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JPH06163198A - 分離されたパケットで放出された電子ビームから光エネルギーを発生するためのアンデュレーターおよびこのアンデュレーターの直交磁界を調整する方法 - Google Patents

分離されたパケットで放出された電子ビームから光エネルギーを発生するためのアンデュレーターおよびこのアンデュレーターの直交磁界を調整する方法

Info

Publication number
JPH06163198A
JPH06163198A JP4134182A JP13418292A JPH06163198A JP H06163198 A JPH06163198 A JP H06163198A JP 4134182 A JP4134182 A JP 4134182A JP 13418292 A JP13418292 A JP 13418292A JP H06163198 A JPH06163198 A JP H06163198A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
undulator
electron beam
conductor
current
magnetic field
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4134182A
Other languages
English (en)
Inventor
Hubert Leboutet
ユベール、ルブテ
Michel Simon
ミシェル、シモン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Thales SA
Original Assignee
Thomson CSF SA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Thomson CSF SA filed Critical Thomson CSF SA
Publication of JPH06163198A publication Critical patent/JPH06163198A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/0903Free-electron laser

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)
  • Particle Accelerators (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 電子ビームの経路に沿って交互にN−Sおよ
びS−Nに分極された直交磁界を発生し、自由電子レー
ザにおいて、相対論的電子ビームのエネルギーの一部を
光エネルギーへ直接変換できるようにするアンデュレー
ター、すなわち、装置を得ることである。 【構成】 このアンデュレーターは電子ビームの経路に
沿って、直交磁界を全面的にまたは部分的に誘導する蛇
行路を形成する導体を含む。光の効率を高くするため
に、前記導体に補助電流バイパスコネクタを設ける。そ
れらの電流バイパスコネクタにより、直交磁界を、それ
らの電子により発生されたエネルギーのために、レーザ
の光空胴内の電子のパケットの到達中に増大する高周波
電界の変化する特性の関数として、磁界を変調すること
を可能にする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、自由電子レーザ(FE
L)において、相対論的電子のビームのエネルギーを光
エネルギーへ直接変換することを可能にする、アンデュ
レーターとして知られている装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】自由
電子レーザは、図1に示すように、 −電子銃1と、その後に設けられて、数千のパケットに
まとめられて、加速された電子のバーストを放出する誘
導線形加速装置すなわちr.f.直線加速器2とにより構成
された高エネルギー電子源と、 −加速された電子を経路が同調されている光空胴4へ向
かって偏向できるようにする第1の磁気偏向装置3と、 −加速された電子ビームの経路上で光空胴4の中央部分
に位置させられ、電子ビームの進行方向に沿ってN−S
/S−Nと交互に分極される直交磁界を発生するアンデ
ュレーター8と、 −光空胴4を通る電子ビームが、光波を出すための光空
胴4の光学窓7に関して、光空胴4から横方向へ出るよ
うに、電子ビームの経路を偏向できるようにする第2の
磁気偏向装置9と、により構成され、前記バーストの1
つの持続時間はマイクロパルスの数十ピコ秒という持続
時間に等しく、 −前記光空胴4は反射鏡5、6と、光波を出力させるた
めの前記光学窓7とを有する。自由電子レーザの動作原
理は、加速または減速中の電子は電磁エネルギーを放射
するという事実から生ずる減速放射と、波長の相対論的
短縮とを基にしている。
【0003】アンデュレーターにおいては、交互に分極
される直交磁界と交差する電子が、図2に示すように、
小さい振幅で、時には1つの向きへ、また時には別の向
きへ偏向して、ビームの進む向きに光エネルギーを放射
する。電子の強制振動と光波の間の同期に近い条件にお
いては、電子から光波へエネルギーが移転させられ、光
空胴内でレーザ現象がトリガされる。
【0004】光放出の波長は下の式のように書くことが
できる。
【0005】
【数1】 ここに、λwaveはアンデュレーターの磁気ピッチまたは
アンデュレーターのピッチ、γは下の式に等しい。
【0006】
【数2】 ここに、vは電子の速度、cは光の速度、 K=0.94λwaveoo はアンデュレーターにより発生される磁気誘導の値
である。
【0007】光放出の波長は、アンデュレーターの磁気
ピッチλwaveが細かくなると短くなることが観察され
る。
【0008】この物理原理を用いたアンデュレーターは
多くの装置において既に用いられている。
【0009】アンデュレーターは、永久磁石、電磁石ま
たはハイブリッド磁石を用いる構造体、または磁石を用
いず、電子ビームの経路に蛇行路を描き、強い励磁電流
により交差させられる導電体を有する構造体で構成され
た磁気回路を用いる。
【0010】本発明は、励磁電流により全面的または部
分的に直交磁界を発生するアンデュレーターに関するも
のである。その励磁電流は、自由電子レーザの光空胴中
の電子ビームの経路に沿って蛇行路を形成する導体を流
れる。
【0011】本発明はアンデュレーター内部における電
子と光放出された光エネルギーの間の相互作用を改善す
る。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、おのおの1マクロパルスの持続時間を有
する分離されたパケットで放出された電子ビームから光
エネルギーを発生するためのアンデュレーターであっ
て、NーSおよびSーN交互に偏極された直交磁界を全
面的または部分的に誘導する蛇行路を電子ビームの経路
に沿って形成する導体を含むアンデュレーターの直交磁
界を調整する方法において、直交磁界を誘導する導体上
に、アンデュレーター内の電子ビームの経路に沿って分
布させられる補助電流バイパス・コネクタを設ける過程
と、電子のパケットがアンデュレーターを通る時間に対
応するマクロパルスの持続する間、直交磁界を誘導する
前記導体中に主励磁電流を注入する過程と、電子ビーム
の経路のうち、電子ビームの進む向きに関して前記バイ
パス・コネクタから上流側の領域に直交磁界を誘導する
導体の部分に、主励磁電流に付加される部分電流を、マ
クロパルスのスタート時に、補助バイパス・コネクタを
通じて注入する過程と、を備えることを特徴とする。
【0013】補助コネクタにより注入される部分的な補
助電流の大きさは、1〜2マイクロ秒の間一定で、それ
から1〜2マイクロ秒の間に消滅するまで減少すること
が好ましい。
【0014】また、本発明により、上記方法を実施する
ためのアンデュレーターも得られる。
【0015】
【実施例】図3からわかるように、互いに逆向きに交番
して位置させられる2つの同一の電流層11、12、1
3、14と21、22、23、24を、電子ビームの経
路を表す方向10の上側と下側に位置させることによ
り、交互にN−SおよびS−Nに分極された直交磁界を
方向10に沿って得ることができる。それら2つの電流
層は、光空胴内の電子ビームの経路の両側に蛇行路を描
く導電体により得ることができる。アンデュレーターの
磁化回路を構成するその導電体は異なる形をとることが
できる。磁化回路は図4(a)、図5(a)、図6
(a)、図7(a)にそれぞれ参照番号31、35、3
9、43で示されているように、単一の部品で形成でき
る。それらの部品に電子ビームの経路の軸線30に沿っ
て整列させられた穴32、36、40、44がそれぞれ
長手方向にあけられる。磁化回路は、図4(b)、図5
(b)、図6(b)、図7(b)にそれぞれ参照番号3
3と34、37と38、41と42、45と46で示さ
れている光空胴を通って進む電子ビームが通る間隙すな
わち空間をおいて上下に重ねられた同じ形の2つの部分
で構成することもできる。それらの部分は、図4
(a),4(b)に参照番号31、33、34で示され
ているように輪郭が三角形、または図5(a)、図5
(b)に参照番号35、37、38で示されているよう
に輪郭が長方形状のU字形、あるいは図6(a)、6
(b)に参照番号39、41、42で示されているよう
に輪郭がπ形、もしくは図7(a)、7(b)に参照番
号43、45,46で示されているように輪郭が丸形、
の蛇行路を描く。
【0016】アンデュレーターの磁化回路の導電体が重
ね合わされた2つの部分で構成される場合には、一方の
部分が光空胴内の電子ビームの経路の上に位置させら
れ、他方の部分は光空胴内の電子ビームの経路の下に位
置させられ、各部品を同じ励磁電流を同じ向きに流すよ
うに、それら2つの部分の間の電気的リンクが構成され
る。
【0017】それの例が図8に示されている。図8は蛇
行している磁化回路の導電体の2つの部分50、51を
示す。励磁電流の送り込みは、電子ビームの経路30の
上に位置させられている蛇行導体の部分50の第1の端
部を形成する導電性の横方向肩部53に固定されている
導電棒52により行われる。励磁電流は部分50と交差
し、同じ側に位置させられている第2の横方向肩部54
を形成する第2の橋部を通って胴体部50を出る。横方
向肩部54は蛇行している導体の2つの部分50と51
の間の導電性相互連結棒55へ固定される。その相互連
結棒55は部分50の第1の端部へ向かって戻り、肩部
53の前で、電子ビームの経路30の下側に位置させら
れている蛇行導体の部分51の第1の端部を形成する別
の横方向肩部56に出会う。励磁電流は相互連結棒55
を通って蛇行している導体の部分51の第1の端部へ向
かって流れ、それから部分50と同じ向きにその部分5
1と交差し、横方向肩部53、54、56とは反対の側
をこえて延びる導電性の横方向部分57を形成する第2
の端部を通ってそこから出る。前記横方向部分57は、
蛇行導体の2つの部分50と51に沿って延長する電流
取り出し導体棒58へ連結される。
【0018】自由電子レーザの光空胴内のアンデュレー
ターと交差する電子ビームにおいては、r.f.直線加速器
から出た電子は数十ピコ秒のマイクロパルスに対応する
バーストで進み、数十マイクロ秒から数秒の範囲の時間
に対応する分離されたパケットで数千も一緒に群にまと
められる。
【0019】レーザ現象を開始させるためには、電子バ
ーストの各パケットが通るたびにアンデュレーター内に
直交磁界を生じさせる必要がある。これは、大きさが数
十キロアンペアで、持続時間がマクロパルスの持続時間
より僅かに長いパルス電流をアンデュレーターの遅延回
路に流すことにより行うことができる。しかし、アンデ
ュレーターの中に電子のバーストのパケットが到達して
から、電子と放射された光のエネルギーの間の相互作用
のパワーが増大する間に、アンデュレーターに沿う同期
スピードの変化法則が、各場合に、高周波電界の瞬時レ
ベルに対応する最適な法則であるように、電子と、レー
ザの光空胴の内部におかれているアンデュレーターの中
で放射される光のエネルギーとの間の相互作用の働き
を、マクロパルスが持続している間にアンデュレーター
の直交磁界の値を時間と、光空胴内の電子ビームの経路
に沿う位置との関数として変化させることにより改善で
きる。実際に、電子と、放射された光のエネルギーとの
間の相互作用の効率を最高にするためには、アンデュレ
ーター内の直交磁界を、マクロパルスが増大するにつれ
て、各電子バーストにより光空胴へ与えられるエネルギ
ーのために増大する高周波電界の変化する特性の関数と
して変調する必要がある。
【0020】時間と、アンデュレーター内の電子ビーム
の経路に沿う位置との関数として直交磁界の値を調整で
きるようにするために、直交磁界を発生する蛇行する導
体に、図4(a)、図4(b)、図5(a)、図5
(b)、図6(a)、図6(b)、図7(a)、図8に
示すように、電子ビームの進む向きとは逆の向きに昇順
j、j+1で、アンデュレーター内の電子ビームの経路
に沿って分布されている補助電流バイパス・コネクタが
設けられる。
【0021】実際には、各マクロパルスのスタート時に
1〜2マイクロ秒より短い時間だけ補助電流I、I
j+1が補助電流バイパス・コネクタにより注入され
る。それらの補助電流I、Ij+1は、直交磁界を誘
導する導体のうち、それらの補助電流バイパス・コネク
タに関連して、電子ビームの分子の進む向きで上流側に
ある部分を流れる主電流Iに加えられる。それから、
それらの補助電流は、1〜2マイクロ秒より短い次の時
間中に消滅させられるまで、減少させられる。それと同
時に主励磁電流はマクロパルスの持続時間中は一定に保
たれる。補助電流I、Ij+1の最初の大きさと、各
マクロパルスの持続時中のそれらの補助電流の減少法則
とは、光エネルギーの効率を最高にするように、実験的
に調整される。
【0022】アンデュレーターの直交磁界を誘導する胴
体上の補助電流バイパス・コネクタから上流側の点にお
ける励磁電流の時間の関数としての変化則が図9に示さ
れている。アンデュレーターに電子バーストのパケット
が到達した時に対応するマクロパルスのスタート時に1
〜2マイクロ秒より短い時間tの間に、最大値がI
+ΣI(ΣIは、考えている点から下流側におかれ
ている補助電流バイパス・コネクタにより注入される部
分電流の和である)である電流が流れる。そのときに流
れる電流は、1〜2マイクロ秒より短い時間t〜t
の間の減少則に従い、それからマクロパルスが終わるま
で値Iを保つ。
【0023】図10は、図4(a)、図5(a)、図6
(a)または図7(a)に示されているような部分をた
だ1つ用いて構成された蛇行導体60により構成された
磁化回路を有するアンデュレーターへ電流を供給する電
気回路の例を示す。電子ビームは、矢印61の向きに沿
って端部Sから端部Eまで長手方向に開けられた一連の
穴の中を蛇行する60に沿って進む。蛇行導体60には
それの長手方向に沿って補助電流バイパス・コネクタP
…P…Pが間隔をおいて設けられる。それらの補
助電流バイパス・コネクタにはパルストランス62によ
り電流が供給される。パルストランス62は1次巻線6
3と、中間タップ65を含む2次巻線64とを有する。
蛇行導体60の端部Sは2次巻線64の端子66へ接続
され、蛇行導体60の端部Eは2次巻線64の中間タッ
プ65へ接続される。パルストランス62の2次巻線6
4の他の端子67は電流スイッチングトランジスタT
…T…Tのコレクターエミッタ接合を介して蛇行導
体60の補助電流バイパス・コネクタP…P…P
へ接続される。電流スイッチングトランジスタT…T
…Tのベースは制御回路68へ接続される。
【0024】動作中は、パルストランス62は1次巻線
63に励振パルスを受ける。持続時間が僅かに長いそれ
らの各励振電流は、電子バーストのパケットがアンデュ
レーターに到達するのと同時にマクロパルスに重なり合
う。各励振パルスは、パルストランス62の2次巻線の
中間タップ65に主電流Iが現れる事を助ける。主電
流Iの大きさは数キロアンペアから数十キロアンペア
の範囲であって、蛇行導体の全長にわたって流れる。更
に、電流スイッチングトランジスタT…T…T
制御回路68により導通状態にされている、1〜2マイ
クロ秒より短い時間中に、各励振パルスは、パルストラ
ンスの2次巻線64の端子67に部分補助電流I…I
…Iが現れることを助ける。それらの補助電流は蛇
行導体60の各補助電流バイパス・コネクタP…P
…Pから蛇行導体へ注入され、蛇行導体の、電子ビー
ムの進む向き(矢印61の向き)で上流側にある端部S
を通って蛇行導体60から出る。時間tが経過する
と、電流スイッチングトランジスタT…T…T
は、部分補助電流をなくし、図9に示されているのに
類似する電流変化則を得るために、1〜2マイクロ秒よ
り短い時間t−tの間に、制御回路68により徐々
にターンオフされる。
【0025】図11は、図4(b)、図5(b)、図6
(b)または図7(b)に示されているような2つの部
分70と71より成る蛇行導体により構成されている磁
化回路を有するアンデュレーターへ電流を供給するため
の電気回路の例を示す。電子ビームは蛇行導体の部分7
0と71の間を、それの端部Sから矢印2つの部分7
0、71には補助電流バイパス・コネクタP′…P′
j…P′とP″…P″…P″が長手方向に間隔
をおいて設けられる。それらの補助電流バイパス・コネ
クタへ電流がパルストランス73により供給される。そ
のパルストランスは1次巻線74と、中間タップ76を
有する2次巻線75とを有する。蛇行導体の部分70の
端部Eが中間タップ76へ接続され、端部Sが抵抗77
を介して他の部分71の端部Eへ接続される。部分71
の端部Sがパルストランス73の2次巻線75の端子7
8へ接続される。パルストランス73の2次巻線75の
他の端子79が1群の電流スイッチング・トランジスタ
…T…Tのコレクターエミッタ接合を介して蛇
行導体の部分70の補助電流バイパス・コネクタP
…Pへ接続され、蛇行導体の他の部分71の補助
電流バイパス・コネクタP″…P″…P″が他の
電流スイッチング・トランジスタT″…T″…T″
のコレクターエミッタ接合を介して、蛇行導体の第1
の部分70の端部Sへ接続される。
【0026】動作中は、パルストランス73は励振パル
スをそれの1次巻線74に受ける。持続時間が僅かに長
いそれらの各励振パルスは、電子バーストのパケットが
アンデュレーターに到達するのと同時にマクロパルスに
重なり合う。各励振パルスは、パルストランス73の2
次巻線75の中間タップ76に主電流Iが現れること
を助ける。その主電流の大きさは数キロアンペアから数
十キロアンペアの範囲であって、蛇行導体の2つの部分
70と71を電子ビームの進む向きに関して同じ向き
に、それらの部分70と71の全長にわたって流れる。
更に、電流スイッチング・トランジスタT′…T′
…T′とT″…T″…T″の2つの群が制御回
路80により導通状態にされたときに、1〜2マイクロ
秒より短い時間tの間に、各励振パルスは部分補助電流
…I…Iが現れることを助ける。それらの部分
補助電流は、まず、パルストランス73の2次巻線75
の端子79で取り出されて、蛇行導体の部分70へ種々
の補助電流バイパス・コネクタP′…P′…P′
において注入され、第2に、蛇行導体の部分70の出口
で取り出されて、蛇行導体の第2の部分71へ種々の補
助電流バイパス・コネクタP″…P″…P″にお
いて注入される。蛇行導体の部分71の先頭に設けられ
ている抵抗77が電流スイッチング・トランジスタT″
…T″…T″の導通時の抵抗値を補償して、蛇行
導体の部分70の出力部において部分電流I…I
を取り出すことを可能にする。したがって、蛇行導
体の2つの部分70、71には、電子ビームが進む向き
72とは逆の向きに、蛇行導体の端部Eから端部Sへ流
れるにつれて増大する同一の電流が流れる。時間t
経過すると、部分補助電流をなくし、図9に示すのに類
似する形の電流変化則を得るために、1〜2マイクロ秒
より短い時間t−tの間に電流スイッチング・トラ
ンジスタT′…T′…T′とT″…T″
T″が徐々にターンオフさせられる。
【0027】図12は、2つの部分85、86よりなる
蛇行導体により構成されている磁化回路を有するアンデ
ュレーターへ電流を供給する電気回路の別の例を示す。
電子ビームは蛇行導体の2つの部分85と86の間を、
端部Sから端部Eまで矢印87の向きに、蛇行導体に沿
って進む。蛇行導体の2つの部分85、86には、補助
電流バイパス・コネクタP′…P′…P′とP″
…P″…P″が長手方向に隔てられて設けられ
る。それらの補助電流バイパス・コネクタへは、1次巻
線89と、中間タップ91を有する2次巻線90とを含
むパルストランス88により電流が供給される。蛇行導
体の部分85の端部Eがパルストランス88の2次巻線
90の中間タップ91に接続され、部分85の端部Sが
抵抗92によりパルストランス88の2次巻線90の端
子93へ接続される。パルストランス88の2次巻線9
0の他の端子94は、電流スイッチングトランジスタ
T′…T′…T′とT″…T″…T″のコ
レクターエミッタ接合を介して、蛇行導体の2つの部分
85、86の補助電流バイパス・コネクタP′…P′
…P′とP″…P″…P″へ接続される。電
流スイッチング・トランジスタT''' のコレクターエミ
ッタ接合が、蛇行導体の部分85の端部Sとパルストラ
ンス88の2次巻線90の端子93の間に直列に接続さ
れる。電流スイッチング・トランジスタT′…T′
…T′とT″…T″…T″のベースおよびトラ
ンジスタT''' のベースは制御回路96へ接続される。
【0028】上の2つの例におけるように、パルストラ
ンス88は1次巻線88に励振パルスを受ける。持続時
間が僅かに長いそれらの各励振パルスは、電子のバース
トがアンデュレーターに到達するのと一致してマクロパ
ルスに重なりあう。各励振パルスはパルストランス88
の2次巻線90の中間タップ91に主電流Iが現れる
ことを助ける。主電流Iの大きさは数キロアンペアか
ら数十キロアンペアの範囲であって、蛇行導体の2つの
部分85と86の全長にわたって、電子ビームの進む向
きと同じ向きに流れる。更に、全ての電流スイッチング
・トランジスタT′…T′…T′とT″…T″
…T″およびT''' が制御回路96により導通状態
にされた時に、1〜2マイクロ秒より短い時間tの間
に各前記励振パルスは、パルストランスの2次巻線90
の中間タップ94において取り出される部分補助電流I
…I…Iが現れることを助ける。それらの部分補
助電流は、まず、蛇行導体の部分85へ種々の補助電流
バイパス・コネクタP′…P′…P′において注
入され、トランジスタT''' により端部Sの出口におい
て取り出され、第2に、ダイオード導体の部分86へ種
々の補助電流バイパス・コネクタP″…P″…P″
において注入される。蛇行導体の部分86の端部Sに
設けられている抵抗92が、主電流Iだけが蛇行導体
の部分86の端部Eに入って、2つの部分85と86を
同一の電流が流れるように、蛇行導体の部分85の出口
で部分電流I…I…Iを取り出すトランジスタT
''' の導通状態時の抵抗値を補償する。抵抗95が、蛇
行導体の部分85と86の間で取り出された電流の大き
さが部分電流の大きさに真に一致するように、その電流
の大きさをトランジスタT''' が調整することを可能に
する。したがって、時間tの間は、蛇行導体の部分8
5と86に同一の電流が流れ、電子ビームの進む向き8
7とは逆の向きに端部Eから端部Sへそれらの電流が流
れるにつれてそれらの電流の大きさが増大する。時間t
が経過すると、電流スイッチング・トランジスタT′
…T′…T′とT″…T″…T″およびT
''' が、部分補助電流をなくし、かつ蛇行導体の2つの
部分85と86において、図9に示されているのに類似
する形を有する電流変化相互接続を得るために、1〜2
マイクロ秒より短い時間t−tの間に徐々にターン
オフされる。
【0029】図13と図14は図8に示すように電気的
に直列に組み立てられた2つの重ね合わされた部分5
0、51より成る蛇行導体により構成された磁化回路を
有し、それの長手方向に沿って隔てられて補助電流バイ
パス・コネクタが設けられたアンデュレーターの構造の
実施例を示す。
【0030】ダイオード導体の2つの重ね合わされてい
る部分50、51は、間に電子ビームを通す自由空間を
残すように、絶縁スペーサー100、101により分離
される。それらの部分50、51は、互いにボルトで固
定されている2本の長手方向棒(図示ぜず)により所定
位置に保持される。それらの棒は絶縁スペーサー10
0、101に接している側で部分50、51を把持す
る。
【0031】部分50、51の各側には、主電流I
引っ込むために、部分50から来る横方向形部53へ固
定されている導電性引込み棒52と、相互接続導電棒5
5とを見ることができる。その棒55は、電流引込み棒
52の延長であって、部分50から来る横方向肩54と
部分51から来る横方向肩56の間に固定される。部分
50と51の他の側には電流を出す導電棒58が設けら
れる。その棒は部分51から来る横方向肩57へ固定さ
れる。
【0032】蛇行導体の2つの部分50、51により構
成された組立体と、保持および相互連結棒52、55、
58ならびに冷却管系(図示せず)は、断面103がU
字形で、底が台104により閉じられ、上部がフィルタ
により閉じられている真空ケースにより位置させられ
る。
【0033】図5(b)に示すようにU形の長方形輪郭
の蛇行路を形成する蛇行導体の2つの部分50、51は
真空ケースの底に向き合う側の1つに沿う電流バイパス
・コネクタを有する。それらのコネクタは3つの蛇行路
の間隔をおいて隔てられる。それらのバイパス・コネク
タは蛇行導体の部分50、51に横方向に埋め込まれ
て、真空ケースの壁103を貫通する密閉された電気絶
縁ブッシング109、110へ接続線107、108に
より接続される金属棒105、106により構成され
る。
【0034】蛇行導体の部分50、51のバイパス・コ
ネクタは、それらの部分50と51の間の、電子ビーム
が矢印111の向きに進む、空間内の平面に関して対照
的に置かれる。
【図面の簡単な説明】
【図1】自由電子レーザの原理を示す線図。
【図2】交互にN−SおよびS−N分極されている直交
磁界により蛇行させられる電子ビームの蛇行路を示す略
図。
【図3】逆向きに交番する直交励磁電流の2つの同一の
シートを重ね合わせることにより、交互にN−Sおよび
S−N分極された直交磁界を軸線に沿って発生するやり
方を示す非常に概略的な図。
【図4】アンデュレーターの磁化回路を構成する蛇行導
体の可能な形を示す斜視図。
【図5】アンデュレーターの磁化回路を構成する蛇行導
体の別の可能な形を示す斜視図。
【図6】アンデュレーターの磁化回路を構成する蛇行導
体の別の可能な形を示す斜視図。
【図7】アンデュレーターの磁化回路を構成する蛇行導
体の別の可能な形を示す斜視図。
【図8】レ−ザの光空胴の中の電子ビームの経路の上と
下にそれぞれ位置させられている2つの重ね合わされて
いる蛇行導体の電気的組立体の概略斜視図。
【図9】本発明のアンデュレーターの励振電流の時間の
関数としての変化則の形を示す線図。
【図10】ただ1つの蛇行導体により構成された磁化回
路を有するアンデュレーターの励振回路の回路図。
【図11】重ね合わされた2つの蛇行導体により構成さ
れた磁化回路を有するアンデュレーターの励振回路の回
路図。
【図12】重ね合わされた2つの蛇行導体により構成さ
れた磁化回路を有するアンデュレーターの別の励振回路
の回路図。
【図13】本発明のアンデュレーターの部分縦断面図。
【図14】図13に示されているアンデュレーターのX
I−XIに沿う横断面図。
【符号の説明】
31、35、39、43、50、51、70、71、8
5、86 蛇行導体の部分 33、34、37、38、41、42、45、46 光
空胴 53、54、56 肩 52、55、58 相互連結棒 60 蛇行導体 62、73、88 パルストランス

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】おのおの1マクロパルスの持続時間を有す
    る分離されたパケットで放出された電子ビームから光エ
    ネルギーを発生するためのアンデュレーターであって、
    NーSおよびSーN交互に偏極された直交磁界を全面的
    または部分的に誘導する蛇行路を電子ビームの経路に沿
    って形成する導体を含むアンデュレーターの直交磁界を
    調整する方法において、 直交磁界を誘導する導体上に、アンデュレーター内の電
    子ビームの経路に沿って分布させられる補助電流バイパ
    ス・コネクタを設ける過程と、 電子のパケットがアンデュレーターを通る時間に対応す
    るマクロパルスの持続する間、直交磁界を誘導する前記
    導体中に主励磁電流を注入する過程と、 電子ビームの経路のうち、電子ビームの進む向きに関し
    て前記バイパス・コネクタから上流側の領域に直交磁界
    を誘導する導体の部分に、主励磁電流に付加される部分
    電流を、マクロパルスのスタート時に、補助バイパス・
    コネクタを通じて注入する過程と、 を備えることを特徴とする分離されたパケットで放出さ
    れた電子ビームから光エネルギーを発生するためのアン
    デュレーターの直交磁界を調整する方法。
  2. 【請求項2】請求項1記載の方法において、補助電流バ
    イパス・コネクタにより注入される部分電流を1つのマ
    クロパルスの第1の時間中は一定に保ち、それから1つ
    のマクロパルスの第2の時間中は徐々に減少することを
    特徴とする方法。
  3. 【請求項3】請求項2記載の方法において、前記第1の
    時間は数マイクロ秒続くことを特徴とする方法。
  4. 【請求項4】請求項2記載の方法において、前記第2の
    時間は数マイクロ秒続くことを特徴とする方法。
  5. 【請求項5】N−SおよびS−Nに交互に分極される直
    交磁界を全面的に、または部分的に誘導する蛇行路を電
    子ビームの経路に沿って形成する導体を含む磁化回路を
    有し、マクロパルスに一致して、分離されたパケットで
    放出された電子ビームから光エネルギーを発生するアン
    デュレーターにおいて、 アンデュレーター内の電子ビームの経路に沿って直交磁
    界を誘導する導体中で隔てられている補助電流バイパス
    ・コネクタと、 電子のパケットがアンデュレーターを通る時間に対応す
    るマクロパルスの持続する間、直交磁界を誘導する前記
    導体中に主励磁電流を注入する手段と、 電子ビームの経路のうち、電子ビームの進む向きに関し
    て前記バイパス・コネクタから上流側の領域に直交磁界
    を誘導する導体の部分に、主励磁電流に付加される部分
    電流を、マクロパルスのスタート時に、補助バイパス・
    コネクタを通じて注入する手段と、を更に備えることを
    特徴とする分離されたパケットで放出された電子ビーム
    から光エネルギーを発生するためのアンデュレーター。
  6. 【請求項6】請求項5記載のアンデュレーターにおい
    て、補助電流の注入手段は各マクロパルスのスタート後
    のある決まった時間に補助電流を徐々に休止させること
    のできるスイッチング手段であることを特徴とする装
    置。
  7. 【請求項7】請求項5記載のアンデュレーターにおい
    て、磁化回路は電子ビームの経路の両側に重ね合わされ
    た二つの部分よりなる蛇行導体でなり、この蛇行導体の
    二つの部分に沿って開口し、かつ、その内部に電子ビー
    ムが流れる蛇行導体の二つの部分の間に位置する空間内
    の平面に対称に配置された補助電流バイパス・コネクタ
    を備えたことを特徴とする装置。
JP4134182A 1991-04-25 1992-04-27 分離されたパケットで放出された電子ビームから光エネルギーを発生するためのアンデュレーターおよびこのアンデュレーターの直交磁界を調整する方法 Pending JPH06163198A (ja)

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FR9105109 1991-04-25

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FR2675959B1 (fr) 1993-07-09
FR2675959A1 (fr) 1992-10-30
US5263035A (en) 1993-11-16
DE69200643D1 (de) 1994-12-15

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