JPH06120287A - Semiconductor device using lead frame and manufacturing method thereof - Google Patents
Semiconductor device using lead frame and manufacturing method thereofInfo
- Publication number
- JPH06120287A JPH06120287A JP4268830A JP26883092A JPH06120287A JP H06120287 A JPH06120287 A JP H06120287A JP 4268830 A JP4268830 A JP 4268830A JP 26883092 A JP26883092 A JP 26883092A JP H06120287 A JPH06120287 A JP H06120287A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- bonding
- wire
- inner lead
- electrode
- semiconductor device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H10W72/50—
-
- H10W72/01551—
-
- H10W72/075—
-
- H10W72/07551—
-
- H10W72/07553—
-
- H10W72/531—
-
- H10W72/536—
-
- H10W72/5363—
-
- H10W72/5449—
-
- H10W72/5473—
-
- H10W72/932—
-
- H10W90/756—
Landscapes
- Wire Bonding (AREA)
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】中継ボンディング方式において、ボンディング
時間を短縮しコストダウンと生産性の向上を図るワイヤ
ボンディング方法を提供する。
【構成】樹脂(絶縁物)からなる基板3上に搭載された
ICチップ1上の電極パッド2を第一の電極とし、基板
3上の中継点4を第二の電極とし、インナーリード5を
第三の電極としてワイヤボンディングすることで電極パ
ッド2とインナーリード5を結線して導通させる。ここ
で電極パッド2上ではボールボンディングが行われ、中
継点4でワイヤ7が切断されず、ステッチボンディング
が行われてそのままワイヤはループを描き続けてインナ
ーリード5迄行き、インナーリード5上でステッチボン
ディングが行われワイヤが切断される。
【効果】中継点に溝を設ける事で外力からのボンディン
グ点の固着力の増加を持たせて工程間での品質維持も図
ることもできる。
(57) [Abstract] [Purpose] To provide a wire bonding method in a relay bonding method for reducing the bonding time, cost and productivity. [Structure] An electrode pad 2 on an IC chip 1 mounted on a substrate 3 made of resin (insulator) is used as a first electrode, a relay point 4 on the substrate 3 is used as a second electrode, and an inner lead 5 is used. The third electrode is wire-bonded to connect the electrode pad 2 and the inner lead 5 to make them conductive. Here, ball bonding is performed on the electrode pad 2, the wire 7 is not cut at the relay point 4, stitch bonding is performed, and the wire continues to draw a loop until it reaches the inner lead 5 and stitches on the inner lead 5. Bonding is performed and the wire is cut. [Effect] By providing the groove at the relay point, the fixing force of the bonding point from the external force can be increased and the quality can be maintained between the steps.
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明はワイヤボンディングによ
る接続技術に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a connection technique by wire bonding.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、ICチップの電極とリードフレー
ムのインナーリードとの間は、一本のワイヤにより接続
されており、ワイヤボンディングの方法としては,IC
チップの電極でボールボンディングを、インナーリード
側ではステッチボンディングを行うボールボンディング
方式、及びICチップの電極とインナーリードともども
ウェッジボンディングを行うウェッジボンディング方式
が多用されている。2. Description of the Related Art Conventionally, a single wire is used to connect an electrode of an IC chip and an inner lead of a lead frame.
A ball bonding method in which ball bonding is performed with electrodes of the chip and stitch bonding is performed on the inner lead side, and a wedge bonding method in which wedge bonding is performed with the electrodes of the IC chip and the inner leads are widely used.
【0003】近年、ICチップの高集積化、多機能化に
より電極数やフレーム側の端子数の増加が進んでいるわ
けであるが、公知の通り、ICチップ側は比較的容易に
微細化が進められ、電極数の増加に対応できるものの、
リードフレームのインナーリードの増加に付いては、フ
レームの材厚に対するエッチングやスタンピング加工技
術の限界によって、ICチップの微細化に追従した対応
ができず、ICチップから遠ざかった位置にインナーリ
ードを配置しなければならなくなった。In recent years, the number of electrodes and the number of terminals on the frame side have been increasing due to high integration and multi-functionalization of IC chips, but as is well known, miniaturization on the IC chip side is relatively easy. Although it is advanced and can cope with the increase in the number of electrodes,
Regarding the increase of inner leads in the lead frame, due to the limitation of etching and stamping processing technology for the material thickness of the frame, it is not possible to respond to the miniaturization of IC chips, and the inner leads are placed away from the IC chips. I have to do it.
【0004】従って、従来のボンディング方法を用いた
場合、ICチップの電極とインナーリード間を長いワイ
ヤを用いて接続しなければならず、ワイヤが長い事によ
る問題である、ワイヤ曲がりやたるみが発生し易く、満
足のいくワイヤボンディング品質を維持する事は難しい
ものとなった。従ってワイヤの長さ制限からICのチッ
プサイズの縮小化に制限を与える事となった。Therefore, when the conventional bonding method is used, it is necessary to connect the electrode of the IC chip and the inner lead with a long wire, and wire bending and slack, which are problems due to the long wire, occur. It was difficult to maintain satisfactory wire bonding quality. Therefore, the limitation of the wire length imposes a limitation on the reduction of the IC chip size.
【0005】そこで例えば図6のようにICチップ1の
電極2とインナーリード5との間に中継範囲8に金属層
を設け、二本のワイヤ7によって接続される中継ボンデ
ィング方式が考案され、採用されつつある。Therefore, for example, as shown in FIG. 6, a relay bonding method has been devised and adopted in which a metal layer is provided in the relay area 8 between the electrode 2 of the IC chip 1 and the inner lead 5 and is connected by two wires 7. Is being done.
【0006】中継ボンディング方式により、既存の安定
した品質を確保できるワイヤボンディング技術を用いて
前記した課題に対応できるようになった。The relay bonding method has made it possible to meet the above-mentioned problems by using the existing wire bonding technology capable of ensuring stable quality.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】従来の中継ボンディン
グ方式では、既存の安定した品質を確保できるワイヤボ
ンディングを用いて容易に電極数や端子数の増加に対応
し、当初の目的を達成する事ができた。In the conventional relay bonding method, it is possible to easily cope with an increase in the number of electrodes and the number of terminals by using the existing wire bonding capable of ensuring stable quality and achieve the original purpose. did it.
【0008】しかしながらワイヤボンディングを二回に
分けて実施しなければならずワイヤボンディング時間が
通常の2倍以上必要となり、コストアップと生産性の低
下が生じた。However, the wire bonding has to be carried out twice and the wire bonding time is required to be twice as long as the normal time, resulting in an increase in cost and a decrease in productivity.
【0009】従って、本発明は上記従来技術の課題を解
決しボンディング時間を短縮しコストダウンと生産性の
向上を図るワイヤボンディング方法を提供する事を目的
とする。SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a wire bonding method which solves the above problems of the prior art, shortens the bonding time, reduces the cost and improves the productivity.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決し上記目
的を達成するため本発明の半導体装置は、ダイパッドが
樹脂で形成されており、また該樹脂部に中継ボンディン
グ用部を設ける手段を取る事及び溝を設ける手段を取
る。In order to solve the above problems and achieve the above objects, the semiconductor device of the present invention has a die pad formed of a resin, and a means for providing a relay bonding portion in the resin portion is adopted. Take measures to make things and grooves.
【0011】[0011]
【実施例】図1、図2及び図3は本発明の実施例をボー
ルボンディング方式を用いた接続方法にて説明した要部
の図である。樹脂(絶縁物)からなる基板3上に搭載さ
れたICチップ1上の電極パッド2を第一の電極とし、
基板3上を第二の電極とし、インナーリード5を第三の
電極としてワイヤボンディングすることで電極パッド2
とインナーリード6を結線して導通させている。ここで
電極パッド2上ではボールボンディングが行われ、中継
点4でワイヤが切断されず、かつワイヤと中継点とが固
着される押圧条件をワイヤに施しステッチボンディング
が行われてそのままワイヤはループを描き続けてインナ
ーリード5迄行き、インナーリード5上でステッチボン
ディングが行われワイヤが切断され、次のボールボンデ
ィング用のボールを形成し、以降の残りのボンディング
を繰り返す、という方法がこの方式の特徴である。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIGS. 1, 2 and 3 are views of the essential parts for explaining an embodiment of the present invention by a connection method using a ball bonding method. The electrode pad 2 on the IC chip 1 mounted on the substrate 3 made of resin (insulator) is used as the first electrode,
The electrode pad 2 is formed by wire bonding the substrate 3 as the second electrode and the inner lead 5 as the third electrode.
And the inner lead 6 are connected to each other for electrical connection. Here, ball bonding is performed on the electrode pad 2, the wire is not cut at the relay point 4, and the wire is subjected to a pressing condition such that the wire and the relay point are fixed to each other, and stitch bonding is performed to form a loop of the wire as it is. The feature of this method is to continue drawing to the inner lead 5, stitch stitching is performed on the inner lead 5, the wire is cut, a ball for the next ball bonding is formed, and the rest of the subsequent bonding is repeated. Is.
【0012】具体的な、基盤のリードフレームへの搭載
の仕方としては、図3に示すようにインナーリード6の
タブ吊りリードまでを樹脂基盤3で被ってICチップ1
が搭載される部分を削ってICチップを搭載する。また
図3の断面図は図4に示すようになる。As a concrete method of mounting the substrate on the lead frame, as shown in FIG. 3, the resin substrate 3 covers up to the tab suspension leads of the inner leads 6 and the IC chip 1
The IC chip is mounted by cutting the part where is mounted. The sectional view of FIG. 3 is as shown in FIG.
【0013】図1での第二電極における拡大図を図5に
示す。樹脂基板3上に中継点用の溝9が設けられ、そこ
の部分にキャピラリ10が押し入れられて機械的にワイ
ヤが固定される。この方法ではある程度のワイヤを動か
そうとする外力に対して十分な固着強度を持つためワイ
ヤボンディング工程からモールディング工程間に加わっ
てくる外力、例えばワイヤ外観検査工程でのハンドリン
グやモールディング工程でのハンドリングなどの、中継
点での固着をはずそうとする外力に対し十分な抵抗力を
持つ。この接着の目的がモールディング工程まで固着が
維持される事であるため十分有効であるといえる。An enlarged view of the second electrode in FIG. 1 is shown in FIG. A groove 9 for a relay point is provided on the resin substrate 3, and a capillary 10 is pushed into that portion to mechanically fix the wire. Since this method has sufficient adhesion strength against an external force to move the wire to some extent, an external force applied between the wire bonding process and the molding process, such as handling in the wire appearance inspection process or handling in the molding process. , Has sufficient resistance to external forces that try to remove sticking at the relay point. It can be said that the purpose of this adhesion is sufficiently effective because the adhesion is maintained until the molding step.
【0014】[0014]
【発明の効果】本発明の半導体装置を用いることによ
り、従来の中継ボンディング方式ではボンディング時間
の短縮が可能となる。また中継点に溝を設ける事で外力
からのボンディング点の固着力の増加を持たせて工程間
での品質維持も図ることもできる。By using the semiconductor device of the present invention, it is possible to shorten the bonding time in the conventional relay bonding method. Further, by providing the groove at the relay point, it is possible to increase the fixing force of the bonding point from the external force and maintain the quality between the steps.
【0015】[0015]
【図1】本発明の実施例をボールボンディング方式を用
いた接続方法にて説明した要部の図(上方向からみた
図)。FIG. 1 is a diagram of a main part (viewed from above) explaining a connection method using a ball bonding method according to an embodiment of the present invention.
【図2】図1の断面図。FIG. 2 is a sectional view of FIG.
【図3】図1のボンディング部の拡大図。FIG. 3 is an enlarged view of a bonding portion of FIG.
【図4】図3の断面図。FIG. 4 is a sectional view of FIG.
【図5】本発明の中継点に溝が設けてありそこにワイヤ
が押圧された図。FIG. 5 is a view in which a groove is provided at a relay point of the present invention and a wire is pressed therein.
【図6】従来の中継ボンディングを示す図。FIG. 6 is a diagram showing a conventional relay bonding.
1 ICチップ 2 電極パッド 3 基板 4 中継点 5 インナーリード 6 ダイパッド 7 ワイヤ 8 中継基盤 9 溝 10 キャピラリ 1 IC Chip 2 Electrode Pad 3 Substrate 4 Relay Point 5 Inner Lead 6 Die Pad 7 Wire 8 Relay Board 9 Groove 10 Capillary
Claims (3)
に配されたインナーリードと、半導体チップとインナー
リードとをワイヤによりボンディングしている、樹脂封
止された半導体装置において、ダイパッドが樹脂で形成
されている事を特徴とするリードフレームを用いた半導
体装置。1. A resin-sealed semiconductor device in which a semiconductor chip and an inner lead arranged around the chip of the semiconductor device are bonded to the semiconductor chip and the inner lead by a wire, and a die pad is formed of resin. A semiconductor device using a lead frame which is characterized in that
に配されたインナーリードと、半導体チップとインナー
リードとをワイヤによりボンディングしている、樹脂封
止された半導体装置において、ダイパッドが樹脂で形成
されている事を特徴とするリードフレームを用いた半導
体装置の製造方法。2. A resin-sealed semiconductor device in which an inner lead arranged around a semiconductor chip and a chip of a semiconductor device and a semiconductor chip and an inner lead are bonded by a wire, and a die pad is formed of resin. A method of manufacturing a semiconductor device using a lead frame, which is characterized in that
ムのダイパッド上に、中継ボンディング用の溝が設けら
れている事を特徴とするリードフレームを用いた半導体
装置。3. A semiconductor device using a lead frame, wherein a groove for relay bonding is provided on a die pad of the lead frame of the semiconductor device according to claim 1.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4268830A JPH06120287A (en) | 1992-10-07 | 1992-10-07 | Semiconductor device using lead frame and manufacturing method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4268830A JPH06120287A (en) | 1992-10-07 | 1992-10-07 | Semiconductor device using lead frame and manufacturing method thereof |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06120287A true JPH06120287A (en) | 1994-04-28 |
Family
ID=17463855
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4268830A Pending JPH06120287A (en) | 1992-10-07 | 1992-10-07 | Semiconductor device using lead frame and manufacturing method thereof |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06120287A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006104264A1 (en) * | 2005-03-31 | 2006-10-05 | Pioneer Corporation | Semiconductor device and method for manufacturing same |
| EP2525403A1 (en) * | 2011-05-18 | 2012-11-21 | SanDisk Semiconductor (Shanghai) Co., Ltd. | Waterfall wire bonding |
-
1992
- 1992-10-07 JP JP4268830A patent/JPH06120287A/en active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006104264A1 (en) * | 2005-03-31 | 2006-10-05 | Pioneer Corporation | Semiconductor device and method for manufacturing same |
| JPWO2006104264A1 (en) * | 2005-03-31 | 2008-09-11 | パイオニア株式会社 | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
| JP4635047B2 (en) * | 2005-03-31 | 2011-02-16 | パイオニア株式会社 | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
| EP2525403A1 (en) * | 2011-05-18 | 2012-11-21 | SanDisk Semiconductor (Shanghai) Co., Ltd. | Waterfall wire bonding |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2004153220A (en) | Lead frame, method of manufacturing the same, resin-sealed semiconductor device and method of manufacturing the same | |
| JP3540793B2 (en) | Resin-sealed semiconductor device and method of manufacturing the same | |
| US6127206A (en) | Semiconductor device substrate, lead frame, semiconductor device and method of making the same, circuit board, and electronic apparatus | |
| US7183134B2 (en) | Ultrathin leadframe BGA circuit package | |
| JP2000114426A (en) | Single-sided resin sealing type semiconductor device | |
| JP3153197B2 (en) | Semiconductor device | |
| JPH06120287A (en) | Semiconductor device using lead frame and manufacturing method thereof | |
| US20030222338A1 (en) | Reverse wire bonding techniques | |
| JP3424184B2 (en) | Resin-sealed semiconductor device | |
| JP2003179193A (en) | Lead frame, method of manufacturing the same, resin-sealed semiconductor device, method of manufacturing the same, and method of inspecting resin-sealed semiconductor device | |
| JPH0684991A (en) | Semiconductor device | |
| JPS62235763A (en) | Lead frame for semiconductor device | |
| JP2503029B2 (en) | Method for manufacturing thin semiconductor device | |
| JP2003188332A (en) | Semiconductor device and method of manufacturing the same | |
| JPS61241954A (en) | Semiconductor device | |
| JPH11186447A (en) | Resin-sealed semiconductor device, method for manufacturing the same, and apparatus for manufacturing the same | |
| JP3195515B2 (en) | Semiconductor device and manufacturing method thereof | |
| JPH1197472A (en) | Semiconductor device and manufacturing method thereof | |
| JPH05243307A (en) | Semiconductor device | |
| JPH09312373A (en) | Inner lead tip structure of lead frame and processing method thereof | |
| JPH1126643A (en) | Semiconductor device | |
| JPH07297345A (en) | Lead frame for semiconductor device | |
| JPH09223767A (en) | Lead frame | |
| CN119725286A (en) | Packaged semiconductor device and method of manufacturing the same | |
| JPH05243317A (en) | Semiconductor device |