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JPH06139814A - Conductive paste - Google Patents

Conductive paste

Info

Publication number
JPH06139814A
JPH06139814A JP28725992A JP28725992A JPH06139814A JP H06139814 A JPH06139814 A JP H06139814A JP 28725992 A JP28725992 A JP 28725992A JP 28725992 A JP28725992 A JP 28725992A JP H06139814 A JPH06139814 A JP H06139814A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
paste
multilayer wiring
wiring board
conductor
conductor paste
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP28725992A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takashi Kuroki
喬 黒木
Seiichi Tsuchida
誠一 槌田
Shosaku Ishihara
昌作 石原
Hiromi Tozaki
博己 戸崎
Shoichi Iwanaga
昭一 岩永
Etsuko Takane
悦子 高根
Norihiro Ami
徳宏 阿美
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP28725992A priority Critical patent/JPH06139814A/en
Publication of JPH06139814A publication Critical patent/JPH06139814A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)
  • Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】LSIを多数搭載する電子計算機用セラミック
多層配線基板はLSI間の信号遅延時間を短くするため
銅を配線材料とするガラスセラミック基板が要求されて
いる。この基板に適合する導体ペーストを提供すること
を目的とする。 【構成】銅ぺーストは、古くから厚膜ペーストとして使
用されているが、多層配線に用いた場合不適であること
がわかり、乾燥収縮,流動特性,熱応力に対する対策と
して、ゲル化剤,結晶セルロースあるいは、Zn,Mo
粉末を添加した導体ペーストを製作した。 【効果】印刷及び基板製作の歩留りが向上し、ガラスセ
ラミック多層配線基板の実用化が可能となった。
(57) [Abstract] [Purpose] A glass ceramic substrate using copper as a wiring material is required for a ceramic multilayer wiring board for an electronic computer on which a large number of LSIs are mounted in order to shorten a signal delay time between the LSIs. It is an object to provide a conductor paste suitable for this substrate. [Constitution] Copper paste has been used as a thick film paste for a long time, but it was found to be unsuitable for use in multi-layer wiring. As a countermeasure against drying shrinkage, flow characteristics, and thermal stress, gelling agent, crystal Cellulose or Zn, Mo
A powder-added conductor paste was produced. [Effect] The yield of printing and board production is improved, and the glass-ceramic multilayer wiring board can be put to practical use.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、グリーンシートを用い
たセラミック多層配線基板製作に用いる導体ペーストに
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a conductor paste used for producing a ceramic multilayer wiring board using a green sheet.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来のセラミック多層配線基板は、アル
ミナやムライトを原料とした基板が主であったが、LS
Iの大型化とLSI間の信号伝搬遅延の低減の要求を満
足するには、ガラスを原料としたガラスセラミック多層
配線基板が適しており、その実用化が発表されている。
その理由として、低熱膨張,低誘電率化が可能であり、
さらに600〜950℃程度の温度で焼結できるので、
電気抵抗の低い銅を、配線材料に使用できることであ
る。この銅を用いたペーストは、焼結したアルミナ基板
上に配線する乾式法の厚膜基板に古くから用いられてい
る。しかし焼結していない生のセラミックシート(グリ
ーンシート)に配線し積層して製作する温式多層配線基
板には、そのまま使用できない。この温式多層配線基板
に用いる銅ペーストとして特公平3−3416号公報や
特公平4−20280号公報等が報告されている。これ
らは、銅粉末に対して酸化銅を15wt%まで配合す
る。軟化点300〜700℃の無機結合剤を50wt%
まで配合、あるいは銀を添加する。また平4−2028
0では、銅ペーストに、グリーンシートと同組成・同成
分のホウ珪酸ガラスとアルミナを添加したものである。
しかし、このようなペーストを用いて直径0.05〜
0.1mmのスルーホールにスクリーン印刷法で充填した
場合、ペーストの粘度が低いと充填時あるいは充填後、
溶剤がグリーンシート(1)に吸収され凹が生じる。ま
たペーストの粘度が高いと図2に示すように、スルーホ
ール(2)の途中でペースト(3)が流動せず、そのま
ま未充填となる。いずれの場合も電気的接続不良の原因
となり、多層配線基板が製作できない。また金属粉末の
量が少ないとセラミックスとの焼結収縮差によって、ス
ルーホール部にすき間が発生したり、スルーホール近傍
のセラミックが割れる。逆に金属粉末の量が多い場合と
無機焼結助剤を添加した場合には、熱膨張差によってス
ルーホール近傍にクラックが発生するなどペーストの最
適原料配合やプロセスマージンが非常に狭く、製品の歩
留りが悪い。また製品の信頼性の面でも大きな問題であ
る。
2. Description of the Related Art Conventional ceramic multilayer wiring boards are mainly made of alumina or mullite.
A glass-ceramic multilayer wiring board made of glass is suitable for satisfying the requirements for increasing the size of I and reducing the signal propagation delay between LSIs, and its practical use has been announced.
The reason is that low thermal expansion and low dielectric constant are possible,
Furthermore, since it can be sintered at a temperature of about 600 to 950 ° C,
That is, copper having a low electric resistance can be used as a wiring material. This paste using copper has been used for a long time in a dry process thick film substrate for wiring on a sintered alumina substrate. However, it cannot be used as it is for a hot multi-layer wiring board that is manufactured by wiring and stacking on a green ceramic sheet that is not sintered. Japanese Patent Publication No. 3-3416 and Japanese Patent Publication No. 4-20280 have been reported as a copper paste used for this warm type multilayer wiring board. In these, up to 15 wt% of copper oxide is mixed with copper powder. 50% by weight of an inorganic binder having a softening point of 300 to 700 ° C
Compound or add silver. See also 4-2028
In No. 0, borosilicate glass having the same composition and components as the green sheet and alumina were added to the copper paste.
However, with such a paste, the diameter of 0.05-
When the screen printing method is used to fill a 0.1 mm through hole, if the paste has a low viscosity, it may be filled during or after filling.
The solvent is absorbed by the green sheet (1) to form a recess. Further, when the viscosity of the paste is high, as shown in FIG. 2, the paste (3) does not flow in the middle of the through hole (2) and is not filled as it is. In either case, it may cause electrical connection failure and a multilayer wiring board cannot be manufactured. Further, when the amount of the metal powder is small, a gap is generated in the through hole portion or the ceramic near the through hole is cracked due to the difference in sintering shrinkage with the ceramic. Conversely, when the amount of metal powder is large and when an inorganic sintering additive is added, the difference in thermal expansion causes cracks in the vicinity of the through holes, and the optimum raw material mix of paste and the process margin are very narrow. The yield is bad. It is also a big problem in terms of product reliability.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】湿式多層配線基板の場
合、原料および配合割合やプロセス条件によって、セラ
ミックと導体との最適条件が異なる。そのため、特許公
報法に示された導体ペーストを適用した場合、前述した
ように、グリーンシートのスルーホールに充填した状態
を見ると、乾燥収縮による凹みや、充填不良あるいは焼
結あるいは後工程での熱処理工程でのクラックの発生な
ど製品歩留りが悪いという大きな問題がある。本発明
は、これらの問題を考慮し、歩留りの良い多層配線基板
を製作できる導体ペーストを提供することにある。
In the case of a wet multilayer wiring board, the optimum conditions for the ceramic and the conductor differ depending on the raw materials, the compounding ratio and the process conditions. Therefore, when the conductor paste shown in the patent publication method is applied, looking at the state of filling the through holes of the green sheet, as described above, the dent due to drying shrinkage, the filling failure or the sintering or the subsequent process There is a big problem that the product yield is bad such as the generation of cracks in the heat treatment process. In view of these problems, the present invention is to provide a conductor paste capable of producing a multilayer wiring board with a good yield.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
には、流動性が良く、乾燥収縮が小さく熱応力でクラッ
クの発生しない導体ペーストが必要である。そのために
は、3つの方法がある。一つは、ゲル化剤を用いて流動
性と乾燥収縮を改良する。二つ目は、結晶セルロースを
用いて流動性改良と導体中に大きさをコントロールした
クローズポアを形成し、導体の変形能を大きくして、熱
応力を低減。3つ目は、亜鉛の添加による変形能を大き
くする。あるいはMoを添加して胴体の熱膨張を小さく
し、熱応力を低減する。
In order to achieve the above object, a conductor paste having good fluidity, small drying shrinkage, and cracking due to thermal stress is required. There are three ways to do this. First, a gelling agent is used to improve fluidity and dry shrinkage. Second, crystalline cellulose is used to improve fluidity and form closed pores with controlled size in the conductor, increasing the deformability of the conductor and reducing thermal stress. Thirdly, the deformability by adding zinc is increased. Alternatively, Mo is added to reduce the thermal expansion of the body and reduce the thermal stress.

【0005】[0005]

【作用】ペーストにゲル化剤を用いてチクソトロピ性、
乾燥収縮を改善する。また結晶セルロースを添加するこ
とにより、導体中にクローズポアを形成し、導体中のポ
アの割合をコントロールする。さらに、Zn,Mo粉末
を添加することによって、スルーホールに充填しやす
く、熱応力を低減することが出来たので、セラミック多
層配線基板を歩留り良く製作することが出来る。
[Function] By using a gelling agent in the paste, thixotropy,
Improves dry shrinkage. By adding crystalline cellulose, closed pores are formed in the conductor and the proportion of pores in the conductor is controlled. Furthermore, by adding Zn and Mo powders, the through holes can be easily filled and the thermal stress can be reduced, so that the ceramic multilayer wiring board can be manufactured with high yield.

【0006】[0006]

【実施例】以下、本発明の実施例を詳細に説明する。EXAMPLES Examples of the present invention will be described in detail below.

【0007】実施例 1 セラミック多層配線基板は、導体配線したグリーンシー
ト30〜60枚を熱圧着したのち、850〜1000℃
の酸素濃度をコントロールした雰囲気で焼結して製作す
る。必要に応じてこの基板表面を研磨し平滑,平坦化し
たのち薄膜による多層配線を行なう。このセラミック多
層配線基板の製作は、まずガラスセラミックスの原料粉
末とバインダ,分散剤,溶剤等をボールミル等で混合し
スラリーを製作する。このスラリーをドクターブレード
法により厚さ0.1〜0.3mmのグリーンシートを製作
したのち、後工程で使用する枠に張りつけ、NCパンチ
等で層間の電気的接続のために必要なスルーホール(穴
径0.05〜0.15mm)を形成する。このスルーホー
ルにスクリーン印刷法で下記に示す原料配合のペースト
を充填した。
Example 1 A ceramic multilayer wiring board was prepared by thermocompressing 30 to 60 green sheets with conductor wiring, and then 850 to 1000 ° C.
It is manufactured by sintering in an atmosphere with controlled oxygen concentration. If necessary, the surface of this substrate is polished, smoothed and flattened, and then multilayer wiring using thin films is performed. In the production of this ceramic multilayer wiring board, first, a raw material powder of glass ceramics, a binder, a dispersant, a solvent and the like are mixed by a ball mill or the like to produce a slurry. A green sheet having a thickness of 0.1 to 0.3 mm is manufactured from this slurry by the doctor blade method, and then attached to a frame used in a later step, and a through hole (needed for electrical connection between layers is formed by an NC punch or the like). A hole diameter of 0.05 to 0.15 mm) is formed. This through hole was filled with a paste containing the raw materials shown below by a screen printing method.

【0008】 このペーストに用いたCu粉末は、粒径1〜3μmの球
状あるいは塊状粉どちらでも良く、アミン化合物で表面
処理した粉末でも良い。ビヒクルは、バインダにエチル
セルロース,ニトロセルロースあるいは、アクリル系樹
脂やポリビニールブチラール樹脂等を使用し、溶剤に
は、α・テルピネオール,nブチルカルビトールアセテ
ート,フタル酸(2−エチルヘキシル)あるいは、2.
2.4−トリメチル−1.3−ペンタンジオールモノイ
ソブチレート等を用いた。また結晶セルロースは、粒径
1〜25μmの微粒子を用いた。これらの原料の混合分
散には、らいかい機や3本ロールミルを使用した。次に
原料配合割合は、Cu粉末が60wt%以下では、電気
抵抗が高く80wt%以上では、ペーストの粘度が高く
スルーホールに充填できなかった。ビヒクルの割合は、
20wt%以下では、ペーストの粘度が高くスルーホー
ルの充填が不十分であり、40wt%以上では、ペース
トの粘度が低く充填したペーストの乾燥収縮が大きい。
また結晶セルロースの割合は、Aにたいして3wt%以
下では、熱応力の低減に効果がなく、20wt%以上で
は、ペーストの流動性が悪くなり、スルーホールへの充
填不十分となる。以上、説明した導体ペーストをスルー
ホールに充填したのち、表面の配線用Cuペースト(市
販のペーストでも良い)を印刷したのち必要層数30〜
60枚を正確に位置合わせして積層し、50〜300kg
/cm2;100〜150℃で5〜30分間熱圧着したの
ち、酸素濃度をコントロールした焼結炉で焼結する。こ
の場合、一般的な方法である仮焼成(バインダ除去)し
ても良い。このように焼結した基板は、このあと表面研
磨して薄膜法で多層配線する厚膜・薄膜混成基板として
も使用した。このようにして製作した基板は、図1に示
すようにスルーホール(2)に充填したペースト中に結
晶セルロース(4)が均一に分散しているため焼結後に
均一なクローズポアが形成される。そのため熱応力によ
る導体近傍のセラミックスにクラックが発生しない。
[0008] The Cu powder used in this paste may be either spherical or lumpy powder having a particle size of 1 to 3 μm, or may be powder surface-treated with an amine compound. As the vehicle, ethyl cellulose, nitrocellulose, acrylic resin, polyvinyl butyral resin, or the like is used as the binder, and α-terpineol, n-butyl carbitol acetate, phthalic acid (2-ethylhexyl) or 2.
2.4-Trimethyl-1.3-pentanediol monoisobutyrate or the like was used. As the crystalline cellulose, fine particles having a particle size of 1 to 25 μm were used. For mixing and dispersing these raw materials, a raikai machine or a three-roll mill was used. Next, regarding the raw material mixing ratio, when the Cu powder was 60 wt% or less, the electric resistance was high, and when it was 80 wt% or more, the viscosity of the paste was high and the through holes could not be filled. The vehicle ratio is
If it is 20 wt% or less, the viscosity of the paste is high and the filling of the through holes is insufficient, and if it is 40 wt% or more, the viscosity of the paste is low and the drying shrinkage of the filled paste is large.
Further, if the proportion of crystalline cellulose is 3 wt% or less relative to A, there is no effect in reducing the thermal stress, and if it is 20 wt% or more, the fluidity of the paste becomes poor and the filling of the through holes becomes insufficient. As described above, after filling the through-holes with the conductor paste described above, a Cu paste for wiring on the surface (a commercially available paste may be used) is printed, and then the required number of layers is 30 to 30.
Accurately align and stack 60 sheets, 50-300kg
/ Cm 2 ; After thermocompression bonding at 100 to 150 ° C. for 5 to 30 minutes, sintering is performed in a sintering furnace whose oxygen concentration is controlled. In this case, calcination (binder removal), which is a general method, may be performed. The thus-sintered substrate was also used as a thick film / thin film mixed substrate for surface polishing and multilayer wiring by the thin film method. In the substrate manufactured in this manner, as shown in FIG. 1, since the crystalline cellulose (4) is uniformly dispersed in the paste filled in the through holes (2), uniform closed pores are formed after sintering. . Therefore, cracks do not occur in the ceramics near the conductor due to thermal stress.

【0009】実施例 2 実施例1のスルーホール充填用ペーストの配合割合Aに
対してBの結晶セルロールの代りにジベンジリデン−D
−ソルビトールを2〜8wt%を用いた。この場合、配
合割合2wt%以下では、スルーホールへの充填後、凹
みが発生し、8wt%以上ではチクソトロピー性が強く
未充填となる。このペーストを用いた場合も実施例同様
クラックの発生がなくなった。
Example 2 For the compounding ratio A of the paste for filling the through holes of Example 1, dibenzylidene-D was used instead of the crystalline cellulose of B.
-Used 2-8 wt% sorbitol. In this case, when the compounding ratio is 2 wt% or less, a dent occurs after filling the through hole, and when it is 8 wt% or more, thixotropy is strong and unfilled. Even when this paste was used, cracks did not occur as in the example.

【0010】実施例 3 実施例1のスルーホール充填用ペーストの配合割合Aに
対してBとして下記原料と配合量の導体ペーストを使用
した。
Example 3 A conductive paste having the following raw materials and compounding amounts was used as B with respect to the compounding ratio A of the through hole filling paste of Example 1.

【0011】 結晶セルロース ……… 3〜10wt% ジベンジリデン−D−ソルビトール ……… 0.5〜5wt% この場合、結晶セルロースはいごう割合は、3wt%以
下ではクローズポアの発生が少なく10wt%以上で
は、ペーストの流動が悪く充填不十分となる。またジベ
ンジリデン−D−ソルビトールの配合割合は、0.5w
t%以下では、チクソトロピー性が弱く充填したペース
トが乾燥収縮し凹みが発生する。5wt%以上では、チ
クソトロピー性が強過ぎスルーホールへの導体ペースト
充填が不十分となる。この導体ペーストを用いた場合も
実施例、1,2同様クラックの発生がなかった。
Crystalline cellulose: 3 to 10 wt% Dibenzylidene-D-sorbitol: 0.5 to 5 wt% In this case, when the ratio of crystalline cellulose is 3 wt% or less, the occurrence of closed pores is small and 10 wt% or more. Then, the flow of the paste is poor and the filling becomes insufficient. The compounding ratio of dibenzylidene-D-sorbitol is 0.5 w.
When it is t% or less, the thixotropy is weak and the filled paste is dried and shrunk to cause dents. If it is 5 wt% or more, the thixotropy is too strong and the filling of the conductive paste into the through holes becomes insufficient. Even when this conductor paste was used, cracks did not occur as in Examples 1 and 2.

【0012】実施例 4 実施例1のスルーホールへ導体ペースト原料のCu粉末
60〜80wt%のうちZn,Moを12〜60wt%
混合し、結晶セルロースを入れない導体ペーストを用い
た。この場合、Zn,Moの割合は、12wt%以下で
は、熱応力の低減に効果がなく、60wt%以上では、
電気抵抗が大きくなる。このペーストを用いた多層配線
基板は実施例1同様クラックの発生がなかった。
Example 4 To the through holes of Example 1, Zn and Mo are contained in an amount of 12 to 60 wt% of the Cu powder of 60 to 80 wt% as the conductor paste material.
A conductor paste was used that was mixed and did not contain crystalline cellulose. In this case, if the proportion of Zn and Mo is 12 wt% or less, there is no effect in reducing thermal stress, and if it is 60 wt% or more,
Electric resistance increases. The multilayer wiring board using this paste did not generate cracks as in Example 1.

【0013】[0013]

【発明の効果】本発明の導体ペーストを用いれば、スル
ーホールへの導体ペーストの充填性が良く、しかも多層
配線基板にクラックが発生せず、従来2%の歩留りを8
6%にまで向上することが出来、量産を可能にできた。
When the conductor paste of the present invention is used, the conductor paste can be easily filled in the through holes, cracks do not occur in the multilayer wiring board, and the conventional yield of 2% is 8%.
We were able to improve it to 6%, which enabled mass production.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明を説明するための、グリーンシートのス
ルーホールに導体ペーストを充填した断面模式図であ
る。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view in which a through hole of a green sheet is filled with a conductive paste, for explaining the present invention.

【図2】従来法を説明するための導体ペーストを充填し
たグリーンシートの断面模式図である。
FIG. 2 is a schematic sectional view of a green sheet filled with a conductor paste for explaining a conventional method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…グリーンシート、2…スルーホール、3…導体ペー
スト、4…結晶セルロース、5…乾燥収縮による凹み、
6…乾燥収縮による空洞。
1 ... Green sheet, 2 ... Through hole, 3 ... Conductor paste, 4 ... Crystalline cellulose, 5 ... Depression due to drying shrinkage,
6 ... Cavity due to drying shrinkage.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 戸崎 博己 神奈川県秦野市堀山下1番地株式会社日立 製作所神奈川工場内 (72)発明者 岩永 昭一 横浜市戸塚区吉田町292番地株式会社日立 製作所生産技術研究所内 (72)発明者 高根 悦子 横浜市戸塚区吉田町292番地株式会社日立 製作所生産技術研究所内 (72)発明者 阿美 徳宏 横浜市戸塚区吉田町292番地株式会社日立 製作所生産技術研究所内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Hiromi Tozaki 1 Horiyamashita, Hadano City, Kanagawa Hitachi Ltd. Kanagawa Plant (72) Inventor Shoichi Iwanaga 292 Yoshidacho, Totsuka-ku, Yokohama Hitachi Manufacturing Co., Ltd. (72) Inventor Etsuko Takane 292 Yoshida-cho, Totsuka-ku, Yokohama-shi Hitachi Production Engineering Laboratory (72) Inventor Norihiro Ami 292 Yoshida-cho, Totsuka-ku, Yokohama Hitachi-production Engineering Laboratory Co., Ltd.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】水性グリーンシートを用いたガラスセラミ
ック多層配線基板製作において Aに対して 結晶セルロース……3〜20wt% B からなることを特徴とする導体ペースト。
1. In manufacturing a glass-ceramic multilayer wiring board using an aqueous green sheet. A conductive paste characterized by comprising crystalline cellulose in the range of 3 to 20 wt% B with respect to A.
【請求項2】請求項1の添加物Bの代わりにジベンジリ
デン−D−ソルビトールを2〜8wt%添加したことを
特徴とする導体ペースト。
2. A conductor paste comprising dibenzylidene-D-sorbitol in an amount of 2 to 8 wt% in place of the additive B in claim 1.
【請求項3】請求項1の添加剤Bとして 結晶セルロース ……3〜10wt% ジベンジリデン−D−ソルビトール ……0.5〜5wt% より成ることを特徴とする導体ペースト。3. A conductor paste comprising crystalline cellulose as an additive B according to claim 1 ... 3 to 10 wt% dibenzylidene-D-sorbitol ... 0.5 to 5 wt%. 【請求項4】請求項1のAとして より成ることを特徴とする導体ペースト。4. As A of claim 1. A conductor paste comprising:
JP28725992A 1992-10-26 1992-10-26 Conductive paste Pending JPH06139814A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100286091B1 (en) * 1997-09-26 2001-04-16 무라타 야스타카 Via paste conductive paste and monolithic ceramic substrate manufacturing method using the same
WO2013161996A3 (en) * 2012-04-26 2013-12-19 国立大学法人大阪大学 Transparent conductive ink, and method for producing transparent conductive pattern

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