- 230000006870 function Effects 0.000 claims description 33
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 31
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims description 24
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 claims description 21
- 238000013461 design Methods 0.000 claims description 10
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 10
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 10
- 238000001459 lithography Methods 0.000 claims description 7
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 5
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims description 4
- 238000004886 process control Methods 0.000 claims description 4
- 238000011109 contamination Methods 0.000 claims description 3
- 238000003780 insertion Methods 0.000 claims description 3
- 230000037431 insertion Effects 0.000 claims description 3
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 claims description 2
- 230000005283 ground state Effects 0.000 claims 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 22
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 17
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 11
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 11
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 6
- 101100269850 Caenorhabditis elegans mask-1 gene Proteins 0.000 description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 5
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 5
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 4
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 4
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 4
- 241000282414 Homo sapiens Species 0.000 description 2
- 241000917703 Leia Species 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 241000282412 Homo Species 0.000 description 1
- 235000006040 Prunus persica var persica Nutrition 0.000 description 1
- 240000006413 Prunus persica var. persica Species 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
Landscapes
- Management, Administration, Business Operations System, And Electronic Commerce (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、複数の製造工程を有
し、異なる工程順序と処理(製造)条件を持つ多数の被
生産対象を同時に製造・処理を行う多品種変量製造ライ
ンにおける処理の流れ(製造規則/以下、プロセスフロ
ーという)をチェックする製造規則チェックシステムに
関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a process in a multi-product variable production line which has a plurality of manufacturing processes and simultaneously manufactures and processes a large number of objects to be produced having different process sequences and processing (manufacturing) conditions. The present invention relates to a manufacturing rule checking system for checking a flow (manufacturing rule / hereinafter referred to as a process flow).
【0002】[0002]
【従来の技術】技術者・研究者あるいはコンピュータが
組んだプロセスフローは必ずしも正しいとは限らない。
例えば、図39に示すプロセスフローは、工程番号5の
リソグラフィ工程の後に本当ならば検査工程が無ければ
ならない。また、工程番号3のアルミニウムスパッタ工
程の後に、SH処理は指定できない等のミスがある。2. Description of the Related Art A process flow created by an engineer / researcher or a computer is not always correct.
For example, in the process flow shown in FIG. 39, if the lithographic process of process number 5 is true, there should be no inspection process. Further, after the aluminum sputter process of process number 3, there is a mistake that SH processing cannot be specified.
【0003】従来、これら処理の流れは、プロセス/デ
バイスの熟練者(エキスパート)により行われていた。
しかし、技術者/研究者のプロセスフロー作成人数およ
び、プロセスフロー数に対して、チェックを行う熟練者
の数が不足しており、熟練者が1日の多くの時間をチェ
ックの対応に追われているのが現状である(おおよそ3
00工程の処理の流れをチェックするのに約30分を要
する程である)。Conventionally, the flow of these processes has been performed by a person skilled in the process / device.
However, the number of technicians / researchers who have created process flows and the number of process flows are insufficient for the number of skilled workers who perform checking, and the skilled workers spend a lot of time per day in checking. The current situation is (about 3
It takes about 30 minutes to check the process flow of the 00 process).
【0004】また、チェックを行う熟練者になるには長
年のプロセス/デバイスの経験と知識がなければなら
ず、簡単にはプロセスフローをチェックする人数を増や
すことはできない。さらに、熟練者の知識・経験・ノウ
ハウといったものが必ずしも正確に受け継がれることは
難しく、熟練者個人の所有となっているのが現状であ
る。さらに、今後益々処理の流れは長くなる傾向にあ
り、熟練者といえどもチェックに対するミスが生じ易く
なることが予想される。Further, it becomes necessary to have many years of process / device experience and knowledge in order to become an expert in checking, and it is not possible to easily increase the number of people who check the process flow. Furthermore, it is difficult for the expert's knowledge, experience, and know-how to be passed on accurately, and it is the current situation that the expert owns it. Furthermore, the flow of processing tends to become longer and longer in the future, and it is expected that even an expert can easily make a mistake in checking.
【0005】また、プロセスフローは、ある変換手段を
用いて、プロセスシミュレータやデバイスシミュレー
タ、形状シミュレータへ情報を受渡し、計算することが
できる。しかし、プロセスフローにはリソグラフィ工程
の設計情報(マスク情報)が不足していたため、プロセ
スフロー転送前後に、技術者は計算を行いたい層(レイ
ア)の情報のみを選択し、計算を行っていた。つまり、
シミュレータにおける計算は1次元のみしか自動転送で
きなかった。Further, the process flow can be calculated by passing information to a process simulator, a device simulator or a shape simulator by using a conversion means. However, the design information (mask information) of the lithography process was insufficient in the process flow, so the technician selected only the information of the layer (layer) to be calculated before and after the transfer of the process flow, and performed the calculation. . That is,
The calculation in the simulator was able to automatically transfer only one dimension.
【0006】また、技術者・研究者がプロセスフローを
組む場合、完成された処理(プロセス)の流れの中に
は、同じ製造工程を違う条件で処理を行なう場合が多々
ある。そのプロセスフローをチェックする場合は、各々
の製品についてその製品数分の情報を持ち、それについ
て個々にチェックを行っていた。すなわち条件の異なる
製品数が24であった場合は24個分の情報を持たなけ
ればならない。その結果、チェックを行なう場合、その
都度分割工程を管理しながらチェックを行わなければな
らないので、チェックシステムが複雑になり、チェック
速度が遅くなってしまう。In addition, when engineers and researchers form a process flow, there are many cases where the same manufacturing process is performed under different conditions in the completed process flow. When checking the process flow, each product had information for the number of products, and each product was checked individually. That is, if the number of products under different conditions is 24, information for 24 products must be stored. As a result, when performing the check, the check must be performed while managing the dividing process each time, so the check system becomes complicated and the check speed becomes slow.
【0007】また、同じ条件で処理されている製品が複
数存在した場合、それについてもいちいちチェックを行
わなければならず、チェック時間が大幅にかかってしま
う。更にチェックを行う際に用いる1つの情報が大きく
なるとメモリが足りなくなる問題が発生する可能性があ
り、マスク情報を取り込むとチェックを行う為の製品1
つの情報が更に大きくなり、システムがメモリ不足をお
こし、実行不可能となってしまうことがあった。Further, when there are a plurality of products processed under the same condition, it is necessary to check each of them as well, which results in a considerable check time. Further, if one piece of information used when performing the check becomes large, there is a possibility that a problem of running out of memory may occur. Therefore, when the mask information is taken in, the product for performing the check 1
One piece of information became even larger, and the system ran out of memory, making it impossible to execute.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】上記のように、プロセ
スの流れをチェックする場合、人間ではミスが無いとは
限らない。さらに、チェックに多くの時間を必要とす
る。また、プロセスフローの工程数が増加し、近い将来
必ず人間の限界がおとずれることが予想される。As described above, humans are not always free from mistakes when checking the process flow. In addition, it takes a lot of time to check. In addition, the number of steps in the process flow will increase, and it is expected that the limits of human beings will surely disappear in the near future.
【0009】また、プロセスフローには設計情報(マス
ク情報)が含まれていなかったため、プロセス/デバイ
ス形状シミュレータでは、プロセスフローは1次元のみ
を扱い、2次元、3次元のシミュレーションを行うこと
ができなかった。Further, since the process flow does not include design information (mask information), the process / device shape simulator can handle only one dimension of the process flow and perform two-dimensional and three-dimensional simulations. There wasn't.
【0010】本発明は、この様な問題を解決し、長大か
つ複雑なプロセスの流れをより高速でチェックできる製
造規則チェックシステムを提供することを目的とする。An object of the present invention is to solve such problems and to provide a manufacturing rule check system capable of checking a long and complicated process flow at a higher speed.
【0011】また、本発明は、プロセスフローに設計情
報を付加することで、2次元、3次元のプロセス/デバ
イス/形状シミュレータ用のプロセスフロー情報を生成
することができる製造規則チェックシステムを提供する
ことを目的とする。The present invention also provides a manufacturing rule check system capable of generating process flow information for a two-dimensional or three-dimensional process / device / shape simulator by adding design information to the process flow. The purpose is to
【0012】更に、本発明では、多品種変量製造ライン
の為のプロセスフローを効率的にチェックできる製造規
則チェックシステムを提供することを目的とする。A further object of the present invention is to provide a manufacturing rule check system capable of efficiently checking the process flow for a multi-product variable production line.
【0013】[0013]
【課題を解決するための手段】上記課題を達成するため
に、本発明は、複数の製造工程を有し、異なる工程順序
と製造条件を持つ多品種変量製造ラインにおける製造規
則をチェックするシステムであって、外部記憶装置に保
存されている製造規則情報をメインメモリ上に取込む手
段と、取込まれた製造規則情報に、製品を分割処理すべ
き分割工程が存在するかどうかをチェックし、分割工程
が存在した場合に製品番号毎に製造規則情報の分類を行
い分割情報を生成し、製品番号毎の分割情報を生成した
後に同一処理される製品を単位として分類を行う分割情
報生成手段と、リソグラフィ工程で用いられるマスクパ
ターンの、寸法情報、レジスト情報をまとめたマスク情
報管理テーブルをメインメモリ上に取込み、取込まれた
情報よりレイア情報を生成するレイア情報生成手段と、
前記レイア情報生成手段によって生成されたレイア情報
から製品表面や裏面上に堆積されている膜構造を2次元
で管理する膜構造管理テーブルと、この膜構造管理テー
ブルを用いて製造規則情報のエッチング工程に書かれた
削る膜の構造と実際製品上に堆積されている膜の構造が
等しいかをチェックする膜構造チェック手段と、製品表
面に露出している膜によって、行える工程、行えない工
程をまとめた表面状態管理テーブルと、この表面状態管
理テーブルを用いてチェックする表面状態チェック手段
と、製品裏面に露出している膜によって、行える工程、
行えない工程をまとめた裏面状態管理テーブルと、この
裏面状態管理テーブルを用いてチェックする裏面状態チ
ェック手段と、製品の表面上に存在する膜によって、行
える工程、行えない工程をまとめた下地状態管理テーブ
ルと、この下地状態管理テーブルを用いてチェックする
下地状態チェック手段と、拡散炉の汚染度によってラン
ク分けを行い、それをまとめた拡散状態管理テーブル
と、この拡散状態管理テーブルを用いてチェックする拡
散状態チェック手段と、ある工程からある工程までの範
囲のなかで行える工程、行えない工程をまとめたパッケ
ージ管理テーブルと、このパッケージ管理テーブルを用
いてチェックするパッケージチェック手段と、規定され
た製造工程順序をまとめた工程順序管理テーブルと、こ
の工程順序管理テーブルを用いてチェックする工程順序
チェック手段と、行ってはいけない工程、ある工程の後
で行ってはいけない工程をまとめたルーチン外工程管理
テーブルと、このルーチン外工程管理テーブルを用いて
チェックするルーチン外工程チェック手段と、試験用製
品の挿入位置、抜き取り位置、種類をまとめた試験用製
品管理テーブルと、この試験用製品管理テーブルを用い
てチェックする試験用製品チェック手段と、連続工程の
パターンをまとめた連続工程管理テーブルと、この連続
工程管理テーブルを用いてチェックする連続工程チェッ
ク手段と、エラーメッセージをまとめたエラーコード管
理テーブルと、このエラーコード管理テーブルを用いて
エラーメッセージを作成するエラーメッセージ作成手段
と、前記各チェック手段によるチェックを行うかどうか
をまとめたチェック管理テーブルと、このチェック管理
テーブルを用いてチェックを行う前にチェックを行うチ
ェック手段を選択するチェック判断手段と、チェック結
果を出力する出力手段とから構成されている。In order to achieve the above object, the present invention is a system for checking a production rule in a multi-product variable production line having a plurality of production steps and having different process sequences and production conditions. There is a means for fetching the manufacturing rule information stored in the external storage device into the main memory, and the fetched manufacturing rule information checks whether or not there is a dividing step for dividing the product, When there is a dividing step, the manufacturing rule information is classified for each product number to generate the dividing information, and after the dividing information for each product number is generated, the divided information is generated for the same processed product as a unit. , The mask information management table that summarizes the dimension information and resist information of the mask pattern used in the lithography process is loaded into the main memory, and the layer information is read from the loaded information. And Leia information generating means for generating,
A film structure management table for two-dimensionally managing the film structure deposited on the front surface or the back surface of the product based on the layer information generated by the layer information generation means, and an etching step of manufacturing rule information using this film structure management table. Summarize the steps that can and cannot be done depending on the film structure checking means that checks whether the structure of the film to be shaved written on the product is the same as the structure of the film actually deposited on the product, and the film exposed on the product surface. The surface condition management table, the surface condition check means for checking using this surface condition management table, and the steps that can be performed by the film exposed on the back surface of the product,
A backside state management table that summarizes the processes that cannot be performed, a backside state checking means that checks using this backside state management table, and a base state management that summarizes the processes that can and cannot be performed depending on the film that exists on the surface of the product. A table, a ground condition check means for checking using this ground condition management table, a rank classification according to the contamination degree of the diffusion furnace, and a diffusion condition management table summarizing the ranks, and this diffusion condition management table are used for checking. Diffusion state check means, package management table that summarizes the processes that can be performed and processes that cannot be performed within a range from a certain process to a certain process, package check means that checks using this package management table, and specified manufacturing process A process sequence management table that summarizes the sequence and this process sequence management table Routine out-of-routine process control table that summarizes the process order check means for checking using a tool, the process that should not be performed, and the process that should not be performed after a certain process, and the routine that is checked using this non-routine process control table The external process check means, the test product management table that summarizes the insertion position, the withdrawal position, and the type of the test product, the test product check means that checks using this test product management table, and the continuous process pattern An integrated continuous process control table, a continuous process check means for checking using this continuous process control table, an error code management table that summarizes error messages, and an error message that creates an error message using this error code management table Checking by the creating means and the checking means It is composed of a check management table that summarizes whether or not to perform a check, a check determination means that selects a check means to perform a check before performing a check using this check management table, and an output means that outputs a check result. .
【0014】また前記膜構造チェック手段、表面状態チ
ェック手段、裏面状態チェック手段、及び下地状態チェ
ック手段は、製品が出来る過程をシミュレートしつつ、
前記膜構造チェック手段及びその製品に付随する製造規
則情報を用いながらチェックを行う事を特徴とし、かつ
前記膜構造チェック手段、表面状態チェック手段、及び
下地状態チェック手段は、前記レイア情報生成手段によ
って生成されたレイア情報を用いて、製品の複数のレイ
ア状態を一度にチェックすることを特徴としている。The film structure checking means, the surface condition checking means, the back surface condition checking means, and the base condition checking means simulate the process of producing a product,
The film structure checking means and the manufacturing rule information associated with the product are used for checking, and the film structure checking means, the surface condition checking means, and the ground condition checking means are controlled by the layer information generating means. It is characterized by using the generated layer information to check a plurality of layer states of the product at once.
【0015】また前記レイア情報生成手段は、マスク情
報取込み部と、マスク情報管理テーブルと、レイア情報
生成部と、機能選択部と、レイア情報受渡し部と、マス
ク情報生成部とから構成され、CADシステムから得ら
れる設計図の長さ、レジスト有無情報から、各設計図面
毎のレイア情報を生成する事を特徴としている。The layer information generating means is composed of a mask information fetching section, a mask information management table, a layer information generating section, a function selecting section, a layer information passing section, and a mask information generating section, and CAD. The feature is that layer information for each design drawing is generated from the length of the design drawing and the resist presence / absence information obtained from the system.
【0016】さらに、本発明は前記レイア情報生成手段
によって生成されたレイア情報を、半導体製造における
プロセス/デバイス/形状シミュレータ等の2次元、3
次元計算に用いることを特徴としている。Further, according to the present invention, the layer information generated by the layer information generating means is converted into a two-dimensional, three-dimensional structure such as a process / device / shape simulator in semiconductor manufacturing.
It is characterized by being used for dimension calculation.
【0017】さらに前記分割情報生成手段は、前記製造
規則情報に分割工程が何工程含まれるかを数える手段
と、その分割工程に含まれる分割数、分割枚数、及び分
割製品番号を取り込む手段を有することを特徴としてい
る。Further, the division information generating means has means for counting how many division steps are included in the manufacturing rule information, and means for taking in the number of divisions, the number of divisions, and the division product numbers included in the division step. It is characterized by that.
【0018】[0018]
【作用】上記手段により、本発明では、作成されたプロ
セスフローを、コンピュータの情報としてフロッピーデ
ィスクやハードディスクに代表される記録媒体に保存す
る。次に、保存されたプロセスフローに対して、チェッ
クを行う前に、分割が存在した場合のフローの分割情報
によるパターン分けを分割情報生成手段で行い、CAD
システムより生成されるマスク情報を基にレイア情報生
成手段でレイア情報を生成し、プロセスフロー情報に付
加する。By the above means, in the present invention, the created process flow is stored in a recording medium represented by a floppy disk or a hard disk as computer information. Next, before the check is performed on the stored process flow, the division information generating means performs pattern division by the division information of the flow when the division exists, and the CAD is performed.
Layer information is generated by the layer information generation means based on the mask information generated by the system and added to the process flow information.
【0019】この後、コンピュータの記録媒体、例えば
ハードディスクにあらかじめ用意した幾つかのテーブ
ル、およびチェック中に作成する幾つかのテーブルを用
いながら、レイア情報が付加されたプロセスフローのチ
ェックを前記各チェック手段で行っている。After that, while using some tables prepared in advance on a recording medium of a computer, for example, a hard disk, and some tables created during the check, the process flow check to which the layer information is added is performed for each check described above. By means.
【0020】[0020]
【実施例】以下、図面に基づいて本発明の実施例を説明
する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【0021】図1はこの発明の製造規則チェック(以
下、プロセスフロールールチェックという)システムに
係わる一実施例の機能ブロック図である。FIG. 1 is a functional block diagram of an embodiment relating to a manufacturing rule check (hereinafter referred to as process flow rule check) system of the present invention.
【0022】同図に示すプロセスフローチェックシステ
ムは、大きくはプロセスフロー取込み部1、分割情報生
成システム2、レイア情報生成システム6、及びチェッ
クシステム10からなる。分割情報生成システム2は、
分割情報取込み部3と分割情報管理テーブル5から構成
され、レイア情報生成システム6は、マスク情報取込み
部7とマスク情報管理テーブル9から構成されている。The process flow check system shown in FIG. 1 is mainly composed of a process flow acquisition unit 1, a division information generation system 2, a layer information generation system 6 and a check system 10. The division information generation system 2
The division information acquisition unit 3 and the division information management table 5 are included, and the layer information generation system 6 includes a mask information acquisition unit 7 and a mask information management table 9.
【0023】また、チェックシステム10は、各管理テ
ーブル13〜53、各チェック部11〜47、エラーメ
ッセージ作成部51、及び結果出力部55、チェック判
断部57、チェック管理テーブル59から構成されてい
る。The check system 10 is composed of the management tables 13 to 53, the check units 11 to 47, the error message creation unit 51, the result output unit 55, the check determination unit 57, and the check management table 59. .
【0024】プロセスフロー取込み部1は、半導体製造
工程の流れを各々の工程の処理条件(レシピ)で表され
た情報(プロセスフロー情報)、例えば、半導体製造工
程を表すコード、各処理に付随する変数、およびその変
数に代入するパラメータ(変数の値)などによって表さ
れたプロセスフロー情報を記憶装置(例えばハードディ
スク)よりコンピュータのメインメモリ上に取込む機能
を有している。The process flow capturing unit 1 is information associated with the flow of the semiconductor manufacturing process by the processing conditions (recipe) of each process (process flow information), for example, a code representing the semiconductor manufacturing process and associated with each process. It has a function of taking in process flow information represented by a variable and a parameter (value of the variable) substituted for the variable from a storage device (for example, a hard disk) onto the main memory of the computer.
【0025】分割情報生成システム2は、これからチェ
ックを行うプロセスフロー情報において、分割工程が存
在しているかどうかのチェックを行う機能と、後述する
分割情報管理テーブル5を作成する機能を有している。The division information generation system 2 has a function of checking whether or not there is a division step in the process flow information to be checked, and a function of creating a division information management table 5 described later. .
【0026】分割工程が存在した場合は、そこに書かれ
ている分割数、各々の分割における製品枚数、製品番号
の情報より製品毎にどの分割プロセスフロー情報を用い
るかについて分類を行い、更に同一プロセスフローで処
理される製品を単位としてグルーピングを行う。その結
果を基に分割情報管理テーブル5を作成し、分割工程を
含まない新たなプロセスフロー情報を作成する機能をも
有している。When there are division steps, the division process flow information to be used for each product is classified based on the number of divisions written therein, the number of products in each division, and the product number information, and further the same. Grouping is performed for each product processed in the process flow. It also has a function of creating the division information management table 5 based on the result and creating new process flow information not including the division process.
【0027】分割情報管理テーブル5は、製品番号毎に
分割工程において、どの分割プロセスフロー情報を用い
るかを管理するテーブルである。ここで、分割工程と
は、半導体製造における製品は、複数の製品がまとまっ
て1つのロットと呼ばれる箱に格納されて処理が行われ
ている。The division information management table 5 is a table for managing which division process flow information is used in the division process for each product number. Here, the term “dividing process” means that a plurality of products in a semiconductor manufacturing process are collectively stored in a box called a lot for processing.
【0028】このため、ロットに入っている複数の製品
のうち、数枚を別のプロセスフロー情報で製造したい場
合、ロット内の製品を分けて製造する事がある。このロ
ットを分割して、ある処理の条件を複数に分けて行う場
合に用いる。For this reason, when it is desired to manufacture some of a plurality of products in a lot with different process flow information, the products in the lot may be manufactured separately. It is used when this lot is divided and a certain processing condition is divided into a plurality of conditions.
【0029】例えば、プロセスフロー情報において、製
品番号=(1,2,3)が本来のプロセスフロー情報で
処理し、製品番号=(4,5,6)が分割で処理を行う
場合、この情報が、分割情報管理テーブル5に記述され
る。ただし、製品が1枚(個)の場合にその製品内を分
割し処理を行う場合にも、この機能は適用することがで
きる。For example, in the process flow information, when the product number = (1,2,3) is processed by the original process flow information and the product number = (4,5,6) is processed by division, this information is used. Is described in the division information management table 5. However, this function can be applied to the case where the product is divided and the processing is performed when the number of products is one.
【0030】レイア情報生成システム6は、詳細は後述
するが、記憶装置に予め取込まれているマスク情報を取
り込む機能と、後述するマスク情報よりレイア情報を作
成する機能を有している。マスク情報とは、マスク設計
用CADなどより与えられるパターンの寸法情報や、レ
ジストが残るか否かのレジスト情報などである。The layer information generating system 6, which will be described in detail later, has a function of fetching mask information previously fetched in the storage device and a function of generating layer information from the mask information to be described later. The mask information is, for example, pattern dimension information given by a mask designing CAD or the like, resist information as to whether or not a resist remains.
【0031】更に、このレイア情報生成システム6はマ
スク情報を基に、作成されるレイア情報をマスク情報管
理テーブル9に格納する機能を有している。また、この
分けられたレイアの数は、後述する膜構造管理テーブル
13に使われる。Further, the layer information generating system 6 has a function of storing the layer information created on the basis of the mask information in the mask information management table 9. The number of the divided layers is used in the film structure management table 13 described later.
【0032】図1の各チェック部11〜47は、プロセ
スフロー情報をチェックする機能を有している。これら
のチェック部11〜47は、チェック判断部57でチェ
ック機能を付加するかしないかを指示することができ
る。以下にそれぞれのチェック部11〜47、各管理テ
ーブル13〜53、チェック判断部57、チェック管理
テーブル59について説明をする。Each of the check units 11 to 47 in FIG. 1 has a function of checking the process flow information. These check units 11 to 47 can instruct whether the check function is added in the check determination unit 57. The check units 11 to 47, the management tables 13 to 53, the check determination unit 57, and the check management table 59 will be described below.
【0033】膜構造チェック部11では、プロセスフロ
ー情報の膜を削る工程に記述されている膜を削る時間を
計算する為の膜構造と、実際の製品上に堆積されている
膜構造とが等しいかどうかをチェックする機能を有して
いる。また、製品上に堆積されている膜は、膜構造管理
テーブル13において管理されている。In the film structure check unit 11, the film structure for calculating the film cutting time described in the film cutting step of the process flow information is equal to the film structure deposited on the actual product. It has a function to check whether or not. The film deposited on the product is managed in the film structure management table 13.
【0034】例えば、図2に示すプロセスフロー情報、
すなわち、アルミニウム膜と酸化膜を削る工程におい
て、エッチングする膜構造はアルミニウム膜と酸化膜と
なるが、実際製品上にはアルミニウムニウム膜のみが堆
積されている事が、図3に示す膜構造管理テーブル13
より取得する事ができ、エッチング工程での膜構造とウ
エハ上に堆積されている膜と違う為、NGである事がチ
ェックされる。For example, the process flow information shown in FIG.
That is, in the step of removing the aluminum film and the oxide film, the film structure to be etched is the aluminum film and the oxide film, but in reality, only the aluminum film is deposited on the product. Table 13
It can be obtained more, and since the film structure in the etching process and the film deposited on the wafer are different, it is checked that they are NG.
【0035】膜構造管理テーブル13は、ウェハ表面、
裏面上に堆積されている膜を管理する為のテーブルであ
る。例えば何も堆積されていないウエハを酸化した場
合、ウエハ表面、裏面には、酸化膜が堆積されるので、
膜構造管理テーブル13に酸化膜が追加される。The film structure management table 13 includes the wafer surface,
It is a table for managing the film deposited on the back surface. For example, when a wafer with nothing deposited is oxidized, an oxide film is deposited on the front and back surfaces of the wafer.
An oxide film is added to the film structure management table 13.
【0036】この膜構造管理テーブル13は、レイア情
報生成システム6で分けられたレイア数に応じたデータ
を格納する。図4に示した例では、レイアが酸化膜であ
り、レイア数は1である。The film structure management table 13 stores data according to the number of layers divided by the layer information generation system 6. In the example shown in FIG. 4, the layer is an oxide film and the number of layers is one.
【0037】表面状態チェック部15は、製品の表面に
露出している膜によって、処理できる工程、出来ない工
程を膜構造管理テーブル13を用いてチェックする機能
を有している。また、このチェックに関するルールは表
面状態管理テーブル17において管理されている。The surface condition check unit 15 has a function of checking, by using the film structure management table 13, processes that can be processed and processes that cannot be processed depending on the film exposed on the surface of the product. The rules regarding this check are managed in the surface state management table 17.
【0038】図5に示す表面状態管理テーブル17にお
いて、上の横軸には、製品表面上に存在する可能性があ
る膜の名称、左の縦軸には、行われる可能性のある工程
名が記入してある。In the surface state management table 17 shown in FIG. 5, the upper horizontal axis is the name of a film that may exist on the product surface, and the left vertical axis is the name of a process that may be performed. Is filled in.
【0039】例えば、図6に示した製品表面上にAとい
う膜が露出している状態で、処理aを行う場合と、処理
bを行う場合を考えると、図5に示す表面状態管理テー
ブル17によって、製品表面にAという膜が露出してい
る状態で、処理aを行う場合はOKであるが、処理bを
行う場合はNGである事がチェックできる。For example, considering the case where the treatment a and the treatment b are performed in the state where the film A is exposed on the surface of the product shown in FIG. 6, the surface state management table 17 shown in FIG. Thus, it can be checked that when the treatment a is performed and the treatment b is performed in the state where the film A is exposed on the surface of the product, it is NG.
【0040】また、図7に示す様に製品表面に膜A、B
が出ている場合でも、図5に示す表面状態管理テーブル
17において、製品表面上に膜Bが露出している状態で
処理aを行う事はNGである事がチェックできる。Further, as shown in FIG. 7, the films A and B are formed on the surface of the product.
Even if the result is shown, it can be checked in the surface state management table 17 shown in FIG. 5 that it is NG to perform the processing a in a state where the film B is exposed on the product surface.
【0041】裏面状態チェック部19は、製品の裏面に
露出している膜によって、処理できる工程、出来ない工
程を膜構造管理テーブル13を用いてチェックする機能
を有している。また、このチェックに関するルールは、
裏面状態管理テーブル21において管理されている。The back surface state checking unit 19 has a function of checking, by using the film structure management table 13, processes that can be processed and processes that cannot be processed depending on the film exposed on the back surface of the product. Also, the rules for this check are
It is managed in the back surface state management table 21.
【0042】図8に示した裏面状態管理テーブル21に
おいて、上の横軸には、製品裏面上に存在する可能性が
ある膜の名称、左の縦軸には、行われる可能性のある工
程名が記入してある。In the back surface state management table 21 shown in FIG. 8, the upper horizontal axis is the name of the film that may exist on the back surface of the product, and the left vertical axis is the process that may be performed. The name is entered.
【0043】例えば、図9に示した製品裏面上に膜Cが
露出している状態で、処理a、処理bを行う場合を考え
ると、図8に示した裏面状態管理テーブル21によっ
て、製品裏面にCという膜が露出している状態で、後に
処理aがくる場合はOKであるが、後に処理bがくれば
NGである事がチェックできる。For example, considering the case where the processing a and the processing b are performed with the film C exposed on the back surface of the product shown in FIG. 9, the back surface state management table 21 shown in FIG. It can be checked that if the treatment a comes later in the state where the film C is exposed, it is OK, but if the treatment b comes later, it is NG.
【0044】下地状態チェック部23は、ウェハ上に堆
積されている膜によって、処理できる工程、出来ない工
程を膜構造管理テーブル13を用いてチェックする機能
を有している。また、このチェックに関するルールは、
下地状態管理テーブル25において管理されている。The underlayer state checking unit 23 has a function of checking, by using the film structure management table 13, processes that can be processed and processes that cannot be processed depending on the film deposited on the wafer. Also, the rules for this check are
It is managed in the background state management table 25.
【0045】図10に示した下地状態管理テーブル25
において、上の横軸には、下地の存在する可能性がある
膜の名称、左の縦軸には、行われる可能性のある工程名
が記入してある。The background condition management table 25 shown in FIG.
In the above, in the upper horizontal axis, the name of the film in which the underlying layer may exist, and in the left vertical axis, the process name that may be performed are entered.
【0046】例えば、図11に示した、製品上に膜A、
B、Cが堆積されている状態で、処理bを行う場合を考
えると、図10に示した下地状態管理テーブル25によ
って、下地にCという膜が存在している状態で、後に処
理bがくればNGである事がチェックできる。For example, the film A on the product shown in FIG.
Considering the case where the processing b is performed in the state where B and C are deposited, the processing b will be performed later by the underlying state management table 25 shown in FIG. You can check that you are NG.
【0047】拡散状態チェック部27は、汚染されてい
る拡散炉に入った製品が、綺麗な拡散炉に入る事を防ぐ
ため、すなわち拡散炉の汚染を防ぐチェックを行う機能
を有している。また、このチェックに関するルールは、
拡散状態管理テーブル29において管理されている。The diffusion state check unit 27 has a function of performing a check to prevent a product that has entered a contaminated diffusion furnace from entering a clean diffusion furnace, that is, to prevent contamination of the diffusion furnace. Also, the rules for this check are
It is managed in the diffusion state management table 29.
【0048】図12に示した拡散状態管理テーブルにお
いて、上の横軸には、1つ前に製品が入った拡散炉の名
称、左の縦軸には、これから入ろうとする拡散炉の名称
が記入されている。In the diffusion state management table shown in FIG. 12, the horizontal axis on the top shows the name of the diffusion furnace in which the product has just entered, and the vertical axis on the left shows the name of the diffusion furnace to be entered. It is filled in.
【0049】例えば、図13に示した製品は、拡散炉D
に入った製品であるが、この製品が次に拡散炉E、もし
くは拡散炉Fに入る場合を考えると、図12に示した拡
散状態管理テーブル29によって、拡散炉Dに入った製
品が拡散炉Eに入る場合はOKであるが、拡散炉Fに入
る事はNGである事がチェックできる。For example, the product shown in FIG. 13 is a diffusion furnace D.
Although it is a product that has entered the diffusion furnace, if the product enters the diffusion furnace E or the diffusion furnace F next time, the product that has entered the diffusion furnace D is determined by the diffusion state management table 29 shown in FIG. It can be checked that entering E is OK, but entering diffusion furnace F is NG.
【0050】パッケージチェック部31は、ある工程
(A)とある工程(B)を1つのパッケージとして、そ
のパッケージ内(A、B間)に存在しなければならない
工程、存在してはいけない工程、ある工程が存在した場
合、更にある工程が存在しなければならない様なチェッ
クを行う機能を有している。また、このチェックに関す
るルールは、パッケージ管理テーブル33において管理
されている。The package check unit 31 includes a process (A) and a process (B) as one package, and a process that must be present in the package (between A and B) and a process that must not be present. When a certain process exists, it has a function of checking that another process must exist. The rules regarding this check are managed in the package management table 33.
【0051】図14に示したパッケージ管理テーブル3
3において、上の横軸には、パッケージの基になる工程
の名称、パッケージ内の存在しなければいけない工程
名、パッケージ内の存在してはいけない工程名、パッケ
ージ内に存在した場合、更に存在しなければならない工
程名、エラーコードが記入されている。The package management table 3 shown in FIG.
In 3, the upper horizontal axis is the name of the process that is the base of the package, the process name that must exist in the package, the process name that must not exist in the package, and if it exists in the package The process name and error code that must be performed are entered.
【0052】例えば、図15に示したプロセスフロー情
報、すなわち、リソグラフィ工程とレジスト剥離工程と
の間に熱酸化工程が存在した場合を考えると、図14に
示したパッケージ管理テーブル33によって、製品上に
フォトレジストが塗布されている状態で酸化炉に入れる
事はNGである事がチェックできる。Considering, for example, the process flow information shown in FIG. 15, that is, the case where a thermal oxidation step exists between the lithography step and the resist stripping step, the package management table 33 shown in FIG. It can be checked that it is unsuccessful to put it in the oxidation furnace while the photoresist is coated on it.
【0053】また、図16に示したプロセスフロー情報
すなわち、リソグラフィ工程とリソグラフィ工程の間
に、レジスト剥離工程が存在しない場合を考えると、図
14に示したパッケージ管理テーブル33によって、レ
ジスト剥離工程が存在しないという事でNGである事が
チェックできる。Considering the process flow information shown in FIG. 16, that is, the case where there is no resist stripping step between the lithography steps, the resist stripping step is determined by the package management table 33 shown in FIG. You can check that it is NG because it does not exist.
【0054】工程順序チェック部35は、ある工程の前
に存在しなければならない工程、ある工程の後に存在し
なければならない工程、ある工程の前に存在してはいけ
ない工程、ある工程の後に存在してはいけない工程につ
いてチェックを行う機能を有している。また、このチェ
ックに関するルールは、工程順序管理テーブル37にお
いて管理されている。The process order check unit 35 exists before a certain process, must exist after the certain process, must not exist before the certain process, and must exist after the certain process. It has a function to check the steps that should not be performed. The rules regarding this check are managed in the process order management table 37.
【0055】図17に示した工程順序管理テーブル37
において、上の横軸には、検索元となる工程名、検索先
となる工程名、検索先となる工程名の位置、検索先の工
程が存在しなければならないのか、存在してはいけない
のか、エラーコードが記入される。The process sequence management table 37 shown in FIG.
In the above, in the upper horizontal axis, the process name that is the search source, the process name that is the search target, the position of the process name that is the search target, and the process of the search target must or must not exist. , The error code is filled in.
【0056】例えば、図18に示したプロセスフロー情
報、すなわち熱酸化工程の前に洗浄処理が存在しなかっ
た場合を考えると、図17に示した工程順序管理テーブ
ル37によって、熱酸化工程の前に洗浄処理が存在して
いないという事でNGである事がチェックされる。Considering, for example, the process flow information shown in FIG. 18, that is, when the cleaning process does not exist before the thermal oxidation process, the process sequence management table 37 shown in FIG. The fact that there is no cleaning process in 1 is checked to be NG.
【0057】ルーチン外チェック部39では、プロセス
フロー情報において、処理を行う為に作業者の許可を必
要とする工程をチェックする機能を有している。また、
このチェックに関するルールは、ルーチン外管理テーブ
ル41において管理されている。The out-of-routine check unit 39 has a function of checking the process flow information for the process requiring the operator's permission to perform the process. Also,
The rule regarding this check is managed in the out-of-routine management table 41.
【0058】図19に示したルーチン外管理テーブル4
1において、上の横軸には、検索元となる工程名、検索
先となる工程名、エラーコードが記入されている。例え
ば、図20に示したプロセスフロー情報、すなわち、配
線の抵抗率を測定する工程が存在した場合を考えると、
図19に示したルーチン外管理テーブル41によって、
配線の抵抗率を測定する工程は許可が必要な工程である
という事で、NGである事がチェックされる。Out-of-routine management table 4 shown in FIG.
In FIG. 1, the process name as the search source, the process name as the search destination, and the error code are entered on the upper horizontal axis. For example, considering the process flow information shown in FIG. 20, that is, the case where there is a step of measuring the resistivity of wiring,
With the out-of-routine management table 41 shown in FIG.
Since the process of measuring the resistivity of the wiring is a process that requires permission, it is checked that it is NG.
【0059】テストピースチェック部43では、製品に
膜を堆積した時の膜厚、イオン注入を行った時の製品の
抵抗率を測定する為のテストピース(TP/試験用製
品)の挿入位置、TPの種類のチェックを行う機能を有
している。また、このチェックに関するルールは、テス
トピース管理テーブル45において管理されている。In the test piece check section 43, the insertion position of the test piece (TP / test product) for measuring the film thickness when a film is deposited on the product and the resistivity of the product when ion implantation is performed, It has a function to check the type of TP. The rules regarding this check are managed in the test piece management table 45.
【0060】図21に示したテストピース管理テーブル
45の上の横軸には、TPを必要とする工程名、TPを
挿入する位置、TPの種類、エラーコードが記入されて
いる。On the abscissa of the test piece management table 45 shown in FIG. 21, the process name requiring the TP, the position to insert the TP, the type of the TP, and the error code are entered.
【0061】例えば、図22に示したプロセスフロー情
報、すなわち、前洗浄処理、アルミニウム膜を堆積する
工程、膜厚を測定する工程において、本来TPは、前洗
浄処理において挿入し、膜厚を測定する工程において抜
き取るが、この場合は、アルミニウム膜を堆積する工程
でTPを挿入し、膜厚を測定する工程で抜き取っている
ので、図21に示したテストピース管理テーブル45に
よって、TPの挿入位置が違うという事で、NGである
事がチェックされる。For example, in the process flow information shown in FIG. 22, that is, in the pre-cleaning process, the process of depositing an aluminum film, and the process of measuring the film thickness, TP is originally inserted in the pre-cleaning process and the film thickness is measured. However, in this case, TP is inserted in the step of depositing the aluminum film and extracted in the step of measuring the film thickness. Therefore, the test piece management table 45 shown in FIG. The fact that they are different means that they are NG.
【0062】また、TPの種類についても、図21に示
したテストピース管理テーブル45によってチェックさ
れる。すなわち図22に示したプロセスフロー情報にお
いて、アルミニウム膜の膜厚を測定するTPは、本来専
用のものを用いなければならないが、回収のTPを用い
ているので、図21に示したテストピース管理テーブル
45によってNGである事がチェックされる。The type of TP is also checked by the test piece management table 45 shown in FIG. That is, in the process flow information shown in FIG. 22, the TP for measuring the film thickness of the aluminum film should originally be a dedicated TP, but since the recovered TP is used, the test piece management shown in FIG. The table 45 checks that it is NG.
【0063】連続工程チェック部47では、プロセスフ
ロー情報に記述されている連続工程(待ち状態となって
はいけない工程)の記述方法が正しいかをチェックする
機能を有している。また、このチェックに関するルール
は、連続工程管理テーブル49において管理されてい
る。The continuous process check unit 47 has a function of checking whether the description method of the continuous process (process which should not be in the waiting state) described in the process flow information is correct. The rules regarding this check are managed in the continuous process management table 49.
【0064】図23に示した連続工程管理テーブル49
の上の横軸には、連続工程として考えられる工程の名
称、エラーコードが記入されている。The continuous process management table 49 shown in FIG.
On the horizontal axis above, the name of the process considered as a continuous process and the error code are entered.
【0065】例えば、図24に示したプロセスフロー情
報、すなわち、連続開始、前洗浄処理、酸化工程、膜厚
測定、前洗浄処理、アルミニウム膜堆積工程、膜厚測
定、連続終了の工程において、本来、連続工程中の前洗
浄処理は、最初のみ必要で、後は必要としないが、図2
4に示したプロセスフロー情報では、後すなわち、アル
ミニウム膜を堆積する工程の前に前洗浄処理が存在して
いるので、図23に示した連続工程管理テーブル49に
よってNGである事がチェックされる。For example, in the process flow information shown in FIG. 24, that is, in the continuous start, pre-cleaning process, oxidation process, film thickness measurement, pre-cleaning process, aluminum film deposition process, film thickness measurement, and continuous end process, The pre-cleaning process in the continuous process is necessary only at the beginning and not after the process shown in FIG.
In the process flow information shown in FIG. 4, since the pre-cleaning process is present after the process of depositing the aluminum film, that is, NG is checked by the continuous process control table 49 shown in FIG. .
【0066】エラーメッセージ作成部51は、様々なチ
ェックを行った後で、NGがあった場合、それに見合っ
たエラーメッセージを作成する機能を有している。ま
た、エラーメッセージに関する情報は、エラーコード管
理テーブル53において管理されている。The error message creating section 51 has a function of creating an error message corresponding to the NG when an NG is found after performing various checks. Information regarding error messages is managed in the error code management table 53.
【0067】図25に示すエラーコード管理テーブル5
3には、横軸にエラー番号、エラーメッセージが記入さ
れている。Error code management table 5 shown in FIG.
In 3, the error number and error message are entered on the horizontal axis.
【0068】例えば、図26に示すプロセスフロー情報
すなわち、アルミニウム膜を堆積する工程の前に前洗浄
処理がなかっ場合、本来、アルミニウム膜を堆積する工
程の前には前洗浄処理が必要であるが、この場合存在し
ないため、工程順序チェック部35により、工程順序管
理テーブル37においてNGである事がチェックされ、
同時にそのNGに対して図25に示すエラーコード管理
テーブル53において、上記NGに対応するエラーコー
ド(この場合“008”)に対応するエラーメッセージ
「膜を堆積する工程の前に洗浄処理がありません」が作
成される。For example, in the process flow information shown in FIG. 26, that is, when there is no pre-cleaning process before the step of depositing the aluminum film, the pre-cleaning process is originally required before the step of depositing the aluminum film. Since it does not exist in this case, the process order check unit 35 checks that the process order management table 37 is NG,
At the same time, in the error code management table 53 shown in FIG. 25 for the NG, an error message corresponding to the error code (“008” in this case) corresponding to the above NG, “There is no cleaning process before the film deposition process”. Is created.
【0069】結果出力部55は、上記チェックを行った
後、間違いが有った場合エラーファイル(エラーメッセ
ージをまとめたファイル)を作成し、間違いが無かった
場合は、CAMファイルを作成する機能を有している。After the above-mentioned check, the result output unit 55 has a function of creating an error file (a file including error messages) if there is an error and a CAM file if there is no error. Have
【0070】チェック判断部57は、上記チェックを行
うか否かについて管理する機能を有している。また、こ
のチェックするか否かの情報は、チェック管理テーブル
59において管理されている。The check judgment unit 57 has a function of managing whether or not to perform the above-mentioned check. The information on whether or not to check is managed in the check management table 59.
【0071】図27に示すチェック管理テーブル59
は、チェック項目の名称、チェックを行うか否かの情報
が記入されている。例えば図27に示されたテーブルで
は、下地状態チェック以外は行うことを示している。こ
れによって、必要の無いチェックを省略する事が可能と
なる。Check management table 59 shown in FIG.
Indicates the name of the check item and the information on whether or not to check. For example, the table shown in FIG. 27 indicates that the steps other than the background state check are performed. This makes it possible to omit unnecessary checks.
【0072】次に本発明の具体的な実現手段について、
再度図1を参照しながら説明する。フロー取込み部1、
分割情報取込み部3、マスク情報取込み部7、各チェッ
ク部11〜47、エラーメッセージ作成部51はCPU
に付属するメインメモリで実現されている。Next, the specific means for realizing the present invention will be described.
The description will be continued with reference to FIG. 1 again. Flow intake unit 1,
The division information acquisition unit 3, the mask information acquisition unit 7, the check units 11 to 47, and the error message creation unit 51 are CPUs.
It is realized by the main memory attached to.
【0073】各管理テーブル5〜53はハードディス
ク、あるいはフロッピーディスクなどの記録媒体に保存
されている。例えば、記憶媒体に保存された各管理テー
ブル5〜53は、チェック開始時に前記メインメモリに
呼び込まれ、CPUによるソフトウエア制御のもとに各
チェック部11〜47、エラーメッセージ作成部51が
時間をおって、CPUに付属する前記メインメモリ内で
チェック判断部57、チェック管理テーブル59を参照
して順次実現される。The management tables 5 to 53 are stored in a recording medium such as a hard disk or a floppy disk. For example, the management tables 5 to 53 stored in the storage medium are called into the main memory at the start of the check, and the check units 11 to 47 and the error message creation unit 51 perform time control under software control by the CPU. Through the above, it is sequentially realized by referring to the check judgment unit 57 and the check management table 59 in the main memory attached to the CPU.
【0074】チェック結果は、チェック時にエラーが発
生した場合は、エラーメッセージ作成部51、エラーコ
ード管理テーブル53によってエラーファイルが、プリ
ンター、もしくは、記憶媒体に出力される。As for the check result, if an error occurs during the check, an error file is output to the printer or the storage medium by the error message creating section 51 and the error code management table 53.
【0075】次にこの発明における製造規則チェックシ
ステムの作用について述べる。Next, the operation of the manufacturing rule checking system according to the present invention will be described.
【0076】フロー取込み部1では、記憶装置、例えば
ハードディスク、フロッピーディスク等にあらかじめス
クリーンエディタ等で作成されたプロセスフロー情報を
コンピュータのメインメモリー上に取込む。そのプロセ
スフロー情報の一例を図28に示す。同図には、コード
群が、処理工程順に記述されている。なお、プロセスフ
ローデータの1行が、1工程に相当する。The flow fetching unit 1 fetches the process flow information created in advance in a storage device such as a hard disk or a floppy disk by a screen editor or the like into the main memory of the computer. FIG. 28 shows an example of the process flow information. In the figure, code groups are described in the order of processing steps. One line of the process flow data corresponds to one process.
【0077】次に、分割情報生成システム2において、
メインメモリに取込まれたプロセスフロー情報に、ロッ
ト分割工程が存在するかどうかのチェックが行われる。
ロット分割工程が存在した場合は、そこに書かれている
分割数、各々の分割枚数、分割製品番号によって、どの
製品がどの分割プロセスフロー情報を用いるかによって
分類を行い、更に同一プロセスフローで処理される製品
を単位として製品番号のグルーピングを行う。Next, in the division information generation system 2,
The process flow information fetched in the main memory is checked to see if there is a lot division process.
When there is a lot division process, it is classified according to which product uses which division process flow information according to the number of divisions, the number of each division, and the division product number written in the lot division process, and further processes in the same process flow. The product numbers are grouped in units of the products to be processed.
【0078】この結果、すなわちどの製品がどの分割プ
ロセスフロー情報を使用するかは、分割情報管理テーブ
ル5において管理される。この作業を行う事によって、
分割工程を含まないプロセスフロー情報を作成する事が
でき、チェックにはこのプロセスフロー情報を用いるの
で、プロセスフローチェックシステムが大幅に簡略化で
きる。The result, that is, which product uses which divided process flow information, is managed in the divided information management table 5. By doing this work,
Since the process flow information that does not include the division process can be created and this process flow information is used for the check, the process flow check system can be greatly simplified.
【0079】レイア情報生成システム6で、プロセスフ
ローのリソグラフィ工程で用いられるマスクパターンの
寸法データ、およびリソグラフィ工程でレジストが残る
か否かのレジスト情報を、そのプロセスフローで用いら
れる全てのマスクパターンについて取得し、パターンの
重なる部分、重ならない部分のグルーピングを行い新た
にレイア情報管理テーブル9を作成する。このレイア情
報のレイア数は、膜構造管理テーブル13に用いられ
る。In the layer information generation system 6, the dimension data of the mask pattern used in the lithography process of the process flow and the resist information as to whether or not the resist remains in the lithography process are obtained for all the mask patterns used in the process flow. The layer information management table 9 is newly created by grouping the portions where the patterns are overlapped and the portions where the patterns are not overlapped. The number of layers of the layer information is used in the film structure management table 13.
【0080】次に分割情報生成システム2によって新た
に作成されたプロセスフロー情報を、各チェック部11
〜47、及び各管理テーブル13〜49によってチェッ
クを行う。ここでは、図28に示したプロセスフロー情
報の5番目の工程がチェックされる場合を考える。Next, the process flow information newly created by the division information generation system 2 is checked by each check unit 11.
~ 47 and each management table 13-49. Here, consider a case where the fifth step of the process flow information shown in FIG. 28 is checked.
【0081】まず膜構造チェック部11において、エッ
チング工程に書かれている削る膜の構造と膜構造管理テ
ーブル13で管理されている製品上に堆積されている膜
の構造が等しいかどうかのチェックを行う。ただし、図
28に示したプロセスフロー情報内にはエッチング工程
が存在しないので、チェックは省略される。First, the film structure check unit 11 checks whether or not the structure of the film to be cut written in the etching process and the structure of the film deposited on the product managed by the film structure management table 13 are the same. To do. However, since there is no etching step in the process flow information shown in FIG. 28, the check is omitted.
【0082】表面状態チェック部15では、膜構造管理
テーブル13より製品の表面に存在する膜、及び5番目
の工程の情報をプロセスフローより取込み、5番目の工
程が、製品表面に存在する膜によって、行えるか否かに
ついて、表面状態管理テーブル17を用いてチェックさ
れる。In the surface state checking unit 15, the film existing on the surface of the product from the film structure management table 13 and the information of the fifth step are fetched from the process flow, and the fifth step depends on the film existing on the surface of the product. Whether or not it is possible is checked by using the surface state management table 17.
【0083】裏面状態チェック部19において、膜構造
管理テーブル13より、製品裏面に存在する膜、及び5
番目の工程の情報をプロセスフローより取込み、5番目
の工程が、製品裏面に存在する膜によって、行えるか否
かについて、裏面状態管理テーブル21を用いてチェッ
クされる。In the back surface state check unit 19, from the film structure management table 13, the film existing on the back surface of the product and
Information on the second step is fetched from the process flow, and it is checked using the back surface state management table 21 whether the fifth step can be performed by the film present on the back surface of the product.
【0084】下地状態チェック部23において、膜構造
管理テーブル13より製品上に存在している全ての膜、
及び5番目の工程の情報をプロセスフローより取込み、
5番目の工程が、製品の表面上に存在する膜によって、
行えるか否かについて、下地状態管理テーブル25を用
いてチェックを行う。In the base condition check unit 23, all the films existing on the product from the film structure management table 13
And the information of the 5th process is taken in from the process flow,
The fifth step is the film present on the surface of the product
A check is made using the background state management table 25 as to whether or not it is possible.
【0085】拡散状態チェック部27において、番号5
で用いられた拡散炉と番号16で用いられる拡散炉とを
比較して、製品が汚染された拡散炉から、綺麗な拡散炉
に入ることを防ぐチェックを拡散状態管理テーブル29
を用いて行う。In the spread state check unit 27, the number 5
The diffusion state control table 29 is used to compare the diffusion furnace used in No. 16 with the diffusion furnace used in No. 16 and to prevent the product from entering a clean diffusion furnace from a contaminated diffusion furnace.
Using.
【0086】パッケージチェック部31において、5番
目の工程が、ある工程とある工程とのパッケージの中に
存在するかどうかをパッケージ管理テーブル33を用い
てチェックする。The package check unit 31 checks whether or not the fifth process exists in the package of a certain process using a package management table 33.
【0087】工程順序チェック部35において、5番目
の工程の前後に規定された工程が存在するかどうか、ま
たは存在してはいけない工程が存在するかどうかのチェ
ックを工程順序管理テーブル37を用いて行う。The process order check unit 35 uses the process order management table 37 to check whether or not there is a specified process before and after the fifth process, or whether there is a process that should not exist. To do.
【0088】ルーチン外チェック部39において、5番
目の工程が、行ってはいけない工程かどうかのチェック
をルーチン外管理テーブル41を用いて行う。The out-of-routine check unit 39 uses the out-of-routine management table 41 to check whether the fifth step is a step that should not be performed.
【0089】テストピースチェック部43において5番
目の工程で用いられているテストピーチが正しいもので
あるかどうか、テストピースを挿入、抜き取る工程が正
しいかをテストピース管理テーブル45を用いてチェッ
クを行う。Using the test piece management table 45, it is checked whether or not the test peach used in the fifth step in the test piece check unit 43 is correct, and whether the steps for inserting and removing the test piece are correct. .
【0090】最後に連続工程チェック部47において、
連続開始、連続終了で囲まれている中に工程の順序が正
しいかどうかを連続工程管理テーブル49を用いてチェ
ックを行う。Finally, in the continuous process check section 47,
The continuous process management table 49 is used to check whether or not the sequence of processes is correct while being surrounded by continuous start and continuous end.
【0091】これら全てのチェックにおいて、NGと判
断された場合、エラーメッセージ作成部51において、
エラーコード管理テーブル53を参照してメッセージが
作成され、結果出力部55より外部記憶装置に出力され
る。NGがまったく存在しなかった場合は、結果出力部
55よりCAMファイルが外部記憶装置に出力される。If all of these checks are judged to be NG, the error message creating section 51
A message is created by referring to the error code management table 53, and is output from the result output unit 55 to the external storage device. If no NG exists, the result output unit 55 outputs the CAM file to the external storage device.
【0092】また、チェック判断部57、チェック管理
テーブル59によって、今まで述べたチェックを行う
か、行わないかの選択ができる。Further, the check judgment section 57 and the check management table 59 can be used to select whether or not the check described above is performed.
【0093】このように、この発明の製造規則チェック
システムでは、各管理テーブル13〜49を用いて工程
順に記述されたプロセスフローを高速にチェックを行う
事ができる。例えば、人間では300工程の処理フロー
をチェックするのに約30分かかるところをこのチェッ
ク装置では約1/10以下でチェックすることができる
ようになった。また、これらのチェックは行わない事も
できる。ただし、それについてはシステム管理者が設定
をする事ができる。As described above, in the manufacturing rule checking system of the present invention, the process flows described in the order of steps can be checked at high speed by using the management tables 13 to 49. For example, it takes about 30 minutes for a human to check the processing flow of 300 steps, but with this checking device, it can be checked with about 1/10 or less. Also, these checks can be omitted. However, the system administrator can set it.
【0094】次に、前述した図1における分割情報生成
システム2について以下に詳しく説明する。Next, the division information generating system 2 in FIG. 1 described above will be described in detail below.
【0095】図29はこの分割情報生成システム2の機
能ブロック図である。同図に示す処理システムは、分割
工程数カウント部63、ロット分割数カウント部65、
製品毎分割工程場合分け部67、グルーピング部69、
フロー生成部71、分割情報管理テーブル5から構成さ
れている。FIG. 29 is a functional block diagram of this division information generation system 2. The processing system shown in the figure includes a division process number counting unit 63, a lot division number counting unit 65,
For each product division process case division unit 67, grouping unit 69,
The flow generation unit 71 and the division information management table 5 are included.
【0096】分割工程数カウント部63は、プロセスフ
ローにロット分割工程が存在した場合その工程数を数え
る。例えば図30に示すプロセスフローにおいて、ロッ
ト分割工程が2工程存在しているので、この場合は2と
カウントされる。また、図31に図30のロットの流れ
の概略図を示す。The dividing step number counting section 63 counts the number of steps when a lot dividing step exists in the process flow. For example, in the process flow shown in FIG. 30, there are two lot dividing steps, so in this case, 2 is counted. Further, FIG. 31 shows a schematic diagram of the flow of the lot in FIG.
【0097】ロット分割数カウント部65では、分割工
程に書かれているロット分割数をメモリ上に取り込む機
能を有している。図30に示すプロセスフローでは、最
初の分割工程では、本体を3つに分割し、2回目の分割
工程では本体を2つに分割することを示している。The lot division number counting unit 65 has a function of loading the lot division number written in the division process into the memory. The process flow shown in FIG. 30 shows that the main body is divided into three in the first dividing step, and the main body is divided into two in the second dividing step.
【0098】製品毎分割工程場合分け部67では、ロッ
ト分割工程に書いてある情報より更に製品番号ごとに、
どの分割工程を用いるかによって場合分けを行う。図3
0に示すプロセスフローでは、1回目の分割では製品番
号1,2は本体、製品番号3,4は分割、製品番号
5,6は分割のプロセスフローを用いることを示して
いる。2回目の分割では製品番号1,3,5は本体、製
品番号2,4,6は分割のプロセスフローを用いるこ
とを示している。これをまとめたものを図32に示す。Product-by-Product Dividing Process In the case dividing unit 67, the product number is further divided by the product number from the information written in the lot dividing process.
Case division is performed depending on which division step is used. Figure 3
In the process flow shown in 0, the product numbers 1 and 2 are used in the first division, the product numbers 3 and 4 are divided, and the product numbers 5 and 6 are divided. In the second division, the product numbers 1, 3, 5 use the main body, and the product numbers 2, 4, 6 use the division process flow. A summary of this is shown in FIG.
【0099】グルーピング部69では、製品毎分割工程
場合分け部67で得られた情報より、同一プロセスフロ
ー情報でグルーピングを行う。グルーピングをした結果
をもとに分割情報管理テーブル5が作成される。図33
に示した分割情報管理テーブルにおいて、図32におい
て同一情報が存在しないので、分割パターンはa,b,
c,d,e,fの6種類に分割される事がわかる。The grouping unit 69 performs grouping with the same process flow information based on the information obtained by the product dividing process case dividing unit 67. The division information management table 5 is created based on the result of grouping. FIG. 33
In the division information management table shown in FIG. 32, since the same information does not exist in FIG. 32, the division patterns are a, b,
It can be seen that it is divided into 6 types, c, d, e and f.
【0100】グルーピング部69において、分割情報テ
ーブル5を用いて、製品毎にプロセスフロー情報を作成
する。図34に示す様に、投入から1回目の分割までを
A、1回目の分割において、本体をB、分割をC、分
割をD、1回目の分割の合流から、2回目の分割まで
の工程をE、2回目の分割において本体をF、分割を
G、2回目の分割から払い出しまでをHとすると、図3
3の分割情報管理テーブルより、フロー生成部71にお
いて分割工程を含まないプロセスフローが生成される。
例えば製品番号1は、図35に示す様にA+B+E+F
+Hとなる。The grouping unit 69 uses the division information table 5 to create process flow information for each product. As shown in FIG. 34, the steps from the input to the first division are A, the first division is B, the division is C, the division is D, the first division is joined, and the second division is performed. Is E, the main body is F in the second division, G is the division, and H is the second division to the payout.
From the division information management table No. 3, the flow generation unit 71 generates a process flow that does not include a division process.
For example, product number 1 is A + B + E + F as shown in FIG.
It becomes + H.
【0101】次に、このシステム実現手段について、図
29を参照しながら説明する。分割工程数カウント部6
3、ロット分割数カウント部65、製品毎分割工程場合
分け部67、グルーピング部69、フロー生成部71は
CPUに付属するメインメモリで実現されている。Next, this system realizing means will be described with reference to FIG. Division process number counting unit 6
3, the lot division number counting unit 65, the product dividing process case dividing unit 67, the grouping unit 69, and the flow generating unit 71 are realized by a main memory attached to the CPU.
【0102】分割情報管理テーブル5はハードディス
ク、あるいはフロッピーディスクなどの記録媒体に保存
されている。The division information management table 5 is stored in a recording medium such as a hard disk or a floppy disk.
【0103】例えば、CPUに付属するメインメモリ上
で、分割工程数カウント部63、ロット分割数カウント
部65、製品毎分割工程場合分け部67、グルーピング
部69が時間をおって実現される。その結果は、分割情
報管理テーブル5に出力され、フロー生成部71で分割
管理テーブル5を参照して分割工程を含まないプロセス
フローが記憶媒体に出力される。For example, the division process number counting unit 63, the lot division number counting unit 65, the product division process dividing unit 67, and the grouping unit 69 are realized over time on the main memory attached to the CPU. The result is output to the division information management table 5, and the flow generation unit 71 refers to the division management table 5 to output the process flow not including the division process to the storage medium.
【0104】次にこの分割情報生成システムの作用につ
いて述べる。Next, the operation of this division information generation system will be described.
【0105】まず、分割工程数カウント部63におい
て、フロー取り込み部1によってメインメモリに取り込
まれたプロセスフロー情報に、ロット分割工程が存在す
るかどうかのチェックが行われる。ロット分割工程が存
在した場合は、そのロット分割工程数を数える。ここ
で、分割工程が1つも存在しなかった場合は、この分割
情報取り込み部で行われる作業は終了する。First, in the dividing step number counting section 63, it is checked whether or not a lot dividing step exists in the process flow information taken into the main memory by the flow taking section 1. If there are lot division processes, the number of lot division processes is counted. Here, if there is no division process, the work performed by this division information acquisition unit ends.
【0106】次にロット分割数カウント部65におい
て、各々の分割工程内にある製品分割数を数える。Next, the lot division number counting section 65 counts the number of product divisions in each division process.
【0107】次にロット分割工程に書かれているロット
分割の内訳(各々の分割枚数、分割製品番号)によっ
て、どの製品がどの分割のプロセスフロー情報を用いる
かによって分類を行い、グルーピング部69において同
一プロセスフロー情報単位で製品番号のグルーピングを
行う。Then, according to the breakdown of the lot division (each division number, division product number) written in the lot division process, classification is performed according to which product uses the process flow information of which division, and the grouping unit 69. Group product numbers in units of the same process flow information.
【0108】このグルーピングの結果は分割情報管理テ
ーブル5に格納される。The result of this grouping is stored in the division information management table 5.
【0109】次にフロー生成部において、分割情報管理
テーブル5を用いて、どの製品がどの分割プロセスフロ
ー情報を使用するかによって分割工程を含まないプロセ
スフローを作成する。チェックにはこのプロセスフロー
情報を用いる。Next, the flow generation section uses the division information management table 5 to create a process flow that does not include a division step depending on which product uses which division process flow information. This process flow information is used for checking.
【0110】すなわち、この分割情報管理システムを用
いればプロセスフローに分割工程が存在していてもあた
かも分割工程が存在しないかの様に是非の判断をコンピ
ュータにより行うことが可能となる。これにより、プロ
セスフローのチェックに際しては分割の事を考慮にいれ
る必要がないのでチェックシステムを大幅に簡略化する
事ができる。That is, if this division information management system is used, even if there are division steps in the process flow, it is possible to make a computer judgment as if the division steps do not exist. As a result, when checking the process flow, it is not necessary to consider division, so the check system can be greatly simplified.
【0111】次に、前述した図1におけるレイア情報生
成システム6の詳細について以下に説明する。The details of the layer information generation system 6 in FIG. 1 described above will be described below.
【0112】図36は、レイア情報生成システム6の機
能ブロック図である。FIG. 36 is a functional block diagram of the layer information generating system 6.
【0113】レイア情報生成システム6は、マスク情報
取込み部7、マスク情報管理テーブル9、レイア情報生
成部101、機能選択部103,レイア情報受渡し部1
05から構成されている。またマスク情報生成システム
6は、マスク情報生成部107、CADシステム10
9、チェックシステム10,シミュレーションシステム
111、他システム113と接続されている。The layer information generation system 6 includes a mask information acquisition unit 7, a mask information management table 9, a layer information generation unit 101, a function selection unit 103, and a layer information transfer unit 1.
It is composed of 05. The mask information generation system 6 includes a mask information generation unit 107 and a CAD system 10.
9, the check system 10, the simulation system 111, and the other system 113 are connected.
【0114】CADシステム109は、一般に市販され
たり、各企業にて開発されたレイアウト設計システムで
あり、その特殊性は問わない。このCADシステム10
9にてマスク情報の長さや面積等の情報を生成する。例
えば、半導体製造におけるマスクレイアウトを例に取る
と、図37(a)に示す様な設計図を作成することがで
きる。The CAD system 109 is a layout design system that is generally commercially available or is developed by each company, and its peculiarity does not matter. This CAD system 10
At 9, information such as the length and area of the mask information is generated. For example, taking a mask layout in semiconductor manufacturing as an example, a design drawing as shown in FIG. 37A can be created.
【0115】この図37(a)の例では、マスク1では
1本の線を、マスク2では2本の線、マスク3では2個
の穴を表している。In the example of FIG. 37 (a), the mask 1 shows one line, the mask 2 shows two lines, and the mask 3 shows two holes.
【0116】この様に半導体製造の場合、このマスク情
報が複数存在し、その図の形や長さはまちまちである。
また、半導体製造の場合には、図37(a)に示す黒塗
の部分には、レジストが残るか否かの情報が付帯してい
る。つまり、半導体製造を例に取ると、CADシステム
109では、マスク情報、例えば「長さ」と「レジスト
有無」を生成する。ただし、この情報は、設計図面の面
積などであっても良い。As described above, in the case of semiconductor manufacturing, there are a plurality of pieces of this mask information, and the shapes and lengths of the figures are various.
Further, in the case of semiconductor manufacturing, information on whether or not the resist remains is attached to the black-painted portion shown in FIG. That is, taking semiconductor manufacturing as an example, the CAD system 109 generates mask information such as “length” and “presence / absence of resist”. However, this information may be the area of the design drawing or the like.
【0117】マスク情報生成部107は、CADシステ
ム109で生成された情報を次の機能部へ転送するため
に加工する部分である。例えば、上記半導体製造の例を
取ると、CADシステム109で生成されたマスクの
「長さ」情報と「レジスト有無」情報は、このマスク情
報生成部107にて英数字の形に変換される。The mask information generation section 107 is a section for processing the information generated by the CAD system 109 to transfer it to the next functional section. For example, taking the above example of semiconductor manufacturing, the mask “length” information and “resist presence / absence” information generated by the CAD system 109 are converted into alphanumeric characters by the mask information generation unit 107.
【0118】図37(a),(b)を参照して、CAD
システム109での図形情報、例えばマスク1のある1
次元部分(図37(a)の一点破線)のマスクの「長
さ」情報は、『a1,a2,a3』と表され、一方、
「レジスト有無」情報は、レジスト「有り」を「1」、
「無」を「0」とすると、『0、1、0』で表される。
つまり、マスク情報生成部107は、CADシステム1
09で指定された場所からマスクの「長さ」情報と「レ
ジスト有無」情報、『a1,a2,a3/0、1、0』
を生成する機能を有している。Referring to FIGS. 37 (a) and 37 (b), CAD
Graphic information in the system 109, for example, 1 with mask 1
The “length” information of the mask of the dimensional portion (dotted line in FIG. 37A) is expressed as “a1, a2, a3”, while
“Registration presence / absence” information is “1” for registration “presence”,
When “none” is “0”, it is represented by “0, 1, 0”.
That is, the mask information generation unit 107 uses the CAD system 1
"Length" information and "resist presence / absence" information of the mask from the location designated by 09, "a1, a2, a3 / 0, 1, 0"
Has the function of generating.
【0119】図37(b)に図37(a)から変換され
たこれらの情報のイメージを示す。マスク情報生成部1
07は、図37(a)から(b)への変換を行ってい
る。ここで、マスクの情報を収集したい部分の指定は、
例えばマウス等の入力媒体を使用することにより指定す
ることができる。マウスをマスク形状のある任意の一点
に移動しクリックすることで、全てのマスクの同一位置
の情報を得ることができる。図37の例を参照すると、
マスク1の一点破線のいかなる部分をクリックすること
で、マスク2、3・・・の同一位置の情報を収集でき
る。FIG. 37 (b) shows an image of these information converted from FIG. 37 (a). Mask information generator 1
07 performs the conversion from FIG. 37 (a) to (b). Here, the designation of the part you want to collect the mask information is
For example, it can be designated by using an input medium such as a mouse. By moving the mouse to an arbitrary point with a mask shape and clicking it, information on the same position of all masks can be obtained. Referring to the example of FIG. 37,
Information on the same position of the masks 2, 3, ... Can be collected by clicking any part of the one-dot broken line of the mask 1.
【0120】上記の例ではマスク情報の1次元に対応し
ているが、次の方法を採用することで2次元にも対応可
能である。In the above example, the mask information corresponds to one dimension, but it can also correspond to two dimensions by adopting the following method.
【0121】マスクの「長さ」情報や、「レジスト有
無」情報の場所を指定する場合、マスク上にある1点を
指定したが、この指定方法を任意の原点から、任意のス
テップにより、ずらして指定することで擬2次元の「長
さ」情報や、「レジスト有無」情報を指定することがで
きる。When designating the location of the "length" information of the mask and the "presence / absence of resist" information, one point on the mask was designated, but this designation method is shifted from an arbitrary origin by an arbitrary step. It is possible to specify pseudo two-dimensional "length" information and "resist presence / absence" information.
【0122】具体的には、図38(a)に示す様に、任
意に原点Oを指定し、ステップも任意に指定すること
で、「長さ」情報が『a1,a2,a3』、『b1,b
2,b3』、『c1,c2,c3』とずれて指定でき
る。これらの情報をマスク情報生成部107において例
えば、図38(b)に示す様にマトリックスとして生成
することができる。Specifically, as shown in FIG. 38 (a), the origin O is arbitrarily designated, and the step is also arbitrarily designated, whereby the "length" information is "a1, a2, a3", " b1, b
2, b3 ”and“ c1, c2, c3 ”can be deviated. These pieces of information can be generated in the mask information generation unit 107 as a matrix as shown in FIG. 38 (b), for example.
【0123】上記のように生成されたマスクの「長さ」
情報や、「レジスト有無」情報は、レイア情報生成シス
テム6内の記録媒体に格納される。"Length" of the mask generated as described above
The information and the “registration presence / absence” information are stored in a recording medium in the layer information generation system 6.
【0124】マスク情報取込み部7は、上記マスク情報
生成部107の情報を記録媒体から取り出し、マスク情
報管理テーブル9に展開した後、レイア情報生成部10
1へ受け渡す部分である。The mask information fetching section 7 fetches the information of the mask information generating section 107 from the recording medium, expands it in the mask information management table 9, and then the layer information generating section 10
It is the part to pass to 1.
【0125】レイア情報生成部101は、マスク情報生
成部107にて生成された情報から、「レイア情報」と
呼ばれる情報を生成する部分である。具体的に、図30
(b),(c)を参照してこのレイア情報生成部101
について解説する。The layer information generating section 101 is a section for generating information called "layer information" from the information generated by the mask information generating section 107. Specifically, FIG.
This layer information generation unit 101 is referred to with reference to (b) and (c).
I will explain.
【0126】マスク情報生成部107にて生成された情
報、すなわち図37(b)におけるマスク1の情報は、
図37(c)では3つの部分(a1〜a3)に分けるこ
とができる。この1つ1つの部分がレイアと呼ばれる情
報であり、マスクが1枚の場合には、マスク情報とレイ
ア情報は同じである。ちなみに、マスク1枚の時のレイ
ア情報は3レイアで長さとレジスト有無情報はそれぞれ
『a1,a2,a3/0、1、0』である。The information generated by the mask information generation unit 107, that is, the information on the mask 1 in FIG.
In FIG. 37C, it can be divided into three parts (a1 to a3). Each of these parts is information called a layer, and when there is one mask, the mask information and layer information are the same. By the way, the layer information for one mask is 3 layers, and the length and resist presence / absence information are "a1, a2, a3 / 0, 1, 0", respectively.
【0127】次にマスク2をマスク1に重ね合わせる
と、レイアは図37(c)の如く5レイア(b1〜b
5)となる。さらに、マスク3を重ね合わせると、レイ
ア数は9レイアとなる。この時長さは、レイア(1)″
はc1であるが、レイア(2)″は(b1−c1)、レ
イア(3)″は((c1+c2)−b1)等となり、レ
ジスト有無情報もそれぞれ「0、1、1・・・・・」と
なる。Next, when the mask 2 is overlaid on the mask 1, the layers are 5 layers (b1 to b1) as shown in FIG.
5). Further, when the masks 3 are superposed, the number of layers becomes nine layers. At this time, the length is Leia (1) ″
Is c1, but the layer (2) ″ is (b1-c1), the layer (3) ″ is ((c1 + c2) −b1), and the resist presence / absence information is also “0, 1, 1, ... It will be.
【0128】この様に、レイア情報生成部101では、
マスク情報生成部107から渡されたマスク情報を上記
例の示す様なレイア情報に変換する部分である。この時
マスク枚数は、何枚あっても構わない。つまり、レイア
情報生成部101は、図30(b)の情報を(c)の情
報へと変換する機能を有している。In this way, the layer information generating unit 101
This is a part for converting the mask information passed from the mask information generation unit 107 into layer information as shown in the above example. At this time, any number of masks may be used. That is, the layer information generation unit 101 has a function of converting the information in FIG. 30B into the information in FIG.
【0129】機能選択部103は、レイア情報生成部1
01で生成された情報を図1で示したチェックシステム
10、シミュレーションシステム111、あるいは他シ
ステム113等へ転送する場合の選択機能を有してい
る。The function selecting section 103 is the layer information generating section 1
It has a selection function for transferring the information generated in 01 to the check system 10, the simulation system 111, or the other system 113 shown in FIG.
【0130】レイア情報受渡し部105は、上記機能選
択部103で選択されたいずれかのシステムへレイア情
報を受渡す部分である。The layer information transfer section 105 is a section for transferring the layer information to one of the systems selected by the function selection section 103.
【0131】なお、シミュレーションシステム111
は、プロセス/デバイス/形状シミュレータに代表され
るシミュレーションシステムである。他システム113
は、上記システム以外のレイア情報を必要とするシステ
ムである。The simulation system 111
Is a simulation system represented by a process / device / shape simulator. Other system 113
Is a system that requires layer information other than the above systems.
【0132】[0132]
【発明の効果】以上述べたように、本発明による製造規
則チェックシステムでは、プロセスフロー情報のチェッ
クをコンピュータにより自動的に行うことが可能とな
る。これにより、誰でもが簡単に共通の知識として利用
できるようになるとともに、チェックのミスが減少す
る。As described above, in the manufacturing rule checking system according to the present invention, the process flow information can be automatically checked by the computer. This makes it easy for everyone to use as common knowledge, and reduces mistakes in checking.
【0133】さらに、本発明による製造規則チェックシ
ステムによれば、プロセスフロー情報にマスク情報が付
加されていることから、プロセス/デバイス/形状シミ
ュレータへ2次元、3次元情報を自動転送することがで
きる。Further, according to the manufacturing rule checking system of the present invention, since the mask information is added to the process flow information, it is possible to automatically transfer the two-dimensional and three-dimensional information to the process / device / shape simulator. .
【図1】本発明の一実施例における製造規則チェックシ
ステムのハードウェア構成。FIG. 1 is a hardware configuration of a manufacturing rule check system according to an embodiment of the present invention.
【図2】膜構造チェック部を説明する為のプロセスフロ
ー情報。FIG. 2 is process flow information for explaining a film structure check unit.
【図3】膜構造管理テーブル。FIG. 3 is a membrane structure management table.
【図4】膜構造管理テーブル。FIG. 4 is a membrane structure management table.
【図5】表面状態管理テーブル。FIG. 5 is a surface state management table.
【図6】膜Aが製品の表面に堆積されている時に処理
a、処理bを行う場合の概念図。FIG. 6 is a conceptual diagram when processing a and processing b are performed when a film A is deposited on the surface of a product.
【図7】膜A、膜Bが製品の表面に堆積されている時に
処理a、処理bを行う場合の概念図。FIG. 7 is a conceptual diagram when processing a and processing b are performed when films A and B are deposited on the surface of a product.
【図8】裏面状態管理テーブル。FIG. 8 is a back surface state management table.
【図9】膜Cが製品の裏面に堆積されている時に処理
a、処理bを行う場合の概念図。FIG. 9 is a conceptual diagram when processing a and processing b are performed when the film C is deposited on the back surface of the product.
【図10】下地状態管理テーブル。FIG. 10 is a background state management table.
【図11】膜A、B、Cが製品表面に堆積されている時
に処理bを行う場合の概念図。FIG. 11 is a conceptual diagram when the treatment b is performed when the films A, B, and C are deposited on the product surface.
【図12】拡散状態管理テーブル。FIG. 12 is a diffusion status management table.
【図13】拡散炉Dに入った製品が、拡散炉E、Fに入
る場合の概念図。FIG. 13 is a conceptual diagram when a product that has entered the diffusion furnace D enters the diffusion furnaces E and F.
【図14】パッケージ管理テーブル。FIG. 14 is a package management table.
【図15】パッケージチェック部を説明する為のプロセ
スフロー情報。FIG. 15 is process flow information for explaining a package check unit.
【図16】パッケージチェック部を説明する為のプロセ
スフロー情報。FIG. 16 is process flow information for explaining a package check unit.
【図17】工程順序管理テーブル。FIG. 17 is a process order management table.
【図18】工程順序チェック部を説明する為のプロセス
フロー情報。FIG. 18 is process flow information for explaining a process order check unit.
【図19】ルーチン外管理テーブル。FIG. 19 is a non-routine management table.
【図20】ルーチン外チェック部を説明するためのプロ
セスフロー情報。FIG. 20 is process flow information for explaining an out-of-routine check unit.
【図21】テストピース管理テーブル。FIG. 21 is a test piece management table.
【図22】テストピースチェック部を説明するためのプ
ロセスフロー情報。FIG. 22 is process flow information for explaining the test piece check unit.
【図23】連続工程管理テーブル。FIG. 23 is a continuous process management table.
【図24】連続工程チェック部を説明するためのプロセ
スフロー情報。FIG. 24 is process flow information for explaining a continuous process check unit.
【図25】エラーコード管理テーブル。FIG. 25 is an error code management table.
【図26】エラーメッセージ作成部を説明する為のプロ
セスフロー情報。FIG. 26 is process flow information for explaining an error message creation unit.
【図27】チェック管理テーブル。FIG. 27 is a check management table.
【図28】人手で作成したプロセスフロー情報。FIG. 28: Process flow information created manually.
【図29】図1で示した分割情報生成システムのハード
ウェア構成。FIG. 29 is a hardware configuration of the division information generation system shown in FIG. 1.
【図30】ロット分割工程を含んだプロセスフロー情
報。FIG. 30 is process flow information including a lot division process.
【図31】図30のロットの流れを示す概略図。FIG. 31 is a schematic diagram showing the flow of lots in FIG. 30.
【図32】製品番号ごとにどの分割工程を用いるかを管
理する概念図。FIG. 32 is a conceptual diagram for managing which division process is used for each product number.
【図33】図32を同一分割情報でパターン分けを行っ
た結果を管理する概念図。FIG. 33 is a conceptual diagram for managing the result of pattern division of FIG. 32 using the same division information.
【図34】プロセスフローをパターン分けした概略図。FIG. 34 is a schematic diagram in which the process flow is divided into patterns.
【図35】製品番号1の分割工程を含まないプロセスフ
ローの概略図。FIG. 35 is a schematic diagram of a process flow that does not include a division step of product number 1.
【図36】図1で示したレイア情報生成システムの詳細
な機能ブロック図。FIG. 36 is a detailed functional block diagram of the layer information generation system shown in FIG. 1.
【図37】レイア情報生成システムによるマスク情報か
らレイア情報への生成イメージ図。FIG. 37 is an image diagram of generation of mask information to layer information by the layer information generation system.
【図38】レイア情報生成システムによるマスク情報か
ら2次元レイア情報への生成イメージ図。FIG. 38 is an image diagram of generation from mask information to two-dimensional layer information by the layer information generation system.
【図39】従来用いられていたプロセスフローの一例。FIG. 39 shows an example of a conventionally used process flow.
1 プロセスフロー取込み部 2 分割情報生成システム 3 分割情報取込み部 5 分割情報管理テーブル 6 レイア情報生成システム 7 マスク情報取込み部 9 マスク情報管理テーブル 10 チェックシステム 11 膜構造チェック部 13 膜構造管理テーブル 15 表面状態チェック部 17 表面状態管理テーブル 19 裏面状態チェック部 21 裏面状態管理テーブル 23 下地状態チェック部 25 下地状態管理テーブル 27 拡散状態チェック部 29 拡散状態管理テーブル 31 パッケージチェック部 33 パッケージ管理テーブル 35 工程順序チェック部 37 工程順序管理テーブル 39 ルーチン外チェック部 41 ルーチン外管理テーブル 43 テストピースチェック部 45 テストピース管理テーブル 47 連続工程チェック部 49 連続工程管理テーブル 51 エラーメッセージ作成部 55 結果出力部 57 チェック判断部 59 チェック管理テーブル 63 分割工程カウント部 65 ロット分割数カウント部 67 製品毎分割工程場合分け部 69 グルーピング部 71 フロー生成部 101 レイア情報生成部 103 機能選択部 105 レイア情報受渡し部 107 マスク情報生成部 1 Process Flow Acquisition Unit 2 Division Information Generation System 3 Division Information Acquisition Unit 5 Division Information Management Table 6 Layer Information Generation System 7 Mask Information Acquisition Unit 9 Mask Information Management Table 10 Check System 11 Membrane Structure Checking Unit 13 Membrane Structure Management Table 15 Surface State check unit 17 Front side state management table 19 Back side state check unit 21 Back side state management table 23 Base state check unit 25 Base state management table 27 Spread state check unit 29 Spread state management table 31 Package check unit 33 Package management table 35 Process sequence check Part 37 Process order management table 39 Non-routine check part 41 Non-routine management table 43 Test piece check part 45 Test piece management table 47 Continuous process check part 49 Continuous Process management table 51 Error message creation unit 55 Result output unit 57 Check judgment unit 59 Check management table 63 Divided process counting unit 65 Lot division number counting unit 67 Product-wise divided process case dividing unit 69 Grouping unit 71 Flow generation unit 101 Layer information generation Unit 103 Function selecting unit 105 Layer information passing unit 107 Mask information generating unit
Claims (10)
と製造条件を持つ多品種変量製造ラインにおける製造規
則をチェックするシステムであって、 外部記憶装置に保存されている製造規則情報をメインメ
モリ上に取込む手段と、 取込まれた製造規則情報に、製品を分割処理すべき分割
工程が存在するかどうかをチェックし、分割工程が存在
した場合に製品番号毎に製造規則情報の分類を行い分割
情報を生成する分割情報生成手段と、 リソグラフィ工程で用いられるマスクパターンの、寸法
情報、レジスト有無情報をまとめたマスク情報管理テー
ブルをメインメモリ上に取込み、取込まれた情報よりレ
イア情報を生成するレイア情報生成手段と、 製品表面や裏面上に堆積されている膜構造を管理する膜
構造管理テーブルと、 この膜構造管理テーブルを用いて製造規則情報のエッチ
ング工程に書かれた削る膜の構造と実際製品上に堆積さ
れている膜の構造が等しいかをチェックする膜構造チェ
ック手段と、 製品表面に露出している膜によって、行える工程、行え
ない工程をまとめた表面状態管理テーブルと、 この表面状態管理テーブルを用いてチェックする表面状
態チェック手段と、 製品裏面に露出している膜によって、行える工程、行え
ない工程をまとめた裏面状態管理テーブルと、 この裏面状態管理テーブルを用いてチェックする裏面状
態チェック手段と、 製品の表面上に存在する膜によって、行える工程、行え
ない工程をまとめた下地状態管理テーブルと、 この下地状態管理テーブルを用いてチェックする下地状
態チェック手段と、 拡散炉の汚染度によってランク分けを行い、それをまと
めた拡散状態管理テーブルと、 この拡散状態管理テーブルを用いてチェックする拡散状
態チェック手段と、 ある工程からある工程までの範囲のなかで行える工程、
行えない工程をまとめたパッケージ管理テーブルと、 このパッケージ管理テーブルを用いてチェックするパッ
ケージチェック手段と、 規定された製造工程順序をまとめた工程順序管理テーブ
ルと、 この工程順序管理テーブルを用いてチェックする工程順
序チェック手段と、 行ってはいけない工程、ある工程の後で行ってはいけな
い工程をまとめたルーチン外工程管理テーブルと、 このルーチン外工程管理テーブルを用いてチェックする
ルーチン外工程チェック手段と、 試験用製品の挿入位置、抜き取り位置、種類をまとめた
試験用製品管理テーブルと、 この試験用製品管理テーブルを用いてチェックする試験
用製品チェック手段と、 連続工程のパターンをまとめた連続工程管理テーブル
と、 この連続工程管理テーブルを用いてチェックする連続工
程チェック手段と、 エラーメッセージをまとめたエラーコード管理テーブル
と、 このエラーコード管理テーブルを用いてエラーメッセー
ジを作成するエラーメッセージ作成手段と、 前記各チェック手段によるチェックを行うかどうかをま
とめたチェック管理テーブルと、 このチェック管理テーブルを用いてチェックを行うかど
うかを判断するチェック判断手段と、 チェック結果を出力する出力手段とを具備したことを特
徴とする製造規則チェックシステム。1. A system for checking a production rule in a multi-product variable production line having a plurality of production steps and having different process orders and production conditions, wherein the production rule information stored in an external storage device is mainly used. Means to take in the memory and whether or not there is a division process for dividing the product in the production rule information that has been taken in. If there is a division process, the production rule information is classified by product number. The division information generating means for performing the division information and the mask information management table that summarizes the dimension information and the resist presence / absence information of the mask pattern used in the lithography process are loaded into the main memory, and the layer information is loaded from the loaded information. Layer information generating means, a film structure management table for managing the film structure deposited on the front and back surfaces of the product, and this film structure management The film structure checking means that checks whether the structure of the film to be cut written in the etching process of the manufacturing rule information using the cable and the structure of the film actually deposited on the product are the same, and the film exposed on the product surface The surface condition management table that summarizes the processes that can be performed and the processes that cannot be performed, the surface condition check means that checks using this surface condition management table, and the processes that can and cannot be performed depending on the film exposed on the back surface of the product. A backside state management table that is summarized, a backside state checking unit that checks using this backside state management table, a backside state management table that summarizes the processes that can and cannot be performed depending on the film existing on the surface of the product, Ranks are classified according to the degree of contamination of the diffusion furnace and the means for checking the state of the ground using the ground state management table. There, a diffusion status management table summarizing it, a diffusion status check means for checking with the diffusion state management table, step enables Among ranging process from a certain step,
A package management table that summarizes the processes that cannot be performed, a package check means that checks using this package management table, a process sequence management table that summarizes the prescribed manufacturing process sequence, and a check that uses this process sequence management table A process sequence check means, a non-routine process control table that summarizes processes that should not be performed and processes that should not be performed after a certain process, and non-routine process check means that checks using this non-routine process control table Test product management table that summarizes the insertion position, removal position, and type of test product, test product check means that checks using this test product management table, and continuous process management table that summarizes continuous process patterns And check using this continuous process control table A continuous process check means, an error code management table that summarizes error messages, an error message creation means that creates an error message using this error code management table, and a summary of whether or not each check means performs a check. A manufacturing rule check system comprising: a check management table; a check judgment means for judging whether to perform a check using the check management table; and an output means for outputting a check result.
分割情報を作成した後に同一処理される製品を単位とし
てグルーピングを行うことを特徴とする請求項1記載の
製造規則チェックシステム。2. The manufacturing rule check system according to claim 1, wherein the division information generation means performs grouping on the basis of products that are processed the same after creating division information for each product number.
情報に分割工程が何工程含まれるかを数える手段と、そ
の分割工程に含まれる分割数、分割枚数、及び分割製品
番号を取り込む手段を有することを特徴とする請求項1
記載の製造規則チェックシステム。3. The division information generating means includes means for counting how many division steps are included in the manufacturing rule information, and means for taking in the number of divisions, the number of divisions, and the division product numbers included in the division step. Claim 1 characterized by having.
Manufacturing rule check system described.
ック手段、裏面状態チェック手段、及び下地状態チェッ
ク手段は、製品が出来る過程をシミュレートしつつ、前
記膜構造チェック手段及びその製品に付随する製造規則
情報を用いながらチェックを行う事を特徴とする請求項
1記載の製造規則チェックシステム。4. The film structure checking means, the surface condition checking means, the back surface condition checking means, and the substrate condition checking means simulate the process of producing a product, and the film structure checking means and manufacturing associated with the product. The manufacturing rule checking system according to claim 1, wherein the checking is performed using the rule information.
ック手段、及び下地状態チェック手段は、前記レイア情
報生成手段によって生成されたレイア情報を用いて、製
品の複数のレイア状態を一度にチェックすることを特徴
とする請求項1記載の製造規則チェックシステム。5. The film structure checking means, the surface state checking means, and the base state checking means use the layer information generated by the layer information generating means to check a plurality of layer states of a product at a time. The manufacturing rule checking system according to claim 1, wherein:
う前にチェックを行うチェック手段を選択する事を特徴
とする請求項1記載の製造規則チェックシステム。6. The manufacturing rule check system according to claim 1, wherein the check determination means selects a check means to perform a check before performing the check.
取込み部と、マスク情報管理テーブルと、レイア情報生
成部と、機能選択部と、レイア情報受渡し部と、マスク
情報生成部とからなることを特徴とする請求項1記載の
製造規則チェックシステム。7. The layer information generating means comprises a mask information fetching unit, a mask information management table, a layer information generating unit, a function selecting unit, a layer information passing unit, and a mask information generating unit. The manufacturing rule checking system according to claim 1, which is characterized in that.
テムから得られる設計図の長さ、レジスト有無情報か
ら、各設計図面毎のレイア情報を生成する事を特徴とす
る請求項1記載の製造規則チェックシステム。8. The manufacturing rule according to claim 1, wherein the layer information generating means generates layer information for each design drawing from the length of the design drawing and the resist presence / absence information obtained from the CAD system. Check system.
れたレイア情報を、前記膜構造管理テーブルに2次元で
格納することを特徴とする請求項1記載の製造規則チェ
ックシステム。9. The manufacturing rule checking system according to claim 1, wherein the layer information generated by said layer information generating means is stored two-dimensionally in said film structure management table.
されたレイア情報を、半導体製造におけるプロセス/デ
バイス/形状シミュレータ等の2次元、3次元計算に用
いることを特徴とする請求項1記載の製造規則チェック
システム。10. The manufacturing rule check according to claim 1, wherein the layer information generated by the layer information generating means is used for two-dimensional and three-dimensional calculation of a process / device / shape simulator in semiconductor manufacturing. system.
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