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JPH0617525B2 - ゲッター組成物 - Google Patents

ゲッター組成物

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JPH0617525B2
JPH0617525B2 JP62056994A JP5699487A JPH0617525B2 JP H0617525 B2 JPH0617525 B2 JP H0617525B2 JP 62056994 A JP62056994 A JP 62056994A JP 5699487 A JP5699487 A JP 5699487A JP H0617525 B2 JPH0617525 B2 JP H0617525B2
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rare earth
zirconium
getter
nickel
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JP62056994A
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AAJENITSUKUSU Inc
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Publication date
Application filed by AAJENITSUKUSU Inc filed Critical AAJENITSUKUSU Inc
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Publication of JPH0617525B2 publication Critical patent/JPH0617525B2/ja
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    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04BPOSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
    • F04B37/00Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00
    • F04B37/02Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for evacuating by absorption or adsorption
    • F04B37/04Selection of specific absorption or adsorption materials
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J61/00Gas-discharge or vapour-discharge lamps
    • H01J61/02Details
    • H01J61/24Means for obtaining or maintaining the desired pressure within the vessel
    • H01J61/26Means for absorbing or adsorbing gas, e.g. by gettering; Means for preventing blackening of the envelope
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J7/00Details not provided for in the preceding groups and common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
    • H01J7/14Means for obtaining or maintaining the desired pressure within the vessel
    • H01J7/18Means for absorbing or adsorbing gas, e.g. by gettering
    • H01J7/183Composition or manufacture of getters
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01KELECTRIC INCANDESCENT LAMPS
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    • H01K1/46Means forming part of the lamp for the purpose of providing electrical connection, or support for, the lamp supported by a separate part, e.g. base, cap
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    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
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    • Y02E60/30Hydrogen technology
    • Y02E60/32Hydrogen storage
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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  • Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
  • Gas Separation By Absorption (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 <産業上の利用分野> 本発明は水素等を捕捉するゲッター組成物に関する。よ
り詳細には、本発明は低温度で水素等を捕捉する不揮発
性のゲッター組成物に関する。
<発明の背景> 水素の存在が望ましくない多くの装置及び工程がある。
その一例は二次オイル回収のために行なう水蒸気の噴射
注入で用いる熱絶縁された環形鋼製配管である。熱絶縁
のためには、環形チューブは真空であるか又はアルゴン
等の不活性ガスが充填されていることが望ましい。鋼又
は外部腐蝕過程からのガス抜きの結果、水素が上記の熱
絶縁環状部に入って来て環状部の絶縁特性を低下させる
可能性がある。他の例は、内部腐蝕過程の結果である水
素の滞留増加に起因して操作上の故障が生じる可能性の
あるアンモニア加熱パイプである。別の一連の例は、広
く実験室及び工業的に使用されている「乾燥室」のよう
な多種の不活性ガス室である。この種の室は、ときには
水素又は水素の同位元素即ち重水素及び三重水素で汚染
されることがある。更に別の例は、工業的規模のヘリウ
ム単離操作で行なわれるヘリウムから少量の水素の分離
である。真空室又は各種ガス類から水素又は水素の同位
元素を捕捉することが望まれる多くの他の例がある。
<従来の技術> 水素捕捉剤(水素ゲッター)を用いる多数の例を見い出
すことができるけれども、従来例には幾つかの欠点があ
る。金属チタンが使用されているが、金属チタンは少な
くとも600℃に加熱して水素吸収活性を持つようにし
なればならず、酸素又は水のような気体状不純物の存在
によって容易に活性を失ってしまう。更に、チタンはい
ったん水素で飽和されてしまうと、真空下で600℃程
度に加熱して水素を除去しなければ再作用できない。
また鉄チタン金属間化合物Fe−Tiも水素貯蔵特性が
優れ、安価であるので広く用いられているが、活性化に
高温高圧を要することが水素吸収能力が漸次減少する傾
向があり、このFe−Tiのこれら欠点を改良するため
このFe−Ti基礎金属材料にIV族a元素、V族a元
素、III族a元素および(または)ランタニド、アクチ
ニドの希土類元素を配合して基礎金属材料の水素化速度
を増大させることも意図されている(特開昭60−89
544号参照)。
よく用いられる他の水素ゲッターは減損ウラニウム金属
である。ウラニウムの欠点の一つは、水素化によって細
かい粉末を形成し、これを空気に曝露すると潜在的に発
火性になることである。ウラニウムの更に別の欠点は、
U−235の含量が減じた減損ウラニウムの場合でも、
少しは放射性であり、特殊な取扱いと廃棄に関する配慮
を要することである。
一連のジルコニウム系ゲッターが、イタリアのミラン(M
ilan,Italy)のSAES・ゲッターズ(SAEA Getters)から市
販されている。これらのゲッター類は、少くとも70重
量%のジルコニウムを含有し、残部がアルミニウム、バ
ナジウム、鉄及びニッケル等の元素から成る。これらの
市販されているゲッター類は、広く水素捕捉の目的に用
いられ、良くその目的に適合するものではあるが、多種
の望ましくない欠点を持つ。まず第1にこれら公知のゲ
ッターは、活性化に200〜900℃の高温度を要す
る。これらの公知のゲッターは一般に活性化を行なわな
い場合には室温では水素を捕捉しない。第二にいったん
水素で活性化されてしまうと、水素を完全に除去して水
素ゲッターとして再使用するためには、真空下で800
℃程度の温度に加熱しなければならない。第三に上記の
公知ゲッター類はジルコニウム含有率が高いため、入手
の容易な空気炉又は一般的なセラミックス製るつぼの内
部で融解することはできず、セラミックス製るつぼ内で
の空気加熱融解と比較して本質的に高価な工程である水
冷式銅製るつぼ内部での真空アーク融解によらねばなら
ない。
ジャーナル・オブ・フィジカル・ケミストリー(Journal
of Physical Chemistry)、第62巻(1958年)、76頁〜79
頁のジー・ジー・リボウィッツ(G.G.Libowitz)による
「ジルコニウム・ニッケルと水素との系」と題する報文
中に金属間化合物ZrNi(Zr60.8重量%、Ni39.2
%)の水素吸収及び水素脱着の特性が記載されている。
しかしながら100℃以下のデータは示されておらず、
実際のところ、この材料は室温では望ましくないことに
活性化特性が遅い。
<発明が解決しようとする問題点> 従って、本発明の目的は、0.01 Torr 以下の圧力で18
乃至20℃、即ちほぼ室温で水素を捕捉することができ
るゲッター組成物を提供することである。
本発明の他の目的は、室温下、低水素圧力で容易に活性
化することができるゲッター組成物を提供することであ
る。
本発明の別な目的は再使用のために容易に再生すること
のできるゲッター組成物を提供することにある。
本発明の更に別の目的は、セラミックス製るつぼ内部で
従来法の空気誘導融解により製造できるゲッター組成物
を提供することである。
その他の諸目的は、以下の記載から明らかになろう。
<問題点を解決するための手段> 本発明によれば、室温で容易に且つ迅速に活性化され、
再使用ために容易に且つ迅速速に再生できる活性なゲッ
ター組成物を提供することである。本発明による組成物
は、重量百分率で約20%〜45%のニッケルと、0.
1%〜10%の1種又はそれ以上の希土類金属とを含有
し、残部がジルコニウムから成る。好ましい組成物は、
重量百分率で、20%〜40%のニッケルと、0.1%
〜6%の1種又はそれ以上の希土類金属とを含有し、残
部がジルコニウムから成る。本発明による好ましいゲッ
ター組成物は、重量百分率で36%のニッケルと、4%
の1種又はそれ以上の希土類金属と、60%のジルコニ
ウムとから成る。
更に本発明の組成物では、重量百分率で20%乃至45
%のニッケルと、0.1%乃至10%の一種又はそれ以
上の希土類金属と、15%以下のコバルト、銅、鉄、ア
ルミニウム、錫、チタン、けい素又はこれらの混合物か
ら成る群から選択した金属とを含有し、残部がジルコニ
ウムからなる。これらの置換金属の幾つかは、捕捉温度
/圧力の関係を変えて、所期の用途により良く適合させ
る。
希土類金属は、周期率のランタン系列の元素として存在
している。この種の元素の例としては、ランタン、セリ
ウム、プラセオジム、ネオジム、プロメチウム、サマリ
ウム、ユーロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジス
プロシウム、ホルミウム、エルビウム、ツリウム、イッ
テルビウム及びルテシウムを挙げることができる。更
に、カルシウム及び/又はイットリウムで1種又はそれ
以上の上記希土類金属を置換することもできる。本発明
組成物中で上記の2種又はそれ以上の希土類金属を組み
合わせて使用することができ、本発明者の知見によれ
ば、2種又はそれ以上の上記金属を含有する合金組成物
を使用するのがよいことがわかった。この型の合金組成
物は当業界でミッシュメタル(以下MMと略記する)と
呼ばれており、種々の希土類元素の混合物を表わし、各
混合物は鉱石源の組成によって変動する組成を持つ。本
発明の実施に使用する代表的なMMは48〜50重量%
のCe、32〜34重量%のLaと、13〜14重量%
のNdと、4〜5重量%のPrと1.5重量%の希土類
金属類とから成りバストネサイト石(bastnasite)鉱石源
から誘導されるものである。この合金はユニオン・モリ
コープ・カンパニー(Union Molycorp Company)から製品
コード番号4601の名で入手できる。希土類金属の比率が
上記の組成物と幾分か異なり、少量の鉄を含有する他の
MM組成物がある。MM組成物の正確な組成は本発明の
実施に臨界的なものではない。
本発明の組成物は、不活性ガス雰囲気(または真空)の
冷却型るつぼアーク加熱炉内部下で成分元素類を融解す
る方法、あるいはまた粘土−黒鉛製るつぼを用いる標準
型空気誘導炉内部で市販品位の原料を融解することによ
って製造できる。固化させた後に、空気中でインゴット
を砕いて、例えば−10メッシュ〜+80メッシュの範
囲の粒形にしてゲッターとして直接使用できる。場合に
よっては、粉砕した材料に、400℃以下、好ましくは
室温から350℃の温度で空気又は酸化性雰囲気中で軽
く表面酸化処理を施し、水素の捕捉活性を増大させるの
が望ましい場合もある。
水素圧力及び/又は温度が充分に高い場合には、ゲッタ
ー組成物の粒子を直接に意図する用途の水素捕捉のため
に使用することができる。この場合には、粒状合金を所
望の装置に入れ、残留空気を除去する。雰囲気温度が低
い(たとえば室温)場合および/または予想される水素圧
力が低い(50 Torr 未満)場合には、ゲッターを予め活
性化しておくのが望ましい。この活性化は試料が水素で
飽和されるか又は部分飽和されるまで室温で0.5気圧
(絶対気圧)を越える圧力で水素を加え、次いで動的真
空化、部分真空化又は不活性ガス流下による掃気を行な
い、試料を100〜500℃、好ましくは300〜40
0℃に加熱して水素を除去することによって再生し再使
用可能な状態にすることができる。上記の如く活性化し
た状態下では、空気又は一酸化炭素、水、硫化水素等の
他の腐蝕性ガス類に曝露されない限り、ゲッターは室温
で0.1 Torr 未満の水準まで水素を除去することがで
きる。ゲッターの使用期間中、一度水素で飽和された合
金類を上述の脱水素化方法により再生することができ
る。
当業者には容易に理解できるように、本発明組成物は、
水素に加えてたとえば酸素及び水蒸気のような少量の他
のガス類を捕捉することができる。他の全てのゲッター
と同様に、水素以外の種類の捕捉は表面の吸着および反
応に限られており、したがって体積吸収によって起る水
素の捕捉よりも更に限られている。非水素ガスからの過
度な表面反応層は水素を吸収するゲッターの能力を制限
するが、真空下または不活性ガスの存在下における高温
度(100〜500℃)処理によって、水素に対する活
性を取り戻す。
添付の図面を参照しながら、以下の実施例を読めば本発
明をより明確に理解できるものと考える。本発明の基本
的思想を逸脱することなく、下記の実施例に多くの変更
を加えることができるので、下記の実施例及び図面は本
発明の好ましい実施態様を示すものであり、本発明を制
限するものと解釈されるべきものではない。
実施例I 金属Zr,Ni及びMMをアルゴン・アーク融解して3
0グラムのボタン状にすることにより、下記の組成を調
製した。(数値は重量%) 容易に理解できるように主たる変動因子はMM含有率で
ある。8グラムの試料を空気中で粉砕して−12メッシ
ュ、+80メッシュの粒子にし、粒子を別個に独立した
複数のステンレス鋼製反応器に装入する。次に、各反応
器の空気を排気して約0.01 Torr の圧力にし、純度 99.
999 %の水素を0.68気圧に戻るまで充填した。各反応器
と並列に約4リットル容の貯槽と圧力変換器とを設置
し、活性化及び捕捉にともなう圧力の変化を測定した。
圧力変化と既知の貯槽の容積から、試料の水素含有率を
時間の関数の形で算出することができる。3例の何れの
場合も、反応器は静止状態で室温の空気中に吊り下げら
れていた。第1図にモル/g及び水素原子/金属の量単
位で、水素の取り込み量を時間の関数として図示してあ
る。図からわかるように、MMを含まない試料は、水素
飽和状態に達するまで24時間を越える時間を必要とす
る。室温における水素捕捉を増大させるMMの能力は極
めて大きい。たとえば4%のMMを含有する試料が飽和
状態になるに要する時間は0.5時間未満であり、この
事実は本発明の基本的な有用性を示すものと言える。
実施例II スポンジ状ジルコニウムと、電解ニッケルと、MMのイ
ンゴットとから充填組成として58.8%Zr−36.2% Ni
−4.0% MM(重量%)の組成物580kg(1280ポンド)を
粘土/黒鉛製るつぼの内で空気中で融解し、内径15cm
の鋳鉄製インゴット型に流し込んだ(ヒートDと呼ぶ)。
固化・冷却後、代表的な8グラムの試料を−12、+8
0メッシュの粒子に粉砕し、実施例Iに記載したと同じ
室温活性化を行なった。試料は迅速に活性化され、1時
間以内に0.0095モル/gの飽和値まで水素を吸着した。
飽和後に試料を232℃(450゜F)に加熱し、 0.5
Torr 未満の真空を印加することにより、水素の大部分
を除去した。次に、試料を232℃で絶対水素圧力10
気圧にして再び水素で飽和させた。再飽和後に、第2図
に示した232℃における脱着等温線が得られ、試料の
最終脱着により測定した低圧力偏位値を測定したところ
400℃において1Torr 未満であった。この図は好ま
しい合金類の232℃における基本脱着圧力を示すとと
もに、本発明による水素で飽和されたゲッターを再使用
のために処理できることを示す図でもある。サイクルが
一回だけの場合でも水素化/脱水素化サイクル中に粒子
のクラッキングによってゲッターの表面積が増大し、そ
の後の室温における水素の捕捉が著しく早く且つ効果的
になる(実施例IIIおよびIV参照)。
実施例III 活性化そして400℃で1 Torr 未満への復帰を含む実
施例IIと同様の手順でヒートDから8gの試料を準備し
た。次に試料を真空下室温まで冷却した。次いで、約1
Torr の水素圧力で約4リットルの試料を充填し、弁を
開口して低圧力の水素と試料とを連通させた。圧力を時
間の関数として記録した。35分間以内に、室温での操
作により、試料が水素を捕捉して、水素の圧力が0.01 T
orr 未満に下がった。
実施例IV 実施例IIと同様にして、空気誘導融解により、重量比で
58.8%のZrと、37.2%のNiと、4.0%のMMとから
成る加熱体(ヒートEと呼ぶ)の8kgを準備した。試料
10gを−35メッシュに磨砕し、流通型反応器に装入
した。実施例IIに記載したと同様の方法で、加熱及びポ
ンプ圧送を交互に繰り返して、試料を室温で3サイクル
交互に水素化・脱水素化した。第3回目の脱水素サイク
ル時に、試料は部分的に脱水素化されて258℃で44
Torr の圧力、即ち第2図に示すような平坦部の直下の
圧力になった。次に、試料を25℃に冷却し、制御され
た温度の水浴を用いて25℃に保持した。この時点で
0.75 容量%の水素を含有するヘリウムと水素の混合物
を準備し、この混合物 119.5 リットル(STP)を水
素を選択的に捕捉させる目的で41気圧で1.5時間に
わたり試料に通じた。混合物の通過が完了した後、試料
から再び脱ガスを行なって可能な限り初期状態(258
℃で44 Torr )にして、捕捉されていた水素を集め
た。測定の精度の範囲内で、回収された水素は0.75容量
%の水素を含有するヘリウム・水素混合物のうち流通型
反応器に入った水素の少なくとも99%が回収された。
この結果は水素含有率が1回の通過で0.75%の水準から
0.0075%以下になる程度まで水素が捕捉されたことを示
し、活性化された状態にあるときには本発明品が低水素
レベルになるまで不活性ガスから室温で水素を捕捉でき
る能力を持つことを示すものである。
実施例V アルゴン雰囲気中でのアーク融解により、30グラムの
ボタン形状で以下の組成をもつ合金類を調製した。(組
成は重量%で示す。) 8gの試料を破砕し(−12,+80メッシュ)、室温
で活性化し、1サイクルの脱水素化/再水素化サイクル
処理を施こし、232℃(450゜F)で10気圧の水
素を充填した。232℃における脱着等温度を求め、得
られた脱着等温線を第3図に示す。図示した全部の合金
は使用可能な特性を示し、多数の置換合金を使用できる
ことを示している。特に興味のあるものはジルコニウム
の一部をチタンで置換したもの(ヒートI)であり、こ
れは平坦部の圧力が高く、更にニッケルの一部をコバル
ト及び銅で置き換えた例(ヒートF及びG)平坦部の圧
力が低い。この実験は基本的な合金系を変性して特定の
用途に適合させ、圧力及び/又は温度に関するゲッター
特性を変えることができることを示す。
実施例VI 空気誘導融解により、以下の組成の合金類の各5kgのバ
ッチを準備した。(組成は重量%で示す。) 空気中で−12,+18メッシュに破砕した後、空気中
で空気圧力 0.015絶対気圧乃至1絶対気圧の圧力下、室
温乃至316℃の温度で試料の軽い表面酸化処理を行な
った。次いで8gの試料を用いて実施例Iに記載したと
同じ室温度での水素活性化テストを行なった。第4図の
グラフで示されている結果によれば、第4図に示す処理
試料の水素飽和に要する時間が短いという事実によって
証明されているように、表面処理により(室温に長時間
置かれたときでも)水素捕捉活性が高くなる。
<作用及び効果> 上記の記載及び実施例からわかるように、本発明による
ジルコニウム・ニッケル・ミッシュメタル系の合金類
は、高温度下での活性化を行なわない場合でも室温度下
でも効果的に働く水素ゲッターになる。一旦水素で飽和
された合金類は、所望する場合には再生して再使用でき
ることも、上述の記載から明らかである。好ましい実施
例から多数の種々の変形例及び置換物をつくることがで
きることも明示されている。本発明の合金系は、従来法
の経済的な空気中融解によって製造することができ、こ
れはほとんど全ての他の反応性金属ゲッター合金類の場
合にはなかった特徴である。最後になったが、軽い表面
酸化処理により、捕捉能を大幅に高めることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、室温における59.3〜61.2重量%のZrと、3
6.7〜38.8重量%のNiとを含有し、残部を占めるMM
から成る合金類の初期水素捕捉(活性化)に対するMM
含有率の効果を示す3本の曲線を示す図である。 第2図は、空気誘導融解によって製造した59.8重量%の
Zrと、36.2重量%のNiと、4.0 重量%のMMとから
成る組成の合金の232℃の水素脱着等温線を示す図で
ある。 第3図は、第2図の等温線にほぼ基づいたゲッター組成
物の多数本の232℃における水素吸収等温線を示す図
であり、ジルコニウム及び/又はニッケルの一部をコバ
ルト、銅、アルミニウム、錫、チタン及びけい素で置換
した組成物の等温線を示す図である。 第4図は、約59.3%Zr−36.7%Ni−4%MM及び5
9.8%Zr−36.2%Ni−4%MM(重量基準)の合金
組成の室温における初期H2捕捉(活性化)に及ぼす軽
い表面酸化の効果を示す多数の曲線を示す図である。

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】重量百分率で20%乃至45%のニッケル
    と、0.1%乃至10%の一種又はそれ以上の希土類金
    属とを含有し、100%となるよう残部がジルコニウム
    であることを特徴とする水素その他のガス類を除去する
    ためのゲッター組成物。
  2. 【請求項2】重量百分率で20%乃至40%のニッケル
    と、0.1%乃至6%の1種又はそれ以上の希土類金属
    とを含有し、100%となるよう残部がジルコニウムで
    あることを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載のゲ
    ッター組成物。
  3. 【請求項3】希土類金属がミッシュメタルの形で存在
    し、重量百分率で以下の成分を含有することを特徴とす
    る特許請求の範囲第2項に記載のゲッター組成物。 セリウム 48%〜50% ランタン 32%〜34% ネオジム 13%〜14% プラセオジム 4%〜5% その他の希土類金属 1.5%
  4. 【請求項4】重量百分率で以下の成分を含有することを
    特徴とする特許請求の範囲第3項に記載のゲッター組成
    物。 ニッケル 36% ミッシュメタル 4% ジルコニウム 60%
  5. 【請求項5】重量百分率で20%乃至45%のニッケル
    と、0.1%乃至10%の一種又はそれ以上の希土類金
    属と、15%以下のコバルト、銅、鉄、アルミニウム、
    錫、チタン、けい素又はこれらの混合物から成る群から
    選択した金属とを含有し、100%となるよう残部がジ
    ルコニウムであることを特徴とする水素その他のガス類
    を除去するためのゲッター組成物。
  6. 【請求項6】希土類金属がミッシュメタルの形で存在
    し、重量百分率で以下の成分を含有することを特徴とす
    る特許請求の範囲第5項に記載のゲッター組成物。 セリウム 48%〜50% ランタン 32%〜34% ネオジム 13%〜14% プラセオジム 4%〜5% その他の希土類金属 1.5%
  7. 【請求項7】重量百分率で以下の成分を含有することを
    特徴とする特許請求の範囲第5項に記載のゲッター組成
    物。 ニッケル 30% ミッシュメタル 3% コバルト 8% ジルコニウム 59%
  8. 【請求項8】重量百分率で以下の成分を含有することを
    特徴とする特許請求の範囲第5項に記載のゲッター組成
    物。 ニッケル 40% ミッシュメタル 3% チタン 6.5% ジルコニウム 50.5%
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