JPH061741A - 新規なポリフエノール及びその高純度品の製造方法 - Google Patents
新規なポリフエノール及びその高純度品の製造方法Info
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Abstract
ール核に親油性に富むシクロアルキル基を置換したポリ
フエノール及びその高純度品を製造する方法を提供する
ことにある。 【構成】本発明による新規なポリフエノールは、式I 【化1】 で表わされる。かかる本発明によるポリフエノールの高
純度品は、酸触媒の存在下、アルコール溶剤中にて、ヒ
ドロキシベンズアルデヒドと3−メチル−6−シクロヘ
キシルフエノールとを反応させて、前記式Iで表わされ
るポリフエノールを製造する方法において、反応終了
後、析出したポリフエノールを含む反応液中の酸触媒を
中和し、次いで、反応液に芳香族炭化水素と脂肪族ケト
ンよりなる混合溶剤を加え、上記ポリフエノールを溶解
させた後、反応液を冷却して、ポリフエノールを晶析さ
せることによつて得ることができる。
Description
及びその高純度品の製造方法に関し、詳しくは、トリス
フエノールメタン型のポリフエノールであつて、そのフ
エノール核に親油性に富むシクロアルキル基を置換基と
して有する新規なポリフエノール及びその高純度品の製
造方法に関する。
料、積層材料、電気絶縁材料等に用いられるエポキシ樹
脂の原料、エポキシ硬化剤、感熱記録に用いられる顕色
剤や退色防止剤、電子材料の原料等として有用であり、
また、酸化防止剤、殺菌剤、防菌防カビ剤等の添加剤と
しても有用である。
ール核にアルキル基を置換基として有するものについて
は、特開平1−311040号公報、特公昭64−83
035号公報、J. Chem. Soc., 985-989 (1954) 等に記
載されているように、既に知られており、その用途につ
いても、種々の提案がなされている。そのようなポリフ
エノールは、通常、酸触媒の存在下、芳香族アルデヒド
類と過剰量のフエノール類とを脱水縮合させることによ
つて得ることができる。
のポリフエノールであつて、そのフエノール核に親油性
に富むシクロアルキル基を置換したポリフエノールは、
知られておらず、特に、その高純度品の工業的に有利な
製造方法は、従来、殆ど知られていない。
ル核に親油性に富むシクロアルキル基を置換したポリフ
エノール及びその高純度品を製造する方法を提供するこ
とを目的とする。
フエノールは、式I
エノールの高純度品は、酸触媒の存在下、アルコール溶
剤中にて、ヒドロキシベンズアルデヒドと3−メチル−
6−シクロヘキシルフエノールとを反応させて、式I
法において、反応終了後、析出したポリフエノールを含
む反応液中の酸触媒を中和し、次いで、反応液に芳香族
炭化水素と脂肪族ケトンよりなる混合溶剤を加え、上記
ポリフエノールを溶解させた後、反応液を冷却して、ポ
リフエノールを晶析させることを特徴とする。上記ヒド
ロキシベンズアルデヒドとしては、o−、m−又はp−
ヒドロキシベンズアルデヒドを挙げることができる。必
要に応じて、これら混合物を用いることもできる。3−
メチル−6−シクロヘキシルフエノールは、ヒドロキシ
ベンズアルデヒドに対して、2倍モル以上、通常、2〜
10倍モルの範囲で用いられるが、好ましくは、3〜5
倍モル量の範囲で用いられる。
原料、得られる生成物の溶解度、反応条件、反応の経済
性等を考慮して、メタノール、エタノール、イソプロピ
ルアルコール、n−プロピルアルコール、t−ブチルア
ルコール、イソブチルアルコール、n−ブチルアルコー
ル等のような低級脂肪族アルコールが好ましく用いられ
る。特に、メタノールが好ましく用いられる。
は、通常、用いるヒドロキシベンズアルデヒド100重
量部に対して、10〜1000重量部、好ましくは20
0〜500重量部の範囲で用いられるが、これに限定さ
れるものではない。また、本発明において、上記酸触媒
としては、反応溶剤であるアルコール溶剤に溶解する液
体酸が好ましく、従つて、例えば、塩酸、硫酸、無水硫
酸、p−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリ
フルオロメタンスルホン酸、シユウ酸、ギ酸、リン酸、
トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等を好ましい具体例
として挙げることができる。このような酸触媒は、例え
ば、35%塩酸の場合は、ヒドロキシベンズアルデヒド
100重量部に対して、0.01〜1重量部、好ましくは
0.05〜0.5重量部の範囲で用いられる。
は40〜65℃にて、窒素気流下に攪拌しながら、2〜
24時間程度、通常、5〜10時間程度行なえばよい。
本発明においては、通常は、反応によつて生成するポリ
フエノールは、反応溶剤に溶解し難いために、上記反応
温度条件下では、反応液中に析出する。そこで、本発明
によれば、反応終了後、得られた反応液にアンモニア水
等のアルカリを加えてpH5〜7まで中和し、酸触媒を中
和し、この後、反応液に芳香族炭化水素と脂肪族ケトン
よりなる混合溶剤を加え、ポリフエノールを溶解させた
後、冷却することによつて、目的とするポリフエノール
を晶析させ、かくして、高純度品を得ることができる。
て用いる芳香族炭化水素と脂肪族ケトンよりなる混合溶
剤は、晶析条件、精製効果、経済性等を考慮して、芳香
族炭化水素として、例えば、トルエン、キシレン、クメ
ン等を挙げることができ、また、ケトンとしては、例え
ば、イソプロピルケトン、メチルエチルケトン、メチル
イソブチルケトン、ジイソプロピルケトン等を挙げるこ
とができる。
る好ましい混合溶剤の具体例として、例えば、トルエン
−メチルエチルケトン、トルエン−ジイソプロピルケト
ン、トルエン−メチルイソブチルケトン、キシレン−メ
チルエチルケトン、キシレン−ジイソプロピルケトン、
キシレン−メチルイソブチルケトン、クメン−メチルエ
チルケトン、クメン−ジイソプロピルケトン、クメン−
メチルイソブチルケトン等を挙げることができる。この
ような芳香族炭化水素とケトンよりなる混合溶剤は、本
発明によれば、芳香族炭化水素/ケトンの割合は、通
常、1/5〜20/1の範囲であり、好ましくは、1/
1〜10/1の範囲である。
0重量部に対して、100〜1000重量部、好ましく
は、200〜500重量部の範囲で加えることによつ
て、反応液から、目的とするポリフエノールを高純度に
て晶析させることができる。特に、本発明においては、
トルエン−メチルイソブチルケトンを晶析溶剤として用
いることによつて、高純度のポリフエノール結晶、通
常、純度99.9%以上の顆粒状白色の結晶を得ることが
できる。晶析溶剤として、炭化水素のみを用いるとき
は、不純物を多量に含む淡黄色の粉末状の結晶を得るに
すぎない。
ール核が親油性に富むシクロアルキル基を置換基として
有するために、フエノール核にアルキル置換基を有する
ポリフエノールに比べて、有機溶剤に対する溶解度が著
しく高く、かくして、種々の機能材料や樹脂材料として
有用である。
本発明はこれら実施例により何ら限定されるものではな
い。
〔2−シクロヘキシル−5−メチルフエノール〕の合成 温度計、冷却器及び攪拌器を備えた1リツトル容量の四
つ口フラスコに3−メチル−6−シクロヘキシルフエノ
ール100g、サリチルアルデヒド21.4g、メタノー
ル55g及び35%塩酸1.2gを仕込み、窒素気流下、
温度65℃で7時間反応を行なつた。
む反応液をアンモニア水で中和した後、これにトルエン
340gとメチルイソブチルケトン40.5gの混合溶剤
を加えて、上記ポリフエノールを溶解させた。イオン交
換水125mlにて2回洗浄した後、冷却して、結晶を析
出させた。これを濾別し、乾燥して、目的とするポリフ
エノールの結晶69.3gを得た。
度は99.9%であつた。収率は、仕込みサリチルアルデ
ヒド基準にて82%であつた。このポリフエノールの融
点、元素分析値、赤外線吸収スペクトル(KBr法)デ
ータ、マススペクトルデータ及びプロトン核磁気共鳴ス
ペクトル(重アセトン溶媒中、60M)データは下記の
とおりである。
〔2−シクロヘキシル−5−メチルフエノール〕の合成 温度計、冷却器及び攪拌器を備えた1リツトル容量の四
つ口フラスコに3−メチル−6−シクロヘキシルフエノ
ール100g、p−ヒドロキシベンズアルデヒド21.4
g、メタノール101.2g及び35%塩酸1.2gを仕込
み、窒素気流下、温度65℃で17時間反応を行なつ
た。
む反応液をアンモニア水で中和した後、これにトルエン
262gとメチルイソブチルケトン153gの混合溶剤
を加えて、上記ポリフエノールを溶解させた。この後、
反応液を室温まで冷却して、結晶を析出させた。これを
濾別し、乾燥して、目的とするポリフエノールの結晶6
9.3gを得た。
度は99.9%であつた。収率は、仕込みp−ヒドロキシ
ベンズアルデヒド基準にて68%であつた。このポリフ
エノールの融点、元素分析値、赤外線吸収スペクトル
(KBr法)データ、マススペクトルデータ及びプロト
ン核磁気共鳴スペクトル(重アセトン溶媒中、60M)
データは下記のとおりである。
つ口フラスコに3−メチル−6−シクロヘキシルフエノ
ール100g、サリチルアルデヒド21.4g、メタノー
ル75g及び35%塩酸1.2gを仕込み、窒素気流下、
温度65℃で7時間反応を行なつた。
む反応液をアンモニア水で中和した後、これにトルエン
700gを加えて、上記ポリフエノールを溶解させ、こ
れを濾別し、乾燥して、目的とするポリフエノールの結
晶41.7gを得た。この結晶は、淡黄色粉末状であつ
て、その純度は90.2%であつた。収率は、仕込みサリ
チルアルデヒド基準にて55.6%であつた。
Claims (5)
- 【請求項1】式I 【化1】 で表わされるポリフエノール。
- 【請求項2】4,4'−〔(2−ヒドロキシフエニル)メチ
レン〕ビス〔2−シクロヘキシル−5−メチルフエノー
ル〕。 - 【請求項3】4,4'−〔(4−ヒドロキシフエニル)メチ
レン〕ビス〔2−シクロヘキシル−5−メチルフエノー
ル〕。 - 【請求項4】酸触媒の存在下、アルコール溶剤中にて、
ヒドロキシベンズアルデヒドと3−メチル−6−シクロ
ヘキシルフエノールとを反応させて、式I 【化2】 で表わされるポリフエノールを製造する方法において、
反応終了後、析出したポリフエノールを含む反応液中の
酸触媒を中和し、次いで、反応液に芳香族炭化水素と脂
肪族ケトンよりなる混合溶剤を加え、上記ポリフエノー
ルを溶解させた後、反応液を冷却して、ポリフエノール
を晶析させることを特徴とするポリフエノールの高純度
品の製造方法。 - 【請求項5】混合溶剤がトルエンとメチルイソブチルケ
トンとの混合溶剤であることを特徴とする請求項4記載
のポリフエノールの高純度品の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4159015A JP3030480B2 (ja) | 1992-06-18 | 1992-06-18 | 新規なポリフエノール及びその高純度品の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP4159015A JP3030480B2 (ja) | 1992-06-18 | 1992-06-18 | 新規なポリフエノール及びその高純度品の製造方法 |
Publications (2)
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|---|---|
| JPH061741A true JPH061741A (ja) | 1994-01-11 |
| JP3030480B2 JP3030480B2 (ja) | 2000-04-10 |
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ID=15684388
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| JP4159015A Expired - Lifetime JP3030480B2 (ja) | 1992-06-18 | 1992-06-18 | 新規なポリフエノール及びその高純度品の製造方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011034062A1 (ja) | 2009-09-15 | 2011-03-24 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 芳香族炭化水素樹脂及びリソグラフィー用下層膜形成組成物 |
| WO2012090408A1 (ja) | 2010-12-28 | 2012-07-05 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 芳香族炭化水素樹脂、リソグラフィー用下層膜形成組成物及び多層レジストパターンの形成方法 |
| WO2012165507A1 (ja) | 2011-06-03 | 2012-12-06 | 三菱瓦斯化学株式会社 | フェノール系樹脂およびリソグラフィー用下層膜形成材料 |
| US8365698B2 (en) | 2004-01-12 | 2013-02-05 | Liquidpiston, Inc. | Hybrid cycle combustion engine and methods |
| WO2013047106A1 (ja) | 2011-09-30 | 2013-04-04 | 三菱瓦斯化学株式会社 | フルオレン構造を有する樹脂及びリソグラフィー用下層膜形成材料 |
| US9353623B2 (en) | 2011-03-29 | 2016-05-31 | Liquidpiston, Inc. | Seal assembly for a heat engine |
| US9644570B2 (en) | 2006-08-02 | 2017-05-09 | Liquidpiston, Inc. | Hybrid cycle rotary engine |
-
1992
- 1992-06-18 JP JP4159015A patent/JP3030480B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| US8741553B2 (en) | 2010-12-28 | 2014-06-03 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Aromatic hydrocarbon resin, underlayer film forming composition for lithography, and method for forming multilayer resist pattern |
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| WO2012165507A1 (ja) | 2011-06-03 | 2012-12-06 | 三菱瓦斯化学株式会社 | フェノール系樹脂およびリソグラフィー用下層膜形成材料 |
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| WO2013047106A1 (ja) | 2011-09-30 | 2013-04-04 | 三菱瓦斯化学株式会社 | フルオレン構造を有する樹脂及びリソグラフィー用下層膜形成材料 |
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