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JPH06161120A - Photosensitive body for electrophotography - Google Patents

Photosensitive body for electrophotography

Info

Publication number
JPH06161120A
JPH06161120A JP33676092A JP33676092A JPH06161120A JP H06161120 A JPH06161120 A JP H06161120A JP 33676092 A JP33676092 A JP 33676092A JP 33676092 A JP33676092 A JP 33676092A JP H06161120 A JPH06161120 A JP H06161120A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
resin
chemical
hydrocarbon group
coo
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP33676092A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Eiichi Kato
栄一 加藤
Kazuo Ishii
一夫 石井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP33676092A priority Critical patent/JPH06161120A/en
Publication of JPH06161120A publication Critical patent/JPH06161120A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
  • Graft Or Block Polymers (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

PURPOSE:To maintain always stable and excellent electrostatic characteristics and provide a clear and excellent image, by forming a binding resin of specific two kinds of resins contained. CONSTITUTION:A binding resin is constituted by containing a resin (A) and a resin (B). The resin (A) is graft copolymer of a weight-average molecular weight of 1X10<3> to 10X10<4> containing macro monomer of a weight-average molecular weight of 1X10<3> to 1.5X10<4> for a polymer component expressed by formula I and the like, The resin (B) is AB block copolymer which has a weight-average molecular weight of 2X10<4> to 1X10<6> and is constituted of A-block containing a polymer component having a polar group such as -PO3H2 ad B-block containing a polymer component expressed by formula II, where in formulae I and II, f<1>, f<2> represent hydrogen atoms, X<1> -COO-and the like, Y<1>, a group for linking X<1> to -COO-, Z<1>, Z<2>, bivalent aliphatic group and the like, R<31>, hydrocarbon radical and the like b<1>, b<2>, cyano radical and the like ad R<4>, hydrocarbon radical.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は電子写真感光体に関し、
詳しくは静電特性及び耐湿性に優れた電子写真感光体に
関する。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to an electrophotographic photoreceptor,
More specifically, it relates to an electrophotographic photoreceptor having excellent electrostatic characteristics and moisture resistance.

【0002】[0002]

【従来の技術】電子写真感光体は、所定の特性を得るた
め、あるいは適用される電子写真プロセスの種類に応じ
て、種々の構成をとる。電子写真感光体の代表的なもの
として、支持体上に光導電層が形成されている感光体及
び表面に絶縁層を備えた感光体があり、広く用いられて
いる。
2. Description of the Related Art Electrophotographic photoreceptors have various structures in order to obtain predetermined characteristics or depending on the type of electrophotographic process applied. Typical electrophotographic photoconductors are a photoconductor having a photoconductive layer formed on a support and a photoconductor having an insulating layer on the surface thereof, which are widely used.

【0003】支持体と少なくとも1つの光導電層から構
成される感光体は、最も一般的な電子写真プロセスによ
る、即ち帯電、画像露光及び現像、更に必要に応じて転
写による画像形成に用いられる。
Photoreceptors composed of a support and at least one photoconductive layer are used for image formation by the most common electrophotographic processes, ie charging, imagewise exposure and development, and optionally transfer.

【0004】更には、ダイレクト製版用のオフセット平
板印刷用原版として電子写真感光体を用いる方法が広く
実用されている。特に近年、ダイレクト電子写真平版は
数百枚から数千枚程度の印刷枚数で高画質の印刷物を印
刷する方式として重要となってきている。こうした状況
の中で、電子写真感光体の光導電層を形成するために使
用する結着樹脂は、それ自体の成膜性および光導電体粒
子の結着樹脂への分散能力が優れるとともに、形成され
た記録体層の基材に対する接着性が良好であり、しかも
記録体層の光導電層は帯電能力に優れ、暗減衰が小さ
く、光減衰が大きく、前露光疲労が少なく、且つ、撮影
時の湿度の変化によってこれら特性を安定に保持してい
ることが必要である等の各種の静電特性および優れた撮
像性を具備する必要がある。
Further, a method of using an electrophotographic photosensitive member as an original plate for offset lithographic printing for direct plate making is widely used. Particularly in recent years, the direct electrophotographic lithographic printing plate has become important as a method for printing high-quality printed matter by printing several hundred to several thousand sheets. Under such circumstances, the binder resin used for forming the photoconductive layer of the electrophotographic photosensitive member is excellent in film-forming property of itself and the ability to disperse the photoconductive particles in the binder resin, and at the same time, is formed. Adhesion of the recording layer to the substrate is good, and the photoconductive layer of the recording layer has excellent charging ability, small dark decay, large light decay, little pre-exposure fatigue, and at the time of shooting. It is necessary to have various electrostatic characteristics such as being required to stably hold these characteristics due to changes in the humidity of the above, and excellent image pickup properties.

【0005】更に、電子写真感光体を用いた平版印刷用
原版の研究が鋭意行なわれており、電子写真感光体とし
ての静電特性と印刷原版としての印刷特性を両立させた
光導電層用の結着樹脂が必要である。無機光導電体、分
光増感色素及び結着樹脂を少なくとも含有する光導電層
において、結着樹脂の化学構造によって、平滑性のみな
らず静電特性が大きく影響を受けることが判ってきた。
特に静電特性において、暗電荷保持率(D.R.R.)
や光感度が大きく左右される。
Further, research on a lithographic printing plate precursor using an electrophotographic photosensitive member has been earnestly conducted, and a photoconductive layer for a photoconductive layer having both electrostatic properties as an electrophotographic photosensitive member and printing properties as a printing original plate has been made. Binder resin is required. It has been found that in the photoconductive layer containing at least the inorganic photoconductor, the spectral sensitizing dye and the binder resin, not only the smoothness but also the electrostatic properties are greatly affected by the chemical structure of the binder resin.
Especially in the electrostatic characteristics, the dark charge retention rate (DRR)
The light sensitivity is greatly affected.

【0006】特開平2−236561号、同2−238
458号及び同2−236562号等にはグラフト部が
ポリエステルマクロモノマーまたはポリエーテルマクロ
モノマーであるグラフト型共重合体を用いて光導電層の
平滑性や静電特性を改良する技術が開示されている。更
に、これら酸性基を含有する低分子量の樹脂と中〜高分
子量の樹脂を併用して光導電層の機械的強度を改善する
技術が特開平2−266358号、同2−272558
号、同2−272559号、同2−297558号、同
2−304450号、同2−304452号、同2−3
08165号、同2−308166号、同2−3081
67号、同3−186852号、同3−214164
号、同3−186853号、同3−259151号、同
3−186854号、同3−259153号、同3−1
88454号、同4−20969号、同4−20970
号、同4−14050号、同4−15654号、同4−
14051号等に記載されている。
Japanese Unexamined Patent Publication Nos. 2-236561 and 2-238.
Nos. 458 and 2-236562 disclose a technique for improving the smoothness and electrostatic properties of a photoconductive layer by using a graft copolymer in which a graft portion is a polyester macromonomer or a polyether macromonomer. There is. Further, a technique for improving the mechanical strength of the photoconductive layer by using a low molecular weight resin containing these acidic groups and a medium to high molecular weight resin in combination is disclosed in JP-A-2-266358 and 2-272558.
No. 2, No. 2-272559, No. 2-297558, No. 2-304450, No. 2-304452, and No. 2-3.
08165, 2-308166, 2-3081
No. 67, No. 3-186852, No. 3-214164.
No. 3, No. 3-186853, No. 3-259151, No. 3-186854, No. 3-259153, and No. 3-1.
88454, 4-20699, 4-20970
No. 4, No. 4-14050, No. 4-15654, No. 4-
No. 14051 and the like.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の酸性基を含有する種々の低分子量の樹脂、更にこれら
の樹脂に種々の中〜高分子量の樹脂を組み合わせて用い
ても、環境が高温・高湿から低温・低湿まで著しく変動
した場合における安定した性能の維持においてはいまだ
不充分であることが判った。半導体レーザー光を用いた
スキャンニング露光方式では、従来の可視光による全面
同時露光方式に比べ、露光時間が長くなり、また露光強
度にも制約があることから、静電特性、特に暗電荷保持
性、光感度に対して、より高い性能が要求される。
However, even if various low molecular weight resins containing these acidic groups, and further various medium to high molecular weight resins are used in combination with these resins, the environment is high and high temperature. It has been found that it is still insufficient to maintain stable performance when the humidity significantly changes from low temperature to low humidity. The scanning exposure method using a semiconductor laser beam has a longer exposure time than the conventional simultaneous full-time exposure method using visible light and has a limitation in the exposure intensity. Therefore, electrostatic characteristics, especially dark charge retention In terms of photosensitivity, higher performance is required.

【0008】特に、電子写真式平版印刷用原版におい
て、半導体レーザー光を用いたスキャンニング露光方式
を採用した場合,従来の感光体で実際に試験してみる
と、上記の静電特性が十分に満足できるものでなく、特
にE1/2 とE1/10との差が大きく複写画像の階調が軟調
となり、更には露光後の残留電位を小さくするのが困難
となり、複写画像のカブリが顕著となってしまい、又、
平板印刷用原版として印刷しても、印刷物に印刷原稿の
貼り込み跡が出てしまう等の問題が現れた。
Particularly, in the electrophotographic lithographic printing plate precursor, when a scanning exposure method using a semiconductor laser beam is adopted, when actually tested with a conventional photoconductor, the above electrostatic characteristics are sufficiently obtained. This is not satisfactory, and especially the difference between E 1/2 and E 1/10 is large, the gradation of the copied image becomes soft, and it becomes difficult to reduce the residual potential after exposure, causing fog in the copied image. Became noticeable, and again
Even when printed as a lithographic printing original plate, problems such as a trace of a printed original sticking to the printed matter appeared.

【0009】更に、近年、線画及び網点から成る画像の
複写画像のみならず、連続階調から成る高精細な画像を
液体現像剤を用いて忠実に再現する技術の実現が望まれ
ているが、前記公知の技術はこれらの要望まで十分に満
足できるものではなかった。
Further, in recent years, it has been desired to realize a technique for faithfully reproducing not only a copy image of an image composed of line drawings and halftone dots but also a high-definition image composed of continuous gradations by using a liquid developer. However, the above-mentioned known technology has not been able to sufficiently satisfy these demands.

【0010】従来公知の技術においては、低分子量の樹
脂と併用する中〜高分子量の樹脂によって、上記低分子
量の樹脂で高性能化された静電特性が低下することがあ
り、実際に前記した様なこれら公知の樹脂の組合せで用
いた光導電層を有する電子写真感光体は、前述の様な高
精細な画像(特に連続階調画像)の忠実な複写画像の再
現性あるいは、低出力のレーザー光を用いたスキャンニ
ング露光方式による撮像性に対して、問題を生じ得るこ
とが明らかになった。
In the conventionally known technique, the medium to high molecular weight resin used in combination with the low molecular weight resin may lower the electrostatic performance of the low molecular weight resin, which has been improved in performance. The electrophotographic photosensitive member having a photoconductive layer used in combination with these known resins as described above is capable of reproducing the faithful reproduction of a high-definition image (especially continuous tone image) as described above or a low output. It was clarified that a problem can occur with respect to the imaging property of the scanning exposure method using laser light.

【0011】本発明は、以上の様な従来公知の電子写真
感光体の有する課題を改良するものである。本発明の目
的は、複写画像形成時の環境が低温低湿あるいは高温高
湿の如く変動した場合でも、常に安定して良好な静電特
性を維持し、鮮明で良質な画像を有する電子写真感光体
を提供することである。
The present invention is intended to improve the problems of the above-described conventionally known electrophotographic photoreceptors. An object of the present invention is to provide an electrophotographic photosensitive member having a clear and high-quality image which constantly maintains good electrostatic characteristics even when the environment for forming a copied image changes such as low temperature and low humidity or high temperature and high humidity. Is to provide.

【0012】本発明の他の目的は、静電特性に優れ且つ
環境依存性の小さいCPC電子写真感光体を提供するこ
とである。本発明の他の目的は、半導体レーザー光を用
いたスキャンニング露光方式に有効な電子写真感光体を
提供することである。本発明の更なる目的は、電子写真
式平版印刷用原版として、静電特性(特に暗電荷保持性
及び光感度)に優れ、原画(特に高精細な連続階調画
像)に対して忠実な複写画像を再現し、且つ、印刷物の
全面一様な地汚れはもちろん点状の地汚れをも発生させ
ず、また耐刷性の優れた平版印刷用原版を提供すること
である。
Another object of the present invention is to provide a CPC electrophotographic photosensitive member which is excellent in electrostatic characteristics and has little environmental dependence. Another object of the present invention is to provide an electrophotographic photosensitive member effective for a scanning exposure system using a semiconductor laser beam. A further object of the present invention is, as an electrophotographic lithographic printing plate precursor, excellent in electrostatic properties (particularly dark charge retention and photosensitivity) and faithful to original images (particularly high-definition continuous tone images). An object of the present invention is to provide a lithographic printing plate precursor that reproduces an image, does not cause spot stains as well as uniform stains on the entire surface of a printed matter, and has excellent printing durability.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】上記目的は無機光導電
体、分光増感色素及び結着樹脂を少なくとも含有する光
導電層を有する電子写真感光体において、該結着樹脂
が、下記樹脂〔A〕の少なくとも1種及び下記樹脂
〔B〕の少なくとも1種を含有して成ることを特徴とす
る電子写真感光体により達成されることが見出された。
The above object is to provide an electrophotographic photosensitive member having a photoconductive layer containing at least an inorganic photoconductor, a spectral sensitizing dye and a binder resin, wherein the binder resin is ] And at least one of the following resins [B] are included in the electrophotographic photosensitive member.

【0014】樹脂〔A〕 下記一般式(Ia)、(Ib)、(IIa)、(IIb)及
び(III)で示される重量平均分子量1×103 〜1.5
×104 のマクロモノマー(M)のうちの少なくとも1
つを重合体成分として含有する重量平均分子量1×10
3 〜2×104のグラフト型共重合体。
Resin [A] Weight average molecular weight represented by the following general formulas (Ia), (Ib), (IIa), (IIb) and (III): 1 × 10 3 to 1.5
At least one of × 10 4 macromonomers (M)
1 as a polymer component
3 to 2 × 10 4 graft type copolymer.

【0015】[0015]

【化9】 [Chemical 9]

【0016】[0016]

【化10】 [Chemical 10]

【0017】[0017]

【化11】 [Chemical 11]

【0018】[0018]

【化12】 [Chemical 12]

【0019】[0019]

【化13】 [Chemical 13]

【0020】{式(Ia)、(Ib)、(IIa)、(II
b)及び(III)中、〔 〕内は、繰り返し単位を表す。
1 及びf2 はお互いに同じでも異なってもよく、各々
水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1〜8の炭
化水素基、−COO−T1 または炭素数1〜8の炭化水
素基を介した−COO−T1 (T1 は炭素数1〜18の
炭化水素基を表す)を表す。X1 、X2 及びX3 は、単
結合もしくは−COO−、−OCO−、−(CH2 a
−COO−、−(CH2 b −OCO−(a、bは1〜
3の整数を表す)、−CON(k1 )−〔k1 は水素原
子または炭素数1〜12の炭化水素基を表す〕、−CO
NHCONH−、−CONHCOO−、−O−、−C6
4 −又は−SO2 −を表す。Y1 は、X1 と−COO
−とを連結する基を表す。Z1 及びZ2 は、互いに同じ
でも異なってもよく、各々2価の脂肪族基、2価の芳香
族基〔各々の2価の有機残基の結合中に、−O−、−S
−、−N(k2 )−、−SO2 −、−COO−、−OC
O−、−CONHCO−、−NHCONH−、−CON
(k2 )−、−SO2 N(k2 )−及び−Si (k2
(k3 )−(k2 、k3 はk1 と同一の内容を表す)か
ら選ばれた少なくとも1つの結合基を介在させてもよ
い〕またはこれら残基の組み合わせにより構成された有
機残基を表す。R31は水素原子または炭化水素基を表
す。Z3 は2価の脂肪族基を表す。Y2 は、X2 とV1
とを連結する基を表す。V1 は−CH2 −、−O−、ま
たは−NH−を表す。R32及びR33は水素原子、炭化水
素基または−COR34基(R34は炭化水素基を示す)を
表す。Y3 はX3 と−O−とを連結する基を表す。式
(III)において、〔 〕内は繰り返し単位を表す。αは
1〜3の整数を表す。αが2以上のときは、〔 〕内の
Wは少なくとも隣の〔 〕内のWと異なる基を表す。W
は、−CH(α1 )−CH(α2 )−または−(C
2 4 −を表す(α1 及びα2 は、互いに同じでも異
なってもよく、各々水素原子またはアルキル基を表
す)。}
{Formulas (Ia), (Ib), (IIa), (II
In b) and (III), the inside of [] represents a repeating unit.
f 1 and f 2 may be the same or different from each other, and each is a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, —COO-T 1 or a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms. Represents -COO-T 1 (T 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms). X 1 , X 2 and X 3 are a single bond or —COO—, —OCO—, — (CH 2 ) a.
-COO -, - (CH 2) b -OCO- (a, b is 1
It represents an integer 3), - CON (k 1) - [k 1 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms], -CO
NHCONH -, - CONHCOO -, - O -, - C 6
Represents H 4 — or —SO 2 —. Y 1 is X 1 and -COO
It represents a group connecting-and. Z 1 and Z 2 may be the same or different from each other, and each is a divalent aliphatic group, a divalent aromatic group [in the bond of each divalent organic residue, —O—, —S
-, - N (k 2) -, - SO 2 -, - COO -, - OC
O-, -CONHCO-, -NHCONH-, -CON
(K 2) -, - SO 2 N (k 2) - and -S i (k 2)
(K 3) - (k 2 , k 3 denote the same contents as the k 1) organic residue constituted by a combination of at least one linking group may be interposed] or those residues selected from Represents R 31 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group. Z 3 represents a divalent aliphatic group. Y 2 is X 2 and V 1
Represents a group connecting with. V 1 was -CH 2 -, - O-, or an -NH-. R 32 and R 33 represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group or a —COR 34 group (R 34 represents a hydrocarbon group). Y 3 represents a group connecting X 3 -O- with an. In formula (III), [] represents a repeating unit. α represents an integer of 1 to 3. When α is 2 or more, W in [] represents a group different from at least W in the adjacent []. W
Is -CH (α 1 ) -CH (α 2 )-or-(C
H 2 ) 4 — (α 1 and α 2 may be the same or different from each other and each represents a hydrogen atom or an alkyl group). }

【0021】樹脂〔B〕 2×104 〜1×106 の重量平均分子量を有し、−P
3 2 、−COOH、−SO3 H、−P(=O)(O
H)R1 〔R1 は炭化水素基又は−OR2 (R2 は炭化
水素基を表す)を表す〕及び環状酸無水物基から選択さ
れる少なくとも1種の極性基を有する重合体成分を含有
するAブロックと下記一般式(IV)で示される重合体成
分を少なくとも含有するBブロックとから構成されるA
Bブロック共重合体から成り、且つAブロックにおい
て、Bブロックと結合する反対側の重合体主鎖の末端に
上記特定の極性基のうちから選択される少なくとも1種
の極性基を結合してなる樹脂。
Resin [B] has a weight average molecular weight of 2 × 10 4 to 1 × 10 6 , and
O 3 H 2, -COOH, -SO 3 H, -P (= O) (O
H) R 1 [R 1 represents a hydrocarbon group or —OR 2 (R 2 represents a hydrocarbon group)] and a polymer component having at least one polar group selected from cyclic acid anhydride groups. A composed of an A block contained and a B block containing at least a polymer component represented by the following general formula (IV)
It is composed of a B block copolymer, and in the A block, at least one polar group selected from the above specific polar groups is bonded to the end of the polymer main chain on the side opposite to the B block. resin.

【0022】[0022]

【化14】 [Chemical 14]

【0023】〔式(IV)中、b1 及びb2 はそれぞれ水
素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭化水素基を示
す。R4 は炭化水素基を表す。〕
[In the formula (IV), b 1 and b 2 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group or a hydrocarbon group. R 4 represents a hydrocarbon group. ]

【0024】即ち本発明の結着樹脂は、上記一般式(I
a)、(Ib)、(IIa)、(IIb)及び(III)で示さ
れるマクロモノマー(M)を共重合成分として少なくと
も1つ含有するグラフト型共重合体である低分子量の樹
脂〔A〕と、上記特定の極性基含有成分を含有するAブ
ロックと上記一般式(IV)で示される重合体成分を含有
するBブロックとのABブロック共重合体でAブロック
において、Bブロックと結合する反対側の重合体主鎖の
末端に、上記特定の極性基を結合して成る中〜高分子量
体の樹脂〔B〕とから少なくとも構成される。
That is, the binder resin of the present invention has the general formula (I
a), (Ib), (IIa), (IIb) and (III), a low molecular weight resin [A] which is a graft copolymer containing at least one macromonomer (M) as a copolymerization component. And an AB block copolymer of an A block containing the specific polar group-containing component and a B block containing the polymer component represented by the general formula (IV). It is composed of at least a medium to high molecular weight resin [B] in which the above-mentioned specific polar group is bonded to the terminal of the polymer main chain on the side.

【0025】種々検討の結果、前述の如く、低分子量の
極性基含有樹脂を中〜高分子量の樹脂と併用する公知の
技術においては、併用する中〜高分子量の樹脂により上
記低分子量の樹脂で高性能化された静電特性が低下して
しまうことのあることが判った。そして、これらの中〜
高分子量樹脂が、該光導電層中で、光導電体、分光増感
色素及び低分子量の樹脂同志の相互作用を、更に適切に
させることも、予想以上に重要な原因であることが明ら
かになってきた。
As a result of various studies, as described above, in the known technique of using a low molecular weight polar group-containing resin in combination with a medium to high molecular weight resin, the above-mentioned low molecular weight resin is used depending on the medium to high molecular weight resin used in combination. It was found that the high performance electrostatic characteristics may be deteriorated. And among these
It is also clear that it is more important than expected that the high molecular weight resin makes the interaction between the photoconductor, the spectral sensitizing dye and the low molecular weight resin in the photoconductive layer more appropriate. It's coming.

【0026】かかる検討を重ねた結果、グラフト部にポ
リエステルマクロモノマーまたはポリエーテルマクロモ
ノマーを使用したグラフト型共重合体である低分子量の
樹脂〔A〕と、本発明に従う極性基を重合体主鎖の片末
端及びAブロック中に含有し、該Aブロックと極性基非
含有のBブロックとを有するABブロック共重合体であ
る樹脂〔B〕を併せて用いることにより、前記課題が有
効に解決されることが見出されたものである。
As a result of repeated studies, a low molecular weight resin [A], which is a graft type copolymer using a polyester macromonomer or a polyether macromonomer in the graft portion, and a polar group according to the present invention are added to the polymer main chain. The above problem is effectively solved by using the resin [B] which is an AB block copolymer contained in one end and in the A block and having the A block and the B block containing no polar group. It has been found that

【0027】この事は、本発明の結着樹脂〔A〕及び
〔B〕の相乗効果により、光導電体粒子が充分に分散さ
れ且つ凝縮しない状態で存在し、更に分光増感色素が光
導電体粒子表面に充分に吸着されていること及び光導電
体表面の余分な活性サイトを結着樹脂が充分に吸着して
トラップを補償していること等によるものと推定され
る。
This is due to the synergistic effect of the binder resins [A] and [B] of the present invention, in which the photoconductor particles are sufficiently dispersed and not condensed, and the spectral sensitizing dye is used as the photoconductive dye. It is presumed that this is due to the fact that the particles are sufficiently adsorbed on the surface of the body particles and that the binder resin sufficiently adsorbs extra active sites on the surface of the photoconductor to compensate the traps.

【0028】即ち、低分子量体の樹脂〔A〕は、光導電
体粒子に充分吸着して該粒子を均一に分散し、その高分
子鎖が非常に短いことにより凝集を抑制すること、又、
分光増感色素の吸着疎外を起こさないこと等の重要な作
用を有する。また、本発明の樹脂〔B〕である、特定の
極性基を重合体主鎖の片末端及びAブロック中に含有
し、且つ、それを含まないBブロックとで構成された中
〜高分子量のABブロック共重合体を用いることで、静
電特性が向上し且つ光導電層の機械的強度が大幅に向上
する。これは、この樹脂〔B〕の主鎖片末端に結合され
ている特定の極性基が選択的に光導電体粒子に吸着し、
且つAブロックの部分が極性の状態を有し且つ光導電体
粒子の表面及びその近傍に存在することから、分光増感
色素、更には化学増感剤等の光導電体粒子への吸着を容
易にする状態が形成されたことによると推定される。
That is, the low molecular weight resin [A] is sufficiently adsorbed on the photoconductor particles to uniformly disperse the particles, and the polymer chain is very short to suppress aggregation.
It has an important effect such as preventing adsorption of the spectral sensitizing dye. In addition, the resin [B] of the present invention, which contains a specific polar group at one end of the polymer main chain and in the A block, and which is composed of a B block not containing it, has a medium to high molecular weight. By using the AB block copolymer, the electrostatic properties are improved and the mechanical strength of the photoconductive layer is significantly improved. This is because a specific polar group bonded to one end of the main chain of the resin [B] is selectively adsorbed on the photoconductor particles,
Moreover, since the A block portion has a polar state and exists on the surface of the photoconductor particles and in the vicinity thereof, it is easy to adsorb the spectral sensitizing dye, and further the chemical sensitizer to the photoconductor particles. It is presumed that this is due to the formation of the state.

【0029】即ち、樹脂〔A〕と樹脂〔B〕の末端に結
合した極性基及びAブロックとの相互効果、更に本発明
の樹脂〔B〕のAブロック部分が光導電体粒子と樹脂
〔A〕よりも弱い相互作用であることにより、光導電体
粒子の活性サイトを充分にトラップして、静電特性の安
定化を図るとともに、各種増感剤の光導電体表面への吸
着を疎外しない状態を形成することで高性能なレベルで
静電特性を維持できる様になったと考えられる。
That is, the mutual effect between the resin [A] and the polar group bonded to the terminal of the resin [B] and the A block, and the A block portion of the resin [B] of the present invention is the photoconductive particles and the resin [A]. ], The active site of the photoconductor particles is sufficiently trapped to stabilize the electrostatic characteristics, and the adsorption of various sensitizers to the photoconductor surface is not excluded. It is considered that the electrostatic properties can be maintained at a high level by forming the state.

【0030】更には、樹脂〔A〕と樹脂〔B〕中の特定
の極性基を含有しないBブロックの部分が高分子鎖間で
お互いに充分な絡み合い効果を生じ、その結果、光導電
層の機械的強度を向上したものと推定される。換言すれ
ば、本発明の結着樹脂として、グラフト部にポリエステ
ルマクロモノマーまたはポリエーテルマクロモノマーを
使用したグラフト型共重合体である樹脂〔A〕及び極性
基を重合体主鎖の片末端及びAブロック中に含有し、該
Aブロックと極性基非含有のBブロックとを有するAB
ブロック共重合体である樹脂〔B〕を各々樹脂の重量平
均分子量並びに樹脂中の極性基の含有量等を更に特定化
することで、無機光導電体と樹脂との相互作用の強さを
適度に変えることができたことによると推定される。即
ち、相互作用のより強い樹脂〔A〕が選択的に無機光導
電体に適切に吸着し、一方で高分子量の樹脂〔B〕は、
高分子鎖間の相互作用、更には、ブロック中及び主鎖末
端の極性基と光導電性粒子との弱い相互作用等が相乗作
用して、電子写真特性及び膜強度において著しく優れた
性能を両立しているものと考えられる。
Furthermore, the portions of the B block not containing a specific polar group in the resin [A] and the resin [B] produce a sufficient entanglement effect between the polymer chains, and as a result, the photoconductive layer of the photoconductive layer is formed. It is estimated that the mechanical strength is improved. In other words, as the binder resin of the present invention, a resin [A], which is a graft copolymer using a polyester macromonomer or a polyether macromonomer in the graft portion, and a polar group are added to one end of the polymer main chain and A AB contained in a block and having the A block and a B block containing no polar group
By further specifying the weight average molecular weight of the resin [B], which is a block copolymer, and the content of polar groups in the resin, the strength of the interaction between the inorganic photoconductor and the resin can be appropriately adjusted. It is presumed that it was possible to change to. That is, the resin [A] having a stronger interaction is selectively and appropriately adsorbed on the inorganic photoconductor, while the resin [B] having a high molecular weight is
Interactions between polymer chains, and weak interactions between polar groups at the ends of the blocks and main chain and photoconductive particles, etc. synergize to achieve remarkably excellent performance in electrophotographic characteristics and film strength. It is thought that it is doing.

【0031】この作用は、近赤外〜赤外光の分光増感用
色素として特に有効なポリメチン色素あるいはフタロシ
アニン系顔料で特に顕著である。更に、光導電体として
光導電性酸化亜鉛を用いた本発明の電子写真感光体を従
来公知のダイレクト印刷用原版として用いた場合には優
れた撮像性とともに著しく良好な保水性を示す。即ち、
電子写真プロセスを経て複写画像を形成した本発明の感
光体を、従来公知の不感脂化処理液により非画像部を化
学処理により不感脂化して印刷用原版とし、これをオフ
セット平版印刷により印刷した時に優れた性能を示すも
のである。
This effect is particularly remarkable with a polymethine dye or a phthalocyanine-based pigment which is particularly effective as a dye for spectral sensitization from near infrared to infrared light. Further, when the electrophotographic photosensitive member of the present invention using photoconductive zinc oxide as a photoconductor is used as a conventionally known original plate for direct printing, it exhibits excellent image pickup property and remarkably good water retention. That is,
The photoconductor of the present invention, on which a copied image was formed through an electrophotographic process, was desensitized to a non-image portion by a chemical treatment with a conventionally known desensitizing treatment liquid to prepare a printing original plate, which was printed by offset lithographic printing. It sometimes shows excellent performance.

【0032】本発明の感光体を不感脂化処理すると、非
画像部の親水化が充分になされ、保水性が向上すること
から印刷枚数が飛躍的に向上した。このことは、不感脂
化処理で親水性表面に改質される働きをする酸化亜鉛の
化学反応が、容易に且つ多量に進行しうる状態を形成し
ていることによるものと考えられる。即ち、結着樹脂と
して用いた樹脂〔A〕及び樹脂〔B〕の各々が酸化亜鉛
粒子を均一に充分分散していること及び酸化亜鉛粒子表
面・表面近傍が不感脂化処理水溶液と迅速に相互作用し
反応を起こす様な状態を形成しているものと推定され
る。
When the photosensitizer of the present invention is desensitized, the non-image area is sufficiently hydrophilized and the water retention property is improved, resulting in a dramatic increase in the number of printed sheets. It is considered that this is because the chemical reaction of zinc oxide, which acts to modify the hydrophilic surface by the desensitizing treatment, is in a state where it can easily and in large quantities proceed. That is, each of the resin [A] and the resin [B] used as the binder resin disperse the zinc oxide particles uniformly and sufficiently, and the surface of the zinc oxide particles and the vicinity of the surface rapidly interact with the desensitizing treatment aqueous solution. It is presumed that it forms a state that acts and causes a reaction.

【0033】更に、結着樹脂〔A〕が、重合体主鎖の片
末端のみに、−PO3 2 、−SO3 H、−OH、−C
OOH、−P(=O)(OH)R1 (R1 は前記と同一
の内容を表す)、環状酸無水物基、−SH、−CONH
2 及び−SO2 NH2 から選ばれる少なくとも1つの極
性基を結合して成る共重合体(以降この低分子量体をと
くに樹脂〔A′〕と称する)であることが好ましい。
Further, the binder resin [A] contains --PO 3 H 2 , --SO 3 H, --OH and --C only on one end of the polymer main chain.
OOH, -P (= O) (OH) R 1 (R 1 has the same meaning as described above), cyclic acid anhydride group, -SH, -CONH
It is preferably a copolymer having at least one polar group selected from 2 and —SO 2 NH 2 (hereinafter, this low molecular weight compound is particularly referred to as resin [A ′]).

【0034】以下、本発明の樹脂〔A〕について説明す
る。樹脂〔A〕は、一般式(Ia)、(Ib)、(II
a)、(IIb)及び(III)で示される重量平均分子量1
×103 〜1.5×104 のマクロモノマー(M)のう
ちの少なくとも1つを重合体成分として含有するもので
ある。樹脂〔A〕はこれらのマクロモノマーを2種以上
含有していてもよいが、とくに一般式(Ia)及び/又
は(Ib)で示されるマクロモノマー(M−1)を少な
くとも1種含有する樹脂〔A−1〕、一般式(IIa)及
び/又は(IIb)で示されるマクロモノマー(M−2)
を少なくとも1種含有する樹脂〔A−2〕並びに一般式
(III)で示されるマクロモノマー(M−3)を少なくと
も1種含有する樹脂〔A−3〕が好ましい。
The resin [A] of the present invention will be described below. The resin [A] has general formulas (Ia), (Ib), (II
a), (IIb) and (III) weight average molecular weight 1
It contains at least one of the macromonomers (M) of × 10 3 to 1.5 × 10 4 as a polymer component. The resin [A] may contain two or more kinds of these macromonomers, but in particular, a resin containing at least one kind of macromonomer (M-1) represented by the general formula (Ia) and / or (Ib). [A-1], macromonomer (M-2) represented by formula (IIa) and / or (IIb)
[A-2] containing at least one of
A resin [A-3] containing at least one macromonomer (M-3) represented by (III) is preferable.

【0035】樹脂〔A〕の重量平均分子量は1×103
〜2×104 、好ましくは3×103 〜1×104 であ
る。樹脂〔A〕の分子量が1×103 より小さくなる
と、皮膜形成能が低下し充分な膜強度を保てず、一方分
子量が2×104 より大きくなると本発明の樹脂であっ
ても、特に近赤外〜赤外分光増感色素を用いた感光体に
おいて、高温・高湿、低温・低湿の苛酷な条件下での電
子写真特性(特に初期電位・暗電荷保持率及び光感度)
の変動が多少大きくなり、安定した複写画像が得られる
という本発明の効果が薄れてしまう。
The weight average molecular weight of the resin [A] is 1 × 10 3.
˜2 × 10 4 , preferably 3 × 10 3 to 1 × 10 4 . If the molecular weight of the resin [A] is less than 1 × 10 3 , the film-forming ability is lowered and sufficient film strength cannot be maintained. On the other hand, if the molecular weight is more than 2 × 10 4 , the resin of the present invention is Electrophotographic characteristics of photoconductors using near-infrared to infrared spectral sensitizing dyes under severe conditions of high temperature / high humidity, low temperature / low humidity (especially initial potential / dark charge retention rate and photosensitivity)
Of the present invention is somewhat increased, and the effect of the present invention that a stable copy image is obtained is diminished.

【0036】また、本発明の樹脂〔A〕におけるマクロ
モノマー(M)の共重合体中における存在割合は0.5
〜80重量%であることが好ましい。特に、一般式(I
a)及び(Ib)で示されるマクロモノマー(M−1)
においてR31が水素原子の場合にはその存在割合は、
0.5〜30重量%であることが好ましい。また、一般
式(IIa)及び(IIb)で示されるマクロモノマー(M
−2)においては、とくにその存在割合は1〜40重量
%であることが好ましく、一般式(III)で示されるマク
ロモノマー(M−3)においてはその存在割合は1〜8
0重量%、とくに5〜50重量%であることが好まし
い。
The proportion of the macromonomer (M) in the resin [A] of the present invention in the copolymer is 0.5.
It is preferably about 80% by weight. In particular, the general formula (I
Macromonomers (M-1) represented by a) and (Ib)
When R 31 is a hydrogen atom, its proportion is
It is preferably 0.5 to 30% by weight. In addition, the macromonomers (M of the general formulas (IIa) and (IIb) (M
-2), the abundance ratio is preferably 1 to 40% by weight, and the abundance ratio is 1 to 8 in the macromonomer (M-3) represented by the general formula (III).
It is preferably 0% by weight, particularly 5 to 50% by weight.

【0037】結着樹脂〔A〕におけるマクロモノマー含
有量が0.5重量%より少ないと電子写真特性(特に暗
電荷保持率、光感度)が低下し、又環境条件での電子写
真特性の変動が特に近赤外〜赤外光分光増感色素との組
み合わせにおいて、大きくなる。これはグラフト部とな
るマクロモノマーが微かとなることで結果として従来の
ホモポリマーあるいはランダム共重合体と殆ど同じ組成
になってしまうことによると考えられる。
When the content of the macromonomer in the binder resin [A] is less than 0.5% by weight, the electrophotographic characteristics (especially dark charge retention rate and photosensitivity) are deteriorated, and the electrophotographic characteristics change under environmental conditions. Especially when combined with a near infrared to infrared spectral sensitizing dye. It is considered that this is because the macromonomer which becomes the graft portion becomes fine, resulting in almost the same composition as the conventional homopolymer or random copolymer.

【0038】一方マクロモノマーの含有量が80%を越
えると、他の重合体成分に相当する単量体と本発明に従
うマクロモノマーとの共重合性が充分でなくなり、結着
樹脂として用いても充分な電子写真特性が得られなくな
ってしまう。さらに、マクロモノマー(M−1)での一
般式(Ia)および(Ib)におけるR31が水素原子の
場合のマクロモノマーの含有量が30重量%を越えると
光導電体粒子の分散性が低下し、膜平滑度が劣下し、複
写画像の悪化及びオフセット平版印刷用原版として用い
た時の印刷物の地汚れ増加を生ずる。この事は、マクロ
モノマーが含有する−COOH基が多くなり、無機光導
電体との相互作用が強くなり、無機光導電体の凝集を引
き起こしてしまうためと考えられる。
On the other hand, when the content of the macromonomer exceeds 80%, the copolymerizability of the monomer corresponding to the other polymer component and the macromonomer according to the present invention becomes insufficient, and even when it is used as the binder resin. Sufficient electrophotographic characteristics cannot be obtained. Further, when R 31 in the general formulas (Ia) and (Ib) in the macromonomer (M-1) is a hydrogen atom and the content of the macromonomer exceeds 30% by weight, the dispersibility of the photoconductor particles is deteriorated. However, the film smoothness is inferior, the copy image is deteriorated, and the background stain of the printed matter increases when it is used as an offset lithographic printing plate precursor. It is considered that this is because the number of —COOH groups contained in the macromonomer increases, the interaction with the inorganic photoconductor becomes strong, and aggregation of the inorganic photoconductor is caused.

【0039】樹脂〔A〕のガラス転移点は、好ましくは
−40℃〜120℃、より好ましくは、−30℃〜90
℃である。本発明の樹脂〔A〕は、重量平均分子量1.
0×103 〜1.5×104 のマクロモノマー(M)を
重合体成分として含有する、重量平均分子量1×103
〜2×104 のグラフト型共重合体であり、好ましく
は、更に、該グラフト型共重合体の重合体主鎖の片末端
に−PO3 2 、−SO3 H、−COOH、−OH、−
P(=O)(OH)R1 (R1 は前記と同一の内容を表
わし、詳しくは、後述する。)、環状酸無水物基、−S
H、−CONH2 及び−SO2 NH2 から選ばれる少な
くとも1種の極性基を結合して成る樹脂である(樹脂
〔A’〕)。
The glass transition point of the resin [A] is preferably -40 ° C to 120 ° C, more preferably -30 ° C to 90 ° C.
℃. The resin [A] of the present invention has a weight average molecular weight of 1.
Weight average molecular weight of 1 × 10 3 containing 0 × 10 3 to 1.5 × 10 4 macromonomer (M) as a polymer component
To 2 × 10 4 graft type copolymers, preferably —PO 3 H 2 , —SO 3 H, —COOH, —OH at one end of the polymer main chain of the graft type copolymer. ,-
P (= O) (OH) R 1 (R 1 has the same meaning as described above, and will be described in detail later.), Cyclic acid anhydride group, -S
A resin formed by bonding at least one polar group selected from H, —CONH 2 and —SO 2 NH 2 (resin [A ′]).

【0040】樹脂〔A’〕における重合体主鎖片末端に
結合される前記特定の極性基の存在量は、樹脂〔A’〕
100重量部当たり0.1〜15重量%であり、好まし
くは0.5〜10重量%である。特に、樹脂〔A’−
1〕及び〔A’−3〕における該存在量は、樹脂
〔A’〕100重量部当り0.1〜10重量%、更には
0.5〜5重量%であることが好ましい。
The amount of the specific polar group bonded to one end of the polymer main chain in the resin [A '] is determined by the resin [A'].
It is 0.1 to 15% by weight, preferably 0.5 to 10% by weight, per 100 parts by weight. In particular, the resin [A'-
1] and [A′-3] are preferably present in an amount of 0.1 to 10% by weight, and more preferably 0.5 to 5% by weight, based on 100 parts by weight of the resin [A ′].

【0041】樹脂〔A’〕における極性基含有量が0.
1重量%より少ないと光導電層の膜強度向上の効果が小
さくなってしまう。また、該量が15重量%を越えると
無機光導電体の分散物の凝集が発生してしまう。
The resin [A '] has a polar group content of 0.
If it is less than 1% by weight, the effect of improving the film strength of the photoconductive layer becomes small. Further, if the amount exceeds 15% by weight, aggregation of the dispersion of the inorganic photoconductor will occur.

【0042】樹脂〔A−1〕の重合体成分として供せら
れる、一方の末端に重合性二重結合基を、他の末端に水
素原子または炭化水素基を表わすR31基を各々結合し
た、ポリエステル構造を有するマクロモノマー(M−
1)について、更に具体的に説明する。まず、一般式
(Ia)及び(Ib)について説明する。一般式(I
a)及び(Ib)における〔 〕内は、式(Ia)及び
/又は(Ib)のマクロモノマー(M−1)の重量平均
分子量を1×103 〜1.5×104 とするに十分な、
繰り返し単位を表わす。
The polymerizable double bond group, which serves as a polymer component of the resin [A-1], is bonded to one terminal and the R 31 group representing a hydrogen atom or a hydrocarbon group is bonded to the other terminal. Macromonomer having polyester structure (M-
1) will be described more specifically. First, general formulas (Ia) and (Ib) will be described. General formula (I
The values in [] in a) and (Ib) are sufficient to make the weight average molecular weight of the macromonomer (M-1) of the formula (Ia) and / or (Ib) 1 × 10 3 to 1.5 × 10 4. What
Represents a repeating unit.

【0043】一般式(Ia)または(Ib)において、
好ましくは、f1 及びf2 は、互いに同じでも異なって
もよく、各々水素原子、ハロゲン原子(例えば塩素原
子、臭素原子、フッ素原子)、シアノ基、炭素数1〜3
のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基
等)、−COOT1 又は−CH2 COOT1 {T1 は炭
素数1〜8のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オク
チル基等)、炭素数7〜9のアラルキル基(例えばベン
ジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基等)又
は置換されてもよいフェニル基(例えばフェニル基、ト
リル基、キシリル基、メトキシフェニル基等)を表わ
す}を表わす。より好ましくは、f1 及びf2 のうちの
いずれか一方が水素原子を表わす。
In the general formula (Ia) or (Ib),
Preferably, f 1 and f 2 may be the same as or different from each other, and each is a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a chlorine atom, a bromine atom, a fluorine atom), a cyano group, or a carbon number of 1 to 3.
An alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, etc.), —COOT 1 or —CH 2 COOT 1 {T 1 is an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group,
Propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, etc.), aralkyl group having 7 to 9 carbon atoms (eg benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group etc.) or optionally substituted phenyl group (eg A phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a methoxyphenyl group, etc.). More preferably, either f 1 or f 2 represents a hydrogen atom.

【0044】X1 は、好ましくは、−COO−、−OC
O−、−CH2 COO−、−CH2OCO−、−CON
H−、−CONHCONH−、−CONHCOO−又は
−C6 4 −、−CON(k1 )−を表わす。X1 が−
6 4 −を表わす場合、ベンゼン環は、置換基を有し
てもよい。置換基としては、ハロゲン原子(例えば塩素
原子、臭素原子等)、アルキル基(例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、クロロメチル基、メト
キシメチル基等)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、
エトキシ基、プロピオキシ基、ブトキシ基等)等が挙げ
られる。
X 1 is preferably --COO--, --OC.
O -, - CH 2 COO - , - CH 2 OCO -, - CON
H -, - CONHCONH -, - CONHCOO- or -C 6 H 4 -, - CON (k 1) - represents a. X 1 is-
When representing C 6 H 4 —, the benzene ring may have a substituent. As the substituent, a halogen atom (eg, chlorine atom, bromine atom, etc.), an alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, chloromethyl group, methoxymethyl group, etc.), an alkoxy group (eg, methoxy group,
Ethoxy group, propioxy group, butoxy group, etc.) and the like.

【0045】また、k1 は、水素原子又は炭素数1〜1
2の炭化水素基(例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ド
デシル基、2−メトキシエチル基、2−クロロエチル
基、2−シアノエチル基、ベンジル基、メチルベンジル
基、クロロベンジル基、メトキシベンジル基、フェネチ
ル基、フェニル基、トリル基、クロロフェニル基、メト
キシフェニル基、ブチルフェニル基等)を表わす。
K 1 is a hydrogen atom or a carbon number of 1 to 1.
2 hydrocarbon groups (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, 2-methoxyethyl group, 2-chloroethyl group, 2-cyanoethyl group, benzyl group, And a methylbenzyl group, a chlorobenzyl group, a methoxybenzyl group, a phenethyl group, a phenyl group, a tolyl group, a chlorophenyl group, a methoxyphenyl group, a butylphenyl group and the like).

【0046】Y1 は、X1 と−COO−とを連結する基
を表わし、単結合又は連結する基を表わす。連結する基
として具体的には−C(e1 )(e2 )−、−C6 10
−、−C6 4 −、−C(e3 )=C(e4 )−、−C
OO−、−OCO−、−O−、−S−、−SO2 −、−
N(e5 )−、−CON(e6 )−、−SO2
(e7 )−、−NHCOO−、−NHCONH−、及び
−CO−から選択される連結基又はこれらの連結基の組
合せによって形成される連結基を表わす{ここで、e1
〜e4 は各々同じでも異なってもよく、水素原子、ハロ
ゲン原子(好ましくは、例えば、フッ素原子、塩素原
子、臭素原子等)又は炭素数1〜7の炭化水素基(好ま
しくは、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、2−クロロエチル基、2−メトキシエチル基、
2−メトキシカルボニルエチル基、ベンジル基、メトキ
シベンジル基、フェニル基、メトキシフェニル基、メト
キシカルボニルフェニル基等)を表わし、e5 〜e7
上記のk1 の内容と同一のものを表わす}。
Y 1 represents a group for connecting X 1 and --COO--, and represents a single bond or a group for connecting. Specifically, -C a group linked (e 1) (e 2) -, - C 6 H 10
-, - C 6 H 4 - , - C (e 3) = C (e 4) -, - C
OO -, - OCO -, - O -, - S -, - SO 2 -, -
N (e 5) -, - CON (e 6) -, - SO 2 N
(E 7) -, - NHCOO -, - NHCONH-, and a linking group represented {here formed by linking groups or combinations of these linking groups selected from -CO-, e 1
To e 4 may be the same or different and each is a hydrogen atom, a halogen atom (preferably, for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or the like) or a hydrocarbon group having 1 to 7 carbon atoms (preferably, for example, methyl). Group, ethyl group, propyl group, butyl group, 2-chloroethyl group, 2-methoxyethyl group,
2-methoxycarbonylethyl group, a benzyl group, methoxybenzyl group, a phenyl group, methoxyphenyl group, a methoxycarbonylphenyl group and the like), e 5 to e 7 represents the same as the contents of the above-described k 1}.

【0047】Z1 及びZ2 は互いに同じでも異なっても
よく、各々二価の有機残基を表わし、−O−、−S−、
−N(k2 )−、−SO−、−SO2 −、−COO−、
−OCO−、−CONHCO−、−NHCONH−、−
CON(k2 )−、−SO2N(k2 )−及び−Si
(k2 )(k3 )−から選ばれた連結基を介在させても
よい、二価の脂肪族基もしくは二価の芳香族基、又はこ
れらの二価の残基の組合せにより構成された有機残基を
表わす。ここで、k2 及びk3 は各々前記k1 と同一の
内容を表わす。二価の脂肪族基として、例えば下記化1
5のものが挙げられる。
Z 1 and Z 2 may be the same as or different from each other and each represents a divalent organic residue, such as --O--, --S--,
-N (k 2) -, - SO -, - SO 2 -, - COO-,
-OCO-, -CONHCO-, -NHCONH-,-
CON (k 2) -, - SO 2 N (k 2) - and -Si
(K 2 ) (k 3 )-, which may be interposed with a linking group selected from divalent aliphatic groups or divalent aromatic groups, or a combination of these divalent residues. Represents an organic residue. Here, k 2 and k 3 have the same contents as k 1 , respectively. As the divalent aliphatic group, for example, the following chemical formula 1
5 are mentioned.

【0048】[0048]

【化15】 [Chemical 15]

【0049】{式中、e8 及びe9 は、互いに同じでも
異なってもよく、各々水素原子、ハロゲン原子(例えば
フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)又は炭素数1〜1
2のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ブチル基、ヘキ
シル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等)を表わ
す。Qは−O−、−S−又は−NR36−を表わし、R36
は炭素数1〜4のアルキル基、−CH2 Cl又は−CH
2 Brを表わす}。
[In the formula, e 8 and e 9 may be the same or different from each other and each is a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or the like) or a carbon number of 1 to 1.
2 represents an alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, chloromethyl group, bromomethyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, etc.). Q is -O -, - S- or -NR 36 - represents, R 36
Is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, -CH 2 Cl or -CH
2 represents Br}.

【0050】二価の芳香族基としては、例えばベンゼン
環基、ナフタレン環基及び5又は6員の複素環基(複素
環を構成するヘテロ原子として、酸素原子、イオウ原
子、窒素原子から選ばれたヘテロ原子を少なくとも1種
含有する)が挙げられる。これらの芳香族基は置換基を
有していてもよく、例えばハロゲン原子(例えばフッ素
原子、塩素原子、臭素原子等)、炭素数1〜8のアルキ
ル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘキシル基、オクチル基等)、炭素数1〜6のアル
コキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピオキ
シ基、ブトキシ基等)が置換基の例として挙げられる。
Examples of the divalent aromatic group include a benzene ring group, a naphthalene ring group and a 5- or 6-membered heterocyclic group (as a hetero atom constituting the hetero ring, selected from an oxygen atom, a sulfur atom and a nitrogen atom). Containing at least one hetero atom). These aromatic groups may have a substituent, for example, a halogen atom (eg, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, etc.), an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group). , A butyl group, a hexyl group, an octyl group, etc.) and an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms (for example, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, etc.) can be given as examples of the substituent.

【0051】複素環基としては、例えばフラン環、チオ
フェン環、ピリジン環、ピラジン環、ピペラジン環、テ
トラヒドロフラン環、ピロール環、テトラヒドロピラン
環、1,3−オキサゾリン環等が挙げられる。R31は好
ましくは水素原子又は炭素数1〜8の炭化水素基を表わ
し、炭化水素基の具体例としてはf1 、f2 にて前記し
たものと同様のものを挙げることができる。
Examples of the heterocyclic group include furan ring, thiophene ring, pyridine ring, pyrazine ring, piperazine ring, tetrahydrofuran ring, pyrrole ring, tetrahydropyran ring, 1,3-oxazoline ring and the like. R 31 preferably represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and specific examples of the hydrocarbon group are the same as those mentioned above for f 1 and f 2 .

【0052】Z3 は、二価の脂肪族残基を表わし、具体
的には−(CH2 m1−(m1は2〜18の整数)、−
CH2 −C(g1 )(g2 )−(g1 及びg2 は各々水
素原子又はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基等の炭素数1〜
12のアルキル基を表わす。ただし、g1 とg2 のいず
れもが水素原子を表わす事はない)、−CH(g3 )−
(CH2 m2−(g3 は炭素数1〜12のアルキル基
(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
ヘキシル基、オクチル基等)を表わし、m2 は2〜18
の整数を表わす)等が挙げられる。
Z 3 represents a divalent aliphatic residue, specifically,-(CH 2 ) m 1-(m 1 is an integer of 2 to 18),-
CH 2 -C (g 1 ) (g 2 )-(g 1 and g 2 are each a hydrogen atom or a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, an octyl group, a decyl group, and the like, having 1 to 1 carbon atoms.
Represents 12 alkyl groups. However, neither g 1 nor g 2 represents a hydrogen atom), —CH (g 3 ) —
(CH 2 ) m 2- (g 3 is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group,
Hexyl group, octyl group, etc., and m2 is 2 to 18
Represents the integer) and the like.

【0053】一般式(Ia)又は一般式(Ib)におけ
るCH(f1 )=C(f2 )−X1−Y1 −で表わされ
る部分の具体例として以下のものが挙げられるが、これ
らに限定されるものではない。但し、以下の各例におい
て、Q1 は−H、−CH3 、−CH2 COOCH3 、−
Cl、−Br又は−CNを示し、Q2 は−H又は−CH
3 を示し、nは2〜12の整数を示し、mは1〜12の
整数を示す。
Specific examples of the moiety represented by CH (f 1 ) ═C (f 2 ) —X 1 —Y 1 — in the general formula (Ia) or the general formula (Ib) include the following. It is not limited to. However, in each of the following examples, Q 1 is -H, -CH 3 , -CH 2 COOCH 3 ,-.
Cl, showed -Br or -CN, Q 2 is -H or -CH
3 , n is an integer of 2 to 12, and m is an integer of 1 to 12.

【0054】[0054]

【化16】 [Chemical 16]

【0055】[0055]

【化17】 [Chemical 17]

【0056】[0056]

【化18】 [Chemical 18]

【0057】Z1 及びZ2 の具体的な例として、各々以
下の有機残基が挙げられるが、本発明はこれらに限定さ
れるものではない。但し、以下の各例において、R41
炭素数1〜4のアルキル基、−CH2 Cl又は−CH2
Brを示し、R42は炭素数1〜8のアルキル基、−(C
2 m3−OR41(R41は上記の意味を表わし、m3は
2〜8の整数を表わす)、−CH2 Cl又は−CH2
rを示し、R43は−H又は−CH3 を示し、R44は炭素
数1〜4のアルキル基を示し、Q3 は−O−、−S−又
は−NR41−(R41は上記の意味を表わす)を示し、p
は1〜26の整数を示し、qは0又は1〜4の整数を示
し、rは1〜10の整数を示し、jは0又は1〜4の整
数を示し、kは2〜6の整数を示す。
Specific examples of Z 1 and Z 2 include the following organic residues, but the present invention is not limited thereto. However, in each of the following examples, R 41 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, —CH 2 Cl or —CH 2
Represents Br, R 42 represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, — (C
H 2) m3 -OR 41 (R 41 represents the above meaning, m3 represents an integer of 2~8), - CH 2 Cl or -CH 2 B
r, R 43 represents —H or —CH 3 , R 44 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, Q 3 represents —O—, —S— or —NR 41 — (R 41 represents the above. Represents the meaning of), p
Represents an integer of 1 to 26, q represents an integer of 0 or 1 to 4, r represents an integer of 1 to 10, j represents an integer of 0 or 1 to 4, and k represents an integer of 2 to 6. Indicates.

【0058】[0058]

【化19】 [Chemical 19]

【0059】[0059]

【化20】 [Chemical 20]

【0060】[0060]

【化21】 [Chemical 21]

【0061】[0061]

【化22】 [Chemical formula 22]

【0062】一般式(Ia)で示されるマクロモノマー
(M−1)は、高分子学会編、「高分子データハンドブ
ック〔基礎編〕」(1986年刊)培風館等に例示され
る、ジオール類とジカルボン酸類、ジカルボン酸無水物
又はジカルボン酸エステル類との重縮合反応によって合
成された、重量平均分子量1×103 〜1.5×104
のポリエステルオリゴマーの片末端のヒドロキシル基に
おいてのみ、高分子反応により、重合性二重結合基を導
入する方法で容易に製造する事ができる。
The macromonomer (M-1) represented by the general formula (Ia) is a diol and a dicarboxylic acid as exemplified in "Polymer Data Handbook [Basic Edition]" (published in 1986) by Baifukan, edited by The Society of Polymer Science, Japan. Weight average molecular weight 1 × 10 3 to 1.5 × 10 4 synthesized by polycondensation reaction with acid, dicarboxylic acid anhydride or dicarboxylic acid ester
It can be easily produced by a method of introducing a polymerizable double bond group by a polymer reaction only in the hydroxyl group at one end of the polyester oligomer.

【0063】ポリエステルの合成法は、従来公知の重縮
合反応によって合成されるが、具体的には、滝山栄一郎
「ポリエステル樹脂ハンドブック」日刊工業新聞社(1
986年刊)、高分子学会編「重縮合と重付加」共立出
版(1980年刊)、I.Goodman 「Ency
clopedia of Polymer Scien
ce and Engineering Vol 1
2」p1.John Wiley & Sons (1
985年刊)等に記載の方法に従って合成することがで
きる。
The polyester is synthesized by a conventionally known polycondensation reaction. Specifically, specifically, Eiichiro Takiyama "Polyester Resin Handbook", Nikkan Kogyo Shimbun (1
986), "Polycondensation and Polyaddition" edited by The Society of Polymer Science, Kyoritsu Shuppan (1980), I.S. Goodman "Ency
Clopedia of Polymer Science
ce and Engineering Vol 1
2 "p1. John Wiley & Sons (1
1985) and the like.

【0064】ポリエステルオリゴマーの片末端のヒドロ
キシル基のみに重合性二重結合基を導入する方法は、従
来公知の低分子化合物におけるアルコール類からエステ
ル化する反応あるいはアルコール類からウレタン化する
反応を用いる事で合成することができる。即ち、分子内
に重合性二重結合基を含有するカルボン酸類、カルボン
酸エステル類、カルボン酸ハライド類又はカルボン酸無
水物類との反応でエステル化し、マクロモノマーを合成
する方法あるいは、分子内に重合性二重結合基を含有す
るモノイソシアナート類との反応でウレタン化し、マク
ロモノマーを合成する方法によって達せられる。具体的
には、日本化学会編「新実験化学講座14、有機化合物
の合成と反応〔II〕」、第5章、丸善(株)、(197
7年刊)、「同、有機化合物の合成と反応〔III 〕、第
1652頁、丸善(株)(1978年刊)等に詳細に記
載された方法を用いて合成することができる。
As a method of introducing a polymerizable double bond group only into the hydroxyl group at one end of the polyester oligomer, a reaction of esterifying an alcohol or a urethane of an alcohol in a conventionally known low molecular weight compound is used. Can be synthesized with. That is, a method of synthesizing a macromonomer by esterification by reaction with a carboxylic acid containing a polymerizable double bond group in the molecule, a carboxylic acid ester, a carboxylic acid halide or a carboxylic acid anhydride, or in the molecule This can be achieved by a method of urethanization by reaction with a monoisocyanate containing a polymerizable double bond group to synthesize a macromonomer. Specifically, the Chemical Society of Japan, "New Experimental Chemistry Course 14 , Synthesis and Reactions of Organic Compounds [II]", Chapter 5, Maruzen Co., Ltd. (197).
7 years), "Synthesis and Reactions of Organic Compounds [III], p. 1652, Maruzen Co., Ltd. (1978) and the like.

【0065】一般式(Ib)で示されるマクロモノマー
(M−1)は、分子内にヒドロキシル基を含有するカル
ボン酸類を自己重縮合反応によりポリエステルオリゴマ
ーを合成した後、一般式(Ia)のマクロモノマー合成
と同様の高分子反応でマクロモノマーを合成する方法
は、重合性二重結合基含有のカルボン酸類とラクトン類
のリビング重合反応で合成する方法によって、製造する
事ができる。具体的には、T.Yasuda, T.A
ida and S.Inoue, J.Macrom
ol.Sci.Chem., A, 21,1035
(1984), T.Yasuda, T.Aida
and S.Inoue, Macromolecul
es, 17,2217(1984), S.Sosn
owski,S.Stomkowski and S.
Penczek, Makromol. Chem.
188,1347(1987), Y.Gnanou
and P.Rempp., Makromol.Ch
em.188,2267(1987), T.Shio
ta and Y.Goto, J.Appl.Pol
ym.Sci., 11,753(1967)等に記載
の方法によって製造することができる。
The macromonomer (M-1) represented by the general formula (Ib) is obtained by synthesizing a polyester oligomer by a self-polycondensation reaction of a carboxylic acid having a hydroxyl group in the molecule, and then deriving the macromonomer of the general formula (Ia). A method for synthesizing a macromonomer by a polymer reaction similar to the monomer synthesis can be carried out by a method for synthesizing by a living polymerization reaction of a carboxylic acid having a polymerizable double bond group and a lactone. Specifically, T.W. Yasuda, T .; A
ida and S. Inoue, J .; Macrom
ol. Sci. Chem. , A, 21 , 1035
(1984), T.S. Yasuda, T .; Aida
and S. Inoue, Macromolecule
es, 17 , 2217 (1984), S.S. Sosn
owski, S .; Stomkowski and S.
Penczek, Makromol. Chem.
188 , 1347 (1987), Y. Gnanou
and P.D. Rempp. , Makromol. Ch
em. 188 , 2267 (1987), T.S. Shio
ta and Y. Goto, J .; Appl. Pol
ym. Sci. , 11 , 753 (1967) and the like.

【0066】以下に本発明に用いることのできる一般式
(Ia)又は(Ib)で表わされるマクロモノマー(M
−1)の具体例を以下に示す。しかしながら本発明の範
囲はこれらに限定されるものではない。但し、以下の各
例において、〔 〕内はマクロモノマーの重量平均分子
量を1×103 〜1.5×104 とするに十分な繰り返
し単位を示し、Q1 は上記と同様の内容を示し、Q4
−H又は−CH3 を示し、R45及びR46は同じでも異な
ってもよく各々−CH3 又は−C2 5 を示し、R47
びR48は同じでも異なってもよく各々−Cl、−Br、
−CH2 Cl又は−CH2 Brを示し、sは1〜25の
整数を示し、tは2〜12の整数を示し、uは2〜12
の整数を示し、xは2〜4の整数を示し、yは2〜6の
整数を示し、zは1〜4の整数を示す。
The macromonomer (M) represented by the general formula (Ia) or (Ib) that can be used in the present invention is described below.
Specific examples of -1) are shown below. However, the scope of the present invention is not limited to these. However, in each of the following examples, [] represents a repeating unit sufficient to make the weight average molecular weight of the macromonomer 1 × 10 3 to 1.5 × 10 4, and Q 1 represents the same contents as above. , Q 4 represents -H or -CH 3 , R 45 and R 46 may be the same or different and each represents -CH 3 or -C 2 H 5 , and R 47 and R 48 may be the same or different. -Cl, -Br,
Indicates -CH 2 Cl or -CH 2 Br, s is an integer of 1 to 25, t is an integer of 2 to 12, u is from 2 to 12
, X is an integer of 2 to 4, y is an integer of 2 to 6, and z is an integer of 1 to 4.

【0067】[0067]

【化23】 [Chemical formula 23]

【0068】[0068]

【化24】 [Chemical formula 24]

【0069】[0069]

【化25】 [Chemical 25]

【0070】[0070]

【化26】 [Chemical formula 26]

【0071】[0071]

【化27】 [Chemical 27]

【0072】[0072]

【化28】 [Chemical 28]

【0073】本発明の樹脂〔A−2〕に用いられるグラ
フト型共重合体の重合体成分として供せられる、一方の
末端に重合性二重結合基を、他の末端に水素原子、炭化
水素基または、−COR34基(R34は炭化水素基を示
す)を表すR32を各々結合した、ポリエステル構造を有
するマクロモノマー(M−2)について、更に具体的に
説明する。
A polymerizable double bond group is provided at one end and a hydrogen atom or a hydrocarbon is provided at the other end, which is provided as a polymer component of the graft copolymer used in the resin [A-2] of the present invention. The macromonomer (M-2) having a polyester structure, to which R 32 each representing a group or a —COR 34 group (R 34 represents a hydrocarbon group) is bonded, will be described more specifically.

【0074】まず、一般式(IIa)及び(IIb)につい
て具体的に説明する。一般式(IIa)及び(IIb)にお
いて、〔 〕内は、式(IIa)及び/又は(IIb)のマ
クロモノマーの重量平均分子量を1×103 〜1.5×
104 とするに十分な、繰り返し単位を表わす。一般式
(IIa)及び/又は(IIb)で示されるマクロモノマー
(M−2)において、f1 、f2 、Z1 、Z2 及びZ3
は前記記載の通りである。またX2 は前記X1 と同一の
内容を表わす。
First, the general formulas (IIa) and (IIb) will be specifically described. In the general formulas (IIa) and (IIb), the weight average molecular weight of the macromonomer of the formula (IIa) and / or (IIb) is in the range of [] is 1 × 10 3 to 1.5 ×.
It represents a repeating unit sufficient to give 10 4 . In the macromonomer (M-2) represented by the general formula (IIa) and / or (IIb), f 1 , f 2 , Z 1 , Z 2 and Z 3
Is as described above. X 2 has the same contents as X 1 .

【0075】更に、Y2 はX2 とV1 とを連結する基を
表わし、具体的には前記Y1 と同様の内容を表わす。V
1 は−CH2 −、−O−又は−NH−を表わす。R32
水素原子、炭化水素基又は−COR34を表わす。炭化水
素基としては、炭素数1〜18の置換されてもよいアル
キル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル
基、テトラデシル基、オクタデシル基、2−メトキシエ
チル基、3−メトキシエチル基、2−シアノエチル基、
2−エトキシエチル基等)、炭素数7〜9の置換されて
もよいアラルキル基(例えばベンジル基、フェネチル
基、3−フェニルプロピル基、メチルベンジル基、ジメ
チルベンジル基、メトキシベンジル基、クロロベンジル
基等)、炭素数5〜8の脂環式基(例えばシクロペンチ
ル基、シクロヘキシル基等)、炭素数6〜12の置換さ
れてもよい芳香族基(例えば、フェニル基、トリル基、
キシリル基、ナフチル基、クロロフェニル基、ブロモフ
ェニル基、アルコキシフェニル基(アルキル基として
は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキ
シル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基
等)、アセトキシフェニル基、メチル−クロロ−フェニ
ル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、デシル
フェニル基等)等を表わす。
Further, Y 2 represents a group connecting X 2 and V 1, and specifically has the same contents as Y 1 . V
1 -CH 2 -, - O- or represent -NH-. R 32 represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group or —COR 34 . As the hydrocarbon group, an optionally substituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, tetradecyl group, octadecyl group) , 2-methoxyethyl group, 3-methoxyethyl group, 2-cyanoethyl group,
2-ethoxyethyl group, etc.), aralkyl group having 7 to 9 carbon atoms and which may be substituted (for example, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, methylbenzyl group, dimethylbenzyl group, methoxybenzyl group, chlorobenzyl group) Etc.), an alicyclic group having 5 to 8 carbon atoms (for example, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, etc.), an optionally substituted aromatic group having 6 to 12 carbon atoms (for example, a phenyl group, a tolyl group,
Xylyl group, naphthyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, alkoxyphenyl group (as alkyl group, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, dodecyl group, etc.) , Acetoxyphenyl group, methyl-chloro-phenyl group, propylphenyl group, butylphenyl group, decylphenyl group, etc.) and the like.

【0076】−COR34基におけるR34は炭化水素基を
表わし、具体的にはR32の炭化水素基と同一の内容を表
わす。一般式(IIa)及び一般式(IIb)におけるCH
(f1 )=C(f2 )−X2−Y2 −V1 −で表わされ
る部分の具体例として各々次のものが挙げられるが、こ
れらに限定されるものではない。但し、以下の各例にお
いて、Q1 及びQ2 は前記と同一の内容を示し、Xは−
Cl又は−Brを示し、nは2〜12の整数を示し、z
は1〜4の整数を示す。
R 34 in the —COR 34 group represents a hydrocarbon group, and specifically has the same content as the hydrocarbon group for R 32 . CH in the general formula (IIa) and the general formula (IIb)
Specific examples of the moiety represented by (f 1 ) = C (f 2 ) -X 2 —Y 2 —V 1 — include, but are not limited to, the following. However, in each of the following examples, Q 1 and Q 2 have the same contents as described above, and X is −
Cl or -Br is shown, n shows the integer of 2-12, z
Represents an integer of 1 to 4.

【0077】[0077]

【化29】 [Chemical 29]

【0078】[0078]

【化30】 [Chemical 30]

【0079】マクロモノマー(M−2)におけるZ1
びZ2 の具体的な例としては、前記マクロモノマー(M
−1)にて挙げたものと同様のものを挙げることができ
る。一般式(IIa)で示されるマクロモノマー(M−
2)は、高分子学会編、「高分子データハンドブック
〔基礎編〕」(1986年刊)培風館等に例示される、
ジオール類とジカルボン酸類、ジカルボン酸無水物又は
ジカルボン酸エステル類との重縮合反応によって合成さ
れた、重量平均分子量1×103 〜1.5×104 のポ
リエステルオリゴマーの片末端のカルボキシル基におい
てのみ、高分子反応により、重合性二重結合基を導入す
る方法で容易に製造する事ができる。
Specific examples of Z 1 and Z 2 in the macromonomer (M-2) include the macromonomer (M
The same as those mentioned in -1) can be mentioned. The macromonomer represented by the general formula (IIa) (M-
2) is exemplified in "Polymer Data Handbook [Basic]" edited by The Society of Polymer Science, Japan (1986), Baifukan, etc.
Polyester oligomer having a weight average molecular weight of 1 × 10 3 to 1.5 × 10 4 synthesized by a polycondensation reaction of a diol and a dicarboxylic acid, a dicarboxylic acid anhydride or a dicarboxylic acid ester, only at a carboxyl group at one end It can be easily produced by a method of introducing a polymerizable double bond group by a polymer reaction.

【0080】ポリエステルの合成法は、従来公知の重縮
合反応によって合成されるが、具体的には、滝山栄一郎
「ポリエステル樹脂ハンドブック」日刊工業新聞社(1
986年刊)、高分子学会編「重縮合と重付加」共立出
版(1980年刊)、I.Goodman 「Ency
clopedia of Polymer Scien
ce and Engineering Vol 1
2」 p1. JohnWiley & Sons
(1985年刊)等に記載の方法に従って合成すること
ができる。
The polyester is synthesized by a conventionally known polycondensation reaction. Specifically, specifically, Eiichiro Takiyama “Polyester Resin Handbook”, Nikkan Kogyo Shimbun (1
986), "Polycondensation and Polyaddition" edited by The Society of Polymer Science, Kyoritsu Shuppan (1980), I.S. Goodman "Ency
Clopedia of Polymer Science
ce and Engineering Vol 1
2 ”p1. John Wiley & Sons
(Published in 1985) and the like.

【0081】ポリエステルオリゴマーの片末端のカルボ
キシル基のみに重合性二重結合基を導入する方法は、従
来公知の低分子化合物におけるカルボン酸類からエステ
ル化する反応あるいはカルボン酸類から酸アミド化する
反応を用いる事で合成することができる。即ち、分子内
に重合性二重結合基を含有し且つカルボキシル基と化学
反応する官能基としては、例えば、−OH基、ハロゲン
体(塩化物、臭化物、ヨウ化物)、−NH2 、−COO
51(R51は、メチル基、トリフロロメチル基、2,
2,2−トリフロロエチル基等)とともに下記化31の
もの等を含有する化合物とポリエステルオリゴマーを高
分子反応する事で該マクロモノマーが合成される。
As a method for introducing a polymerizable double bond group only to the carboxyl group at one end of the polyester oligomer, a reaction of esterifying a carboxylic acid or an acid amidation of a carboxylic acid in a conventionally known low molecular weight compound is used. Things can be combined. That is, as the functional group containing a polymerizable double bond group in the molecule and chemically reacting with the carboxyl group, for example, —OH group, halogen compounds (chloride, bromide, iodide), —NH 2 , —COO.
R 51 (R 51 is a methyl group, a trifluoromethyl group, 2,
The macromonomer is synthesized by polymer-reacting a compound containing a compound such as 2,2-trifluoroethyl group) and a compound represented by the following Chemical formula 31, with a polyester oligomer.

【0082】[0082]

【化31】 [Chemical 31]

【0083】具体的には、日本化学会編「新実験化学講
14,有機化合物の合成と反応〔II〕」、第5章、丸
善(株)、(1977年刊)、岩倉義男、栗田恵輔著、
「反応性高分子」講談社(1977年刊)等に記載の方
法を用いて合成することができる。一般式(IIb)で示
されるマクロモノマー(M−2)は、分子内にヒドロキ
シル基を含有するカルボン酸類を自己重縮合反応により
ポリエステルオリゴマーを合成した後、一般式(IIa)
のマクロモノマー合成と同様の高分子反応でマクロモノ
マーを合成する方法によって製造する事ができる。
Specifically, edited by The Chemical Society of Japan, "New Experimental Chemistry Course 14 , Synthesis and Reaction of Organic Compounds [II]", Chapter 5, Maruzen Co., Ltd. (Published in 1977), Yoshio Iwakura, Keisuke Kurita. ,
“Reactive polymer” can be synthesized by the method described in Kodansha (published in 1977) and the like. The macromonomer (M-2) represented by the general formula (IIb) is obtained by synthesizing a polyester oligomer by a self-polycondensation reaction of carboxylic acids having a hydroxyl group in the molecule, and then synthesizing the general formula (IIa)
It can be produced by a method of synthesizing a macromonomer by a polymer reaction similar to that of the macromonomer synthesis.

【0084】更に式(IIa)又は(IIb)で示されるマ
クロモノマー(M−2)の具体的な例として、以下にそ
の化合物例を示す。しかしながら本発明の範囲はこれら
に限定されるものではない。但し、以下の各例におい
て、〔 〕内はマクロモノマー(M−2)の重量平均分
子量1×103 〜1.5×104 とするに十分な繰り返
し単位を示し、Q4 は−H又は−CH3 を示し、R45
びR46は同じでも異なってもよく、各々−CH3 又は−
2 5 を示し、R49は−CH3 、−C2 5 、−C3
7 又は−C4 9 を示し、Yは−Cl又は−Brを示
し、W10は−O−又は−S−を示し、s1 は2〜12の
整数を示し、t1 は1〜25の整数を示し、uは2〜1
2の整数を示し、t2は2〜16の整数を示し、t3は1〜
4の整数を示し、t4は0.1又は2を示す。
Further, specific examples of the macromonomer (M-2) represented by the formula (IIa) or (IIb) are shown below. However, the scope of the present invention is not limited to these. However, in each of the following examples, [] indicates a repeating unit sufficient to make the weight average molecular weight of the macromonomer (M-2) 1 × 10 3 to 1.5 × 10 4, and Q 4 is -H or Represents —CH 3 , R 45 and R 46 may be the same or different, and each is —CH 3 or —
Shows the C 2 H 5, R 49 is -CH 3, -C 2 H 5, -C 3
Indicates H 7 or -C 4 H 9, Y represents a -Cl or -Br, W 10 represents -O- or -S-, s1 is an integer of 2 to 12, t1 is 1 to 25 Indicates an integer, u is 2-1
2 is an integer, t2 is an integer of 2 to 16, and t3 is 1 to
4 represents an integer of 4 and t4 represents 0.1 or 2.

【0085】[0085]

【化32】 [Chemical 32]

【0086】[0086]

【化33】 [Chemical 33]

【0087】[0087]

【化34】 [Chemical 34]

【0088】[0088]

【化35】 [Chemical 35]

【0089】[0089]

【化36】 [Chemical 36]

【0090】本発明の樹脂〔A−3〕に用いられるグラ
フト型共重合体の重合体成分として供せられる、一方の
末端に重合性二重結合基を、他の末端に水素原子、炭化
水素基または−COR34(R34は炭化水素基を示す)を
表すR32を各々結合したポリエーテル構造を有するマク
ロモノマー(M−3)について、更に具体的に説明す
る。まず一般式(III) について、具体的に説明する。一
般式(III)で示されるマクロモノマー(M−3)におい
て、f1 、f2 は、前記記載の通りであり、X3 は前記
1 及びX2 と同様の内容を表わす。Y3 はX3 と−O
−を連結する基を表わし、単結合又はヘテロ原子を介し
てもよい二価の連結基を表わす(ヘテロ原子としては酸
素原子、イオウ原子、ケイ素原子又は窒素原子等を示
す)。
A polymerizable double bond group is provided at one end and a hydrogen atom or a hydrocarbon is provided at the other end, which is used as a polymer component of the graft copolymer used in the resin [A-3] of the present invention. The macromonomer (M-3) having a polyether structure in which R 32 each representing a group or —COR 34 (R 34 represents a hydrocarbon group) is bonded will be described more specifically. First, the general formula (III) will be specifically described. In the macromonomer (M-3) represented by the general formula (III), f 1 and f 2 are as described above, and X 3 has the same content as X 1 and X 2 . Y 3 is X 3 and -O
Represents a group connecting-, and represents a single bond or a divalent linking group optionally having a hetero atom (as a hetero atom, an oxygen atom, a sulfur atom, a silicon atom, a nitrogen atom or the like is shown).

【0091】Y3 として、例えば−C(i1 )(i2
−、−C6 10−、−C6 4 −、−(CH=CH)
−、−O−、−S−、−N(k5 )−、−COO−、−
CONH−、−SO2 −、−Si(i3 )(i4 )−、
−SO2 NH−、−NHCOO−、−NHCONH−、
等の結合単位の単独又は組合せの構成より成るものであ
る(但しi1 、i2 は同じでも異なってもよく各々、水
素原子、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子)、
ヒドロキシル基、シアノ基、炭素数1〜12の脂肪族基
(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、
ベンジル基、フェネチル基、2−クロロエチル基、2−
シアノエチル基等)を表わす。)。i3 、i4 は同じで
も異なってもよく、炭素数1〜12の脂肪族基(具体的
にはi1 、i2 の脂肪族基と同一の内容が挙げられ
る)、炭素数6〜12の芳香族基(例えばフェニル基、
トリル基、キシリル基、メトキシフェニル基、クロロフ
ェニル基、ナフチル基等)又は−OR53基(R53は炭化
水素基を表わし、具体的にはi3 、i4 における脂肪族
基、芳香族基が挙げられる)を表わす。
As Y 3 , for example, -C (i 1 ) (i 2 )
-, - C 6 H 10 - , - C 6 H 4 -, - (CH = CH)
-, - O -, - S -, - N (k 5) -, - COO -, -
CONH -, - SO 2 -, - Si (i 3) (i 4) -,
-SO 2 NH -, - NHCOO - , - NHCONH-,
And the like, each consisting of a single or a combination of bonding units (provided that i 1 and i 2 may be the same or different, respectively, a hydrogen atom, a halogen atom (eg chlorine atom, bromine atom),
Hydroxyl group, cyano group, aliphatic group having 1 to 12 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group,
Benzyl group, phenethyl group, 2-chloroethyl group, 2-
A cyanoethyl group). ). i 3 and i 4 may be the same or different, and are an aliphatic group having 1 to 12 carbon atoms (specifically, the same content as the aliphatic group having i 1 and i 2 can be mentioned), and 6 to 12 carbon atoms. Aromatic groups (eg, phenyl groups,
A tolyl group, a xylyl group, a methoxyphenyl group, a chlorophenyl group, a naphthyl group or the like) or an —OR 53 group (R 53 represents a hydrocarbon group, and specifically, an aliphatic group or an aromatic group at i 3 and i 4 is Can be mentioned).

【0092】k5 は水素原子のほか、好ましい炭化水素
基としては、炭素数1〜18の置換されてもよいアルキ
ル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル
基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、2
−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−シアノエ
チル基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−メトキ
シエチル基、3−ブロモプロピル基等)、炭素数4〜1
8の置換されてもよいアルケニル基(例えば、2−メチ
ル−1−プロペニル基、2−ブテニル基、2−ペンテニ
ル基、3−メチル−2−ペンテニル基、1−ペンテニル
基、1−ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、4−メチル
−2−ヘキセニル基等)、炭素数7〜12の置換されて
もよいアラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネチル
基、3−フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、2−
ナフチルエチル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル
基、メチルベンジル基、エチルベンジル基、メトキシベ
ンジル基、ジメチルベンジル基、ジメトキシベンジル基
等)、炭素数5〜8の置換されてもよい脂環式基(例え
ば、シクロヘキシル基、2−シクロヘキシルエチル基、
2−シクロペンチルエチル基等)、又は、炭素数6〜1
2の置換されてもよい芳香族基(例えば、フェニル基、
ナフチル基、トリル基、キシリル基、プロピルフェニル
基、ブチルフェニル基、オクチルフェニル基、ドデシル
フェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル
基、ブトキシフェニル基、デシルオキシフェニル基、ク
ロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル
基、シアノフェニル基、アセチルフェニル基、メトキシ
カルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル
基、ブトキシカルボニルフェニル基、アセトアミドフェ
ニル基、プロピオアミドフェニル基、ドデシロイルアミ
ドフェニル基等)があげられる。
In addition to a hydrogen atom, k 5 is preferably a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms which may be substituted (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group, hexyl group). Group, octyl group, decyl group, dodecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, 2
-Chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-methoxyethyl group, 3-bromopropyl group, etc.), carbon number 4 to 1
8 optionally substituted alkenyl groups (eg, 2-methyl-1-propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2-pentenyl group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 4-methyl-2-hexenyl group, etc.), and optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (for example, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-
Naphthylethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, ethylbenzyl group, methoxybenzyl group, dimethylbenzyl group, dimethoxybenzyl group, etc.), alicyclic group having 5 to 8 carbon atoms which may be substituted ( For example, a cyclohexyl group, a 2-cyclohexylethyl group,
2-cyclopentylethyl group) or a carbon number of 6 to 1
2 optionally substituted aromatic groups (eg, phenyl groups,
Naphthyl group, tolyl group, xylyl group, propylphenyl group, butylphenyl group, octylphenyl group, dodecylphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, butoxyphenyl group, decyloxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, bromophenyl Group, cyanophenyl group, acetylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, acetamidophenyl group, propioamidophenyl group, dodecyloylamidophenyl group and the like).

【0093】Wは−CH(α1 )−CH(α2 )−又は
−(CH2 4 −を表わす{但し、α1 、α2 は互いに
同じでも異なってもよく、水素原子又は炭素数1〜8の
アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基、ヘキシル基、オクチル基等)を表わす}。
〔 〕内は繰り返し単位を表わし、αは1〜3の整数を
表わす。但し、αが2以上のときは、〔 〕内のWは少
なくとも隣りの〔 〕内のWと異なる基を表わし、例え
ば、以下の如き組合せが考えられる(以下の各例におい
て、W1 、W2及びW3 は各々異なる基を表わし、Wと
同一の内容を表わす)。
[0093] W is -CH (α 1) -CH (α 2) - or - (CH 2) 4 - {However represent, alpha 1, alpha 2, which may be the same or different, a hydrogen atom or a carbon atoms 1-8 alkyl groups (eg methyl, ethyl, propyl,
Butyl group, hexyl group, octyl group, etc.)}.
[] Represents a repeating unit, and [alpha] represents an integer of 1 to 3. However, when α is 2 or more, W in [] represents a group different from at least W in adjacent [], and for example, the following combinations are possible (in each of the following examples, W 1 , W 2 and W 3 each represent a different group and represent the same contents as W).

【0094】[0094]

【化37】 [Chemical 37]

【0095】〔式中、R33は前記R32と同様の内容を表
わす。〕一般式(III)におけるマクロモノマーのCH
(f1 )=C(f2 )−X3 −Y3 −で表わされる部分
の具体例として、次の例が挙げられるが、これらに限定
されるものではない。また、以下の各例において、f11
は−H、−CH3 、−CH2 COOCH3 、−Cl、−
Br又は−CNを表わし、f12は−H又は−CH3を表
わし、n1は1又は2の整数を表わし、n2は2〜12の整
数を表わし、n3は3又は4の整数を表わす。
[In the formula, R 33 represents the same content as R 32 described above. CH of Macromonomer in General Formula (III)
Specific examples of the portion represented by (f 1 ) = C (f 2 ) —X 3 —Y 3 — include the following examples, but the invention is not limited thereto. In each of the following examples, f 11
It is -H, -CH 3, -CH 2 COOCH 3, -Cl, -
Br or represents -CN, f 12 represents -H or -CH 3, n1 represents an integer of 1 or 2, n2 represents an integer of 2 to 12, n3 represents an integer of 3 or 4.

【0096】[0096]

【化38】 [Chemical 38]

【0097】[0097]

【化39】 [Chemical Formula 39]

【0098】一般式(III)で示されるポリエーテル型の
マクロモノマー(M−3)は、従来公知の合成法によっ
て製造することができる。即ち、カルボン酸類又はアル
コール類とエポキシサイド類あるいはテトラヒドロフラ
ン類とのカチオン重合により合成する方法により得られ
る。具体的には、P.F.Rempp and E.F
ranta, Adv:Polym.Sci.58,3
(1984), R.Asami, M.Takak
i, K.Kita and E.Asakura,
Makvomol.Chem.186,685(198
5), R.Asami and M.Takaki,
Makvomol.Chem.Suppl.,
,163(1985), P.Rempp, P.L
utz, P.Masson and E.Frant
a, Makromol.Chem., Suppl.
,3(1984),相田卓三,井上祥平,有機合成協
会誌、43,300(1985)等に記載の合成法によ
って合成することができる。
The polyether type macromonomer (M-3) represented by the general formula (III) can be produced by a conventionally known synthesis method. That is, it can be obtained by a method of synthesizing by cationic polymerization of carboxylic acids or alcohols with epoxysides or tetrahydrofuran. Specifically, P. F. Remp and E. F
ranta, Adv: Polym. Sci. 58,3
(1984), R.S. Asami, M .; Takak
i, K. Kita and E. Asakura,
Makvomol. Chem. 186 , 685 (198
5), R.A. Asami and M.D. Takaki,
Makvomol. Chem. Suppl. , 1
2 , 163 (1985), p. Rempp, P.P. L
utz, P.P. Masson and E. Frant
a, Makromol. Chem. , Suppl.
8 , 3 (1984), Takuzo Aida, Shohei Inoue, Journal of Organic Synthesis Society, 43 , 300 (1985) and the like.

【0099】以下に、本発明に供される一般式(III)で
示されるマクロモノマー(M−3)についての具体例を
示すが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではな
い。また、各例において、f11、f12、n1、n2、n3は前
記と同一の内容を表わす。
Specific examples of the macromonomer (M-3) represented by the general formula (III) used in the present invention are shown below, but the scope of the present invention is not limited thereto. Further, in each example, f 11 , f 12 , n1, n2, and n3 have the same contents as described above.

【0100】[0100]

【化40】 [Chemical 40]

【0101】[0101]

【化41】 [Chemical 41]

【0102】[0102]

【化42】 [Chemical 42]

【0103】本発明の結着樹脂に用いられる樹脂〔A〕
は、前記した一般式(Ia)、(Ib)、(IIa)、
(IIb)及び(III)から選択される少なくとも1つのマ
クロモノマーを重合体成分とするグラフト型共重合体で
あり、他の重合体成分としては、前記した結着樹脂の物
性を満足し、且つ該マクロモノマーとラジカル共重合し
得る単量体であればいずれでもよい。
Resin used for the binder resin of the present invention [A]
Is the above general formula (Ia), (Ib), (IIa),
(IIb) and (III) is a graft-type copolymer containing at least one macromonomer as a polymer component, and the other polymer component satisfies the above-mentioned physical properties of the binder resin, and Any monomer may be used as long as it can be radically copolymerized with the macromonomer.

【0104】この樹脂〔A〕において、マクロモノマー
(M)と共重合する成分として、前記一般式(IV)で示
される単量体が好ましい。式(IV)において、b1 及び
2 は各々水素原子、ハロゲン原子(例えば塩素原子、
臭素原子)、シアノ基又は炭素数1〜4のアルキル基
(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等)等を表す。
In this resin [A], the monomer represented by the above general formula (IV) is preferable as a component to be copolymerized with the macromonomer (M). In the formula (IV), b 1 and b 2 are each a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a chlorine atom,
Bromine atom), a cyano group, or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, etc.) and the like.

【0105】R4 は炭化水素基を表し、具体的にはアル
キル基、アラルキル基又は芳香族基を表し、好ましくは
ベンゼン環又はナフタレン環を含有する炭化水素基であ
るアラルキル基又は芳香族基である。
R 4 represents a hydrocarbon group, specifically an alkyl group, an aralkyl group or an aromatic group, preferably an aralkyl group or an aromatic group which is a hydrocarbon group containing a benzene ring or a naphthalene ring. is there.

【0106】更に、R4 は好ましくは炭素数1〜18の
置換されていてもよい炭化水素基を表わす。重合体主鎖
中には、−PO3 2 、−SO3 H、−OH、−COO
H、−P(=O)(OH)R1 (R1 は上記と同一の内
容を表す)、環状酸無水物基、−SH、−CONH2
び−SO2 NH2 の極性基を含有する共重合成分を含有
しないものが好ましく、従って、置換基としては樹脂
〔A〕における上記該極性基含有の重合体成分に含有さ
れる前記極性基以外の置換基を挙げることができ、例え
ば、ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素
原子等)、−OZ6 、−COOZ6 、−OCOZ6 (Z
6 は炭素数1〜22のアルキル基を表わし、例えばメチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、
オクチル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、
オクタデシル基等である)等の置換基が挙げられる。好
ましい炭化水素基としては、炭素数1〜18の置換され
てもよいアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチ
ル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタ
デシル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、
2−シアノエチル基、2−メトキシカルボニルエチル
基、2−メトキシエチル基、3−ブロモプロピル基
等)、炭素数4〜18の置換されてもよいアルケニル基
(例えば、2−メチル−1−プロペニル基、2−ブテニ
ル基、2−ぺンテニル基、3−メチル−2−ぺンテニル
基、1−ぺンテニル基、1−ヘキセニル基、2−ヘキセ
ニル基、4−メチル−2−ヘキセニル基等)、炭素数7
〜12の置換されてもよいアラルキル基(例えば、ベン
ジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、ナフ
チルメチル基、2−ナフチルエチル基、クロロベンジル
基、ブロモベンジル基、メチルベンジル基、エチルベン
ジル基、メトキシベンジル基、ジメチルベンジル基、ジ
メトキシベンジル基等)、炭素数5〜8の置換されても
よい脂環式基(例えば、シクロヘキシル基、2−シクロ
ヘキシルエチル基、2−シクロぺンチルエチル基等)又
は炭素数6〜12の置換されてもよい芳香族基(例え
ば、フェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、
プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、オクチルフェ
ニル基、ドデシルフェニル基、メトキシフェニル基、エ
トキシフェニル基、ブトキシフェニル基、デシルオキシ
フェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、
ブロモフェニル基、シアノフェニル基、アセチルフェニ
ル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボ
ニルフェニル基、ブトキシカルボニルフェニル基、アセ
トアミドフェニル基、プロピオアミドフェニル基、ドデ
シロイルアミドフェニル基等)等が挙げられる。
Further, R 4 preferably represents an optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms. During the polymer backbone, -PO 3 H 2, -SO 3 H, -OH, -COO
H, -P (= O) (OH) R 1 (R 1 has the same meaning as described above), cyclic acid anhydride group, and polar groups such as -SH, -CONH 2 and -SO 2 NH 2. Those which do not contain a copolymerization component are preferable, and therefore, the substituent may be a substituent other than the polar group contained in the polar group-containing polymer component in the resin [A]. atom (e.g. fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, etc.), - OZ 6, -COOZ 6 , -OCOZ 6 (Z
6 represents an alkyl group having 1 to 22 carbon atoms, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group,
Octyl group, decyl group, dodecyl group, hexadecyl group,
A substituent such as an octadecyl group). The preferred hydrocarbon group is an optionally substituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, Hexadecyl group, octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group,
2-cyanoethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-methoxyethyl group, 3-bromopropyl group, etc., alkenyl group having 4 to 18 carbon atoms which may be substituted (for example, 2-methyl-1-propenyl group) , 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2-pentenyl group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 4-methyl-2-hexenyl group, etc.), carbon Number 7
To 12 optionally substituted aralkyl groups (eg, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, ethylbenzyl group) , Methoxybenzyl group, dimethylbenzyl group, dimethoxybenzyl group, etc.) and alicyclic groups having 5 to 8 carbon atoms which may be substituted (eg, cyclohexyl group, 2-cyclohexylethyl group, 2-cyclopentylethyl group, etc.) Or an optionally substituted aromatic group having 6 to 12 carbon atoms (eg, phenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group,
Propylphenyl group, butylphenyl group, octylphenyl group, dodecylphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, butoxyphenyl group, decyloxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group,
Bromophenyl group, cyanophenyl group, acetylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, acetamidophenyl group, propioamidophenyl group, dodecyloylamidophenyl group and the like).

【0107】このような置換基R4 を有する成分である
一般式(IV)の繰り返し単位において、より好ましくは
下記一般式(IVa)及び/又は一般式(IVb)で示され
る、2位に、及び/又は2位と6位に特定の置換基を有
するベンゼン環又は無置換のナフタレン環を含有する、
特定の置換基をもつメタクリレート成分であることが好
ましい(以降この低分子量体をとくに樹脂〔AA〕と称
する)。
In the repeating unit of the general formula (IV) which is a component having such a substituent R 4 , more preferably at the 2-position represented by the following general formula (IVa) and / or general formula (IVb), And / or containing a benzene ring or a naphthalene ring having a specific substituent at the 2- and 6-positions,
A methacrylate component having a specific substituent is preferred (hereinafter, this low molecular weight product is particularly referred to as resin [AA]).

【0108】[0108]

【化43】 [Chemical 43]

【0109】[0109]

【化44】 [Chemical 44]

【0110】〔式(IVa)及び(IVb)中、A1 及びA
2 は互いに独立に、それぞれ水素原子、炭素数1〜10
の炭化水素基、ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素
原子)、シアノ基、−COZ10又は−COOZ10( Z10
は炭素数1〜10の炭化水素基を示す)を表す。B1
びB2 はそれぞれ−COO−とベンゼン環を結合する、
単結合又は連結原子数1〜4個の連結基を表わす。〕上
記特定の樹脂〔AA〕を用いると樹脂〔A〕の場合より
もより一層電子写真特性(特にV10、D.R.R.、E
1/10)の向上が達成できる。
[In the formulas (IVa) and (IVb), A 1 and A
2 are each independently a hydrogen atom and a carbon number of 1-10.
Hydrocarbon group, halogen atom (for example, chlorine atom, bromine atom), cyano group, —COZ 10 or —COOZ 10 (Z 10
Represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms). B 1 and B 2 respectively bond —COO— and a benzene ring,
It represents a single bond or a connecting group having 1 to 4 connecting atoms. ] When the above-mentioned specific resin [AA] is used, the electrophotographic properties (particularly V 10 , DRR, E) are further improved as compared with the case of the resin [A].
1/10 ) improvement can be achieved.

【0111】この事の理由は不明であるが、1つの理由
として、メタクリレートのエステル成分である、オルト
位に置換基を有する平面性のベンゼン環又はナフタレン
環の効果により、膜中の酸化亜鉛界面でのこれらポリマ
ー分子鎖の配列が適切に行なわれることによるものと考
えられる。
The reason for this is not clear, but one reason is that the effect of a planar benzene ring or naphthalene ring having a substituent at the ortho position, which is an ester component of methacrylate, causes the zinc oxide interface in the film. It is considered that the arrangement of these polymer molecular chains in 1 is appropriately performed.

【0112】式(IVa)において、好ましいA1 及びA
2 として、互いに独立に各々水素原子、ハロゲン原子
(例えば、塩素原子、臭素原子)及びシアノ基の外に、
炭素数1〜10の炭化水素基として、好ましくは炭素数
1〜4のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基、炭素数7〜9のアラルキル基(例え
ばベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル
基、クロロベンジル基、ジクロロベンジル基、ブロモベ
ンジル基、メチルベンジル基、メトキシベンジル基、ク
ロロメチルベンジル基)及びアリール基(例えばフェニ
ル基、トリル基、キシリル基、ブロモフェニル基、メト
キシフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル
基)、並びに−COZ10及び−COOZ10( 好ましいZ
10としては上記の炭素数1〜10の好ましい炭化水素基
として記載したものを挙げることができる)を挙げるこ
とができる。
In formula (IVa), preferred A 1 and A
2 independently of each other, in addition to a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a chlorine atom, a bromine atom) and a cyano group,
As the hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, aralkyl group having 7 to 9 carbon atoms (eg, benzyl group, phenethyl group). , 3-phenylpropyl group, chlorobenzyl group, dichlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, methoxybenzyl group, chloromethylbenzyl group) and aryl groups (for example, phenyl group, tolyl group, xylyl group, bromophenyl group, methoxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group), and -COZ 10 and -COOZ 10 (preferably Z
Examples of 10 include those described as the above-mentioned preferred hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms).

【0113】式(IVa)及び(IVb)において、B1
びB2 は各々−COO−とベンゼン環を結合する単結合
又は−(CH2 ) e −(eは1〜3の整数を表す)、−
CH2 OCO−、−CH2 CH2 OCO−、−(CH2
O) f −(fは1又は2の整数を表す)、−CH2 CH
2 O−等の如き連結原子数1〜4個の連結基であり、よ
り好ましくは単結合又は結合原子数1〜2個の連結基を
挙げることができる。
In the formulas (IVa) and (IVb), B 1 and B 2 are each a single bond connecting —COO— and a benzene ring or — (CH 2 ) e — (e represents an integer of 1 to 3). ,-
CH 2 OCO -, - CH 2 CH 2 OCO -, - (CH 2
O) f - (f is an integer of 1 or 2), - CH 2 CH
A connecting group having 1 to 4 connecting atoms such as 2 O- and the like, more preferably a single bond or a connecting group having 1 to 2 connecting atoms can be mentioned.

【0114】本発明の樹脂〔A〕で用いられる式(IV
a)又は(IVb)で示される繰り返し単位の重合体成分
の具体例を以下に挙げる。しかし、本発明の範囲はこれ
に限定されるものではない。
Formula (IV) used in the resin [A] of the present invention
Specific examples of the polymer component of the repeating unit represented by a) or (IVb) are shown below. However, the scope of the present invention is not limited to this.

【0115】[0115]

【化45】 [Chemical formula 45]

【0116】[0116]

【化46】 [Chemical formula 46]

【0117】[0117]

【化47】 [Chemical 47]

【0118】[0118]

【化48】 [Chemical 48]

【0119】[0119]

【化49】 [Chemical 49]

【0120】一般式(IV)で示される単量体を共重合体
成分として、共重合体中の20重量%〜99.5重量%
含有する。更には、本発明のグラフト型共重合体におい
て上記マクロモノマー(M)と共重合する成分として
は、一般式(IV)、(IVa)又は(IVb)以外の単量体
であってもよく、例えば一般式(IV)で説明した以外の
置換基を含有するメタクリル酸エステル類、アクリル酸
エステル類、クロトン酸エステル類に加え、α−オレフ
ィン類、カルボン酸ビニル又はアリル酸エステル類(例
えばカルボン酸として、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉
草酸、安息香酸、ナフタレンカルボン酸等)、アクリロ
ニトリル、メタクリロニトリル、ビニルエーテル類、イ
タコン酸エステル類(例えばジメチルエステル、ジエチ
ルエステル等)、アクリルアミド類、メタクリルアミド
類、スチレン類(例えばスチレン、ビニルトルエン、ク
ロロスチレン、ヒドロキシスチレン、N,N−ジメチル
アミノメチルスチレン、メトキシカルボニルスチレン、
メタンスルホニルオキシスチレン、ビニルナフタレン
等)、ビニルスルホン含有化合物、ビニルケトン含有化
合物、複素環ビニル類(例えばビニルピロリドン、ビニ
ルピリジン、ビニルイミダゾール、ビニルチオフェン、
ビニルイミダゾリン、ビニルピラゾール、ビニルジオキ
サン、ビニルキノリン、ビニルテトラゾール、ビニルオ
キサジン等)等が挙げられる。好ましい例としては、炭
素数1〜3のアルカン酸ビニル又はアリルエステル類、
アクリロニトリル、メタクリロニトリル、スチレン及び
スチレン誘導体(例えばビニルトルエン、ブチルスチレ
ン、メトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチ
レン、ブロモスチレン、エトキシスチレン等)等が挙げ
られる。
20% by weight to 99.5% by weight in the copolymer, using the monomer represented by the general formula (IV) as a copolymer component.
contains. Furthermore, the component copolymerizable with the macromonomer (M) in the graft copolymer of the present invention may be a monomer other than the general formula (IV), (IVa) or (IVb), For example, in addition to methacrylic acid esters, acrylic acid esters, and crotonic acid esters containing a substituent other than those described in the general formula (IV), α-olefins, vinyl carboxylates or allyl acid esters (for example, carboxylic acid As, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, benzoic acid, naphthalenecarboxylic acid, etc.), acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl ethers, itaconic acid esters (eg, dimethyl ester, diethyl ester, etc.), acrylamides, methacrylamides , Styrenes (eg styrene, vinyltoluene, chlorostyrene, hydroxystyrene , N, N-dimethylaminomethylstyrene, methoxycarbonylstyrene,
Methanesulfonyloxystyrene, vinylnaphthalene, etc.), vinylsulfone-containing compounds, vinylketone-containing compounds, heterocyclic vinyls (eg vinylpyrrolidone, vinylpyridine, vinylimidazole, vinylthiophene,
Vinyl imidazoline, vinyl pyrazole, vinyl dioxane, vinyl quinoline, vinyl tetrazole, vinyl oxazine and the like). As a preferable example, vinyl alkanoate having 1 to 3 carbon atoms or allyl ester,
Examples thereof include acrylonitrile, methacrylonitrile, styrene and styrene derivatives (for example, vinyltoluene, butylstyrene, methoxystyrene, chlorostyrene, dichlorostyrene, bromostyrene, ethoxystyrene, etc.).

【0121】これら他の単量体は、樹脂〔A〕における
共重合体中において、30重量%を越えない方が好まし
い。又、本発明の樹脂〔A〕は、さらに、重合体主鎖の
片末端に前記の極性基を結合して成る樹脂であることが
好ましい(樹脂〔A’〕)が、重合体主鎖片末端に結合
される極性基の具体的内容については、−PO3 2
−SO3 H、−OH、−COOH、−P(=O)(O
H)R1 、環状酸無水物基、−SH、−CONH2 、−
SO2 NH2 が挙げられる。
It is preferable that these other monomers do not exceed 30% by weight in the copolymer of the resin [A]. Further, the resin [A] of the present invention is preferably a resin in which the polar group is bonded to one end of the polymer main chain (resin [A ']). the specific content of the polar group attached to a terminal, -PO 3 H 2,
-SO 3 H, -OH, -COOH, -P (= O) (O
H) R 1, a cyclic acid anhydride group, -SH, -CONH 2, -
SO 2 NH 2 and the like.

【0122】ここで−P(=O)(OH)R1 は、下記
化50で表わされる基を表わし、R1 は炭化水素基又は
OR2 基(R2 は炭化水素基を表わす)を表わし、R1
及びR2 は好ましくは炭素数1〜22の脂肪族基(例え
ば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキ
シル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデ
シル基、2−クロロエチル基、2−メトキシエチル基、
3−エトキシプロピル基、アリル基、クロトニル基、ブ
テニル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル
基、3−フェニルプロピル基、メチルベンジル基、クロ
ロベンジル基、フロロベンジル基、メトキシベンジル基
等)、又は置換されてもよいアリール基(例えば、フェ
ニル基、トリル基、エチルフェニル基、プロピルフェニ
ル基、クロロフェニル基、フロロフェニル基、ブロモフ
ェニル基、クロロ−メチル−フェニル基、ジクロロフェ
ニル基、メトキシフェニル基、シアノフェニル基、アセ
トアミドフェニル基、アセチルフェニル基、ブトキシフ
ェニル基等)等を表わす。
Here, -P (= O) (OH) R 1 represents a group represented by the following chemical formula 50, R 1 represents a hydrocarbon group or an OR 2 group (R 2 represents a hydrocarbon group). , R 1
And R 2 is preferably an aliphatic group having 1 to 22 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2-methoxyethyl group,
3-ethoxypropyl group, allyl group, crotonyl group, butenyl group, cyclohexyl group, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, methylbenzyl group, chlorobenzyl group, fluorobenzyl group, methoxybenzyl group, etc.) or substituted Aryl groups which may be substituted (for example, phenyl group, tolyl group, ethylphenyl group, propylphenyl group, chlorophenyl group, fluorophenyl group, bromophenyl group, chloro-methyl-phenyl group, dichlorophenyl group, methoxyphenyl group, cyanophenyl Group, acetamidophenyl group, acetylphenyl group, butoxyphenyl group, etc.) and the like.

【0123】[0123]

【化50】 [Chemical 50]

【0124】また、環状酸無水物基とは、少なくとも1
つの環状酸無水物を含有する基であり、含有される環状
酸無水物としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳香族
ジカルボン酸無水物が挙げられる。脂肪族ジカルボン酸
無水物の例としては、コハク酸無水物環、グルタコン酸
無水物環、マレイン酸無水物環、シクロペンタン−1,
2−ジカルボン酸無水物環、シクロヘキサン−1,2−
ジカルボン酸無水物環、シクロヘキセン−1,2−ジカ
ルボン酸無水物環、2,3−ビシクロ〔2.2.2〕オ
クタンジカルボン酸無水物環等が挙げられ、これらの環
は、例えば塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、メチ
ル基、エチル基、ブチル基、ヘキシル基等のアルキル基
等が置換されていてもよい。
Further, the cyclic acid anhydride group means at least 1
It is a group containing one cyclic acid anhydride, and examples of the cyclic acid anhydride contained therein include an aliphatic dicarboxylic acid anhydride and an aromatic dicarboxylic acid anhydride. Examples of the aliphatic dicarboxylic acid anhydride include a succinic anhydride ring, a glutaconic anhydride ring, a maleic anhydride ring, cyclopentane-1,
2-dicarboxylic acid anhydride ring, cyclohexane-1,2-
Examples thereof include a dicarboxylic acid anhydride ring, a cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid anhydride ring, and 2,3-bicyclo [2.2.2] octanedicarboxylic acid anhydride ring, and these rings include, for example, a chlorine atom, A halogen atom such as a bromine atom, an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a butyl group and a hexyl group may be substituted.

【0125】又、芳香族ジカルボン酸無水物の例として
は、フタル酸無水物環、ナフタレン−ジカルボン酸無水
物環、ピリジン−ジカルボン酸無水物環、チオフェン−
ジカルボン酸無水物環等が挙げられ、これらの環は、例
えば、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、
ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカル
ボニル基(アルコキシ基としては、例えば、メトキシ
基、エトキシ基等)等が置換されていてもよい。
Examples of aromatic dicarboxylic acid anhydrides include phthalic anhydride ring, naphthalene-dicarboxylic acid anhydride ring, pyridine-dicarboxylic acid anhydride ring, thiophene-
Dicarboxylic acid anhydride ring and the like, these rings, for example, a chlorine atom, a halogen atom such as a bromine atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an alkyl group such as a butyl group,
A hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, an alkoxycarbonyl group (such as a methoxy group and an ethoxy group as the alkoxy group) may be substituted.

【0126】樹脂〔A〕における重合体主鎖の片末端に
結合した極性基において、好ましい極性基として、−P
3 2 、−SO3 H、−COOH、−P(=O)(O
H)R1 、環状酸無水物基を挙げることができる。これ
らの極性基は、重合体主鎖の片末端に直接結合してもよ
いし、連結基を介して結合してもよい。連結基として
は、いずれの結合する基でもよいが、例えば具体的に挙
げるとすれば、−C(d1 )(d2 )−〔d1 、d2
同じでも異なってもよく、各々水素原子、ハロゲン原子
(塩素原子、臭素原子等)、−OH基、シアノ基、アル
キル基(メチル基、エチル基、2−クロロエチル基、2
−ヒドロキシエチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシ
ル基等)、アラルキル基(ベンジル基、フェネチル基
等)、フェニル基等を表わす〕、−C(d3 )=C(d
4)−(d3 、d4 はd1 、d2 と同一の内容を表わ
す)、−C6 10−、−C64 −、−O−、−S−、
−N(d5 )−{d5 は、水素原子、又は炭化水素基を
表わす(炭化水素基として具体的には炭素数1〜12の
炭化水素基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシ
ル基、2−メトキシエチル基、2−クロロエチル基、2
−シアノエチル基、ベンジル基、メチルベンジル基、ク
ロロベンジル基、メトキシベンジル基、フェネチル基、
フェニル基、トリル基、クロロフェニル基、メトキシフ
ェニル基、ブチルフェニル基等)が挙げられる)}、−
CO−、−COO−、−OCO−、−CON(d5
−、−SO2 N(d5 )−、−SO2 −、−NHCON
H−、−NHCOO−、−NHSO2 −、−CONHC
OO−、−CONHCONH−、複素環(ヘテロ原子と
して、O、S、N等を少なくとも1種含有する5〜6員
環又はこれらの縮合環であればいずれでもよい:例え
ば、チオフェン環、ピリジン環、フラン環、イミダゾー
ル環、ピペリジン環、モルホリン環等が挙げられる)又
は−Si(d6 )(d7 )−{d6 、d7 は同じでも異
なってもよく、炭化水素基又は−Od8 (d8 は炭化水
素基)を表わす。これらの炭化水素基としては、d5
挙げたものと同一のものを挙げることができる)等の連
結基の単独又は、これらの組合せにより構成された連結
基等が挙げられる。
In the polar group bonded to one end of the polymer main chain in the resin [A], a preferable polar group is -P
O 3 H 2, -SO 3 H , -COOH, -P (= O) (O
H) R 1 and a cyclic acid anhydride group can be mentioned. These polar groups may be directly bonded to one end of the polymer main chain or may be bonded via a linking group. The linking group may be any bondable group, and specifically, for example, —C (d 1 ) (d 2 )-[d 1 and d 2 may be the same or different and each is hydrogen. Atom, halogen atom (chlorine atom, bromine atom, etc.), -OH group, cyano group, alkyl group (methyl group, ethyl group, 2-chloroethyl group, 2
-Hydroxyethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, etc.), aralkyl group (benzyl group, phenethyl group, etc.), phenyl group, etc.], -C (d 3 ) = C (d
4) - (d 3, d 4 represents the same content as d 1, d 2), - C 6 H 10 -, - C 6 H 4 -, - O -, - S-,
—N (d 5 )-{d 5 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group (specifically, a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group,
Butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, 2-methoxyethyl group, 2-chloroethyl group, 2
-Cyanoethyl group, benzyl group, methylbenzyl group, chlorobenzyl group, methoxybenzyl group, phenethyl group,
Phenyl group, tolyl group, chlorophenyl group, methoxyphenyl group, butylphenyl group, etc.))},-
CO -, - COO -, - OCO -, - CON (d 5)
-, - SO 2 N (d 5) -, - SO 2 -, - NHCON
H -, - NHCOO -, - NHSO 2 -, - CONHC
OO-, -CONHCONH-, heterocycle (a 5- or 6-membered ring containing at least one kind of O, S, N, etc. as a hetero atom, or a condensed ring thereof may be used: for example, thiophene ring, pyridine ring , A furan ring, an imidazole ring, a piperidine ring, a morpholine ring and the like) or —Si (d 6 ) (d 7 )-{d 6 and d 7 may be the same or different, and are a hydrocarbon group or —Od 8 (D 8 represents a hydrocarbon group). Examples of these hydrocarbon groups include the same connecting groups as those mentioned for d 5 ) and the like, or a connecting group composed of a combination thereof.

【0127】樹脂〔A〕において、重合体主鎖の片末端
に該極性基を結合させる方法としては、従来公知のアニ
オン重合あるいはカチオン重合によって得られるリビン
グポリマーの末端に種々の試薬を反応させる方法(イオ
ン重合法による方法)、分子中に特定の極性基を含有し
た重合開始剤及び/又は連鎖移動剤を用いてラジカル重
合させる方法(ラジカル重合法による方法)、あるいは
以上の如きイオン重合法もしくはラジカル重合法によっ
て得られた末端に反応性基(例えばアミノ基、ハロゲン
原子、エポキシ基、酸ハライド基等)含有の重合体を高
分子反応によって本発明の特定の極性基に変換する方法
等の合成法によって容易に製造することができる。
In the resin [A], the polar group is bonded to one end of the polymer main chain by reacting various reagents with the end of the living polymer obtained by conventionally known anionic polymerization or cationic polymerization. (Method by ionic polymerization method), method of radical polymerization using polymerization initiator and / or chain transfer agent containing specific polar group in molecule (method by radical polymerization method), or ionic polymerization method as described above or Such as a method of converting a polymer containing a reactive group (for example, an amino group, a halogen atom, an epoxy group, an acid halide group) at the terminal obtained by a radical polymerization method into a specific polar group of the present invention by a polymer reaction. It can be easily produced by a synthetic method.

【0128】具体的には、P.Dreyfuss,
R.P.Quirk, Encycl, Polym.
Sci.Eng.,,551(1987)、中條善
樹、山下雄也「染料と薬品」、30、232(198
5)、上田明、永井進「科学と工業」60、57(19
86)等の総説及びそれに引用の文献等に記載の方法に
よって製造することができる。
Specifically, P.I. Dreyfuss,
R. P. Quirk, Encycl, Polym.
Sci. Eng. , 7 , 551 (1987), Yoshiki Nakajo, Yuya Yamashita "Dyes and Pharmaceuticals", 30 , 232 (198).
5), Akira Ueda, Susumu Nagai "Science and Industry" 60 , 57 (19)
86) etc. and the methods described in the references cited therein and the like.

【0129】具体的には、用いる連鎖移動剤としては、
例えば、該極性基あるいは、上記反応性基(即ち該極性
基に誘導しうる基)を含有するメルカプト化合物(例え
ばチオグリコール酸、チオリンゴ酸、チオサリチル酸、
2−メルカプトプロピオン酸、3−メルカプトプロピオ
ン酸、3−メルカプト酪酸、N−(2−メルカプトプロ
ピオニル)グリシン、2−メルカプトニコチン酸、3−
〔N(2−メルカプトエチル)カルバモイル〕プロピオ
ン酸、3−〔N−(2−メルカプトエチル)アミノ〕プ
ロピオン酸、N−(3−メルカプトプロピオニル)アラ
ニン、2−メルカプトエタンスルホン酸、3−メルカプ
トプロパンスルホン酸、4−メルカプトブタンスルホン
酸、2−メルカプトエタノール、1−メルカプト−2−
プロパノール、3−メルカプト−2−ブタノール、メル
カプトフェノール−2−メルカプトエチルアミン、2−
メルカプトイミダゾール、2−メルカプト−3−ピリジ
ノール、4−(2−メルカプトエチルオキシカルボニ
ル)フタル酸無水物、2−メルカプトエチルホスホノ
酸、2−メルカプトエチルホスホノ酸モノメチルエステ
ル等)、あるいは上記極性基又は置換基を含有するヨー
ド化アルキル化合物(例えばヨード酢酸、ヨードプロピ
オン酸、2−ヨードエタノール、2−ヨードエタンスル
ホン酸、3−ヨードプロパンスルホン酸等)が挙げられ
る。好ましくはメルカプト化合物が挙げられる。
Specifically, the chain transfer agent used is
For example, a mercapto compound containing the polar group or the reactive group (that is, a group capable of being induced to the polar group) (for example, thioglycolic acid, thiomalic acid, thiosalicylic acid,
2-mercaptopropionic acid, 3-mercaptopropionic acid, 3-mercaptobutyric acid, N- (2-mercaptopropionyl) glycine, 2-mercaptonicotinic acid, 3-
[N (2-mercaptoethyl) carbamoyl] propionic acid, 3- [N- (2-mercaptoethyl) amino] propionic acid, N- (3-mercaptopropionyl) alanine, 2-mercaptoethanesulfonic acid, 3-mercaptopropane Sulfonic acid, 4-mercaptobutane sulfonic acid, 2-mercaptoethanol, 1-mercapto-2-
Propanol, 3-mercapto-2-butanol, mercaptophenol-2-mercaptoethylamine, 2-
Mercaptoimidazole, 2-mercapto-3-pyridinol, 4- (2-mercaptoethyloxycarbonyl) phthalic anhydride, 2-mercaptoethylphosphonoic acid, 2-mercaptoethylphosphonoic acid monomethyl ester, etc.) or the above polar group Alternatively, an iodinated alkyl compound having a substituent (for example, iodoacetic acid, iodopropionic acid, 2-iodoethanol, 2-iodoethanesulfonic acid, 3-iodopropanesulfonic acid, etc.) can be mentioned. Preferred are mercapto compounds.

【0130】該極性基あるいは、特定の反応性基を含有
する重合開始剤としては、具体的には、4,4’−アゾ
ビス(4−シアノ吉草酸)、4,4’−アゾビス(4−
シアノ吉草酸クロライド)、2,2’−アゾビス(2−
シアノプロパノール)、2,2’−アゾビス(2−シア
ノペンタノール)、2,2’−アゾビス〔2−メチル−
N−(2−ヒドロキシエチル)−プロピオアミド〕、
2,2’−アゾビス{2−メチル−N−〔1,1−ビス
(ヒドロキシメチル)−2−ヒドロキシエチル〕プロピ
オアミド}、2,2’−アゾビス{2−〔1−(2−ヒ
ドロキシエチル)−2−イミダゾリン−2−イル)プロ
パン}、2,2’−アゾビス〔2−(2イミダゾリン−
2−イル)プロパン〕、2,2’−アゾビス〔2−
(4,5,6,7−テトラヒドロ−1H−1,3−ジア
ゾピン−2−イル)プロパン〕等が挙げられる。
Specific examples of the polymerization initiator containing the polar group or the specific reactive group include 4,4'-azobis (4-cyanovaleric acid) and 4,4'-azobis (4-
Cyanovaleric acid chloride), 2,2′-azobis (2-
Cyanopropanol), 2,2'-azobis (2-cyanopentanol), 2,2'-azobis [2-methyl-
N- (2-hydroxyethyl) -propioamide],
2,2'-azobis {2-methyl-N- [1,1-bis (hydroxymethyl) -2-hydroxyethyl] propioamide}, 2,2'-azobis {2- [1- (2-hydroxyethyl)] -2-Imidazolin-2-yl) propane}, 2,2'-azobis [2- (2imidazoline-
2-yl) propane], 2,2'-azobis [2-
(4,5,6,7-tetrahydro-1H-1,3-diazopin-2-yl) propane] and the like.

【0131】用いる重合開始剤及び/又は連鎖移動剤は
各々全単量体に対して0.1〜10重量%であり、好ま
しくは0.3〜5重量%である。
The amount of the polymerization initiator and / or the chain transfer agent used is 0.1 to 10% by weight, preferably 0.3 to 5% by weight, based on all the monomers.

【0132】次に本発明の樹脂〔B〕について説明す
る。樹脂〔B〕はABブロック共重合体であり、且つ特
定の極性基を重合体主鎖のAブロックのBブロックと結
合する反対側の片末端に、直接もしくは連結基を介して
結合している事とAブロック中に重合体成分として含有
している事を特徴とするものである。
Next, the resin [B] of the present invention will be described. The resin [B] is an AB block copolymer, and has a specific polar group bonded to one end of the polymer main chain on the opposite side to the B block of the A block, either directly or through a linking group. And that it is contained as a polymer component in the A block.

【0133】ABブロック共重合体樹脂〔B〕における
特定の極性基含有の重合体成分量は、共重合体樹脂
〔B〕100重量部当り好ましくは0.1〜5重量%、
より好ましくは0.2〜3重量%の割合で含有される。
結着樹脂〔B〕における極性基含有重合体成分量が0.
1重量%より少ないと、初期電位が低くて充分な画像濃
度を得ることができず、該極性基含有重合体成分量が5
重量%よりも多いと、光導電体粒子の分散性が低下し、
高温高湿における膜平滑度及び電子写真特性が低下し、
更にオフセット平版印刷用原版として用いるときに地汚
れが増大するため、好ましくない。
The amount of the specific polar group-containing polymer component in the AB block copolymer resin [B] is preferably 0.1 to 5% by weight per 100 parts by weight of the copolymer resin [B].
More preferably, the content is 0.2 to 3% by weight.
The amount of the polar group-containing polymer component in the binder resin [B] is 0.
If it is less than 1% by weight, the initial potential is low and a sufficient image density cannot be obtained, and the amount of the polar group-containing polymer component is 5%.
If it is more than wt%, the dispersibility of the photoconductor particles will decrease,
The film smoothness in high temperature and high humidity and the electrophotographic characteristics deteriorate,
Further, when it is used as an original plate for offset lithographic printing, scumming increases, which is not preferable.

【0134】また、樹脂〔B〕において、全共重合体中
に含有される特定の極性基含有重合体成分の総量が、前
記樹脂〔A〕中に含有される特定の極性基含有重合体成
分の総量に対し10重量%〜50重量%であることが好
ましい。樹脂〔B〕における該総量が樹脂〔A〕のそれ
の10重量%未満であると、電子写真特性(特に暗電荷
保持率、光感度)の低下が著しく、膜の強度も低下す
る。また、50重量%を超えると、光導電体粒子の分散
の均一化が不充分となり、電子写真特性が低下し、オフ
セット平版印刷用原版としては保水性が低下する。
In the resin [B], the total amount of the specific polar group-containing polymer component contained in all the copolymers is the same as the specific polar group-containing polymer component contained in the resin [A]. It is preferably 10% by weight to 50% by weight with respect to the total amount. When the total amount of the resin [B] is less than 10% by weight of that of the resin [A], electrophotographic characteristics (especially dark charge retention rate, photosensitivity) are significantly deteriorated, and film strength is also decreased. On the other hand, if it exceeds 50% by weight, the dispersion of the photoconductor particles becomes insufficient, the electrophotographic characteristics are deteriorated, and the water retention property is lowered as the offset lithographic printing original plate.

【0135】ABブロック共重合体樹脂〔B〕の重量平
均分子量は2×104 〜1×106、好ましくは4×1
4 〜5×105 である。
The weight average molecular weight of the AB block copolymer resin [B] is 2 × 10 4 to 1 × 10 6 , preferably 4 × 1.
It is 0 4 to 5 × 10 5 .

【0136】樹脂〔B〕の分子量が2×104 より小さ
くなると、皮膜形成能が低下し充分な膜強度が保てず、
また分子量が1×106 より大きくなると本発明の樹脂
〔B〕の効果が少なくなり、従来公知の樹脂と同程度の
電子写真特性になってしまう。該樹脂〔B〕のガラス転
移点は、−10℃〜100℃の範囲のものが好ましい
が、より好ましくは0℃〜90℃である。
When the molecular weight of the resin [B] is less than 2 × 10 4 , the film forming ability is lowered and the sufficient film strength cannot be maintained.
On the other hand, when the molecular weight is more than 1 × 10 6, the effect of the resin [B] of the present invention is reduced, and the electrophotographic characteristics are comparable to those of the conventionally known resin. The glass transition point of the resin [B] is preferably in the range of -10 ° C to 100 ° C, more preferably 0 ° C to 90 ° C.

【0137】本発明の樹脂〔B〕の重合体中、及び重合
体主鎖片末端に含有される特定の極性基としては、−P
3 2 、−COOH、−SO3 H、−P(=O)(O
H)R1 〔R1 は前記と同様の意味を表す〕及び環状酸
無水物基が挙げられる。ここで、−P(=O)(OH)
1 及び環状酸無水物基の具体例としては、樹脂〔A〕
のところで説明したものが挙げられる。樹脂〔B〕にお
いて、該極性基が重合体主鎖の片末端に結合する場合に
は、該極性基は重合体主鎖の片末端に直接結合してもよ
いし、連結基を介して結合してもよい。かかる連結基と
しては、いずれの結合する基でもよいが、具体的には、
−CR1415−〔ここでR14、R15は同じでも異なって
いてもよく、各々水素原子、ハロゲン原子(塩素原子、
臭素原子等)、OH基、シアノ基、アルキル基(メチル
基、エチル基、2−クロロエチル基、2−ヒドロキシエ
チル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基等)、アラ
ルキル基(ベンジル基、フェネチル基等)、フェニル基
等を表す〕、−CH(R14)−CH(R15)−、−C6
10−、−C6 4 −、−O−、−S−、−N(R16
−〔ここでR16は水素原子又は炭化水素基{炭化水素基
として具体的には炭素数1〜12の炭化水素基(例えば
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル
基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、2−メトキシ
エチル基、2−クロロエチル基、2−シアノエチル基、
ベンジル基、メチルベンジル基、フェネチル基、フェニ
ル基、トリル基、クロロフェニル基、メトキシフェニル
基、ブチルフェニル基等)が挙げられる}を表す〕、−
CO−、−COO−、−OCO−、−CON(R16
−、−SO2 N(R16)−、−SO2 −、−NHCON
H−、−NHCOO−、−NHSO2 −、−CONHC
OO−、−CONHCONH−、複素環(ヘテロ原子と
してO、S、N等を少なくとも一種含有する5もしくは
6員環又はこれらの縮合環であればいずれでもよく、例
えばチオフェン環、ピリジン環、フラン環、イミダゾー
ル環、ピペリジン環、モルホリン環等が挙げられる)又
は−Si (R17)(R18)−〔ここでR17、R18は同じ
でも異なっていてもよく、各々炭化水素基又は−OR19
(ここでR19は炭化水素基を表す)を表す。これらの炭
化水素基としては、R16で挙げたものと同様のものを挙
げることができる〕等の結合基の単独又はこれらの2以
上の組合せにより構成された連結基等が挙げられる。
The specific polar group contained in the polymer of the resin [B] of the present invention and at one end of the polymer main chain is -P.
O 3 H 2, -COOH, -SO 3 H, -P (= O) (O
H) R 1 [R 1 represents the same meaning as described above] and a cyclic acid anhydride group. Where -P (= O) (OH)
Specific examples of R 1 and the cyclic acid anhydride group include resin [A]
The ones mentioned above are listed. In the resin [B], when the polar group is bonded to one end of the polymer main chain, the polar group may be directly bonded to one end of the polymer main chain or may be bonded via a linking group. You may. The linking group may be any group that bonds, but specifically,
—CR 14 R 15 — [wherein R 14 and R 15 may be the same or different and each is a hydrogen atom, a halogen atom (chlorine atom,
Bromine atom, etc.), OH group, cyano group, alkyl group (methyl group, ethyl group, 2-chloroethyl group, 2-hydroxyethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, etc.), aralkyl group (benzyl group, phenethyl group) Etc.), a phenyl group, etc.], —CH (R 14 ) —CH (R 15 ) —, —C 6
H 10 -, - C 6 H 4 -, - O -, - S -, - N (R 16)
-[Wherein R 16 is a hydrogen atom or a hydrocarbon group (specifically, a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, an octyl group. , Decyl group, dodecyl group, 2-methoxyethyl group, 2-chloroethyl group, 2-cyanoethyl group,
Benzyl group, methylbenzyl group, phenethyl group, phenyl group, tolyl group, chlorophenyl group, methoxyphenyl group, butylphenyl group, etc.)}]-
CO -, - COO -, - OCO -, - CON (R 16)
-, - SO 2 N (R 16) -, - SO 2 -, - NHCON
H -, - NHCOO -, - NHSO 2 -, - CONHC
OO-, -CONHCONH-, heterocycle (a 5- or 6-membered ring containing at least one kind of O, S, N or the like as a hetero atom or a condensed ring thereof may be used, and examples thereof include a thiophene ring, a pyridine ring, and a furan ring. , an imidazole ring, piperidine ring, morpholine ring and the like), or -S i (R 17) (R 18) - [wherein R 17, R 18 may be the same or different, each hydrocarbon radical or - OR 19
(Wherein R 19 represents a hydrocarbon group). Examples of these hydrocarbon groups include the same groups as those listed for R 16 ] or the like, or a linking group formed of a combination of two or more of these bonding groups.

【0138】次に樹脂〔B〕のAブロックを構成する重
合体成分について説明する。本発明の樹脂〔B〕のAブ
ロックの重合体鎖中に含有する極性基としては、上記主
鎖末端に結合するものと同様のものが挙げられる。本発
明のABブロック共重合体(樹脂〔B〕)のAブロック
を構成する特定の極性基を含有する重合体成分の具体例
として、以下のものを挙げることができる。ここで、b
3 はH又はCH3 を示し、b4 はH、CH3 又はCH2
COOCH3 を示し、R7 は炭素数1〜4のアルキル基
を示し、R8 は炭素数1〜6のアルキル基、ベンジル基
又はフェニル基を示し、eは1〜3の整数を示し、gは
2〜11の整数を示し、hは1〜11の整数を示し、x
は2〜4の整数を示し、jは2〜10の整数を示す。
Next, the polymer component constituting the A block of the resin [B] will be described. Examples of the polar group contained in the polymer chain of the A block of the resin [B] of the present invention include the same groups as those bonded to the ends of the main chain. The following can be mentioned as specific examples of the polymer component containing a specific polar group constituting the A block of the AB block copolymer (resin [B]) of the present invention. Where b
3 represents H or CH 3 , b 4 represents H, CH 3 or CH 2
COOCH 3 , R 7 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R 8 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a benzyl group or a phenyl group, e represents an integer of 1 to 3, g Represents an integer of 2 to 11, h represents an integer of 1 to 11, and x
Represents an integer of 2 to 4, and j represents an integer of 2 to 10.

【0139】[0139]

【化51】 [Chemical 51]

【0140】[0140]

【化52】 [Chemical 52]

【0141】[0141]

【化53】 [Chemical 53]

【0142】[0142]

【化54】 [Chemical 54]

【0143】[0143]

【化55】 [Chemical 55]

【0144】[0144]

【化56】 [Chemical 56]

【0145】上記の如き特定の極性基を含有する重合体
成分は該Aブロック中に2種以上含有されていてもよ
く、その場合における該2種以上の極性基含有成分は該
Aブロック中においてランダム共重合又はブロック共重
合のいずれの態様で含有されていてもよい。また、上記
極性基含有の重合体成分以外の重合体成分をAブロック
中に含有していてもよく、かかる重合体成分としては好
ましくは下記一般式(V)の繰り返し単位に相当する重
合体成分が挙げられる。
Two or more kinds of the polymer component containing a specific polar group as described above may be contained in the A block. In that case, the two or more kinds of polar group containing components are contained in the A block. It may be contained in any form of random copolymerization or block copolymerization. Further, a polymer component other than the polar group-containing polymer component may be contained in the A block, and such a polymer component is preferably a polymer component corresponding to a repeating unit of the following general formula (V). Is mentioned.

【0146】[0146]

【化57】 [Chemical 57]

【0147】〔式(V)中、V2 は−COO−、−OC
O−、−(CH2 i OCO−、−(CH2 i COO
−、−O−、−SO2 −、−CON(R22)−、−SO
2 N(R22)−、−CO−、−CONHCOO−、−C
ONHCONH−又は−C6 4 −を表わす(ここで、
iは1〜3の整数を表わし、R22は水素原子又は炭化水
素を表わす)。R13は炭化水素基を表わす。d9 及びd
10は、互いに同じでも異なってもよく、前記一般式(I
V)中のb1 、b2 とそれぞれ同一の内容を表わす。〕
[In the formula (V), V 2 is -COO-, -OC.
O -, - (CH 2) i OCO -, - (CH 2) i COO
-, - O -, - SO 2 -, - CON (R 22) -, - SO
2 N (R 22 )-, -CO-, -CONHCOO-, -C
ONHCONH- or -C 6 H 4 - are presented (here,
i represents an integer of 1 to 3, and R 22 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon). R 13 represents a hydrocarbon group. d 9 and d
10 may be the same as or different from each other, and have the general formula (I
The same contents as b 1 and b 2 in V) are shown. ]

【0148】ここで、R22は水素原子のほか、好ましい
炭化水素基としては、炭素数1〜18の置換されてもよ
いアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、
デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル
基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−シ
アノエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−
メトキシエチル基、3−ブロモプロピル基等)、炭素数
4〜18の置換されてもよいアルケニル基(例えば、2
−メチル−1−プロペニル基、2−ブテニル基、2−ぺ
ンテニル基、3−メチル−2−ぺンテニル基、1−ぺン
テニル基、1−ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、4−
メチル−2−ヘキセニル基等)、炭素数7〜12の置換
されてもよいアラルキル基(例えば、ベンジル基、フェ
ネチル基、3−フェニルプロピル基、ナフチルメチル
基、2−ナフチルエチル基、クロロベンジル基、ブロモ
ベンジル基、メチルベンジル基、エチルベンジル基、メ
トキシベンジル基、ジメチルベンジル基、ジメトキシベ
ンジル基等)、炭素数5〜8の置換されてもよい脂環式
基(例えば、シクロヘキシル基、2−シクロヘキシルエ
チル基、2−シクロぺンチルエチル基等)、又は炭素数
6〜12の置換されてもよい芳香族基(例えば、フェニ
ル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、プロピルフ
ェニル基、ブチルフェニル基、オクチルフェニル基、ド
デシルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェ
ニル基、ブトキシフェニル基、デシルオキシフェニル
基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフ
ェニル基、シアノフェニル基、アセチルフェニル基、メ
トキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボキシフェ
ニル基、ブトキシカルボニルフェニル基、アセトアミド
フェニル基、プロピオアミドフェニル基、ドデシロイル
アミドフェニル基等)が挙げられる。
Here, R 22 is not only a hydrogen atom, but also a preferable hydrocarbon group is an optionally substituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group). Group, hexyl group, octyl group,
Decyl group, dodecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-
Methoxyethyl group, 3-bromopropyl group, etc.), alkenyl group having 4 to 18 carbon atoms which may be substituted (eg, 2
-Methyl-1-propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2-pentenyl group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 4-
Methyl-2-hexenyl group, etc.), aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms and which may be substituted (for example, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chlorobenzyl group) , A bromobenzyl group, a methylbenzyl group, an ethylbenzyl group, a methoxybenzyl group, a dimethylbenzyl group, a dimethoxybenzyl group, etc.), and an alicyclic group having 5 to 8 carbon atoms which may be substituted (for example, a cyclohexyl group, 2- A cyclohexylethyl group, a 2-cyclopentylethyl group, etc.) or an optionally substituted aromatic group having 6 to 12 carbon atoms (eg, phenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, propylphenyl group, butylphenyl group) , Octylphenyl group, dodecylphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, butoxyf Nyl group, decyloxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, bromophenyl group, cyanophenyl group, acetylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarboxyphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, acetamidophenyl group, propioamidophenyl group , Dodecylylamidophenyl group, etc.).

【0149】V2 が−C6 4 −を表わす場合、ベンゼ
ン環は置換基を有してもよい。置換基としては、ハロゲ
ン原子(例えば塩素原子、臭素原子等)、アルキル基
(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
クロロメチル基、メトキシメチル基等)、アルコキシ基
(例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピオキシ基、ブ
トキシ基等)等が挙げられる。
When V 2 represents —C 6 H 4 —, the benzene ring may have a substituent. As the substituent, a halogen atom (eg, chlorine atom, bromine atom, etc.), an alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group,
Chloromethyl group, methoxymethyl group, etc.), alkoxy group (eg, methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group, etc.) and the like.

【0150】R13は、炭化水素基を表わし、好ましい炭
化水素基としては、炭素数1〜22の置換されてもよい
アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、
デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル
基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、2−クロロエチ
ル基、2−ブロモエチル基、2−シアノエチル基、2−
メトキシカルボニルエチル基、2−メトキシエチル基、
3−ブロモプロピル基等)、炭素数4〜18の置換され
てもよいアルケニル基(例えば、2−メチル−1−プロ
ペニル基、2−ブテニル基、2−ペンテニル基、3−メ
チル−2−ぺンテニル基、1−ぺンテニル基、1−ヘキ
セニル基、2−ヘキセニル基、4−メチル−2−ヘキセ
ニル基等)、炭素数7〜12の置換されてもよいアラル
キル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−フェ
ニルプロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチルエチ
ル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベ
ンジル基、エチルベンジル基、メトキシベンジル基、ジ
メチルベンジル基、ジメトキシベンジル基等)、炭素数
5〜8の置換されてもよい脂環式基(例えば、シクロヘ
キシル基、2−シクロヘキシルエチル基、2−シクロぺ
ンチルエチル基等)、炭素数6〜12の置換されてもよ
い芳香族基(例えば、フェニル基、ナフチル基、トリル
基、キシリル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル
基、オクチルフェニル基、ドデシルフェニル基、メトキ
シフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフェニル
基、デシルオキシフェニル基、クロロフェニル基、ジク
ロロフェニル基、ブロモフェニル基、シアノフェニル
基、アセチルフェニル基、メトキシカルボニルフェニル
基、エトキシカルボニルフェニル基、ブトキシカルボニ
ルフェニル基、アセトアミドフェニル基、プロピオアミ
ドフェニル基、ドデシロイルアミドフェニル基等)が挙
げられる。
R 13 represents a hydrocarbon group, and a preferable hydrocarbon group is an optionally substituted alkyl group having 1 to 22 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group). , Hexyl group, octyl group,
Decyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-
Methoxycarbonylethyl group, 2-methoxyethyl group,
3-bromopropyl group, etc.), an alkenyl group having 4 to 18 carbon atoms which may be substituted (for example, 2-methyl-1-propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2-perenyl group). Ntenyl group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 4-methyl-2-hexenyl group, etc.), and optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (eg, benzyl group, phenethyl group). Group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, ethylbenzyl group, methoxybenzyl group, dimethylbenzyl group, dimethoxybenzyl group, etc.), carbon number 5 to 8 optionally substituted alicyclic groups (eg, cyclohexyl group, 2-cyclohexylethyl group, 2-cyclopentylethyl group, etc. An optionally substituted aromatic group having 6 to 12 carbon atoms (eg, phenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, propylphenyl group, butylphenyl group, octylphenyl group, dodecylphenyl group, methoxyphenyl group, Ethoxyphenyl group, butoxyphenyl group, decyloxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, bromophenyl group, cyanophenyl group, acetylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, acetamidophenyl group, A propioamidophenyl group, a dodecyloylamidophenyl group, etc.).

【0151】更に好ましくは、一般式(V)において、
2 は−COO−、−OCO−、−CH2 OCO−、−
CH2 COO−、−O−、−CONH−、−SO2 NH
−又は−C6 4 −を表わす。
More preferably, in the general formula (V),
V 2 is -COO-, -OCO-, -CH 2 OCO-,-.
CH 2 COO -, - O - , - CONH -, - SO 2 NH
- or -C 6 H 4 - represents a.

【0152】更には、式(V)に示される重合体成分と
ともに該Aブロック中に含有され得る重合体成分とし
て、該式(V)の重合体成分と共重合しうる他の繰り返
し単位に相当する単量体、例えばアクリロニトリル、メ
タクリロニトリル、複素環ビニル類(例えばビニルピリ
ジン、ビニルイミダゾール、ビニルピロリドン、ビニル
チオフェン、ビニルピラゾール、ビニルジオキサン、ビ
ニルオキサジン等)等が挙げられる。これら他の単量体
はAブロックの全重合体成分100重量部中20重量部
を超えない範囲で用いられる。
Further, as a polymer component which can be contained in the A block together with the polymer component represented by the formula (V), it corresponds to another repeating unit copolymerizable with the polymer component represented by the formula (V). Monomers such as acrylonitrile, methacrylonitrile, and heterocyclic vinyls (for example, vinyl pyridine, vinyl imidazole, vinyl pyrrolidone, vinyl thiophene, vinyl pyrazole, vinyl dioxane, vinyl oxazine, etc.) and the like. These other monomers are used within a range not exceeding 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the total polymer component of the A block.

【0153】次にABブロック共重合体樹脂〔B〕にお
いて、Bブロック成分を構成する重合成分について詳し
く説明する。Bブロック成分は、少なくとも前記一般式
(IV)で示される繰り返し単位で示される重合体成分を
含有し、該式(IV)で示される成分は好ましくBブロッ
ク成分中、30〜100重量%、より好ましくは50〜
100重量%含有される。
Next, the polymerization components constituting the B block component in the AB block copolymer resin [B] will be described in detail. The B block component contains at least a polymer component represented by the repeating unit represented by the general formula (IV), and the component represented by the formula (IV) is preferably 30 to 100% by weight in the B block component, Preferably 50-
100% by weight is contained.

【0154】一般式(IV)の成分の具体的内容について
は、樹脂〔A〕で説明したと同様のものに準じる。他に
含有され得る重合体成分としては、前記Aブロックで含
有され得る一般式(V)で示される成分又はその他の成
分として記載したものと同様のものが挙げられる。但
し、Bブロックにおいては、Aブロックで含有される特
定の極性基含有成分を含有しないことを特徴とする。
The specific contents of the component of the general formula (IV) are the same as those described for the resin [A]. Examples of the other polymer component that can be contained include the same components as those described as the component represented by the general formula (V) that can be contained in the A block or the other components. However, the B block is characterized by not containing the specific polar group-containing component contained in the A block.

【0155】本発明のABブロック共重合体樹脂〔B〕
は、従来公知の重合反応法によって製造することができ
る。具体的には、該特定の極性基を含有する重合体成分
に相当する単量体において該極性基を予め保護した官能
基としておき、有機金属化合物(例えばアルキルリチウ
ム類、リチウムジイソプロピルアミド、アルキルマグネ
シウムハライド類等)もしくはヨウ化水素/ヨウ素系等
によるイオン重合反応、ポルフィリン金属錯体を触媒と
する光重合反応又はグループ移動重合反応等の公知のい
わゆるリビング重合反応でABブロック共重合体を重合
反応した後、停止反応時に特定の極性基を直接導入する
か、あるいは該極性基を結合できる官能基を導入した後
極性基を化学結合させる、その後、重合体成分中の極性
基を保護した官能基を加水分解反応、加水素分解反応、
酸化分解反応又は光分解反応等によって脱保護反応を行
ない、極性基を形成させる方法が挙げられる。その1つ
の例を下記の反応スキーム(A)に示した。
AB block copolymer resin [B] of the present invention
Can be produced by a conventionally known polymerization reaction method. Specifically, in the monomer corresponding to the polymer component containing the specific polar group, the polar group is preliminarily protected as a functional group, and an organometallic compound (eg, alkyllithium, lithium diisopropylamide, alkylmagnesium) is used. Halides etc.) or ionic polymerization reaction with hydrogen iodide / iodine system, photopolymerization reaction using porphyrin metal complex as catalyst, group transfer polymerization reaction, or other known so-called living polymerization reaction to polymerize the AB block copolymer. After that, a specific polar group is directly introduced during the termination reaction, or a polar group is chemically bonded after introducing a functional group capable of binding the polar group, and then a functional group that protects the polar group in the polymer component is added. Hydrolysis reaction, hydrogenolysis reaction,
A method of forming a polar group by performing a deprotection reaction by an oxidative decomposition reaction, a photodecomposition reaction or the like can be mentioned. One example thereof is shown in the following reaction scheme (A).

【0156】[0156]

【化58】 [Chemical 58]

【0157】これらは、例えば、樹脂〔A〕の合成法の
ところで記載した文献等に記載の合成方法に従って容易
に合成することができる。
These can be easily synthesized, for example, according to the synthetic method described in the literature and the like described in the synthetic method of the resin [A].

【0158】更に、ABブロック共重合体樹脂〔B〕
は、極性基を保護しないままの単量体を用い、且つ特定
の極性基を置換基として含むジシオカーバメント基を含
有する化合物及び/又はザンテート基を含有する化合物
を開始剤として、光照射下に重合反応を行なって合成す
ることもできる。例えば、樹脂〔A〕の合成法のところ
で記載した文献に記載の合成方法に従って合成すること
ができる。
Further, an AB block copolymer resin [B]
Is light-irradiated using a monomer that does not protect the polar group, and a compound containing a disiocarbament group containing a specific polar group as a substituent and / or a compound containing a xanthate group as an initiator. It can also be synthesized by performing a polymerization reaction below. For example, it can be synthesized according to the synthetic method described in the literature described in the synthetic method of resin [A].

【0159】又、本発明の特定の極性基の保護基による
保護及びその保護基の脱離(脱保護反応)については、
従来公知の知見を利用して容易に行なうことができる。
例えば前記引用文献にも種々記載されており、更には、
樹脂〔A〕の合成法のところで記載した総説に詳細に記
載されている方法を適宜選択して行なうことができる。
Regarding protection of a specific polar group with a protective group and elimination of the protective group (deprotection reaction) of the present invention,
This can be easily performed by utilizing the conventionally known knowledge.
For example, various descriptions are given in the above cited document, and further,
The method described in detail in the review article described in the method of synthesizing resin [A] can be appropriately selected and performed.

【0160】一方、本発明の樹脂〔B〕は、Bブロック
の方がAブロックよりも高分子鎖が長い方が好ましい。
On the other hand, in the resin [B] of the present invention, it is preferable that the B block has a longer polymer chain than the A block.

【0161】本発明の光導電層に供される結着樹脂とし
て、本発明の樹脂〔A〕及び樹脂〔B〕以外に前記した
無機光導電体用の公知の樹脂を併用することもできる。
但し、これらの他の樹脂の使用割合は、全結着樹脂10
0重量部中30重量部を越えない範囲が好ましい。この
割合を越えると、本発明の効果は著しく低下してしま
う。
As the binder resin used for the photoconductive layer of the present invention, in addition to the resins [A] and [B] of the present invention, the above-mentioned known resins for inorganic photoconductors can be used in combination.
However, the proportion of these other resins used is the total amount of the binder resin 10
A range not exceeding 30 parts by weight in 0 parts by weight is preferable. If this ratio is exceeded, the effect of the present invention will be significantly reduced.

【0162】併用可能な他の樹脂としては例えば、代表
的なものは塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、スチレン
−ブタジエン共重合体、スチレン−メタクリレート共重
合体、メタクリレート共重合体、アクリレート共重合
体、酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、アル
キド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、エポキシエ
ステル樹脂、ポリエステル樹脂等である。
Typical other resins that can be used in combination are, for example, vinyl chloride-vinyl acetate copolymers, styrene-butadiene copolymers, styrene-methacrylate copolymers, methacrylate copolymers, acrylate copolymers. , Vinyl acetate copolymer, polyvinyl butyral, alkyd resin, silicone resin, epoxy resin, epoxy ester resin, polyester resin and the like.

【0163】具体的には、柴田隆治・石綿次郎「高分
子」第17巻、第278頁(1968年)、宮本晴視・
武井英彦「イメージング」1973(No.8)第9
頁、中村孝一編「絶縁材料用バインダーの実際技術」第
10章、C.H.C.出版(1985年刊)、D.D.
Tatt、S.C.Heidecker、Tappi、
49(No.10)、439(1966)、E.S.B
altazzi、R.G.Blanclotte et
al.、Photo.Sci.Eng.16(No.
5)、354(1972)、グエン・チャン・ケー、清
水 勇、井上英一、電子写真学会誌18(No.2)、
28(1980)、特公昭50−31011号、特開昭
53−54027号、同54−20735号、同57−
202544号、同58−68046号各号公報等に開
示の樹脂が挙げられる。
Specifically, Ryuji Shibata, Jiro Ishiwata, "Polymer", Vol. 17, p. 278 (1968), Harumi Miyamoto.
Hidehiko Takei "Imaging" 1973 (No.8) 9th
Pp. Koichi Nakamura, "Practical Technology of Binders for Insulating Materials," Chapter 10, C.I. H. C. Published (1985), D.M. D.
Tatt, S. C. Heidecker, Tappi,
49 (No. 10), 439 (1966), E.I. S. B
Altazzi, R.A. G. Blanklotte et
al. , Photo. Sci. Eng. 16 (No.
5), 354 (1972), Nguyen Chan Kae, Isamu Shimizu, Eiichi Inoue, The Electrophotographic Society of Japan 18 (No. 2),
28 (1980), JP-B-50-31011, JP-A-53-54027, JP-A-54-20735, and JP-A-57-57.
The resins disclosed in JP-A-202544 and JP-A-58-68046 are cited.

【0164】本発明の光導電層において用いられる結着
樹脂の総量は、無機光導電体100重量部に対して、1
0重量部〜100重量部であることが好ましく、より好
ましくは15重量部〜50重量部である。結着樹脂の総
量比が10重量部以下となると、光導電層の膜強度が維
持できなくなる。又100重量部以上になると、電子写
真特性が低下し、実際の撮像性においても複写画像の悪
化を生じてしまう。
The total amount of the binder resin used in the photoconductive layer of the present invention is 1 with respect to 100 parts by weight of the inorganic photoconductor.
The amount is preferably 0 to 100 parts by weight, more preferably 15 to 50 parts by weight. When the total amount ratio of the binder resin is 10 parts by weight or less, the film strength of the photoconductive layer cannot be maintained. On the other hand, when the amount is 100 parts by weight or more, the electrophotographic characteristics are deteriorated and the copied image is deteriorated even in the actual image pickup property.

【0165】本発明の樹脂〔A〕と樹脂〔B〕の使用割
合は、樹脂〔A〕/樹脂〔B〕の重量比で0.05〜
0.6/0.95〜0.40であることが好ましく、よ
り好ましくは0.10〜0.50/0.90〜0.50
である。又、本発明の樹脂〔A〕と樹脂〔B〕の使用割
合において樹脂〔A〕の重量比が0.05以下になる
と、電子写真特性向上の効果が薄れてしまう。一方0.
6以上になると光導電層の膜強度が充分維持できなくな
る場合(特に電子写真式平版印刷用原版として)が生じ
る。光導電層に供される、樹脂〔A〕及び樹脂〔B〕は
各々2種以上使用してもよく、重要なことは上記のよう
な樹脂〔A〕と樹脂〔B〕の使用割合で使用されること
である。
The ratio of the resin [A] and the resin [B] used in the present invention is 0.05 to 0.05 by weight ratio of resin [A] / resin [B].
It is preferably 0.6 / 0.95 to 0.40, more preferably 0.10 to 0.50 / 0.90 to 0.50.
Is. If the weight ratio of the resin [A] to the resin [A] and the resin [B] used in the present invention is 0.05 or less, the effect of improving the electrophotographic characteristics is diminished. On the other hand, 0.
When it is 6 or more, the film strength of the photoconductive layer cannot be sufficiently maintained (particularly as an electrophotographic lithographic printing plate precursor). Two or more kinds of each of the resin [A] and the resin [B] provided for the photoconductive layer may be used, and what is important is to use the resin [A] and the resin [B] in the above proportions. Is to be done.

【0166】本発明に使用する無機光導電体としては、
酸化亜鉛、酸化チタン、硫化亜鉛、硫化カドミウム、炭
酸カドミウム、セレン化亜鉛、セレン化カドミウム、セ
レン化テルル、硫化鉛等が挙げられる。
The inorganic photoconductor used in the present invention includes:
Examples thereof include zinc oxide, titanium oxide, zinc sulfide, cadmium sulfide, cadmium carbonate, zinc selenide, cadmium selenide, tellurium selenide and lead sulfide.

【0167】本発明に使用する分光増感色素としては、
必要に応じて各種の色素を単独又は併用して用いる。例
えば、宮本晴視、武井英彦、イメージング1973(N
o.8)第12頁、C.J.Young等、RCA R
eview 15、469(1954)、清田航平等、
電気通信学会論文誌J63C(No.2)、97
(1980)、原崎勇次等、工業科学雑誌66 78及
び188(1963)、谷忠昭、日本写真学会誌35
208(1972)等の総説引例のカーボニウム系色
素、ジフェニルメタン色素、トリフェニルメタン色素、
キサンテン系色素、フタレイン系色素、ポリメチン色素
(例えば、オキソノール色素、メロシアニン色素、シア
ニン色素、ロダシアニン色素、スチリル色素等)、フタ
ロシアニン色素(金属を含有してもよい)等が挙げられ
る。
The spectral sensitizing dye used in the present invention includes
If necessary, various dyes are used alone or in combination. For example, Harumi Miyamoto, Hidehiko Takei, Imaging 1973 (N
o. 8) Page 12, C.I. J. Young et al., RCA R
view 15 , 469 (1954), Kouhei Kiyota,
IEICE Transactions J63 - C (No. 2 ), 97
(1980), Yuji Harasaki et al., Industrial Science Magazines 66 78 and 188 (1963), Tadaaki Tani, Journal of the Photographic Society of Japan 35 ,
Carbon dioxide dyes, diphenylmethane dyes, triphenylmethane dyes, such as 208 (1972)
Examples thereof include xanthene dyes, phthalein dyes, polymethine dyes (eg, oxonol dyes, merocyanine dyes, cyanine dyes, rhodacyanine dyes, styryl dyes, etc.), phthalocyanine dyes (which may contain a metal), and the like.

【0168】更に具体的には、カーボニウム系色素、ト
リフェニルメタン色素、キサンテン系色素、フタレイン
系色素を中心に用いたものとしては、特公昭51−45
2号、特開昭50−90334号、同50−11422
7号、同53−39130号、同53−82353号、
米国特許第3,052,540号、同4,054,45
0号、特開昭57−16456号等に記載のものが挙げ
られる。
More specifically, those mainly containing carbonium dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes, and phthalein dyes are disclosed in JP-B-51-45.
2, JP-A-50-90334 and JP-A-50-11422.
No. 7, No. 53-39130, No. 53-82353,
US Pat. Nos. 3,052,540 and 4,054,45
No. 0, those described in JP-A-57-16456, and the like.

【0169】オキソノール色素、メロシアニン色素、シ
アニン色素、ロダシアニン色素等のポリメチン色素とし
ては、F.M.Harmmer 「The Cyani
neDyes and Related Compou
nd」等に記載の色素類が使用可能であり、更に具体的
には、米国特許第3,047,384号、同3,11
0,591号、同3,121,008号、同3,12
5,447号、同3,128,179号、同3,13
2,942号、同3,622,317号、英国特許第
1,226,892号、同1,309,274号、同
1,405,898号、特公昭48−7814号、同5
5−18892号等に記載の色素が挙げられる。
Examples of polymethine dyes such as oxonol dyes, merocyanine dyes, cyanine dyes and rhodacyanine dyes include F.I. M. Harmmer "The Cyani
neDyes and Related Compou
The dyes described in "nd" and the like can be used, and more specifically, U.S. Pat. Nos. 3,047,384 and 3,11.
0,591, 3,121,008, 3,12
5,447, 3,128,179 and 3,13
2,942, 3,622,317, British Patents 1,226,892, 1,309,274, 1,405,898, Japanese Patent Publication Nos. 48-7814, 5
Examples thereof include dyes described in No. 5-18892.

【0170】更に700nm以上の長波長の近赤外〜赤
外光域を分光増感するポリメチン色素として、特開昭4
7−840号、同47−44180号、特公昭51−4
1061号、特開昭49−5034号、同49−451
22号、同57−46245号、同56−35141
号、同57−157254号、同61−26044号、
同61−27551号、米国特許第3,619,154
号、同4,175,956号、「Research D
isclosure」1982年、216、第117〜
118頁等に記載のものが挙げられる。本発明の感光体
は種々の増感色素を併用させても、その性能が増感色素
により変動し難い点において優れている。更には、必要
に応じて、化学増感剤等の従来知られている電子写真感
光層用各種添加剤を併用することもできる。例えば、前
記した総説:イメージング1973(No.8)第12
頁等の総説引例の電子受容性化合物(例えば、ハロゲ
ン、ベンゾキノン、クロラニル、酸無水物有機カルボン
酸等)、小門宏等、「最近の光導電材料と感光体の開発
・実用化」第4章〜第6章・日本科学情報(株)出版部
(1986年)の総説引例のポリアリールアルカン化合
物、ヒンダートフェノール化合物、p−フェニレンジア
ミン化合物等が挙げられる。
Further, as a polymethine dye for spectrally sensitizing the near-infrared to infrared light region having a long wavelength of 700 nm or more, JP-A-4,
No. 7-840, No. 47-44180, and Japanese Patent Publication No. 51-4
1061, JP-A-49-5034, and JP-A-49-451.
No. 22, No. 57-46245, No. 56-35141.
No. 57-157254, No. 61-26044,
No. 61-27551, U.S. Pat. No. 3,619,154.
No. 4,175,956, "Research D
isclosure ", 1982, 216, 117-
Examples thereof include those described on page 118. The photoconductor of the present invention is excellent in that the performance thereof does not easily vary depending on the sensitizing dye even when various sensitizing dyes are used in combination. Furthermore, if necessary, various conventionally known additives for electrophotographic photosensitive layers such as chemical sensitizers can be used in combination. For example, the aforementioned review article: Imaging 1973 (No. 8) No. 12
Electron-accepting compounds (eg halogen, benzoquinone, chloranil, organic carboxylic acid anhydrides, etc.), Hiroshi Komon, et al., “Recent Developments and Practical Uses of Photoconductive Materials and Photoconductors” Chapters to Chapter 6 ・ Polyarylalkane compounds, hindered phenol compounds, p-phenylenediamine compounds and the like, which are the general references of the Japanese Scientific Information Co., Ltd. Publishing (1986).

【0171】これら各種添加剤の添加量は、特に限定的
ではないが、通常、無機光導電体100重量部に対して
0.0001〜2.0重量部である。光導電層の厚さは
1〜100μm、特に10〜50μmが好適である。
The addition amount of these various additives is not particularly limited, but is usually 0.0001 to 2.0 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the inorganic photoconductor. The thickness of the photoconductive layer is preferably 1 to 100 μm, particularly preferably 10 to 50 μm.

【0172】また、電荷発生層と電荷輸送層の積層型感
光体の電荷発生層として光導電層を使用する場合は電荷
発生層の厚さは0.01〜1μm、特に0.05〜0.
5μmが好適である。
When the photoconductive layer is used as the charge generation layer of the laminated type photoreceptor having the charge generation layer and the charge transport layer, the thickness of the charge generation layer is 0.01 to 1 μm, particularly 0.05 to 0.
5 μm is preferable.

【0173】感光体の保護および耐久性、暗電荷保持性
の改善等を主目的として絶縁層を付設させる場合もあ
る。この時は絶縁層は比較的薄く設定され、感光体を特
定の電子写真プロセスに用いる場合に設けられる絶縁層
は比較的厚く設定される。
In some cases, an insulating layer may be additionally provided for the purpose of protecting the photoreceptor and improving durability and dark charge retention. At this time, the insulating layer is set to be relatively thin, and the insulating layer provided when the photoconductor is used in a specific electrophotographic process is set to be relatively thick.

【0174】後者の場合、絶縁層の厚さは、5〜70μ
m、特には、10〜50μmに設定される。積層型感光
体の電荷輸送材料としてはポリビニルカルバゾール、オ
キサゾール系色素、ピラゾリン系色素、トリフェニルメ
タン系色素などがある。電荷輸送層の厚さとしては5〜
40μm、特には10〜30μmが好適である。
In the latter case, the thickness of the insulating layer is 5 to 70 μm.
m, particularly 10 to 50 μm. Examples of the charge transport material for the laminated photoreceptor include polyvinyl carbazole, oxazole dyes, pyrazoline dyes, triphenylmethane dyes and the like. The thickness of the charge transport layer is 5 to
40 μm, particularly 10 to 30 μm is suitable.

【0175】絶縁層あるいは電荷輸送層の形成に用いる
樹脂としては、代表的なものは、ポリスチレン樹脂、ポ
リエステル樹脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、
塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル共重合体樹脂、ポリアクリル樹脂、ポリオレフィン
樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹
脂、メラミン樹脂、シリコン樹脂の熱可塑性樹脂及び硬
化性樹脂が適宜用いられる。
Typical resins used for forming the insulating layer or the charge transport layer are polystyrene resin, polyester resin, cellulose resin, polyether resin,
Vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin, polyacrylic resin, polyolefin resin, urethane resin, polyester resin, epoxy resin, melamine resin, silicone resin thermoplastic resin and curable resin are appropriately used. To be

【0176】本発明による光導電層は、従来公知の支持
体上に設けることができる。一般に云って電子写真感光
層の支持体は、導電性であることが好ましく、導電性支
持体としては、従来と全く同様、例えば、金属、紙、プ
ラスチックシート等の基本に低抵抗性物質を含浸させる
などして導電処理したもの、基本の裏面(感光層を設け
る面と反対面)に導電性を付与し、更にはカール防止を
図る等の目的で少なくとも1層以上をコートしたもの、
前記支持体の表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支
持体の表面層に必要に応じて少なくとも1層以上のプレ
コート層が設けられたもの、Al等を蒸着した基体導電
化プラスチックを紙にラミネートしたもの等が使用でき
る。
The photoconductive layer according to the present invention can be provided on a conventionally known support. Generally speaking, the support of the electrophotographic photosensitive layer is preferably conductive, and as the conductive support, just as in the conventional case, for example, metal, paper, plastic sheet or the like is basically impregnated with a low resistance substance. Conductive treated by, for example, the basic back surface (the surface opposite to the surface on which the photosensitive layer is provided) to have conductivity, and at least one layer coated for the purpose of preventing curling,
Paper having a water-resistant adhesive layer provided on the surface of the support, paper having at least one precoat layer provided on the surface layer of the support, if necessary, and electroconductive plastic substrate having Al vapor deposited thereon. Those laminated to can be used.

【0177】具体的に、導電性基体あるいは導電化材料
の例としては、坂本幸男、電子写真、14(No.
1)、P2〜11(1975)、森賀弘之、「入門特殊
紙の化学」高分子刊行会(1975)、M.F.Hoo
ver、J.Macromol.Sci.Chem.A
−4(6)、第1327〜第1417頁(1970)等
に記載されているもの等を用いる。
Concrete examples of the conductive substrate or the conductive material are Yukio Sakamoto, Electrophotography, 14 (No.
1), P2-11 (1975), Hiroyuki Moriga, "Introduction to Special Paper Chemistry", Polymer Publishing (1975), M.M. F. Hoo
ver., J. Macromol. Sci. Chem. A
-4 (6), 1327 to 1417 (1970) and the like are used.

【0178】本発明の電子写真感光体は、従来公知のあ
らゆる電子写真プロセスを利用した用途において利用す
ることができる。即ち、本発明の感光体はPPC方式お
よびCPC方式のいずれの記録方式にも利用でき、又、
現像剤として乾式現像剤あるいは液体現像剤のいずれの
組合せにも用いることができる。
The electrophotographic photosensitive member of the present invention can be used in applications utilizing any conventionally known electrophotographic process. That is, the photoconductor of the present invention can be used for both PPC and CPC recording systems, and
As the developer, any combination of a dry developer and a liquid developer can be used.

【0179】特に、高精細なオリジナルの忠実な複写画
像形成が可能なことから、液体現像剤との組合せで利用
すると、本発明の効果がより発揮される。又カラー現像
剤との組合せとすることで、黒白複写画像のみならず、
カラー複写画像にも応用することができる(例えば、滝
沢九郎、「写真工業」33、34(1975年)、安西
正保、「電子通信学会技術研究報告77、17(197
7年)等に記載の方法)。
In particular, since it is possible to form a copy image of a high-definition original faithfully, the effect of the present invention is more exerted when used in combination with a liquid developer. Also, by combining with a color developer, not only black and white copy images,
It can also be applied to color reproduction images (for example, Kuro Takizawa, “Photo Industry” 33 , 34 (1975), Masayasu Anzai, “Technical Research Report of IEICE 77 , 17 (197)”.
7 years) and the like).

【0180】更に近年の電子写真プロセスを利用した他
の用途への利用のシステムにおいても有効である。例え
ば光導電体として光導電性酸化亜鉛を用いた本発明の感
光体は、オフセット平版印刷用原版として、又無公害で
白色度の良好な光導電性酸化亜鉛あるいは光導電性酸化
チタンを用いた感光体は、オフセット平版印刷プロセス
で用いられる版下用記載材料あるいはカラープループ等
に用いることができる。
Further, it is also effective in a system used for other purposes using the electrophotographic process in recent years. For example, the photoconductor of the present invention using photoconductive zinc oxide as a photoconductor is used as an offset lithographic printing plate precursor and is made of photoconductive zinc oxide or photoconductive titanium oxide which is pollution-free and has a good whiteness. The photoconductor can be used as an underprinting material used in an offset lithographic printing process, a color group, or the like.

【0181】[0181]

【実施例】以下に本発明の実施例を例示するが、本発明
の内容がこれらに限定されるものではない。 (樹脂〔A−1〕の合成例) マクロモノマーの合成例101:MA−101 1,4−ブタンジオール90.1g、無水コハク酸10
5.1g、p−トルエンスルホン酸1水和物1.6g及
びトルエン200gの混合物を、Dean−StarR
還流装置を付したフラスコ中で攪拌しながら還流下に4
時間加熱した。トルエン溶媒とともに共沸で留去された
水の量は17.5gであった。
EXAMPLES Examples of the present invention will be illustrated below, but the contents of the present invention are not limited thereto. (Synthesis Example of Resin [A-1]) Macromonomer Synthesis Example 101: MA-101 1,9-butanediol 90.1 g, succinic anhydride 10
A mixture of 5.1 g, 1.6 g of p-toluenesulfonic acid monohydrate and 200 g of toluene was added to Dean-StarR.
4 under reflux with stirring in a flask equipped with a reflux device.
Heated for hours. The amount of water distilled off azeotropically with the toluene solvent was 17.5 g.

【0182】次に、アクリル酸17.2g及びトルエン
150gの混合溶液とt−ブチルハイドロキノン1.0
gを上記反応物に加えた後、更に攪拌しながら還流下に
4時間反応した。室温に冷却後、メタノール2リットル
中に再沈し、析出した固形物を濾取し、減圧乾燥した。
収量は135gで、得られたマクロモノマー(MA−1
01)の重量平均分子量は6.8×103 であった。
Next, a mixed solution of 17.2 g of acrylic acid and 150 g of toluene and 1.0 g of t-butylhydroquinone.
After adding g to the above reaction product, the mixture was reacted for 4 hours under reflux with further stirring. After cooling to room temperature, it was reprecipitated in 2 liters of methanol, and the precipitated solid was collected by filtration and dried under reduced pressure.
The yield was 135 g, and the obtained macromonomer (MA-1
The weight average molecular weight of 01) was 6.8 × 10 3 .

【0183】[0183]

【化59】 [Chemical 59]

【0184】マクロモノマーの合成例102:MA−1
02 1,6−ヘキサンジオール120g、無水グルタン酸1
14.1g、p−トルエンスルホン酸1水和物3.0g
及びトルエン250gの混合物を、マクロモノマーの合
成例101と同様の条件で反応した。共沸で留去した水
の量は17.5gであった。
Macromonomer Synthesis Example 102: MA-1
02 120 g of 1,6-hexanediol, glutaric anhydride 1
14.1 g, p-toluenesulfonic acid monohydrate 3.0 g
And a mixture of 250 g of toluene were reacted under the same conditions as in Synthesis Example 101 of macromonomer. The amount of water distilled off azeotropically was 17.5 g.

【0185】室温に冷却後n−ヘキサン2リットル中に
再沈し、液状物をデカント後補集し、減圧下に乾燥し
た。上記反応生成物をトルエンに溶解し、0.1N水酸
化カリウムメタノール溶液で中和滴定する方法によりカ
ルボキシル基含量を測定したところ、500μmol/
gr.となった。
After cooling to room temperature, the product was reprecipitated in 2 liters of n-hexane, the liquid was decanted, collected, and dried under reduced pressure. When the reaction product was dissolved in toluene and the carboxyl group content was measured by a method of neutralization titration with a 0.1N potassium hydroxide methanol solution, it was 500 μmol /
gr. Became.

【0186】上記固形物100g、メタクリル酸8.6
g、t−ブチルハイドロキノン1.0g及び塩化メチレ
ン200gの混合物を、室温で攪拌下に溶解した。ジシ
クロヘキシルカルボジイミド(D.C.C)20.3
g、4 −(N,N−ジメチル)アミノピリジン0.5g
及び塩化メチレン100gの混合溶液を、攪拌下に上記
混合物に1時間で滴定した。更にそのまま4時間攪拌し
た。
100 g of the above solid, 8.6 methacrylic acid
A mixture of g, 1.0 g of t-butylhydroquinone and 200 g of methylene chloride was dissolved under stirring at room temperature. Dicyclohexylcarbodiimide (D.C.C) 20.3
g, 4- (N, N-dimethyl) aminopyridine 0.5 g
And a mixed solution of 100 g of methylene chloride were titrated to the above mixture under stirring for 1 hour. Further, the mixture was stirred as it was for 4 hours.

【0187】D.C.C溶液を滴下するにつれ、不溶の
結晶が析出した。反応混合物を200メッシュのナイロ
ン布を通して不溶物を濾別した。濾液をヘキサン2リッ
トル中に再沈し、粉末を濾集した。これにアセトン50
0mlを加え1時間攪拌した後、不溶解分を濾紙を用い
て自然濾過した。濾液を全体量が1/2になるまで減圧
濃縮した後、この溶液をエーテル1リットル中に加え1
時間攪拌した。析出した固形物を濾集し、減圧乾燥し
た。
D. C. As the C solution was dropped, insoluble crystals were precipitated. The reaction mixture was filtered through a 200-mesh nylon cloth to remove insoluble materials. The filtrate was reprecipitated in 2 liters of hexane and the powder was collected by filtration. 50 parts of acetone
After adding 0 ml and stirring for 1 hour, the insoluble matter was naturally filtered using a filter paper. After concentrating the filtrate under reduced pressure until the total volume becomes 1/2, add this solution to 1 liter of ether and add 1
Stir for hours. The precipitated solid matter was collected by filtration and dried under reduced pressure.

【0188】収量53gで得られたマクロモノマー(M
A−102)の重量平均分子量は8.2×103 であっ
た。
The macromonomer (M
The weight average molecular weight of A-102) was 8.2 × 10 3 .

【0189】[0189]

【化60】 [Chemical 60]

【0190】マクロモノマーの合成例103:MA−1
03 12−ヒドロキシステアリン酸500gを、外温150
℃の油浴中で、10〜15mmHgの減圧下、生成する
水を留去しながら10時間攪拌した。得られた液状物の
カルボキシル基含量は600μmol/grであった。
上記液状物100g、メタクリル酸無水物18.5g、
t−ブチルハイドロキノン1.5g及びテトラヒドロフ
ラン(THF)200gの混合溶液を、温度40〜45
℃で6時間攪拌した。反応混合物を水1リットル中に、
攪拌下に1時間で滴下し、更に1時間攪拌した。静置し
て、沈降した液状物をデカンテーションで取り出し、T
HF200gに溶解し、メタノール1リットル中に再沈
した。沈降した液状物をデカンテーションで取り出し、
減圧乾燥した。
Macromonomer Synthesis Example 103: MA-1
03 12-hydroxystearic acid 500g, outside temperature 150
The mixture was stirred in an oil bath at 0 ° C. under reduced pressure of 10 to 15 mmHg for 10 hours while distilling off the produced water. The carboxyl group content of the obtained liquid was 600 μmol / gr.
100 g of the above liquid, 18.5 g of methacrylic anhydride,
A mixed solution of 1.5 g of t-butylhydroquinone and 200 g of tetrahydrofuran (THF) was added at a temperature of 40 to 45.
The mixture was stirred at 0 ° C for 6 hours. The reaction mixture in 1 liter of water,
The mixture was added dropwise with stirring for 1 hour and further stirred for 1 hour. Let stand and take out the sedimented liquid by decantation.
It was dissolved in 200 g of HF and reprecipitated in 1 liter of methanol. Remove the sedimented liquid by decantation,
It was dried under reduced pressure.

【0191】収量62gでマクロモノマー(MA−10
3)の重量平均分子量は6.7×103 であった。
With a yield of 62 g, the macromonomer (MA-10
The weight average molecular weight of 3) was 6.7 × 10 3 .

【0192】[0192]

【化61】 [Chemical formula 61]

【0193】マクロモノマーの合成例104:MA−1
04 S.Penczek et al. Makromo
l.Chem.188.1347(1987)に記載の
合成法に従って、下記構造のマクロモノマー(MA−1
04)を合成した。
Macromonomer Synthesis Example 104: MA-1
04 S. Penczek et al. Makromo
l. Chem. According to the synthetic method described in 188.1347 (1987), the macromonomer having the following structure (MA-1
04) was synthesized.

【0194】[0194]

【化62】 [Chemical formula 62]

【0195】マクロモノマーの合成例105:MA−1
05 マクロモノマー(MA−104)50g、メタノール3
g、t−ブチルハイドロキノン0.5g及び塩化メチレ
ン150gの混合溶液に、D.C.C.6g、4−N,
N−ジメチルアミノピリジン0.1g及び塩化メチレン
10gの混合溶液を温度20〜25℃で攪拌下に30分
間で滴下し、そのまま更に4時間攪拌した。この反応混
合物にギ酸5gを加えて1時間攪拌した後、析出した不
溶物を濾別した。濾液をメタノール1リットル中に再沈
し、溶媒をデカンテーションで取り除き沈澱物を補集し
減圧乾燥した。得られた粘稠物は、収量28gでMwは
7.5×103 であった。
Macromonomer Synthesis Example 105: MA-1
05 Macromonomer (MA-104) 50g, Methanol 3
g, t-butyl hydroquinone 0.5 g, and methylene chloride 150 g in a mixed solution. C. C. 6 g, 4-N,
A mixed solution of 0.1 g of N-dimethylaminopyridine and 10 g of methylene chloride was added dropwise with stirring at a temperature of 20 to 25 ° C for 30 minutes, and the mixture was further stirred for 4 hours. 5 g of formic acid was added to this reaction mixture and the mixture was stirred for 1 hour, and then the precipitated insoluble matter was filtered off. The filtrate was reprecipitated in 1 liter of methanol, the solvent was removed by decantation, and the precipitate was collected and dried under reduced pressure. The obtained viscous product had a yield of 28 g and Mw of 7.5 × 10 3 .

【0196】[0196]

【化63】 [Chemical formula 63]

【0197】樹脂〔A〕合成例101:〔A−101〕 エチルメタクリレート85g、マクロモノマー(MA−
101)15g及びトルエン200gの混合物を窒素気
流下に温度85℃に加温した。2,2’−アゾビス(バ
レロニトリル)(略称A.I.V.N.)6gを加え3
時間攪拌した。更に、A.I.V.N.1gを加え3時
間、その後更にA.I.V.N.0.8gを加え4時間
攪拌した。得られた共重合体のMwは8.0×103
あった。
Resin [A] Synthesis Example 101: [A-101] Ethyl methacrylate 85 g, macromonomer (MA-
101) A mixture of 15 g and 200 g of toluene was heated to a temperature of 85 ° C. under a nitrogen stream. 6 g of 2,2′-azobis (valeronitrile) (abbreviation AIVN) was added and 3
Stir for hours. In addition, A. I. V. N. 1 g was added for 3 hours, and then A. I. V. N. 0.8 g was added and stirred for 4 hours. The Mw of the obtained copolymer was 8.0 × 10 3 .

【0198】[0198]

【化64】 [Chemical 64]

【0199】樹脂〔A〕の合成例102:〔A−10
2〕 ベンジルメタクリレート95g、マクロモノマー(MA
−104)5g、トルエン150g及びエタノール50
gの混合物を、窒素気流下に温度80℃に加温した。
4,4’−アゾビス(2−シアノ吉草酸)(略称:A.
C.V.)5gを加え、4時間攪拌した。次に、A.
C.V.1gを加え3時間、更にその後A.C.V.
0.5gを加え、3時間攪拌した。得られた共重合体の
重量平均分子量は8.5×103 であった。
Synthesis Example of Resin [A] 102: [A-10
2] benzyl methacrylate 95g, macromonomer (MA
-104) 5 g, toluene 150 g and ethanol 50
g mixture was warmed to a temperature of 80 ° C. under a stream of nitrogen.
4,4'-azobis (2-cyanovaleric acid) (abbreviation: A.A.
C. V. ) 5 g was added and stirred for 4 hours. Next, A.
C. V. 1 g was added for 3 hours, and then A. C. V.
0.5 g was added and stirred for 3 hours. The weight average molecular weight of the obtained copolymer was 8.5 × 10 3 .

【0200】[0200]

【化65】 [Chemical 65]

【0201】樹脂〔A〕の合成例103〜113:〔A
−103〕〜〔A−113〕 樹脂〔A〕の合成例101と同様の重合法で、下記表−
Aの各樹脂を各々合成した。
Synthesis Examples 103 to 113 of Resin [A]: [A
-103] to [A-113] The same polymerization method as in Synthesis Example 101 of Resin [A] was carried out, and the following table-
Each resin A was synthesized.

【0202】[0202]

【表1】 [Table 1]

【0203】[0203]

【表2】 [Table 2]

【0204】[0204]

【表3】 [Table 3]

【0205】本発明の樹脂〔A〕の合成例114:〔A
−114〕 ベンジルメタクリレート95g、マクロモノマー(MA
−102)5g、チオリンゴ酸2.5g、トルエン15
0g及びエタノール50gの混合物を、窒素気流下に温
度75℃に加温した。2,2’−アゾビスイソブチロニ
トリル(略号A.I.B.N.)0.8gを加え4時間
反応し、更にA.I.B.N.0.5gを加え3時間、
更に又A.I.B.N.0.5gを加え3時間反応し
た。得られた共重合体のMwは7.5×103 であっ
た。
Synthesis Example 114 of resin [A] of the present invention: [A
-114] benzyl methacrylate 95 g, macromonomer (MA
-102) 5 g, thiomalic acid 2.5 g, toluene 15
A mixture of 0 g and 50 g of ethanol was heated to a temperature of 75 ° C. under a nitrogen stream. 0.8 g of 2,2'-azobisisobutyronitrile (abbreviation AIBN) was added and reacted for 4 hours. I. B. N. Add 0.5g for 3 hours,
Furthermore, A. I. B. N. 0.5 g was added and reacted for 3 hours. The Mw of the obtained copolymer was 7.5 × 10 3 .

【0206】[0206]

【化66】 [Chemical formula 66]

【0207】樹脂〔A〕の合成例115〜123:〔A
−115〕〜〔A−123〕 樹脂〔A〕の合成例114において、連鎖移動剤として
下記メルカプト化合物を用いて、同様の重合条件で、下
記表−Bの樹脂〔A〕を各々製造した。
Synthesis Examples 115 to 123 of Resin [A]: [A
-115] to [A-123] In Synthesis Example 114 of Resin [A], the following mercapto compound was used as a chain transfer agent, and Resin [A] shown in Table B below was produced under the same polymerization conditions.

【0208】[0208]

【表4】 [Table 4]

【0209】[0209]

【表5】 [Table 5]

【0210】樹脂〔A〕の合成例124〜131:〔A
−124〕〜〔A−131〕 樹脂〔A〕の合成例102において、アゾビス化合物と
して、A.C.V.の代わりに他のアゾビス化合物に代
えて、同様の重合条件で下記表−Cの樹脂〔A〕を各々
製造した。各樹脂〔A〕のMwは8×103 〜1.5×
104 であった。
Synthesis Examples 124 to 131 of Resin [A]: [A
-124] to [A-131] In Synthesis Example 102 of Resin [A], as the azobis compound, A.I. C. V. Instead of the other azobis compound, a resin [A] shown in the following Table-C was produced under the same polymerization conditions. Mw of each resin [A] is 8 × 10 3 to 1.5 ×
It was 10 4 .

【0211】[0211]

【表6】 [Table 6]

【0212】[0212]

【表7】 [Table 7]

【0213】樹脂〔A〕の合成例132〜141:〔A
−132〕〜〔A−141〕 樹脂〔A〕の合成例101における、重合条件と同様に
して、下記表−Dの各樹脂〔A〕を合成した。得られた
共重合体のMwは7.5×103 〜9.5×103 であ
った。
Synthesis Examples 132-141: [A of Resin [A]
-132] to [A-141] Each resin [A] shown in Table D below was synthesized under the same polymerization conditions as in Synthesis Example 101 of Resin [A]. The Mw of the obtained copolymer was 7.5 × 10 3 to 9.5 × 10 3 .

【0214】[0214]

【表8】 [Table 8]

【0215】[0215]

【表9】 [Table 9]

【0216】樹脂〔A〕の合成例142:〔A−14
2〕 ベンジルメタクリレート80g、マクロモノマー(MA
−105)20g、トルエン200gの混合物を、樹脂
〔A〕の合成例102と同様の重合条件で反応し、樹脂
〔A−142〕を合成した。得られた共重合体の重量平
均分子量は9.5×103 であった。
Synthesis Example 142 of Resin [A]: [A-14
2] 80 g of benzyl methacrylate, macromonomer (MA
A mixture of 20 g of -105) and 200 g of toluene was reacted under the same polymerization conditions as in Synthesis Example 102 for resin [A] to synthesize resin [A-142]. The weight average molecular weight of the obtained copolymer was 9.5 × 10 3 .

【0217】[0217]

【化67】 [Chemical formula 67]

【0218】(樹脂〔A−2〕の合成例) マクロモノマーの合成例201:MA−201 1,4−ブタンジオール90.1g、無水コハク酸10
5.1g、p−トルエンスルホン酸1水和物1.6g及
びトルエン200gの混合物を、Dean−StarR
還流装置を付したフラスコ中で攪拌しながら還流下に、
4時間加熱した。トルエン溶媒とともに共沸で留去され
た水の量は17.5gであった。
(Synthesis Example of Resin [A-2]) Macromonomer Synthesis Example 201: MA-201 1,4-butanediol 90.1 g, succinic anhydride 10
A mixture of 5.1 g, 1.6 g of p-toluenesulfonic acid monohydrate and 200 g of toluene was added to Dean-StarR.
Under reflux with stirring in a flask equipped with a reflux device,
Heated for 4 hours. The amount of water distilled off azeotropically with the toluene solvent was 17.5 g.

【0219】次に、2−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト21.2g及びトルエン150gの混合溶液とt−ブ
チルハイドロキノン1.0gを上記反応物に加えた後、
ジシクロヘキシルカルボジイミド(D.C.C.)3
3.5g、4−(N,N−ジメチルアミノ)ピリジン
1.0g及び塩化メチレン100gの混合溶液を攪拌下
に上記混合物に1時間で滴下した。更に、そのまま、4
時間攪拌した。
Next, after adding a mixed solution of 21.2 g of 2-hydroxyethyl methacrylate and 150 g of toluene and 1.0 g of t-butylhydroquinone to the above reaction product,
Dicyclohexylcarbodiimide (D.C.C.) 3
A mixed solution of 3.5 g, 1.0 g of 4- (N, N-dimethylamino) pyridine and 100 g of methylene chloride was added dropwise to the above mixture under stirring for 1 hour. Furthermore, 4 as it is
Stir for hours.

【0220】反応混合物を200メッシュのナイロン布
を通して、不溶物を濾別した。濾液をメタノール3リッ
トル中に再沈し、粉末を濾集した。これを塩化メチレン
200gに溶解し、再度メタノール3リットル中に再沈
した。粉末を濾集し、減圧下に乾燥し、重量平均分子量
(以下Mw)6.3×103 のマクロモノマーを103
g得た。
The reaction mixture was filtered through a 200-mesh nylon cloth to remove insoluble materials. The filtrate was reprecipitated in 3 liters of methanol, and the powder was collected by filtration. This was dissolved in 200 g of methylene chloride and reprecipitated again in 3 liters of methanol. The powder was collected by filtration and dried under reduced pressure to obtain 103% of macromonomer having a weight average molecular weight (hereinafter Mw) of 6.3 × 10 3.
g was obtained.

【0221】[0221]

【化68】 [Chemical 68]

【0222】マクロモノマーの合成例202:MA−2
02 1,6−ヘキサンジオール120g、無水グルタル酸1
14.1g、p−トルエンスルホン酸1水和物3.0g
及びトルエン250gの混合物を、合成例1と同様の条
件で反応した。共沸で留去した水の量は17.5gであ
った。室温に冷却後n−ヘキサン2リットル中に再沈し
液状物をデカント後補集し減圧下に乾燥した。上記反応
生成物を、トルエンに溶解し0.1N水酸化カリウムメ
タノール溶液で中和滴定する方法により、カルボキシル
基含量を測定し、500μmol/grとなった。上記
固形物100g、グリシジルメタクリレート10.7
g、t−ブチルハイドロキノン1.0g、N,N’−ジ
メチルドデシルアミン1.0g及びキシレン200gの
混合物を、温度140℃で5時間攪拌した。
Macromonomer Synthesis Example 202: MA-2
02 120 g of 1,6-hexanediol, glutaric anhydride 1
14.1 g, p-toluenesulfonic acid monohydrate 3.0 g
And a mixture of 250 g of toluene were reacted under the same conditions as in Synthesis Example 1. The amount of water distilled off azeotropically was 17.5 g. After cooling to room temperature, the product was reprecipitated in 2 liters of n-hexane, the liquid was decanted, collected, and dried under reduced pressure. The reaction product was dissolved in toluene and neutralized and titrated with a 0.1N potassium hydroxide methanol solution to measure the carboxyl group content, which was 500 μmol / gr. 100 g of the above solid, glycidyl methacrylate 10.7
A mixture of g, 1.0 g of t-butylhydroquinone, 1.0 g of N, N′-dimethyldodecylamine and 200 g of xylene was stirred at a temperature of 140 ° C. for 5 hours.

【0223】冷却後、反応溶液をn−ヘキサン3リット
ル中に再沈し、液状物をデカント後補集し、減圧下に乾
燥した。このマクロモノマーを前記の中和滴定法により
滴定して残存するカルボキシル基含量を測定した所、8
μmol/grとなり、反応率は99.8%であった。
得られたマクロモノマーの収量は63gで重量平均分子
量7.6×103 であった。
After cooling, the reaction solution was reprecipitated in 3 liters of n-hexane, the liquid was decanted, collected, and dried under reduced pressure. This macromonomer was titrated by the above-mentioned neutralization titration method to measure the residual carboxyl group content.
It became μmol / gr and the reaction rate was 99.8%.
The yield of the obtained macromonomer was 63 g, and the weight average molecular weight was 7.6 × 10 3 .

【0224】[0224]

【化69】 [Chemical 69]

【0225】マクロモノマーの合成例203:MA−2
03 マクロモノマーの合成例202で得られたポリエステル
オリゴマー100g、塩化メチレン200g及びジメチ
ルホルムアミド1ccの混合物に、温度25〜30℃で
塩化チオニル15gを攪拌下に滴下した。滴下終了後そ
のまま2時間攪拌した。次に、アスピレーター減圧下
に、塩化メチレン、過剰の塩化チオニルを留去後、残留
物にテトラヒドロフラン200g及びピリジン11.9
gを加えて溶解し、アリルアルコール8.7gを温度2
5〜30℃で攪拌下に滴下した。滴下後そのまま更に、
3時間攪拌し、その後、反応混合物を水1リットル中に
投入し、1時間攪拌した。静置後、沈澱した液状物をデ
カントで分取した。この液状物に水1リットルを投入
し、再び30分間攪拌し、静置して沈降した液状物をデ
カントで分取した。この操作を上澄み溶液が中性になる
まで繰り返し行なった。次に、この液状物にジエチルエ
ーテル500mlを加えて攪拌を行ない、固形物化させ
た。
Macromonomer Synthesis Example 203: MA-2
03 To a mixture of 100 g of the polyester oligomer obtained in Synthesis Example 202 of macromonomer, 200 g of methylene chloride and 1 cc of dimethylformamide, 15 g of thionyl chloride was added dropwise with stirring at a temperature of 25 to 30 ° C. After completion of dropping, the mixture was stirred for 2 hours as it was. Next, methylene chloride and excess thionyl chloride were distilled off under reduced pressure by an aspirator, and then 200 g of tetrahydrofuran and 11.9 of pyridine were added to the residue.
g and added to dissolve, 8.7 g of allyl alcohol at a temperature of 2
It was added dropwise with stirring at 5 to 30 ° C. After dropping, just as it is,
After stirring for 3 hours, the reaction mixture was poured into 1 liter of water and stirred for 1 hour. After standing still, the precipitated liquid material was separated by decanting. 1 liter of water was added to this liquid material, the mixture was stirred again for 30 minutes, and allowed to stand, and the liquid material precipitated was collected by decanting. This operation was repeated until the supernatant solution became neutral. Next, 500 ml of diethyl ether was added to this liquid substance, and the mixture was stirred to be solidified.

【0226】固形物を濾集し減圧下に乾燥し、重量平均
分子量7.7×103 のマクロモノマー59gを得た。
The solid matter was collected by filtration and dried under reduced pressure to obtain 59 g of a macromonomer having a weight average molecular weight of 7.7 × 10 3 .

【0227】[0227]

【化70】 [Chemical 70]

【0228】マクロモノマーの合成例204:MA−2
04 12−ヒドロキシステアリン酸500gを、外温150
℃の油浴中で、10〜15mmHgの減圧下に生成する
水を留去しながら10時間攪拌した。得られた液状物の
カルボキシル基含量は600μmol/grであった。
上記液状物100g、2−ヒドロキシエチルアクリレー
ト13.9g、t−ブチルハイドロキノン1.5g及び
塩化メチレン200gの混合溶液にジシクロヘキシルカ
ルボジイミド(D.C.C.)24.8g、4−(N,
N−ジメチル)アミノピリジン0.8g及び塩化メチレ
ン100gの混合溶液を、攪拌下に上記混合物に室温で
1時間で滴下した。更に、そのまま、4時間攪拌した。
反応混合物を200メッシュのナイロン布を通して不溶
物を濾別した。
Macromonomer Synthesis Example 204: MA-2
04 12-hydroxystearic acid 500g, outside temperature 150
The mixture was stirred in an oil bath at 0 ° C. for 10 hours while distilling off water produced under reduced pressure of 10 to 15 mmHg. The carboxyl group content of the obtained liquid was 600 μmol / gr.
24.8 g of dicyclohexylcarbodiimide (D.C.C.), 4- (N,) in a mixed solution of 100 g of the above liquid, 13.9 g of 2-hydroxyethyl acrylate, 1.5 g of t-butylhydroquinone and 200 g of methylene chloride.
A mixed solution of 0.8 g of N-dimethyl) aminopyridine and 100 g of methylene chloride was added dropwise to the above mixture at room temperature under stirring for 1 hour. Furthermore, the mixture was stirred as it was for 4 hours.
The reaction mixture was filtered through a 200-mesh nylon cloth to remove insoluble materials.

【0229】濾液を減圧下に濃縮後、残渣物にn−ヘキ
サン300gを加えて攪拌し不溶物を濾紙を用いて濾別
した。この濾液を濃縮後、残渣物にテトラヒドロフラン
100gを加え溶解した。この混合物をメタノール1リ
ットル中に再沈し、沈降した液状物をデカントで分散し
た。減圧乾燥後、収量60gで重量平均分子量6.7×
103 のマクロモノマーを得た。
The filtrate was concentrated under reduced pressure, 300 g of n-hexane was added to the residue and the mixture was stirred, and the insoluble matter was filtered off with a filter paper. After the filtrate was concentrated, 100 g of tetrahydrofuran was added to the residue to dissolve it. This mixture was reprecipitated in 1 liter of methanol, and the precipitated liquid material was dispersed by decanting. After drying under reduced pressure, the yield was 60 g and the weight average molecular weight was 6.7 ×.
10 3 macromonomers were obtained.

【0230】[0230]

【化71】 [Chemical 71]

【0231】樹脂〔A〕合成例201:〔A−201〕 ベンジルメタクリレート80g、マクロモノマー(MA
−201)20g及びトルエン150g及びエタノール
50gの混合物を窒素気流下に温度80℃に加温した。
4,4’−アゾビス(4−シアノ吉草酸)(略称A.
C.V.)6gを加え4時間攪拌した。更にA.C.
V.1.0gを加え2時間、その後更にA.C.V.
1.0gを加え3時間攪拌した。得られた共重合体の重
量平均分子量は8.8×103 であった。
Resin [A] Synthesis Example 201: [A-201] 80 g of benzyl methacrylate, macromonomer (MA
A mixture of 20 g of -201), 150 g of toluene and 50 g of ethanol was heated to a temperature of 80 ° C under a nitrogen stream.
4,4'-azobis (4-cyanovaleric acid) (abbreviation A.
C. V. ) 6 g was added and stirred for 4 hours. Furthermore, A. C.
V. Add 1.0 g for 2 hours, then add A. C. V.
1.0 g was added and stirred for 3 hours. The weight average molecular weight of the obtained copolymer was 8.8 × 10 3 .

【0232】[0232]

【化72】 [Chemical 72]

【0233】樹脂〔A〕の合成例202〜217:〔A
−202〕〜〔A−217〕 樹脂〔A〕の合成例201と同様の重合方法で下記表−
Eの各樹脂〔A〕を合成した。各樹脂の重量平均分子量
は8.0×103 〜9.5×103 であった。
Synthesis Examples 202 to 217 of Resin [A]: [A
-202] to [A-217] The following table shows the same polymerization method as in Synthesis Example 201 of Resin [A].
Each resin [A] of E was synthesized. The weight average molecular weight of each resin was 8.0 × 10 3 to 9.5 × 10 3 .

【0234】[0234]

【表10】 [Table 10]

【0235】[0235]

【表11】 [Table 11]

【0236】[0236]

【表12】 [Table 12]

【0237】[0237]

【表13】 [Table 13]

【0238】樹脂〔A〕の合成例218:〔A−21
8〕 ベンジルメタクリレート80g、下記構造のマクロモノ
マー(MA−205)20g、チオグリコール酸3g及
びトルエン200gの混合溶液を窒素気流下に温度75
℃に加温した。A.I.B.N.0.8gを加え4時間
攪拌した。更にA.I.B.N.0.5gを加え4時
間、更にA.I.B.N.0.3gを加えて5時間攪拌
した。得られた共重合体の重量平均分子量は8.0×1
3であった。
Synthesis Example 218 of Resin [A]: [A-21
8] A mixed solution of 80 g of benzyl methacrylate, 20 g of a macromonomer (MA-205) having the following structure, 3 g of thioglycolic acid and 200 g of toluene was heated at a temperature of 75 under a nitrogen stream.
Warmed to ° C. A. I. B. N. 0.8 g was added and stirred for 4 hours. Furthermore, A. I. B. N. 0.5 g was added for 4 hours, and A. I. B. N. 0.3 g was added and stirred for 5 hours. The weight average molecular weight of the obtained copolymer is 8.0 × 1.
It was 0 3 .

【0239】[0239]

【化73】 [Chemical formula 73]

【0240】[0240]

【化74】 [Chemical 74]

【0241】樹脂〔A〕の合成例219〜227:〔A
−219〕〜〔A−227〕 樹脂〔A〕の合成例218と同様の重合条件で、各単量
体及びメルカプト化合物を代えて反応させて、下記表−
Fの各樹脂を合成した。得られた各樹脂の重量平均分子
量は7.0×103 〜1.5×104 の範囲であった。
Synthesis Examples 219 to 227 of Resin [A]: [A
-219] to [A-227] Under the same polymerization conditions as in Synthesis Example 218 of Resin [A], the respective monomers and the mercapto compound were replaced and reacted, and the following table-
Each resin of F was synthesized. The weight average molecular weight of each obtained resin was in the range of 7.0 × 10 3 to 1.5 × 10 4 .

【0242】[0242]

【表14】 [Table 14]

【0243】[0243]

【表15】 [Table 15]

【0244】(樹脂〔A−3〕の合成例) 樹脂〔A〕の合成例301:〔A−301〕 ベンジルメタクリレート80g、下記構造のマクロモノ
マー(MA−301)20g及びトルエン150g及び
エタノール50gの混合物を窒素気流下に温度80℃に
加温した。A.C.V.7gを加え4時間攪拌した。更
にA.C.V.1.0gを加え4時間、その後更にA.
I.B.N.0.2gを加え3時間攪拌した。得られた
共重合体のMwは9.3×103 であった。
(Synthesis Example of Resin [A-3]) Synthesis Example 301 of Resin [A]: [A-301] 80 g of benzyl methacrylate, 20 g of macromonomer (MA-301) having the following structure, 150 g of toluene and 50 g of ethanol. The mixture was warmed to a temperature of 80 ° C. under a stream of nitrogen. A. C. V. 7 g was added and stirred for 4 hours. Furthermore, A. C. V. 1.0 g was added for 4 hours, and then A.
I. B. N. 0.2 g was added and stirred for 3 hours. The Mw of the obtained copolymer was 9.3 × 10 3 .

【0245】[0245]

【化75】 [Chemical 75]

【0246】[0246]

【化76】 [Chemical 76]

【0247】樹脂〔A〕の合成例302〜307:〔A
−302〕〜〔A−307〕 樹脂〔A〕の合成例301において、マクロモノマー
(MA−301)を下記表のマクロモノマーに代えた他
は、該合成例301と同様に反応させて、下記表−Gの
樹脂〔A〕を各々合成した。得られた共重合体のMwは
9.0×103 〜1.2×104 であった。
Synthesis Examples 302 to 307 of Resin [A]: [A
-302] to [A-307] In Synthesis Example 301 of Resin [A], the following reaction was performed in the same manner as in Synthesis Example 301 except that the macromonomer (MA-301) was replaced with the macromonomer shown in the following table. The resins [A] shown in Table-G were each synthesized. The Mw of the obtained copolymer was 9.0 × 10 3 to 1.2 × 10 4 .

【0248】[0248]

【表16】 [Table 16]

【0249】[0249]

【表17】 [Table 17]

【0250】樹脂〔A〕の合成例308:〔A−30
8〕 2−クロロフェニルメタクリレート75g、マクロモノ
マー(MA−303)25g、チオグリコール酸3g及
びトルエン200gの混合溶液を窒素気流下に温度70
℃に加温した。A.I.B.N.1.0gを加え4時間
反応し、更に、A.I.B.N.0.5gを加え3時
間、後にA.I.B.N.0.3gを加え温度80℃に
して4時間反応した。
Synthesis Example of Resin [A] 308: [A-30
8] A mixed solution of 75 g of 2-chlorophenyl methacrylate, 25 g of macromonomer (MA-303), 3 g of thioglycolic acid and 200 g of toluene was heated at a temperature of 70 under a nitrogen stream.
Warmed to ° C. A. I. B. N. 1.0 g was added and the reaction was carried out for 4 hours. I. B. N. 0.5 g was added for 3 hours, and then A. I. B. N. 0.3 g was added and the temperature was raised to 80 ° C. to react for 4 hours.

【0251】得られた共重合体のMwは8.2×104
であった。
The Mw of the obtained copolymer was 8.2 × 10 4.
Met.

【0252】[0252]

【化77】 [Chemical 77]

【0253】樹脂〔A〕の合成例309〜316:〔A
−309〕〜〔A−316〕 樹脂〔A〕の合成例308において、メタクリレート、
マクロモノマー(MA)及びメルカプト化合物を下記表
−Hの構造に相当する化合物に代えて、同様の重合方法
で各樹脂〔A〕を合成した。各樹脂〔A〕のMwは7.
0×103 〜9×103 の範囲であった。
Synthesis Examples 309 to 316 of Resin [A]: [A
-309] to [A-316] In Synthesis Example 308 of Resin [A], methacrylate,
Each resin [A] was synthesized by the same polymerization method, except that the macromonomer (MA) and the mercapto compound were replaced with the compounds corresponding to the structures shown in Table H below. The Mw of each resin [A] is 7.
It was in the range of 0 × 10 3 to 9 × 10 3 .

【0254】[0254]

【表18】 [Table 18]

【0255】[0255]

【表19】 [Table 19]

【0256】〔樹脂〔B〕の合成〕 樹脂〔B〕の合成例1:〔B−1〕 メチルアクリレート42.5g、アクリル酸2.5g、
2−カルボキシエチルN,N−ジエチルジチオカーバメ
ート:〔I−1〕7.6g及びテトラヒドロフラン50
gの混合物を、窒素気流下に容器に密閉し、温度50℃
に加温した。これに、400Wの高圧水銀灯で10cm
の距離からガラスフィルターを通して、8時間光照射し
光重合した。
[Synthesis of Resin [B]] Synthesis Example 1 of Resin [B] 1: [B-1] 42.5 g of methyl acrylate, 2.5 g of acrylic acid,
2-Carboxyethyl N, N-diethyldithiocarbamate: [I-1] 7.6 g and tetrahydrofuran 50
The mixture of g was sealed in a container under a nitrogen stream and the temperature was 50 ° C.
Warmed to. To this, 10cm with 400W high pressure mercury lamp
Light was irradiated for 8 hours through a glass filter from a distance of 3 to photopolymerize.

【0257】この反応物を石油エーテル500ミリリッ
トル中に再沈し、沈殿物を捕集・乾燥した。得られた重
合体は収量41gでMw1.0×104 であった。更
に、上記重合体(高分子開始剤となる)10g、メチル
メタクリレート65g、メチルアクリレート25g及び
テトラヒドロフラン100gの混合物を、窒素気流下に
温度50℃とした。これに上記と同条件で光照射し、1
0時間光重合した。得られた混合物をメタノール1リッ
トル中に再沈し、沈殿物を捕集・乾燥した。得られたブ
ロック重合体は収量85gでMw8.5×104 であっ
た。
The reaction product was reprecipitated in 500 ml of petroleum ether, and the precipitate was collected and dried. The yield of the obtained polymer was 41 g, and the Mw was 1.0 × 10 4 . Further, a mixture of 10 g of the above-mentioned polymer (which serves as a polymer initiator), 65 g of methyl methacrylate, 25 g of methyl acrylate and 100 g of tetrahydrofuran was heated to 50 ° C. under a nitrogen stream. This is irradiated with light under the same conditions as above, and 1
Photopolymerized for 0 hours. The obtained mixture was reprecipitated in 1 liter of methanol, and the precipitate was collected and dried. The yield of the obtained block polymer was 85 g, and the Mw was 8.5 × 10 4 .

【0258】[0258]

【化78】 [Chemical 78]

【0259】樹脂〔B−2〕の合成例2:〔B−2〕 メチルメタクリレート67g、メチルアクリレート33
g、ベンジルN−エチル−N−(2−カルボキシルエチ
ルジチオカーバメート:〔I−2〕2.2g及びテトラ
ヒドロフラン100gの混合溶液を窒素気流下温度50
℃とした。これに合成例1と同様の光照射条件で8時間
光重合した。反応混合物を、メタノール1リットル中に
再沈し、沈殿物を捕集・乾燥して、Mw8×104 の重
合体を収量85gで得た。上記重合体85g、メチルメ
タクリレート14g、メタクリル酸1g及びテトラヒド
ロフラン150gの混合物を窒素気流下に温度50℃と
した。これを、合成例1と同様の光照射条件下で16時
間光重合した。反応物をメタノール1リットル中に再沈
し、沈殿物を捕集・乾燥して、Mw9.5×104のブ
ロック共重合体を収量83gで得た。
Synthesis Example 2 of Resin [B-2]: [B-2] 67 g of methyl methacrylate and 33 g of methyl acrylate
g, benzyl N-ethyl-N- (2-carboxylethyldithiocarbamate: [I-2] 2.2 g and a mixed solution of 100 g of tetrahydrofuran under a nitrogen stream at a temperature of 50.
℃ was made. This was photopolymerized for 8 hours under the same light irradiation conditions as in Synthesis Example 1. The reaction mixture was reprecipitated in 1 liter of methanol, and the precipitate was collected and dried to obtain a polymer having a Mw of 8 × 10 4 in a yield of 85 g. A mixture of 85 g of the above polymer, 14 g of methyl methacrylate, 1 g of methacrylic acid and 150 g of tetrahydrofuran was heated to 50 ° C. under a nitrogen stream. This was photopolymerized for 16 hours under the same light irradiation conditions as in Synthesis Example 1. The reaction product was reprecipitated in 1 liter of methanol, and the precipitate was collected and dried to obtain a block copolymer having an Mw of 9.5 × 10 4 in a yield of 83 g.

【0260】[0260]

【化79】 [Chemical 79]

【0261】樹脂〔B〕の合成例3:〔B−3〕 エチルメタクリレート80g及びトルエン200gの混
合溶液を窒素気流下に充分に脱気し−20℃に冷却し
た。次いで1,1−ジフェニル−3−メチルペンチルリ
チウム2.0gを加え、12時間攪拌した。更にこの混
合物にメチルメタクリレート19g及び4−ビニルフェ
ニルカルボニルオキシトリメチルシラン1.5gを加え
12時間反応した後、二酸化炭素気流下に2時間そのま
ま反応し、更に温度0℃で2時間反応した。
Synthesis Example 3 of Resin [B]: [B-3] A mixed solution of 80 g of ethyl methacrylate and 200 g of toluene was sufficiently deaerated under a nitrogen stream and cooled to -20 ° C. Next, 2.0 g of 1,1-diphenyl-3-methylpentyllithium was added, and the mixture was stirred for 12 hours. Further, 19 g of methyl methacrylate and 1.5 g of 4-vinylphenylcarbonyloxytrimethylsilane were added to this mixture, and the mixture was reacted for 12 hours, then reacted in a carbon dioxide stream for 2 hours as it was, and further reacted at a temperature of 0 ° C. for 2 hours.

【0262】この反応混合物に、30%塩酸10gを含
有したメタノール溶液1リットルを30分間で攪拌下に
滴下し、そのまま1時間攪拌した。析出した粉末を濾別
し、更にメタノールで洗浄し、乾燥した。収量75gで
Mw6.5×104 のブロック共重合体を得た。
To this reaction mixture, 1 liter of a methanol solution containing 10 g of 30% hydrochloric acid was added dropwise with stirring for 30 minutes, and the mixture was stirred for 1 hour as it was. The precipitated powder was filtered off, washed with methanol and dried. A block copolymer having an Mw of 6.5 × 10 4 was obtained with a yield of 75 g.

【0263】[0263]

【化80】 [Chemical 80]

【0264】樹脂〔B〕の合成例4〜13:〔B−4〕
〜〔B−13〕 樹脂〔B〕の合成例2と同様の反応方法で、下記表−I
に示す樹脂〔B〕を合成した。得られた各重合体のMw
は7×104 〜9×104 の範囲であった。
Synthesis Examples 4 to 13 of Resin [B]: [B-4]
~ [B-13] In the same reaction method as in Synthesis Example 2 of Resin [B], the following Table-I is used.
The resin [B] shown in was synthesized. Mw of each polymer obtained
Was in the range of 7 × 10 4 to 9 × 10 4 .

【0265】[0265]

【表20】 [Table 20]

【0266】[0266]

【表21】 [Table 21]

【0267】[0267]

【表22】 [Table 22]

【0268】樹脂〔B〕の合成例14〜20:〔B−1
4〕〜〔B−20〕 樹脂〔B−1〕の合成例において、開始剤〔I−1〕
7.6gの代わりに、下記表−Jの各開始剤4.2×1
-3モルを用いた他は、合成例1と同様にして、各ブロ
ック共重合体を合成した。各共重合体のMwは8×10
4 〜10×104 の範囲であった。
Synthesis Examples 14 to 20 of Resin [B]: [B-1
4] to [B-20] In the synthesis example of the resin [B-1], the initiator [I-1]
Instead of 7.6 g, 4.2 x 1 of each initiator in Table-J below.
0 -3 other with moles, in the same manner as in Synthesis Example 1, it was synthesized the block copolymer. Mw of each copolymer is 8 × 10
It was in the range of 4 to 10 × 10 4 .

【0269】[0269]

【表23】 [Table 23]

【0270】樹脂〔B〕の合成例21〜30:〔B−2
1〕〜〔B−30〕 下記表−Kに相当する各重合体を合成例〔B−2〕の方
法と同様に光重合反応で重合した。
Synthesis Examples 21 to 30 of Resin [B]: [B-2
1] to [B-30] Each polymer corresponding to the following Table-K was polymerized by a photopolymerization reaction in the same manner as in Synthesis Example [B-2].

【0271】[0271]

【表24】 [Table 24]

【0272】[0272]

【表25】 [Table 25]

【0273】実施例1並びに比較例1 樹脂〔A−107〕6g(固形分量として)、樹脂〔B
−1〕34g(固形分量として)、光導電性酸化亜鉛2
00g、下記構造のメチン色素〔I〕0.018g、チ
オサリチル酸0.18g及びトルエン300gの混合物
をホモジナイザー(日本精機(株)製)中、回転数6×
103 rpmで10分間分散して、感光層形成物を調整
し、これを導電処理した紙に、乾燥付着量が18g/m
2 となる様に、ワイヤーバーで塗布し、110℃で10
秒間乾燥し、ついで暗所で20℃、65%RHの条件下
で24時間放置することにより、電子写真感光材料(以
下、単に感光材料ともいう)を作製した。
Example 1 and Comparative Example 1 6 g (as solid content) of resin [A-107], resin [B
-1] 34 g (as solid content), photoconductive zinc oxide 2
00g, a mixture of 0.018 g of methine dye [I] having the following structure, 0.18 g of thiosalicylic acid and 300 g of toluene in a homogenizer (manufactured by Nippon Seiki Co., Ltd.), the rotation speed is 6 ×.
A photosensitive layer-formed product was prepared by dispersing at 10 3 rpm for 10 minutes, and a dry adhesion amount of 18 g / m 2 was applied to a conductive-treated paper.
Apply with a wire bar so that it becomes 2, and 10 at 110 ℃
An electrophotographic light-sensitive material (hereinafter, also simply referred to as a light-sensitive material) was produced by drying for one second and then leaving it in the dark at 20 ° C. and 65% RH for 24 hours.

【0274】[0274]

【化81】 [Chemical 81]

【0275】比較例1:実施例1において、樹脂〔B−
1〕34gの代わりに下記構造の樹脂〔R−1〕34g
を用いた他は、実施例1と同様に操作して電子写真感光
材料を作製した。
Comparative Example 1 In Example 1, the resin [B-
1] 34 g of resin [R-1] having the following structure instead of 34 g
An electrophotographic photosensitive material was produced in the same manner as in Example 1 except that was used.

【0276】[0276]

【化82】 [Chemical formula 82]

【0277】これらの感光材料について、静電特性及び
撮像性を調べた。その結果を表−Lに示す。
With respect to these photosensitive materials, the electrostatic property and the image pick-up property were examined. The results are shown in Table-L.

【0278】[0278]

【表26】 [Table 26]

【0279】表−Lに示した評価項目の実施の態様は以
下の通りである。 注1)静電特性:温度20℃、65%RHの暗室中で、
感光材料にペーパーアナライザー(川口電機(株)製ペ
ーパーアナライザーSP−428型)を用いて−6kV
で20秒間コロナ放電させた後、10秒間放置し、この
時の表面電位V10を測定した。次いでそのまま暗中で9
0秒間静置させた後の電位V100 を測定し、90秒間暗
減衰させた後の電位の保持性、即ち、暗電荷保持率〔D
RR(%)〕を(V100 /V10)×100(%)で求め
た。
Embodiments of the evaluation items shown in Table-L are as follows. Note 1) Electrostatic characteristics: In a dark room at a temperature of 20 ° C and 65% RH,
-6 kV using a paper analyzer (Paper Analyzer SP-428 type manufactured by Kawaguchi Electric Co., Ltd.) for the photosensitive material
After corona discharge for 20 seconds, it was left for 10 seconds, and the surface potential V 10 at this time was measured. Then 9 in the dark
The potential V 100 after standing for 0 seconds was measured, and the potential retention after dark decay for 90 seconds, that is, the dark charge retention rate [D
RR (%)] was calculated by (V 100 / V 10 ) × 100 (%).

【0280】又コロナ放電により光導電層表面を−40
0Vに帯電させた後、該光導電層表面をガリウム−アル
ミニウム−ヒ素半導体レーザー(発振波長780nm)
光で照射し、表面電位(V10)が1/10に減衰するま
での時間を求め、これから露光量E1/10(erg/cm
2 )を算出する。測定時の環境条件は、(I)(20
℃,65%R.H.)、(II)(30℃,80%R.
H.)及び(III)(15℃,30%R.H.)で行なっ
た。 注2)撮像性:感光材料を下記の環境条件で1昼夜放置
した後、感光材料を−6kVで帯電し、光源として2.
8mW出力のガリウム−アルミニウム−ヒ素半導体レー
ザー(発振波長780nm)を用いて、感光材料表面上
で64erg/cm2 の照射量下、ピッチ25μm及び
スキャニング速度300m/secのスピード露光後液
体現像剤として、ELP−T(富士写真フイルム(株)
製)を用いて現像し、イソパラフィンアイソパーG(エ
ッソ化学(株)製)溶媒のリンス液で洗浄後定着するこ
とで得られた複写画像(カブリ、画像の画質)を目視評
価した。撮像時の環境条件は(I)(20℃,65%
R.H.)、(II)(30℃,80%R.H.)及び(I
II)(15℃,30%R.H.)で実施した。
Further, the surface of the photoconductive layer was -40 by corona discharge.
After being charged to 0 V, the surface of the photoconductive layer was gallium-aluminum-arsenic semiconductor laser (oscillation wavelength 780 nm).
The time until the surface potential (V 10 ) is attenuated to 1/10 by irradiation with light is obtained. From this, the exposure amount E 1/10 (erg / cm
2 ) is calculated. The environmental conditions at the time of measurement are (I) (20
C, 65% R.C. H. ), (II) (30 ° C., 80% R.I.
H. ) And (III) (15 ° C., 30% RH). Note 2) Imaging property: After leaving the light-sensitive material under the following environmental conditions for one day and night, charge the light-sensitive material at −6 kV and use it as a light source.
Using a gallium-aluminum-arsenic semiconductor laser (oscillation wavelength 780 nm) with an output of 8 mW as a liquid developer after speed exposure with a pitch of 25 μm and a scanning speed of 300 m / sec under the irradiation amount of 64 erg / cm 2 on the surface of the photosensitive material, ELP-T (Fuji Photo Film Co., Ltd.)
Developed image, washed with a rinse solution of isoparaffin Isopar G (manufactured by Esso Chemical Co., Ltd.) solvent, and then fixed. The copied image (fog, image quality of image) was visually evaluated. The environmental conditions at the time of imaging are (I) (20 ° C, 65%
R. H. ), (II) (30 ° C., 80% RH) and (I
II) (15 ° C., 30% RH).

【0281】表−Lに示す様に、本発明の感光材料は、
環境条件が変化しても静電特性は良好で、実際の複写画
像も地カブリがなく複写画質も鮮明であった。一方比較
例1は、常温・常湿(I)の条件下では良好な撮像性を
示したが、高温・高湿(II)の条件下では、静電特性と
は必ずしも対応はしないが、高精細な複写画稿である複
写原稿の連続階調部分の中間濃度でのムラ発生が生じて
しまった。又、細文字(特に明朝体漢字)のツブレが、
場合により生じ、解像力の低下を生じた。
As shown in Table-L, the light-sensitive material of the present invention is
Even if the environmental conditions changed, the electrostatic characteristics were good, and the actual copied image had no background fog and the copied image quality was clear. On the other hand, Comparative Example 1 showed good image pick-up under normal temperature and normal humidity (I) conditions, but under high temperature and high humidity (II) conditions, it did not necessarily correspond to electrostatic characteristics, but The unevenness occurs in the intermediate density of the continuous tone part of the copy original which is a fine copy image. Also, the deviation of fine characters (especially Mincho type Kanji)
In some cases, the resolution was lowered.

【0282】更に、低温・低湿(III)の条件下では、ベ
タ画像部に無秩序に微小な白ヌケのムラの発生を生じて
しまった。以上のことにより、本発明の樹脂を用いた場
合にのみ静電特性及び撮像性(特に高精細な画像)を満
足する電子写真感光体が得られ、特に半導体レーザー光
スキャニング露光方式の感光体システムに優位になるこ
とが明らかとなった。 実施例2並びに比較例2 樹脂〔A−213〕6g(固形分量として)、樹脂〔B
−2〕36g(固形分量として)、光導電性酸化亜鉛2
00g、下記構造のメチン色素〔II〕0.020g、N
−ヒドロキシマレインイミド0.20g及びトルエン3
00gの混合物を、実施例1と同様に操作して、電子写
真感光材料を作製した。(但し、塗布量は25g/m2
となる様にワイヤーバーを調整して塗布した。)
Further, under the condition of low temperature and low humidity (III), minute white spots were randomly generated in the solid image portion. From the above, an electrophotographic photoreceptor satisfying electrostatic characteristics and image pick-up properties (especially high-definition images) can be obtained only when the resin of the present invention is used, and particularly, a semiconductor laser light scanning exposure type photoreceptor system. It became clear that Example 2 and Comparative Example 2 6 g of resin [A-213] (as solid content), resin [B
-2] 36 g (as solid content), photoconductive zinc oxide 2
00g, 0.020g of methine dye [II] having the following structure, N
-Hydroxymaleinimide 0.20 g and toluene 3
An electrophotographic photosensitive material was produced by operating 00 g of the mixture in the same manner as in Example 1. (However, the coating amount is 25 g / m 2
The wire bar was adjusted so that )

【0283】[0283]

【化83】 [Chemical 83]

【0284】比較例2:実施例2において、樹脂〔B−
2〕36gの代わりに、前記樹脂〔R−1〕36gを用
いる以外は、実施例2と同様の操作で電子写真感光材料
を作製した。各感光材料の皮膜性(表面の平滑度)、光
導電層の機械的強度、静電特性及び撮像性を調べた。更
に、電子写真式平版印刷用原版として用いた時の印刷適
性を調べた。
Comparative Example 2: In Example 2, the resin [B-
2] An electrophotographic photosensitive material was produced in the same manner as in Example 2 except that 36 g of the resin [R-1] was used instead of 36 g. The film properties (smoothness of the surface) of each photosensitive material, the mechanical strength of the photoconductive layer, the electrostatic characteristics and the imaging property were examined. Furthermore, the printability when used as an original plate for electrophotographic lithographic printing was examined.

【0285】[0285]

【表27】 [Table 27]

【0286】表−Mに示した評価項目の実施の態様は以
下の通りである。 注3)表面層の平滑性:感光材料は、ベック平滑度試験
機(熊谷理工(株)製)を用い、空気容量1ccの条件
にて、その平滑度(sec/cc)を測定した。 注4)光導電層の機械的強度:感光材料表面をヘイドン
−14型表面性試験材(新東化学(株)製)を用いて荷
重75g/cm2 のものでエメリー紙(#1000)で
1000回操り返し探り摩耗粉を取り除き感光層の重量
減少から残膜率(%)を求め機械的強度とした。 注5)生版保水性:感光材料(製版しないもの)を不感
脂化処理液EPL−EX(富士写真フイルム(株)製)
を蒸留水で7倍に希釈した溶液を用いて、エッチングプ
ロセッサーに2回通して光導電層面を不感脂化処理した
後、湿し水として蒸留水を用いて、オフセット印刷機
((株)浜田印刷機械製造所製、611XLA−II
型)にかけ、刷り出しから50枚目の印刷物の地汚れの
程度を目視で評価した(不感脂化処理された原版の保水
性の度合を調べる強制条件に相当)。 注6)耐刷性:前記注2)の撮像性と同条件にして、製
版して、トナー画像を形成した後、ELP−EXを用い
て、エッチングプロセッサーに2回通して不感脂化処理
し、これをオフセット平版印刷用原版として、オフセッ
ト印刷機(桜井製作所(株)製オリバー52型)にか
け、印刷物の非画像部の地汚れ及び画像部の画質に問題
が生じないで印刷できる枚数を示す(印刷枚数が多い
程、耐刷性が良好なことを表わす)。
Embodiments of the evaluation items shown in Table-M are as follows. Note 3) Smoothness of surface layer: The photosensitive material was measured for its smoothness (sec / cc) using a Beck's smoothness tester (manufactured by Kumagai Riko Co., Ltd.) under an air volume of 1 cc. Note 4) Mechanical strength of photoconductive layer: Emery paper (# 1000) with a load of 75 g / cm 2 on the surface of the photosensitive material using Haydon-14 type surface test material (manufactured by Shinto Chemical Co., Ltd.) The residual powder rate (%) was determined from the weight loss of the photosensitive layer by removing the abrasion powder after 1000 cycles of operation and determined as the mechanical strength. Note 5) Raw plate water retention: EPL-EX (Fuji Photo Film Co., Ltd.), a desensitizing treatment liquid for photosensitive materials (those that are not plate-making)
The solution obtained by diluting 7 times with distilled water was passed through an etching processor twice to desensitize the surface of the photoconductive layer, and then distilled water was used as fountain solution to prepare an offset printing machine (Hamada Co., Ltd.). 611XLA-II, manufactured by Printing Machinery Factory
After printing, the degree of background stain of the 50th printed material after printing was visually evaluated (corresponding to a forced condition for examining the degree of water retention of the desensitized original plate). Note 6) Printing durability: Under the same conditions as the image pickup property of Note 2) above, after plate making and forming a toner image, ELP-EX was used to pass through an etching processor twice to desensitize. This is used as an offset lithographic printing plate precursor and applied to an offset printing machine (Oliver 52 type manufactured by Sakurai Seisakusho Co., Ltd.) to show the number of prints that can be made without causing problems in the non-image area of the printed matter and the image quality of the image area. (The larger the number of printed sheets, the better the printing durability).

【0287】表−Mに示す様に、本発明の感光材料は、
光導電層の平滑性、機械的強度及び静電特性が良好で、
実際の複写画像も地カブリがなく複写画質も鮮明であっ
た。このことは光導電体と結着樹脂が充分に吸着し、且
つ、粒子表面を被覆していることによるものと推定され
る。同様の理由で、オフセット平版印刷用原版として用
いた場合でも不感脂化処理液による不感脂化処理が充分
に進行し、強制条件での保水性を評価しても充分に親水
化され、インキ付着が全く認められなかった。実際に印
刷して印刷物の地汚れを観察しても地汚れは全く認めら
れず、鮮明な画質の印刷物が1万枚得られた。
As shown in Table-M, the light-sensitive material of the present invention comprises
The photoconductive layer has good smoothness, mechanical strength and electrostatic properties,
The actual copied image had no background fog and the copy quality was clear. It is presumed that this is because the photoconductor and the binder resin are sufficiently adsorbed and the particle surface is covered. For the same reason, even when used as an offset lithographic printing original plate, the desensitizing treatment with the desensitizing treatment liquid proceeds sufficiently, and even when the water retention under forced conditions is evaluated, it is sufficiently hydrophilized, and ink adhesion Was not recognized at all. Even when the print was actually printed and the print stain was observed, the print stain was not recognized at all, and 10,000 prints with clear image quality were obtained.

【0288】一方、比較例2は、撮像時の条件が過酷に
なると、高精細な連続階調画像部でムラの発生あるいは
ベタ画像部の白ヌケ、ムラ等の問題を生じた。
On the other hand, in Comparative Example 2, when the conditions at the time of image pickup became severe, problems such as occurrence of unevenness in the high-definition continuous tone image portion or white spots and unevenness in the solid image portion occurred.

【0289】又、オフセット平版印刷用原版として、不
感脂化処理した生版保水性は、良好であった。しかし実
際の耐刷性は、製版画質が不良のため、印刷物の画質
は、当然のことながら不良となってしまった。以上の事
は、本発明の樹脂〔A〕と樹脂〔B〕が適切に酸化亜鉛
粒子と相互作用し、不感脂化処理液による不感脂化反応
が容易に且つ充分に進行し易い状態を形成している事及
び樹脂〔B〕の働きによる膜強度の著しい向上を達成し
ていることを示すものである。 実施例3及び比較例3 樹脂〔A−314〕5g(固形分量として)、樹脂〔B
−3〕35g(固形分量として)、光導電性酸化亜鉛2
00g、下記構造のメチン色素[III] 0.020g、サ
リチル酸0.10g及び無水フタル酸0.10g及びト
ルエン300gの混合物を、実施例2と同様に操作し
て、電子写真感光材料を作製した。
Further, as the offset lithographic printing plate precursor, the water retention of the lithographic printing plate which had been desensitized was good. However, in terms of actual printing durability, the image quality of the printed matter is poor, and thus the image quality of the printed matter is naturally poor. The above is the fact that the resin [A] and the resin [B] of the present invention properly interact with the zinc oxide particles to form a state in which the desensitizing reaction by the desensitizing treatment liquid easily and easily proceeds. And that the film strength is remarkably improved by the action of the resin [B]. Example 3 and Comparative Example 3 Resin [A-314] 5 g (as solid content), Resin [B
-3] 35 g (as solid content), photoconductive zinc oxide 2
A mixture of 00 g, 0.020 g of methine dye [III] having the following structure, 0.10 g of salicylic acid, 0.10 g of phthalic anhydride and 300 g of toluene was treated in the same manner as in Example 2 to prepare an electrophotographic light-sensitive material.

【0290】[0290]

【化84】 [Chemical 84]

【0291】比較例3:実施例3において、樹脂〔B−
3〕35g代わりに、下記樹脂〔R−2〕35gを用い
る以外は、実施例2と同様の操作で電子写真感光材料を
作製した。得られた各感光材料を実施例2と同様にし
て、各特性を調べ、その結果を表−Nに示した。
Comparative Example 3: In Example 3, the resin [B-
3] An electrophotographic photosensitive material was produced in the same manner as in Example 2 except that 35 g of the following resin [R-2] was used instead of 35 g. The characteristics of the obtained light-sensitive materials were examined in the same manner as in Example 2, and the results are shown in Table-N.

【0292】[0292]

【化85】 [Chemical 85]

【0293】[0293]

【表28】 [Table 28]

【0294】表−Nに示す様に、本発明の感光材料は、
光導電層の平滑性、機械的強度及び静電特性が良好で、
実際の複写画像も地カブリがなく複写画質も鮮明であっ
た。このことは光導電体粒子と結着樹脂が充分に吸着
し、且つ、粒子表面を被覆していることによるものと推
定される。同様の理由で、オフセット平版印刷用原版と
して用いた場合でも不感脂化処理液による不感脂化処理
が充分に進行し、強制条件での保水性を評価しても充分
に親水化され、インキ付着が全く認められなかった。実
際に印刷して印刷物の地汚れを観察しても地汚れは全く
認められず、鮮明な画質の印刷物が1万枚得られた。
As shown in Table-N, the light-sensitive material of the present invention comprises
The photoconductive layer has good smoothness, mechanical strength and electrostatic properties,
The actual copied image had no background fog and the copy quality was clear. It is presumed that this is because the photoconductive particles and the binder resin are sufficiently adsorbed and the particle surfaces are covered. For the same reason, even when used as an offset lithographic printing original plate, the desensitizing treatment with the desensitizing treatment liquid proceeds sufficiently, and even when the water retention under forced conditions is evaluated, it is sufficiently hydrophilized, and ink adhesion Was not recognized at all. Even when the print was actually printed and the print stain was observed, the print stain was not recognized at all, and 10,000 prints with clear image quality were obtained.

【0295】一方、比較例3は、撮像時の条件が過酷に
なると、高精細な連続階調画像部でムラの発生あるいは
ベタ画像部の白ヌケ、ムラ等の問題を生じた。又、オフ
セット平版印刷用原版として、不感脂化処理した生版保
水性は、良好であった。しかし実際の耐刷性は、製版画
質が不良のため、印刷物の画質は、当然のことながら不
良となってしまった。
On the other hand, in Comparative Example 3, when the image capturing conditions became severe, there were problems such as the occurrence of unevenness in the high-definition continuous tone image portion or the white spots and unevenness in the solid image portion. Further, the water retention of the lithographic printing plate, which had been subjected to the desensitization treatment, was good as the offset lithographic printing plate. However, in terms of actual printing durability, the image quality of the printed matter is poor, and thus the image quality of the printed matter is naturally poor.

【0296】以上の事は、本発明の樹脂〔A〕と樹脂
〔B〕が適切に酸化亜鉛粒子と相互作用し、不感脂化処
理液による不感脂化反応が容易に且つ充分に進行し易い
状態を形成している事及び樹脂〔B〕の働きによる膜強
度の著しい向上を達成していることを示すものである。 実施例4〜19 実施例2において、樹脂〔A−213〕及び樹脂〔B−
2〕に代えて、下記表−Oの各樹脂〔A〕及び各樹脂
〔B〕に代えた他は、実施例2と同様に操作して、各電
子写真感光体を作製した。
As described above, the resin [A] and the resin [B] of the present invention properly interact with the zinc oxide particles, and the desensitizing reaction by the desensitizing treatment liquid easily and easily proceeds. It shows that the state is formed and that the film strength is remarkably improved by the action of the resin [B]. Examples 4 to 19 In Example 2, the resin [A-213] and the resin [B-
Each electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 2 except that each resin [A] and each resin [B] in the following Table-O was used instead of 2].

【0297】[0297]

【表29】 [Table 29]

【0298】各感光材料の静電特性及び撮像性を実施例
1と同様にして測定した。いずれの感光材料も静電特性
良好で、又これらの感光材料の実際の撮像性を調べた
所、細線・文字の再現性良好で中間調のムラの発生もな
く、地カブリの全くない鮮明な複写画像のものが得られ
た。
The electrostatic characteristics and the image pickup property of each light-sensitive material were measured in the same manner as in Example 1. All of the photosensitive materials have good electrostatic characteristics, and when the actual imaging properties of these photosensitive materials were examined, the reproducibility of fine lines and characters was good, there was no unevenness in the halftone, and there was no clear background fog. A duplicate image was obtained.

【0299】又、オフセット平版印刷用原版として用い
て、実施例2と同様にして印刷した所、いずれも少なく
とも1万枚以上印刷することができた。以上から、本発
明の各感光材料は光導電層の平滑性、膜強度、静電特性
及び印刷適性の全ての点において良好なものであった。 実施例20〜22 実施例1において用いた、メチン色素〔I〕の代わりに
下記表−Pの色素に代えた他は、実施例1と同様の条件
で電子写真感光材料を作製した。
When used as an offset lithographic printing plate precursor and printed in the same manner as in Example 2, at least 10,000 or more sheets could be printed. From the above, each of the light-sensitive materials of the present invention was good in all respects of the smoothness, film strength, electrostatic properties and printability of the photoconductive layer. Examples 20 to 22 Electrophotographic photosensitive materials were prepared under the same conditions as in Example 1 except that the methine dye [I] used in Example 1 was replaced with the dye shown in Table P below.

【0300】[0300]

【表30】 [Table 30]

【0301】本発明の感光材料は、いずれも帯電性、暗
電荷保持率、光感度に優れ、実際の複写画像も高温・高
湿の(II)(30℃,80%R.H.)及び低温・低湿
の(III )(15℃,30%R.H.)の過酷な環境条
件においても、地カブリの発生のない、鮮明な画像を与
えた。 実施例23及び24並びに比較例4 樹脂〔A−202〕(実施例23)又は樹脂〔A−20
6〕(実施例24)のいずれか6.5g、樹脂〔B−3
0〕33.5g、光導電性酸化亜鉛200g、ウラニン
0.02g、下記構造のメチン色素〔VII 〕0.03
g、下記構造のメチン色素〔VIII〕0.03g、p−ヒ
ドロキシ安息香酸0.18g及びトルエン300gの混
合物をホモジナイザー中で回転数6×103 rpmで5
分間分散して感光層形成物を調整し、これを導電処理し
た紙に、乾燥付着量が25g/m2となる様にワイヤー
バーで塗布し、110℃で20秒間乾燥した。次いで暗
所で20℃、65%RHの条件下で24時間放置するこ
とにより各電子写真感光体を作製した。
The light-sensitive materials of the present invention are all excellent in chargeability, dark charge retention rate and photosensitivity, and the actual copied images are high temperature and high humidity (II) (30 ° C., 80% RH) and Even under severe environmental conditions of low temperature and low humidity (III) (15 ° C., 30% RH), a clear image with no background fog was provided. Examples 23 and 24 and Comparative Example 4 Resin [A-202] (Example 23) or Resin [A-20
6] Any of 6.5 g of (Example 24), resin [B-3
0] 33.5 g, photoconductive zinc oxide 200 g, uranine 0.02 g, methine dye [VII] 0.03 having the following structure
g, a mixture of 0.03 g of the methine dye [VIII] having the following structure, 0.18 g of p-hydroxybenzoic acid and 300 g of toluene in a homogenizer at a rotation speed of 6 × 10 3 rpm and 5
The photosensitive layer-formed product was prepared by dispersing for a minute, and this was coated on a conductive-treated paper with a wire bar so that the dry adhesion amount was 25 g / m 2, and dried at 110 ° C. for 20 seconds. Next, each electrophotographic photosensitive member was prepared by leaving it in the dark at 20 ° C. and 65% RH for 24 hours.

【0302】[0302]

【化86】 [Chemical 86]

【0303】[0303]

【化87】 [Chemical 87]

【0304】比較例4 実施例23において、樹脂〔B−30〕33.5gの代
わりに、前記樹脂〔R−1〕33.5gを用いた他は、
実施例23と同様にして、感光材料を作製した。実施例
1と同様に、各感光材料の特性を調べた。その結果を下
記表−Qにまとめた。
Comparative Example 4 In Example 23, 33.5 g of the above resin [R-1] was used instead of 33.5 g of the resin [B-30],
A light-sensitive material was prepared in the same manner as in Example 23. The characteristics of each light-sensitive material were examined in the same manner as in Example 1. The results are summarized in Table-Q below.

【0305】[0305]

【表31】 [Table 31]

【0306】上記の測定において、静電特性及び撮像性
については下記の操作に従った他は、実施例1と同様の
操作で行なった。 注7)静電特性のE1/10の測定方法 コロナ放電により光導電層表面を−400Vに帯電させ
た後、該光導電層表面を照度2.0ルックスの可視光で
照射し、表面電位(V10)が1/10に減衰するまでの
時間を求め、これから露光量E1/10(ルックス・秒)を
算出する。 注8)撮像性 感光材料を下記の環境条件で1昼夜放置した後、全自動
製版機EPL−404V(富士写真フイルム(株)製)
でEPL−Tをトナーとして用いて製版して得られた複
写画像(カブリ、画像の画質)を目視評価した。撮像時
の環境条件は、(I)(20℃,65%R.H.)、
(II)(30℃,80%R.H.)及び(III)(15
℃、30%R.H.)で実施した。但し、複写用の原稿
(即ち、版下原稿)には、ほかの原稿を切り抜いて、貼
り込みを行なって作成したものを用いた。
In the above measurement, the electrostatic property and the image pickup property were the same as in Example 1 except that the following operation was performed. Note 7) Method for measuring E 1/10 of electrostatic characteristics After charging the surface of the photoconductive layer to −400 V by corona discharge, the surface of the photoconductive layer was irradiated with visible light having an illuminance of 2.0 lux to obtain the surface potential. The time until (V 10 ) is attenuated to 1/10 is obtained, and the exposure amount E 1/10 (lux · second) is calculated from this. Note 8) Imaging property After leaving the light-sensitive material for one day under the following environmental conditions, fully automatic plate-making machine EPL-404V (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.)
Then, the copied image (fog, image quality) obtained by plate making using EPL-T as a toner was visually evaluated. The environmental conditions at the time of imaging are (I) (20 ° C., 65% RH),
(II) (30 ° C., 80% RH) and (III) (15
C, 30% R.C. H. ) Was carried out. However, the original for copying (that is, the original copy) was prepared by cutting out and pasting other originals.

【0307】本発明の感光材料は、いずれも光導電層の
機械的強度は良好であったが、比較例4は、これらに比
べて低下した。静電特性は、常温・常湿(I)では、い
ずれも良好な性能を示したが、特に、低温・低湿(III)
では、E1/10が低下した。
In each of the light-sensitive materials of the present invention, the photoconductive layer had good mechanical strength, but in Comparative Example 4, the mechanical strength was lower than these. The electrostatic properties showed good performance at room temperature and normal humidity (I), but especially at low temperature and low humidity (III).
Then, E 1/10 fell.

【0308】本発明の感光材料の静電特性は良好であ
り、更に、特定の置換基を有する樹脂〔A〕を用いた実
施例24は、非常に良好であり、特にE1/10の値が小さ
くなった。実際の撮像性を調べて見ると、比較例4は、
複写画像として原稿以外に、切り抜いて貼り込んだ部分
の枠(即ち、貼り込み跡)が非画像部の地汚れとして認
められた。更に撮像時の環境条件が、高温・高湿(I
I)、低温・低湿(III)下で、複写画像の連続階調部の
中間調域にムラの発生、ベタ画像部の白ヌケの微小のム
ラの発生等が見られた。
[0308] electrostatic properties of the light-sensitive material of the present invention is good, further, the embodiment 24 using the resin (A) having a specific substituent, very good, in particular the value of E 1/10 Became smaller. As a result of examining the actual image pickup property, Comparative Example 4 shows that
In addition to the original as a copy image, the frame (that is, the trace of pasting) of the part cut out and stuck was recognized as the background stain of the non-image part. Furthermore, the environmental conditions at the time of imaging are high temperature and high humidity (I
I), under low temperature and low humidity (III), the occurrence of unevenness in the halftone region of the continuous tone part of the copy image and the occurrence of minute unevenness of white spots in the solid image part were observed.

【0309】更に、これらをオフセット平版印刷用原版
として不感脂化処理して印刷した所、本発明のものはい
ずれも地汚れのない鮮明な画質の印刷物が1万枚得られ
た。しかし、比較例4は、上記の貼り込み跡が、不感脂
化処理でも除去されず、刷り出しの印刷物から発生して
しまった。
Further, when these were subjected to a desensitizing treatment as an offset lithographic printing original plate and printed, all of the present invention produced 10,000 printed matters with clear image quality without scumming. However, in Comparative Example 4, the above-mentioned sticking mark was not removed even by the desensitizing treatment, and was generated from the printed matter printed out.

【0310】以上のことより、本発明の感光材料のみ
が、良好な特性を与えることができた。 実施例25 樹脂〔A−119〕5g及び樹脂〔B−25〕35g、
光導電性酸化亜鉛200g、ウラニン0.02g、ロー
ズベンガル0.04g、ブロムフェノールブルー0.0
3g、無水フタル酸0.20g及びトルエン300gの
混合物を、実施例24と同様に以下操作して、感光材料
を作製した。
From the above, only the light-sensitive material of the present invention could give good characteristics. Example 25 5 g of resin [A-119] and 35 g of resin [B-25],
Photoconductive zinc oxide 200g, uranine 0.02g, rose bengal 0.04g, bromphenol blue 0.0
A mixture of 3 g, 0.20 g of phthalic anhydride and 300 g of toluene was treated in the same manner as in Example 24 to prepare a light-sensitive material.

【0311】本発明の感光材料を、実施例24と同様に
操作して各性能を調べた所、いずれも帯電性、暗電荷保
持率、光感度に優れ、実際の複写画像も高温・高湿の
(II)(30℃,80%R.H.)及び低温・低湿(II
I)(15℃,30%R.H.)の過酷な条件において
も、地カブリの発生のない、鮮明な画像を与えた。
The light-sensitive material of the present invention was operated in the same manner as in Example 24 and examined for each performance. All were excellent in chargeability, dark charge retention rate and photosensitivity, and actually copied images were high in temperature and humidity. (II) (30 ℃, 80% RH) and low temperature / low humidity (II)
Even under the severe condition of I) (15 ° C., 30% RH), a clear image without generation of background fog was provided.

【0312】更に、これをオフセット平版印刷用原版と
して用いて印刷した所、1万枚の所でも鮮明な画質の印
刷物を得た。 実施例26〜49 実施例25において、樹脂〔A−119〕5g及び樹脂
〔B−25〕35gの代わりに、下記表−Rの樹脂
〔A〕5g及び樹脂〔B〕35gを用いた他は、実施例
23と同様にして各感光材料を作製した。
Further, when this was used as an original plate for offset lithographic printing and printed, a printed matter having a clear image quality was obtained even at 10,000 sheets. Examples 26 to 49 In Example 25, 5 g of the resin [A] and 35 g of the resin [A-119] were used instead of 5 g of the resin [A-119] and 35 g of the resin [B-25]. Each light-sensitive material was prepared in the same manner as in Example 23.

【0313】[0313]

【表32】 [Table 32]

【0314】本発明の感光材料はいずれも帯電性、暗電
荷保持率、光感度に優れ、実際の複写画像も高温・高湿
(II)(30℃, 80%R.H.)及び低温・低湿(II
I)(15℃,30%R.H.)の過酷な条件においても
地カブリの発生や細線飛びの発生等のない鮮明な画像を
与えた。更にオフセット平版印刷用原版として印刷した
所、1万枚印刷しても地汚れの発生のない鮮明な画質の
印刷物が得られた。
All of the light-sensitive materials of the present invention are excellent in chargeability, dark charge retention rate, and photosensitivity, and actual copied images are high temperature / high humidity (II) (30 ° C., 80% RH) and low temperature ・Low humidity (II
Even under the severe condition of I) (15 ° C., 30% RH), a clear image without generation of background fog or fine line skip was obtained. Further, when printed as an offset lithographic printing original plate, a printed matter having clear image quality without generation of scumming was obtained even after printing 10,000 sheets.

【0315】[0315]

【発明の効果】本発明によれば、電子写真特性(とくに
厳しい条件下での電子写真特性)に優れた、鮮明で良質
な画像を有し、更に優れた機械的強度を有する電子写真
感光体を得ることができる。特に、半導体レーザー光を
用いたスキャニング露光方式に有効である。式(Ia)
又は(Ib)で示される特定のメタクリレート成分を含
有する繰り返し単位を本発明の樹脂に用いることによ
り、更に電子写真特性が向上する。
INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, an electrophotographic photoreceptor having a clear and high-quality image having excellent electrophotographic characteristics (especially under severe conditions) and having excellent mechanical strength. Can be obtained. In particular, it is effective for a scanning exposure method using semiconductor laser light. Formula (Ia)
Alternatively, by using a repeating unit containing a specific methacrylate component represented by (Ib) in the resin of the present invention, electrophotographic properties are further improved.

フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03G 5/08 102 9223−2H 13/26 Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Office reference number FI technical display location G03G 5/08 102 9223-2H 13/26

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 無機光導電体、分光増感色素及び結着樹
脂を少なくとも含有する光導電層を有する電子写真感光
体において、該結着樹脂が、下記樹脂〔A〕の少なくと
も1種及び下記樹脂〔B〕の少なくとも1種を含有して
成ることを特徴とする電子写真感光体。 樹脂〔A〕 下記一般式(Ia)、(Ib)、(IIa)、(IIb)及
び(III)で示される重量平均分子量1×103 〜1.5
×104 のマクロモノマー(M)のうちの少なくとも1
つを重合体成分として含有する重量平均分子量1×10
3 〜2×104のグラフト型共重合体。 【化1】 【化2】 【化3】 【化4】 【化5】 {式(Ia)、(Ib)、(IIa)、(IIb)及び(II
I)中、〔 〕内は、繰り返し単位を表す。f1 及びf2
はお互いに同じでも異なってもよく、各々水素原子、ハ
ロゲン原子、シアノ基、炭素数1〜8の炭化水素基、−
COO−T1 または炭素数1〜8の炭化水素基を介した
−COO−T1 (T1 は炭素数1〜18の炭化水素基を
表す)を表す。X1 、X2 及びX3 は、単結合もしくは
−COO−、−OCO−、−(CH2 a −COO−、
−(CH2 b −OCO−(a、bは1〜3の整数を表
す)、−CON(k1 )−〔k1 は水素原子または炭素
数1〜12の炭化水素基を表す〕、−CONHCONH
−、−CONHCOO−、−O−、−C6 4 −又は−
SO2 −を表す。Y1 は、X1 と−COO−とを連結す
る基を表す。Z1 及びZ2 は、互いに同じでも異なって
もよく、各々2価の脂肪族基、2価の芳香族基〔各々の
2価の有機残基の結合中に、−O−、−S−、−N(k
2 )−、−SO2 −、−COO−、−OCO−、−CO
NHCO−、−NHCONH−、−CON(k2 )−、
−SO2 N(k2 )−及び−Si (k2)(k3 )−
(k2 、k3 はk1 と同一の内容を表す)から選ばれた
少なくとも1つの結合基を介在させてもよい〕またはこ
れら残基の組み合わせにより構成された有機残基を表
す。R31は水素原子または炭化水素基を表す。Z3 は2
価の脂肪族基を表す。Y2 は、X2 とV1 とを連結する
基を表す。V1 は−CH2 −、−O−、または−NH−
を表す。R32及びR33は水素原子、炭化水素基または−
COR34基(R34は炭化水素基を示す)を表す。Y3
3 と−O−とを連結する基を表す。式(III)におい
て、〔 〕内は繰り返し単位を表す。αは1〜3の整数
を表す。αが2以上のときは、〔 〕内のWは少なくと
も隣の〔 〕内のWと異なる基を表す。Wは、−CH
(α1 )−CH(α2 )−または−(CH2 4 −を表
す(α1 及びα2 は、互いに同じでも異なってもよく、
各々水素原子またはアルキル基を表す)。} 樹脂〔B〕 2×104 〜1×106 の重量平均分子量を有し、−P
3 2 、−COOH、−SO3 H、−P(=O)(O
H)R1 〔R1 は炭化水素基又は−OR2 (R2 は炭化
水素基を表す)を表す〕及び環状酸無水物基から選択さ
れる少なくとも1種の極性基を有する重合体成分を含有
するAブロックと下記一般式(IV)で示される重合体成
分を少なくとも含有するBブロックとから構成されるA
Bブロック共重合体から成り、且つAブロックにおい
て、Bブロックと結合する反対側の重合体主鎖の末端に
上記特定の極性基のうちから選択される少なくとも1種
の極性基を結合してなる樹脂。 【化6】 〔式(IV)中、b1 及びb2 はそれぞれ水素原子、ハロ
ゲン原子、シアノ基又は炭化水素基を示す。R4 は炭化
水素基を表す。〕
1. An electrophotographic photoreceptor having a photoconductive layer containing at least an inorganic photoconductor, a spectral sensitizing dye and a binder resin, wherein the binder resin is at least one of the following resins [A] and the following: An electrophotographic photoreceptor comprising at least one resin [B]. Resin [A] Weight average molecular weight represented by the following general formulas (Ia), (Ib), (IIa), (IIb) and (III) 1 × 10 3 to 1.5
At least one of × 10 4 macromonomers (M)
1 as a polymer component
3 to 2 × 10 4 graft type copolymer. [Chemical 1] [Chemical 2] [Chemical 3] [Chemical 4] [Chemical 5] {Formulas (Ia), (Ib), (IIa), (IIb) and (II
In I), the inside of [] represents a repeating unit. f 1 and f 2
May be the same or different from each other, and each is a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms,
COO-T 1 or —COO-T 1 (T 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms) through a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms is represented. X 1 , X 2 and X 3 are a single bond or —COO—, —OCO—, — (CH 2 ) a —COO—,
- (CH 2) b -OCO- ( a, b represents an integer of 1~3), - CON (k 1 ) - [k 1 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms], -CONHCONH
-, - CONHCOO -, - O -, - C 6 H 4 - or -
Represents SO 2 −. Y 1 represents a group connecting X 1 and -COO-. Z 1 and Z 2 may be the same as or different from each other, and each is a divalent aliphatic group, a divalent aromatic group [in the bond of each divalent organic residue, —O—, —S— , -N (k
2) -, - SO 2 - , - COO -, - OCO -, - CO
NHCO -, - NHCONH -, - CON (k 2) -,
-SO 2 N (k 2) - and -S i (k 2) (k 3) -
(K 2 and k 3 have the same contents as k 1 ) may be interposed] or an organic residue constituted by a combination of these residues. R 31 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group. Z 3 is 2
Represents a valent aliphatic group. Y 2 represents a group connecting X 2 and V 1 . V 1 is —CH 2 —, —O—, or —NH—
Represents R 32 and R 33 are a hydrogen atom, a hydrocarbon group or-
It represents a COR 34 group (R 34 represents a hydrocarbon group). Y 3 represents a group connecting X 3 -O- with an. In formula (III), [] represents a repeating unit. α represents an integer of 1 to 3. When α is 2 or more, W in [] represents a group different from at least W in the adjacent []. W is -CH
(Α 1) -CH (α 2 ) - or - (CH 2) 4 - a represents (alpha 1 and alpha 2, which may be the same or different,
Each represents a hydrogen atom or an alkyl group). } Resin [B] having a weight average molecular weight of 2 × 10 4 to 1 × 10 6 , and -P
O 3 H 2, -COOH, -SO 3 H, -P (= O) (O
H) R 1 [R 1 represents a hydrocarbon group or —OR 2 (R 2 represents a hydrocarbon group)] and a polymer component having at least one polar group selected from cyclic acid anhydride groups. A composed of an A block contained and a B block containing at least a polymer component represented by the following general formula (IV)
It is composed of a B block copolymer, and in the A block, at least one polar group selected from the above specific polar groups is bonded to the end of the polymer main chain on the side opposite to the B block. resin. [Chemical 6] [In the formula (IV), b 1 and b 2 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group or a hydrocarbon group. R 4 represents a hydrocarbon group. ]
【請求項2】 上記樹脂〔A〕が、マクロモノマー
(M)と共重合する共重合体成分として下記一般式(IV
a)及び下記一般式(IVb)で示されるアリール基含有
のメタクリレート成分のうちの少なくとも1つを含有す
ることを特徴とする請求項1記載の電子写真感光体。 【化7】 【化8】 〔式(IVa)及び(IVb)中、A1 及びA2 は互いに独
立に各々水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基、ハロ
ゲン原子、シアノ基、−COZ10又は−COOZ10(Z
10は炭素数1〜10の炭化水素基を表す)を表し、B1
及びB2 は各々−COO−とベンゼン環を結合する単結
合又は連結原子数1〜4個の連結基を表す。〕
2. The resin [A] as a copolymer component copolymerized with a macromonomer (M) is represented by the following general formula (IV
The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, which contains at least one of a) and an aryl group-containing methacrylate component represented by the following general formula (IVb). [Chemical 7] [Chemical 8] [In formulas (IVa) and (IVb), A 1 and A 2 are each independently a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a halogen atom, a cyano group, —COZ 10 or —COOZ 10 (Z
10 represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms), and B 1
And B 2 each represent a single bond or a connecting group having 1 to 4 connecting atoms for connecting —COO— and the benzene ring. ]
【請求項3】 上記樹脂〔A〕が、重合体主鎖の片末端
にのみ、−PO3 2 、−SO3 H、−OH、−COO
H、−P(=O)(OH)R1 (R1 は上記と同一の内
容を表す)、環状酸無水物基、−SH、−CONH2
び−SO2 NH2 から選ばれる少なくとも1つの極性基
を結合して成ることを特徴とする請求項1又は2記載の
電子写真感光体。
3. The resin [A] contains --PO 3 H 2 , --SO 3 H, --OH and --COO only at one end of the polymer main chain.
H, at least one selected from -P (= O) (OH) R 1 (R 1 has the same meaning as above), a cyclic acid anhydride group, -SH, -CONH 2 and -SO 2 NH 2 . 3. The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, which is formed by bonding a polar group.
【請求項4】 上記樹脂〔B〕において、全共重合体中
に含有される特定の極性基含有重合体成分の総量が、上
記樹脂〔A〕中に含有される特定の極性基含有重合体成
分の総量に対し10重量%〜50重量%であることを特
徴とする請求項1、2又は3のいずれかに記載の電子写
真感光体。
4. In the resin [B], the total amount of the specific polar group-containing polymer component contained in all the copolymers is the specific polar group-containing polymer contained in the resin [A]. The electrophotographic photoreceptor according to claim 1, wherein the content is 10% by weight to 50% by weight based on the total amount of the components.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017039794A (en) * 2015-08-17 2017-02-23 キヤノン株式会社 Method for producing resin composition, method for producing resin particle, and resin composition
JP2018016694A (en) * 2016-07-26 2018-02-01 株式会社リコー Ink and method for producing the same, and ink storage container, image formation method, image formation device, and image formation matter

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JP2017039794A (en) * 2015-08-17 2017-02-23 キヤノン株式会社 Method for producing resin composition, method for producing resin particle, and resin composition
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