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JPH06167801A - Figure calculation processing method - Google Patents

Figure calculation processing method

Info

Publication number
JPH06167801A
JPH06167801A JP5100591A JP5100591A JPH06167801A JP H06167801 A JPH06167801 A JP H06167801A JP 5100591 A JP5100591 A JP 5100591A JP 5100591 A JP5100591 A JP 5100591A JP H06167801 A JPH06167801 A JP H06167801A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
phase
graphic
processing
attribute
group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5100591A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshihiko Hirai
義彦 平井
Noboru Nomura
登 野村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP5100591A priority Critical patent/JPH06167801A/en
Publication of JPH06167801A publication Critical patent/JPH06167801A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 位相シフタの自動配置処理を行い位相シフタ
の配置,設計の効率を向上させる。 【構成】 第1の処理1で抽出した第1の図形と最短距
離を隔てて対向し、かつ対向する辺の長さが最も長い位
相の属性が未確定の第2の図形群を第2および第3の処
理2,3で抽出して、第2の図形群の位相を第1の図形
と逆にする。第4の処理4で位相の属性が未確定の第2
の図形を抽出し、第5の処理5で第2の図形と最短距離
を隔てて対向し、かつ対向する辺の長さが最も長い位相
の属性が既定の第3の図形を抽出し、第2の図形の位相
を第3の図形の位相と逆にする。このようにして各図形
の位相の属性を設定すると、最も近接し、かつ対向する
辺の長さが最も長い図形同士の位相の属性が互いに逆位
相となるように自動的に各図形の位相を自動的に決定す
ることができる。
(57) [Summary] [Purpose] To improve the efficiency of phase shifter layout and design by performing automatic phase shifter layout processing. A second graphic group which is opposed to the first graphic extracted in the first processing 1 with a shortest distance, and has a second graphic group in which an attribute of a phase having the longest side is undetermined is defined as a second graphic group. Extracted in the third processing 2 and 3, the phase of the second figure group is reversed from that of the first figure. The second attribute whose phase attribute is undetermined in the fourth processing 4
Is extracted, and in the fifth processing 5, the third figure which is opposed to the second figure with the shortest distance and has the attribute of the phase having the longest length of the opposite sides is determined. The phase of the second figure is opposite to that of the third figure. When the phase attribute of each figure is set in this way, the phase of each figure is automatically set so that the phase attributes of the figures that are closest to each other and have the longest facing sides have opposite phases. Can be determined automatically.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、ハーフミクロン以下
の微細パターンを有する半導体装置等の製造におけるリ
ソグラフィ等に使われるフォトマスクパターンの図形を
電子計算機を使用して自動発生するとともに、その検証
を行う図形演算処理方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention automatically generates a figure of a photomask pattern used for lithography or the like in the manufacture of a semiconductor device having a fine pattern of half micron or less using an electronic computer and verifies it. The present invention relates to a graphic calculation processing method to be performed.

【0002】[0002]

【従来の技術】縮小投影露光法における解像限界を向上
させる方法としていわゆる位相シフト法がレベンソン
(Levenson)らによってアイ イー イー イー トラ
ンザクションズ オン エレクトロン デバイス ED
−29巻12号1982年12月(IEEE TRANSACTIONS O
N ELECTRON DEVICES ,VOL.ED-29 ,NO.12 ,DECEMBER 198
2)に提案されている。位相シフト法によれば、その解像
限界は通常の透過型マスクによる露光法に比べて数段向
上する。
2. Description of the Related Art The so-called phase shift method is a method for improving the resolution limit in a reduction projection exposure method by Levenson et al., IE Transactions on Electron Device ED.
Volume 29 Issue 12 December 1982 (IEEE TRANSACTIONS O
N ELECTRON DEVICES, VOL.ED-29, NO.12, DECEMBER 198
Proposed in 2). According to the phase shift method, the resolution limit is improved by several steps as compared with the exposure method using an ordinary transmissive mask.

【0003】以下、図面を参照しながら、上記した従来
の位相シフト法の一例について説明する。図6は位相シ
フト法に用いるマスクの平面図を示すものであり、41
は光を透過する石英板、42は光を遮断するクロム膜、
43,44は光の透過部、45は透過光の位相を180
°変化させる位相シフタである。
An example of the conventional phase shift method described above will be described below with reference to the drawings. FIG. 6 is a plan view of a mask used in the phase shift method.
Is a quartz plate that transmits light, 42 is a chrome film that blocks light,
43 and 44 are light transmitting parts, and 45 is a phase of the transmitted light.
° This is a phase shifter that changes.

【0004】以上のように構成された位相シフトマスク
装置においては、透過部43と透過部44とを通過した
光は、位相が180°異なるため、光の干渉が生じる。
それらの光は互いに打ち消し合う作用があるため、透過
部43と透過部44とに挟まれた遮光部46では、透過
光強度がほぼ0になる。この結果、遮光部46の幅が狭
くても、光のコントラストが向上し、より微細なパター
ン形成が可能となる。
In the phase shift mask device configured as described above, the light passing through the transmitting portion 43 and the transmitting portion 44 has a phase difference of 180 °, and therefore light interference occurs.
Since the lights have the effect of canceling each other, the transmitted light intensity becomes almost zero in the light shielding portion 46 sandwiched between the transmission portion 43 and the transmission portion 44. As a result, even if the width of the light shielding portion 46 is narrow, the contrast of light is improved and a finer pattern can be formed.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような構成では、位相シフタの配置は手作業で行う必要
があった。これには、設計者の熟練と経験が要求され、
マスクの設計に多大なコストと時間を必要とするという
問題点を有していた。したがって、この発明の目的は、
位相シフタの自動配置処理を行い位相シフタの配置,設
計の効率を向上させることができる図形演算処理方法を
提供することである。
However, in the above structure, the phase shifter must be arranged manually. This requires the skill and experience of the designer,
There is a problem in that a great deal of cost and time are required to design the mask. Therefore, the object of the present invention is to
It is an object of the present invention to provide a graphic operation processing method capable of improving the efficiency of phase shifter layout and design by performing automatic phase shifter layout processing.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明の図
形演算処理方法は、まず位相の属性が未確定である図形
の中から任意の第1の図形を抽出し第1の図形の位相の
属性を正相とする第1の処理を行う。ついで、第1の図
形との距離が予め指定した値以下である第1の図形群を
抽出する第2の処理を行う。ついで、第1の図形群の中
から、第1の図形と最短距離を隔てて対向し、かつ辺の
長さが最も長い第2の図形群を抽出し、この第2の図形
群の位相の属性を負相とする第3の処理を行う。第3の
処理後に、位相の属性が未確定である図形の中から、任
意に第2の図形を抽出する第4の処理を行う。ついで、
第4の処理で抽出された第2の図形との距離が予め指定
した値以下である図形のうち第2の図形との距離が最も
短く、最短距離を隔てて対向する辺の長さが最も長く、
かつ位相の属性が既定である第3の図形を抽出する第5
の処理を行う。
According to a method for calculating a figure according to a first aspect of the present invention, first, an arbitrary first figure is extracted from figures whose phase attributes are undetermined, and the phase of the first figure is extracted. The first processing is performed in which the attribute of is a normal phase. Then, a second process of extracting a first graphic group whose distance from the first graphic is equal to or less than a predetermined value is performed. Then, from the first figure group, a second figure group facing the first figure at the shortest distance and having the longest side length is extracted, and the phase of the second figure group is extracted. A third process is performed in which the attribute has a negative phase. After the third processing, the fourth processing of arbitrarily extracting the second graphic from the graphics in which the phase attribute is undetermined is performed. Then,
Among the figures whose distance to the second figure extracted in the fourth process is less than or equal to a predetermined value, the distance to the second figure is the shortest, and the lengths of the sides facing each other across the shortest distance are the shortest. long,
And extracting the third figure whose phase attribute is default
Process.

【0007】第5の処理で、第3の図形として該当する
図形が存在しない場合に、第2の図形以外の図形を任意
に抽出し、この図形を第2の図形として第5の処理を第
6の処理として再び実行させる。ついで、第2の図形の
位相の属性を第3の図形とは逆の位相とする第7の処理
を行う。つぎに、第7の処理終了後、位相の属性が未確
定である図形が存在するかどうかを判定し、位相の属性
が未確定である図形が存在する場合に再び第4の処理か
ら第7の処理を第8の処理として繰り返して行う。
In the fifth process, if there is no corresponding figure as the third figure, figures other than the second figure are arbitrarily extracted, and this figure is taken as the second figure, and the fifth process is performed. It is executed again as the process of 6. Next, a seventh process is performed in which the phase attribute of the second graphic is the opposite phase of that of the third graphic. Next, after the seventh processing is completed, it is determined whether or not there is a figure whose phase attribute is undetermined. When there is a figure whose phase attribute is undetermined, the fourth to seventh processing is performed again. This process is repeated as the eighth process.

【0008】請求項2記載の図形演算処理方法は、第5
の処理で、第3の図形が複数存在し、かつ、それらの図
形の属性が互いに異なっている場合に、第5の処理を中
断し、第2の図形を位相の属性が確定できないと判断
し、警告する処理を含む。請求項3記載の図形演算処理
方法は、第7の処理の終了後に、位相の属性が正もしく
は負の何れか一方に属する図形群を予め指定される寸法
だけ拡大して位相シフタパターン形成用の図形群とす
る。
A graphic operation processing method according to a second aspect is the fifth aspect.
If there are a plurality of third figures and the attributes of these figures are different from each other in the processing of step 5, the fifth processing is interrupted, and it is determined that the phase attribute of the second figure cannot be determined. , Including processing to warn. According to a third aspect of the present invention, in the figure calculation processing method, after the seventh processing is completed, a figure group belonging to either positive or negative phase attribute is enlarged by a predetermined size to form a phase shifter pattern. It is a group of figures.

【0009】[0009]

【作用】請求項1記載の構成によれば、第1の図形と最
短距離を隔てて対向し、かつ対向する辺の長さが最も長
い位相の属性が未確定の第2の図形群を抽出して、第2
の図形群の位相を第1の図形と逆にする。位相の属性が
未確定の第2の図形を抽出し、第2の図形と最短距離を
隔てて対向し、かつ対向する辺の長さが最も長い位相の
属性が既定の第3の図形を抽出し、第2の図形の位相を
第3の図形の位相と逆にする。
According to the first aspect of the invention, a second figure group that opposes the first figure at the shortest distance and has a phase whose longest opposing side has the undetermined phase attribute is extracted. And then the second
The phase of the figure group is reversed from that of the first figure. The second figure whose phase attribute is undetermined is extracted, and the third figure that faces the second figure with the shortest distance and has the longest length of the facing side is extracted. Then, the phase of the second graphic is reversed from the phase of the third graphic.

【0010】このようにして各図形の位相の属性を設定
すると、最も近接し、かつ対向する辺の長さが最も長い
図形同士の位相の属性が互いに逆位相となるように自動
的に各図形の位相を自動的に決定することができる。し
たがって、位相シフタの配置,設計の効率を向上させる
ことができる。請求項2記載の構成によれば、第3の図
形が複数個存在して第2の図形の位相の属性を確定でき
ないときに、警告を発することができ、図形の検証を行
うことができる。
When the phase attributes of the respective figures are set in this manner, the figures of the shapes closest to each other and having the longest opposing sides are automatically opposite in phase to each other. The phase of can be determined automatically. Therefore, the layout and design efficiency of the phase shifter can be improved. According to the configuration described in claim 2, when a plurality of third figures are present and the phase attribute of the second figure cannot be determined, a warning can be issued and the figure can be verified.

【0011】請求項3記載の構成によれば、位相シフタ
パターンも自動的に作成することができる。
According to the third aspect of the invention, the phase shifter pattern can be automatically created.

【0012】[0012]

【実施例】以下、この発明の一実施例の図形演算処理方
法について、図面を参照しながら説明する。図1はこの
発明の一実施例における図形演算処理方法の処理の流れ
を示すものである。図1において、1は第1の処理、2
は第2の処理、3は第3の処理、4は第4の処理、5は
第5の処理、6は第6の処理、7は第7の処理、8は第
8の処理である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A graphic operation processing method according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows a processing flow of a graphic operation processing method in an embodiment of the present invention. In FIG. 1, 1 is the first process, 2
Is a second process, 3 is a third process, 4 is a fourth process, 5 is a fifth process, 6 is a sixth process, 7 is a seventh process, and 8 is an eighth process.

【0013】以上のように構成された図形演算処理方法
について、以下図1および図2を用いてその処理手順を
説明する。図1は図形の位相を決定するためのアルゴリ
ズムを示すフローチャートであり、図2は与えられた図
形の処理過程を示すものであって、この例では以下の順
に従って図形の位相が与えられていく。
A processing procedure of the graphic operation processing method configured as described above will be described below with reference to FIGS. 1 and 2. FIG. 1 is a flow chart showing an algorithm for determining the phase of a figure, and FIG. 2 shows the process of processing a given figure. In this example, the phase of a figure is given in the following order. .

【0014】まず、第1の処理1によって、位相が未確
定である図形の中から第1の図形として例えば図形11
を任意に抽出する(図2(a)参照)。図形11は、位
相の属性として例えば正相が与えられる。つぎに、第2
の処理2によって、前記図形11との距離があらかじめ
指定された距離Lより短い図形12,図形13,図形1
4,図形15を抽出する(図2(b)参照)。
First, by the first processing 1, as a first figure, for example, the figure 11 is selected from the figures whose phase is undetermined.
Are arbitrarily extracted (see FIG. 2A). The figure 11 is given, for example, a positive phase as a phase attribute. Next, the second
By the process 2 of FIG. 2, the distance to the graphic 11 is shorter than the predetermined distance L, the graphic 12, the graphic 13, the graphic 1
4, the figure 15 is extracted (see FIG. 2B).

【0015】続いて、第3の処理3により、抽出した図
形12,図形13,図形14,図形15のうち、図形1
1と最短距離で対向しかつ辺の長さが最も長い図形を抽
出する。この例では、図形12,図形14の2個につい
て対向する辺の長さが等しいので、図形12,図形14
の2個が抽出される。その後、図形12と図形14の位
相の属性として図形11とは反対の負相を与える(図2
(c)参照)。
Subsequently, in the figure 12, figure 13, figure 14, figure 15 extracted by the third processing 3, figure 1
A graphic that faces 1 with the shortest distance and has the longest side is extracted. In this example, the lengths of the opposing sides of the two figures 12, 14 are equal, so the figures 12, 14
Are extracted. Then, a negative phase opposite to that of the figure 11 is given as the phase attribute of the figures 12 and 14 (see FIG.
(See (c)).

【0016】引続き、第4の処理4によって、前記第3
の処理3後に属性が未確定の図形すなわち図形13,図
形15,図形16,図形17,図形18,図形19のう
ち、任意の一つの図形例えば図形13を抽出する(図2
(d)参照)。つぎに、第5の処理5によって、図形1
3と最短距離を隔て、その中で、対向する辺の長さが最
も長く、かつ位相の属性が既に確定している図形を抽出
する。この場合は図形11が該当する。
Subsequently, the third process is performed by the fourth process 4.
After processing 3 of FIG. 3, any one of the figures whose attributes are undetermined, that is, figure 13, figure 15, figure 16, figure 17, figure 18, and figure 19 is extracted (FIG. 2).
(See (d)). Next, by the fifth processing 5, the graphic 1
A graphic having a shortest distance from 3 and having the longest opposing sides and the phase attribute already determined is extracted. In this case, the figure 11 corresponds.

【0017】第6の処理6では、前記第5の処理5で該
当する図形が存在したので、処理はそのまま継続され
る。つぎに、第7の処理7によって、図形11の位相の
属性が正相であるので、図形13の位相の属性を負相と
する(図2(e)参照)。つぎに、第8の処理8によっ
て、この時点で位相の属性が未確定である図形すなわ
ち、図形15,図形16,図形17,図形18,図形1
9が抽出され、再び第4の処理4を継続して実行する。
In the sixth processing 6, since the graphic corresponding to the fifth processing 5 exists, the processing is continued. Next, by the seventh processing 7, the attribute of the phase of the graphic 11 is the positive phase, so the attribute of the phase of the graphic 13 is set to the negative phase (see FIG. 2E). Next, by the eighth processing 8, graphics whose phase attributes are undetermined at this point, that is, graphics 15, graphics 16, graphics 17, graphics 18, graphics 1
9 is extracted, and the fourth processing 4 is continuously executed again.

【0018】例えば、第4の処理4で図形15を任意に
選択する。続いて、再び第5の処理5を今回は図形15
を図形13に置き換えて開始する。すなわち、図形15
と最短距離を隔て、その中で、対向する辺の長さが最も
長く、かつ位相の属性が既に確定している図形を抽出す
る(図2(f)参照)。この場合も図形11が該当す
る。
For example, the graphic 15 is arbitrarily selected in the fourth processing 4. Then, the fifth process 5 is again executed this time for the graphic 15
Is replaced with the figure 13 to start. That is, the figure 15
And a shortest distance are separated from each other, and a figure in which the opposing sides have the longest length and the phase attribute is already determined is extracted (see FIG. 2F). Also in this case, the figure 11 corresponds.

【0019】第6の処理6では、前記第5の処理5で該
当する図形が存在したので、処理はそのまま継続され
る。つぎに、第7の処理7によって、図形11の位相の
属性が正相であるので、図形15の位相の属性を負相と
する(図2(g)参照)。つぎに、第8の処理8によっ
て、この時点で位相の属性が未確定である図形、すなわ
ち図形16,図形17,図形18,図形19が抽出さ
れ、再び第4の処理4を実行し、このうち例えば図形1
6を任意に選択する。
In the sixth process 6, since the graphic corresponding to the fifth process 5 exists, the process is continued. Next, in the seventh processing 7, the attribute of the phase of the graphic 11 is the positive phase, so the attribute of the phase of the graphic 15 is set to the negative phase (see FIG. 2 (g)). Next, by the eighth processing 8, the graphics whose phase attributes are undetermined at this point, that is, the graphics 16, the graphics 17, the graphics 18, and the graphics 19, are extracted, and the fourth processing 4 is executed again. For example, figure 1
6 is arbitrarily selected.

【0020】再び、第5の処理5を今回は図形16を図
形15に置き換えて開始する。すなわち、図形16と最
短距離を隔て、その中で、対向する辺の長さが最も長
く、かつ位相の属性が既に確定している図形を抽出する
(図2(h)参照)。この場合は図形13が該当する。
第6の処理6では、前記第5の処理5で該当する図形が
存在したので、処理はそのまま継続される。
Again, the fifth processing 5 is started this time by replacing the graphic 16 with the graphic 15. That is, the figure 16 is separated from the figure 16 by the shortest distance, and the figure in which the opposing sides have the longest length and the phase attribute is already determined is extracted (see FIG. 2 (h)). In this case, the figure 13 corresponds.
In the sixth processing 6, since the graphic corresponding to the fifth processing 5 exists, the processing is continued.

【0021】つぎに、第7の処理7によって、図形13
の位相の属性が負相であるので、図形16の位相の属性
を正相とする(図2(i)参照)。以下、同様の処理を
繰り返すことによって、最終的には図3に示すような位
相の属性の配置がされる。このうち、何れか一方の位相
の属性、例えば正相の属性を与えられた図形を通常の透
過部分のマスクとし、負相の属性を与えられた図形を透
過光の位相を180°シフトさせたマスクとし、この例
では、負相の属性をもつ図形12,13,14,15を
例えばその最小線幅の1/4程度拡張する図形演算処理
を行い、この結果を図形22,23,24,25とす
る。この結果、図4に示すように、図形22,23,2
4,25はレベンソン(Levenson)型の位相シ
フトマスク装置でいうところの位相シフタパターンが実
現できる。
Next, by the seventh processing 7, the graphic 13
Since the attribute of the phase of is the negative phase, the attribute of the phase of the graphic 16 is set to the positive phase (see FIG. 2 (i)). Thereafter, by repeating the same processing, the phase attributes are finally arranged as shown in FIG. Of these, the figure to which one of the phase attributes, for example, the positive phase attribute is given, is used as a mask for the normal transmission portion, and the figure to which the negative phase attribute is given is shifted the phase of transmitted light by 180 °. In this example, the figures 12, 13, 14, and 15 having the negative phase attribute are subjected to figure calculation processing for expanding, for example, about 1/4 of the minimum line width, and the results are shown in figures 22, 23, 24, and 25. As a result, as shown in FIG.
4 and 25 can realize the phase shifter pattern, which is the so-called Levenson type phase shift mask device.

【0022】以上説明したパターン図形を用いて、図5
に示す位相シフトマスク装置を作成することができる。
図5において、31は位相シフタ(破線の部分)、32
は透過部、33は遮光部である。なお、上記実施例にお
いては、すべての図形は予め指定した距離を隔てていな
いが、予め指定した距離を隔てて位置する図形に対して
は、位相の属性は正および負の何れを与えてもよい。こ
れは、指定した距離を隔てて位置する図形に対しては、
位相シフト法の効果がなくなるので、このような場合に
は正および負のいずれの属性を与えても、位相シフト法
によるパターンの形成には影響がないからである。
Using the pattern figure described above, FIG.
The phase shift mask device shown in can be produced.
In FIG. 5, 31 is a phase shifter (broken line portion), 32
Is a transmission part, and 33 is a light shielding part. In addition, in the above embodiment, all the figures are not separated by a predetermined distance. However, for the figures positioned by a predetermined distance, the phase attribute may be either positive or negative. Good. This is for shapes located a specified distance apart,
This is because the effect of the phase shift method disappears, and in such a case, the formation of a pattern by the phase shift method is not affected by giving either a positive attribute or a negative attribute.

【0023】また、上記の実施例においては、前記第5
の処理5で、前記第3の図形が複数存在し、かつ、それ
らの図形の属性が互いに異なっている場合に、前記第5
の処理5を中断し、前記第2の図形の位相の属性が確定
できないと判断し、警告する処理を含む。
In the above embodiment, the fifth
In the processing 5 of step 5, when there are a plurality of the third graphics and the attributes of these graphics are different from each other, the fifth graphics
Processing 5 is interrupted, and it is judged that the phase attribute of the second figure cannot be determined, and a warning is issued.

【0024】[0024]

【発明の効果】請求項1記載の図形演算処理方法は、第
1の図形と最短距離を隔てて対向し、かつ対向する辺の
長さが最も長い位相の属性が未確定の第2の図形群を抽
出して、第2の図形群の位相を第1の図形と逆にし、位
相の属性が未確定の第2の図形を抽出し、第2の図形と
最短距離を隔てて対向し、かつ対向する辺の長さが最も
長い位相の属性が既定の第3の図形を抽出し、第2の図
形の位相を第3の図形の位相と逆にすることにより、各
図形の位相の属性を設定するので、最も近接し、かつ対
向する辺の長さが最も長い図形同士の位相の属性が互い
に逆位相となるように自動的に各図形の位相を自動的に
決定することができる。したがって、位相シフタの配
置,設計の効率を向上させることができる。
According to the figure operation processing method of the first aspect, the second figure is opposed to the first figure with the shortest distance, and the attribute of the phase whose length of the opposite side is the longest is undetermined. The group is extracted, the phase of the second figure group is reversed from that of the first figure, the second figure whose phase attribute is undetermined is extracted, and the second figure is opposed to the second figure with the shortest distance between them. The attribute of the phase of each figure is extracted by extracting the third figure in which the attribute of the phase having the longest length of the opposite side is the default and reversing the phase of the second figure from the phase of the third figure. Is set, it is possible to automatically determine the phase of each figure so that the phase attributes of the figures that are closest to each other and have the longest sides facing each other have opposite phase attributes. Therefore, the layout and design efficiency of the phase shifter can be improved.

【0025】請求項2記載の図形演算処理方法によれ
ば、第3の図形が複数個存在して第2の図形の位相の属
性を確定できないときに、警告を発することができ、図
形の検証を行うことができる。請求項3記載の図形演算
処理方法によれば、位相シフタパターンも自動的に作成
することができる。
According to the figure operation processing method of the second aspect, when a plurality of third figures exist and the phase attribute of the second figure cannot be determined, a warning can be issued and the figure verification. It can be performed. According to the graphic operation processing method of the third aspect, the phase shifter pattern can also be automatically created.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の一実施例における図形演算処理方法
における処理過程を示す流れ図である。
FIG. 1 is a flowchart showing a processing process in a graphic operation processing method according to an embodiment of the present invention.

【図2】(a)ないし(i)は同実施例における動作説
明のための図形の処理過程図である。
FIGS. 2A to 2I are process diagrams of figures for explaining the operation in the embodiment.

【図3】同実施例における動作説明のための位相属性配
置結果を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a result of phase attribute arrangement for explaining the operation in the embodiment.

【図4】同実施例における位相シフタパターンの概略図
である。
FIG. 4 is a schematic view of a phase shifter pattern in the same embodiment.

【図5】同実施例における位相シフトマスク装置の概略
図である。
FIG. 5 is a schematic view of a phase shift mask device in the example.

【図6】従来の位相シフトマスク装置の概略図である。FIG. 6 is a schematic view of a conventional phase shift mask device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 第1の処理 2 第2の処理 3 第3の処理 4 第4の処理 5 第5の処理 6 第6の処理 7 第7の処理 8 第8の処理 11〜19 図形 22〜25 図形 31 位相シフタ 32 透過部 33 遮光部 1 1st process 2 2nd process 3 3rd process 4 4th process 5 5th process 6 6th process 7 7th process 8 8th process 11-19 figure 22-25 figure 31 Phase Shifter 32 Transparent part 33 Light-shielding part

─────────────────────────────────────────────────────
─────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成5年12月27日[Submission date] December 27, 1993

【手続補正1】[Procedure Amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】図面の簡単な説明[Name of item to be corrected] Brief description of the drawing

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の一実施例における図形演算処理方法
における処理過程を示す流れ図である。
FIG. 1 is a flowchart showing a processing process in a graphic operation processing method according to an embodiment of the present invention.

【図2】実施例における動作説明のための図形の第1
過程の処理過程図である。
[2] the first figure for explaining the operation in the same embodiment
It is a process diagram of a process.

【図3】同実施例における動作説明のための図形の第2
過程の処理過程図である。
FIG. 3 is a second figure for explaining the operation in the embodiment .
It is a process chart of a process.

【図4】同実施例における動作説明のための図形の第3
過程の処理過程図である。
FIG. 4 is a third figure for explaining the operation in the embodiment .
It is a process chart of a process.

【図5】同実施例における動作説明のための図形の第4
過程の処理過程図である。
FIG. 5 is a fourth figure for explaining the operation in the embodiment .
It is a process chart of a process.

【図6】同実施例における動作説明のための図形の第5
過程の処理過程図である。
FIG. 6 is a fifth diagram for explaining the operation in the embodiment .
It is a process chart of a process.

【図7】同実施例における動作説明のための図形の第6
過程の処理過程図である。
FIG. 7 is a sixth figure for explaining the operation in the embodiment .
It is a process chart of a process.

【図8】同実施例における動作説明のための図形の第7
過程の処理過程図である。
FIG. 8 is a seventh figure for explaining the operation in the embodiment .
It is a process chart of a process.

【図9】同実施例における動作説明のための図形の第8
過程の処理過程図である。
FIG. 9 is an eighth figure for explaining the operation in the embodiment .
It is a process chart of a process.

【図10】同実施例における動作説明のための図形の第
9過程の処理過程図である。
FIG. 10 is a first diagram for explaining the operation in the embodiment.
It is a process chart of 9 processes.

【図11】同実施例における動作説明のための位相属性
配置結果を示す図である。
FIG. 11 is a diagram showing a result of phase attribute arrangement for explaining the operation in the embodiment.

【図12】同実施例における位相シフタパターンの概略
図である。
FIG. 12 is a schematic view of a phase shifter pattern in the same example.

【図13】同実施例における位相シフトマスク装置の概
略図である。
FIG. 13 is a schematic view of a phase shift mask device in the example.

【図14】従来の位相シフトマスク装置の概略図であ
る。
FIG. 14 is a schematic view of a conventional phase shift mask device.

【符号の説明】 1 第1の処理 2 第2の処理 3 第3の処理 4 第4の処理 5 第5の処理 6 第6の処理 7 第7の処理 8 第8の処理 11〜19 図形 22〜25 図形 31 位相シフタ 32 透過部 33 遮光部[Explanation of Codes] 1 First processing 2 Second processing 3 Third processing 4 Fourth processing 5 Fifth processing 6 Sixth processing 7 Seventh processing 8 Eighth processing 11 to 19 Figures 22 ~ 25 Figure 31 Phase shifter 32 Transmission part 33 Light shielding part

【手続補正2】[Procedure Amendment 2]

【補正対象書類名】図面[Document name to be corrected] Drawing

【補正対象項目名】全図[Correction target item name] All drawings

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【図2】 [Fig. 2]

【図3】 [Figure 3]

【図4】 [Figure 4]

【図5】 [Figure 5]

【図1】 [Figure 1]

【図6】 [Figure 6]

【図7】 [Figure 7]

【図8】 [Figure 8]

【図10】 [Figure 10]

【図9】 [Figure 9]

【図11】 FIG. 11

【図12】 [Fig. 12]

【図13】 [Fig. 13]

【図14】 FIG. 14

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 位相の属性が未確定である図形の中から
任意の第1の図形を抽出し前記第1の図形の位相の属性
を正相とする第1の処理と、 前記第1の図形との距離が予め指定した値以下である第
1の図形群を抽出する第2の処理と、 前記第1の図形群の中から、前記第1の図形と最短距離
を隔てて対向し、かつ辺の長さが最も長い第2の図形群
を抽出し、この第2の図形群の位相の属性を負相とする
第3の処理と、 前記第3の処理後に、位相の属性が未確定である図形の
中から、任意に第2の図形を抽出する第4の処理と、 前記第4の処理で抽出された第2の図形との距離が予め
指定した値以下である図形のうち前記第2の図形との距
離が最も短く、最短距離を隔てて対向する辺の長さが最
も長く、かつ位相の属性が既定である第3の図形を抽出
する第5の処理と、 前記第5の処理で、前記第3の図形として該当する図形
が存在しない場合に、前記第2の図形以外の図形を任意
に抽出し、この図形を前記第2の図形として前記第5の
処理を再び実行する第6の処理と、 前記第2の図形の位相の属性を前記第3の図形とは逆の
位相とする第7の処理と、 前記第7の処理終了後、位相の属性が未確定である図形
が存在するかどうかを判定し、位相の属性が未確定であ
る図形が存在する場合に再び前記第4の処理から前記第
7の処理を繰り返して行う第8の処理から成ることを特
徴とする図形演算処理方法。
1. A first process of extracting an arbitrary first figure from figures whose phase attributes are undetermined and setting the phase attribute of the first figure as a positive phase, the first process A second process of extracting a first figure group whose distance to the figure is less than or equal to a predetermined value; and facing the first figure with a shortest distance from the first figure group, And a third process for extracting a second graphic group having the longest side length and setting the phase attribute of this second graphic group as a negative phase; A fourth process of arbitrarily extracting a second graphic from the confirmed graphics, and a graphic whose distance to the second graphic extracted in the fourth processing is less than or equal to a predetermined value The third figure in which the distance to the second figure is the shortest, the sides facing each other with the shortest distance therebetween are the longest, and the phase attribute is predetermined. In the fifth process of extracting a figure, if a figure corresponding to the third figure does not exist in the fifth step, a figure other than the second figure is arbitrarily extracted, and the figure is referred to as the first figure. A sixth process for executing the fifth process again as a second graphic; a seventh process for setting the phase attribute of the second graphic to a phase opposite to that of the third graphic; After the processing of (1) is finished, it is determined whether or not there is a figure whose phase attribute is undetermined, and when there is a figure whose phase attribute is undetermined, the above fourth to seventh processing is performed again A graphic operation processing method comprising the eighth processing which is repeatedly performed.
【請求項2】 前記第5の処理で、前記第3の図形が複
数存在し、かつ、それらの図形の属性が互いに異なって
いる場合に、前記第5の処理を中断し、前記第2の図形
を位相の属性が確定できないと判断し、警告する処理を
含むことを特徴とする請求項1記載の図形演算処理方
法。
2. In the fifth processing, when there are a plurality of the third graphics and the attributes of these graphics are different from each other, the fifth processing is interrupted and the second graphics is interrupted. 2. The graphic operation processing method according to claim 1, further comprising: a process of determining that the graphic attribute of the phase cannot be determined and issuing a warning.
【請求項3】 第7の処理の終了後に、位相の属性が正
もしくは負の何れか一方に属する図形群を予め指定され
る寸法だけ拡大して位相シフタパターン形成用の図形群
とする請求項1記載の図形演算処理方法。
3. A graphic group for phase shifter pattern formation, wherein after the seventh processing is completed, a graphic group whose phase attribute belongs to either positive or negative is enlarged by a predetermined size to form a phase shifter pattern forming graphic group. The graphic calculation processing method described in 1.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5783336A (en) * 1995-10-13 1998-07-21 Kabushiki Kaisha Toshiba Mask for exposure
US5795683A (en) * 1995-03-27 1998-08-18 Kabushiki Kaisha Toshiba Method and a system for designing a photomask for use in manufacture of a semiconductor device
US6004701A (en) * 1997-03-25 1999-12-21 Kabushiki Kaisha Toshiba Method for designing Levenson photomask

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5795683A (en) * 1995-03-27 1998-08-18 Kabushiki Kaisha Toshiba Method and a system for designing a photomask for use in manufacture of a semiconductor device
US5783336A (en) * 1995-10-13 1998-07-21 Kabushiki Kaisha Toshiba Mask for exposure
US6004701A (en) * 1997-03-25 1999-12-21 Kabushiki Kaisha Toshiba Method for designing Levenson photomask

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