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JPH0612641B2 - Conductive inorganic material - Google Patents

Conductive inorganic material

Info

Publication number
JPH0612641B2
JPH0612641B2 JP59162481A JP16248184A JPH0612641B2 JP H0612641 B2 JPH0612641 B2 JP H0612641B2 JP 59162481 A JP59162481 A JP 59162481A JP 16248184 A JP16248184 A JP 16248184A JP H0612641 B2 JPH0612641 B2 JP H0612641B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
inorganic material
copper
group
sulfide
solution
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP59162481A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS6142813A (en
Inventor
信二 冨部
礼三 五味淵
▲かん▼文 高橋
昇 加藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nihon Sanmo Dyeing Co Ltd
Original Assignee
Nihon Sanmo Dyeing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nihon Sanmo Dyeing Co Ltd filed Critical Nihon Sanmo Dyeing Co Ltd
Priority to JP59162481A priority Critical patent/JPH0612641B2/en
Publication of JPS6142813A publication Critical patent/JPS6142813A/en
Publication of JPH0612641B2 publication Critical patent/JPH0612641B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

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  • Chemically Coating (AREA)
  • Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は導電性無機材料に関するものである。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a conductive inorganic material.

〔従来技術〕[Prior art]

ガラスやセラミックス等の無機材料に対して導電性を付
与するために、その無機材料の表面を化学メッキ処理
し、その表面に金属を析出させる方法は知られている。
化学メッキ処理方法の場合、無機材料の表面に金属イオ
ンが金属として析出しやすいように、無機材料表面に前
処理として、エッチング工程や、センシタイジング工
程、アクチベーション工程等を施す必要があるため、全
体の処理工程が複雑になる上、メッキ浴の安定性が悪
く、メッキに際しては浴比を大きくすることが必要であ
り、工業的観点からは未だ満足すべきものではなかっ
た。
In order to impart conductivity to an inorganic material such as glass or ceramics, a method of subjecting the surface of the inorganic material to a chemical plating treatment and depositing a metal on the surface is known.
In the case of the chemical plating method, in order that metal ions are easily deposited as a metal on the surface of the inorganic material, as a pretreatment on the surface of the inorganic material, it is necessary to perform an etching step, a sensitizing step, an activation step, etc. The whole treatment process is complicated, the stability of the plating bath is poor, and it is necessary to increase the bath ratio during plating, which is not yet satisfactory from an industrial viewpoint.

〔目的〕〔Purpose〕

本発明は、前記した従来法とは異なり、簡単な方法によ
り製造可能な新規な導電性無機材料を提供することを目
的とする。
An object of the present invention is to provide a novel conductive inorganic material which can be produced by a simple method, which is different from the above-mentioned conventional method.

〔構成〕〔Constitution〕

本発明によれば、銅イオン結合性活性基と無機材料に対
し親和性を有する基を含有する表面処理剤をあらかじめ
表面に付着させた無機材料に対し、該銅イオン結合性活
性基を介して硫化銅を結合させたことを特徴とする導電
性無機材料が提供される。
According to the present invention, a surface treatment agent containing a group having an affinity for a copper ion-bonding active group and an inorganic material is attached to the surface of the inorganic material in advance, via the copper ion-bonding active group. Provided is a conductive inorganic material having copper sulfide bonded thereto.

本発明で基材として用いる無機材料の形状は任意であ
り、粉体状の他、顆粒状、板状、アァイバー状等の形状
で用いることができる。また、無機材料としては、マス
コバイト、マイカ、フロゴパイトマイカ等の板状マイカ
鉱物、チタン酸カリウムウイスカ、石コウウイスカ、ウ
オラストナイト、アスベスト、タルク、セピオライト、
シリカ、アルミナ、ガラスフレーク、ガラスファイバ
ー、シリコンファイバー、カーボンファイバー、その他
の各種無機化合物やセラミックスが挙げられ、その種類
は特に製約されない。
The shape of the inorganic material used as the substrate in the present invention is arbitrary, and it can be used in the form of powder, granule, plate, fiber or the like. Further, as the inorganic material, muscovite, mica, plate-shaped mica minerals such as phlogopite mica, potassium titanate whiskers, gypsum whiskers, wollastonite, asbestos, talc, sepiolite,
Examples thereof include silica, alumina, glass flakes, glass fibers, silicon fibers, carbon fibers, and other various inorganic compounds and ceramics, and the types thereof are not particularly manufactured.

本発明の導電性無機材料を製造するには、先ず、基材と
しての前記無機材料に対し、銅イオン結合活性基と無機
材料に対し親和性を有する基を含有する表面処理剤を用
いて表面処理を施し、無機材料表面に表面処理剤を被膜
状に付着させる。銅イオン結合性活性基としては、シア
ン基、メルカプト基、第4級アンモニウム塩基、チオカ
ルボニル基、アミノ基、チオシアネート基、イソシアン
基等がある。この場合、第4級アンモニウム塩基は、次
の式で示される。
In order to produce the conductive inorganic material of the present invention, first, a surface treatment agent containing a copper ion-bonding active group and a group having an affinity for the inorganic material is used for the surface of the inorganic material as a substrate. A treatment is applied to the surface of the inorganic material in the form of a film. Examples of the copper ion-binding active group include a cyan group, a mercapto group, a quaternary ammonium salt group, a thiocarbonyl group, an amino group, a thiocyanate group, and an isocyanate group. In this case, the quaternary ammonium base is represented by the following formula.

(式中、R,R,Rはアルキル、アリール、アラ
ルキル等の炭化水素であり、Xは塩素イオン、硫酸イオ
ン等の陰イオンである) また、無機材料に対し親和性を有する基としては、例え
ば、カルボキシル基、エステル基、水酸基、ハロゲン
基、グリシドオキシ基、シラン又はチタンに結合するア
ルコキシ基が挙げられる。
(In the formula, R 1 , R 2 , and R 3 are hydrocarbons such as alkyl, aryl, and aralkyl, and X is an anion such as chlorine ion and sulfate ion.) Also, a group having an affinity for an inorganic material. Examples thereof include a carboxyl group, an ester group, a hydroxyl group, a halogen group, a glycidoxy group, an silane or an alkoxy group bonded to titanium.

本発明で用いる表面処理剤は前記した銅イオン結合性活
性基及び/又は無機材料に対し親和性を有する基を2個
以上含有することもできる。
The surface treatment agent used in the present invention can also contain two or more groups having the above-mentioned copper ion-bonding active group and / or an affinity for an inorganic material.

本発明で用いる前記活性基を持つ表面処理剤は、低分
子、オリゴマー又は高分子であることができるが、好ま
しい表面処理剤は、一方の端末に銅イオン結合性活性基
を有し、他方の末端に無機材料に対して親和性を有する
官能基を有する化合物である。このような化合物は脂肪
族系、芳香族系のものであることができ、その好ましい
例としてはシランカップリング剤等のカップリング剤を
挙げることができる。
The surface treating agent having an active group used in the present invention can be a low molecular weight, an oligomer or a polymer, but a preferable surface treating agent has a copper ion-bonding active group at one terminal and the other. It is a compound having a functional group having an affinity for an inorganic material at the end. Such compounds may be aliphatic or aromatic compounds, and preferred examples thereof include coupling agents such as silane coupling agents.

前記表面処理剤を用いる無機材料の表面処理は、適当な
溶媒、例えば、水、メタノール、エチルアルコール、ア
セトン、トルエン、ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシド、ジオキサン等に表面処理剤を溶解させて溶
液とし、この表面処理剤溶液に、無機材料を浸漬等の方
法により接触させた後、溶媒を蒸発除去させる方法等が
あり、無機材料と表面処理剤溶液を接触させ得る方法で
あれば任意である。本発明の場合、無機材料中に含まれ
る銅イオン結合性の活性基は、材料中、イオン原子
(S)又は窒素原子(N)換算で、少なくとも0.05重量
%以上、好ましくは0.1〜10重量%の割合に規定するの
がよい。
The surface treatment of the inorganic material using the surface treatment agent, a solution by dissolving the surface treatment agent in a suitable solvent, for example, water, methanol, ethyl alcohol, acetone, toluene, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, dioxane, etc., There is a method in which an inorganic material is brought into contact with the surface treatment agent solution by a method such as dipping, and then the solvent is evaporated and removed. Any method can be used as long as it can bring the inorganic material and the surface treatment agent solution into contact with each other. In the case of the present invention, the copper ion-bonding active group contained in the inorganic material is at least 0.05 wt% or more, preferably 0.1 to 10 wt% in terms of ionic atom (S) or nitrogen atom (N) in the material. It is better to specify the ratio of.

本発明においては、前記した表面処理を施された無機材
料に対して、その活性基を介して硫化銅を結合させる。
この場合、無機材料に対して結合させる硫化銅の量は、
特に制約されなず、一般には、金属銅換算で、通常0.05
〜20重量%程度である。
In the present invention, copper sulfide is bonded to the above-mentioned surface-treated inorganic material via its active group.
In this case, the amount of copper sulfide bonded to the inorganic material is
There is no particular restriction, and in general, it is usually 0.05 in terms of metallic copper.
It is about 20% by weight.

前記無機材料に対して硫化銅を結合させるための方法と
しては種々の方法があるが、その第1の方法としては、
先ず無機材料に1価銅イオンを結合させた後、次のその
1価銅イオンを硫化剤と反応させて硫化銅にする方法が
ある。この場合、1価銅イオンの結合は、1価銅イオン
を含む溶液又は2価銅イオンと還元剤を含む溶液と無機
材料を接触させることによって行うことができる。前記
1価銅イオンを与える銅化合物としては、塩化第1銅、
臭化第1銅等の第1銅塩があり、2価銅イオンを与える
銅化合物としては、塩化第2銅、臭化第2銅、硫酸第2
銅、酢酸第2銅等の第2銅塩がある。また、1価銅イオ
ンを得るために、2価銅イオンと組合せて用いられる還
元剤としては、2価銅イオンを1価銅イオンに変換し得
るものであればよく、金属銅、硫酸第1鉄、次亜リン酸
ナトリウム、ヒドロキシルアミン等があり、このものは
2価銅イオンを1価銅イオンに変換し得るに十分な量で
用いられる。硫化剤としては、イオウ原子やイオウイオ
ンを放出し得る種々のイオウ化合物が用いられ、例え
ば、硫化ナトリウム、亜ニチオン酸、亜ニチオン酸ナト
リウム、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸、亜硫酸水素ナト
リウム、ピロ亜硫酸ナトリウム、ロンガリットC、ロン
ガリットZ、硫化水素、チオ尿素、チオアセトアミド等
がある。この硫化剤の使用量は特に制約されず、無機材
料に結合された銅イオンを硫化銅に変換し得るに十分な
量であればよい。また、前記1価銅イオンを結合させる
工程(第1工程)では、常温ないし加温、好ましくは80
〜110゜Cで30分〜120分程度の反応条件が採用され、一
方、1価銅イオンの硫化工程では、第1工程で得られた
処理物を充分洗浄した後、常温ないし加温、好ましくは
80〜110゜Cで30分〜120分程度の反応条件が採用される。
第1工程で用いる溶液中の銅イオンの濃度は、金属換算
量で、通常、1〜30g/、好ましくは2〜10g/であ
り、硫化剤の濃度は、1〜10g/である。
There are various methods for binding copper sulfide to the inorganic material, and the first method is as follows.
There is a method in which a monovalent copper ion is first bound to an inorganic material and then the monovalent copper ion is reacted with a sulfiding agent to form copper sulfide. In this case, the monovalent copper ions can be bound by bringing the solution containing the monovalent copper ions or the solution containing the divalent copper ions and the reducing agent into contact with the inorganic material. As the copper compound giving the monovalent copper ion, cuprous chloride,
There are cuprous salts such as cuprous bromide, and copper compounds that give divalent copper ions include cupric chloride, cupric bromide, and cupric sulfate.
There are cupric salts such as copper and cupric acetate. The reducing agent used in combination with the divalent copper ion in order to obtain the monovalent copper ion may be any one capable of converting the divalent copper ion into the monovalent copper ion. There are iron, sodium hypophosphite, hydroxylamine and the like, which are used in an amount sufficient to convert divalent copper ions into monovalent copper ions. As the sulfurizing agent, various sulfur compounds capable of releasing a sulfur atom or a sulfur ion are used, for example, sodium sulfide, dithionous acid, sodium dithionite, sodium thiosulfate, sulfurous acid, sodium hydrogen sulfite, sodium pyrosulfite, Rongalit C, Rongalit Z, hydrogen sulfide, thiourea, thioacetamide and the like. The amount of the sulfiding agent used is not particularly limited and may be any amount sufficient to convert the copper ions bound to the inorganic material into copper sulfide. In addition, in the step of binding the monovalent copper ions (first step), the temperature is from normal temperature to warming, preferably 80
Reaction conditions of about 110 to 120 ° C for about 30 to 120 minutes are adopted. On the other hand, in the step of sulfiding monovalent copper ions, the treated product obtained in the first step is thoroughly washed, and then at room temperature or heating, preferably Is
Reaction conditions of 30 to 120 minutes at 80 to 110 ° C are adopted.
The concentration of copper ions in the solution used in the first step is usually 1 to 30 g / m, preferably 2 to 10 g / m in terms of metal equivalent, and the concentration of the sulfiding agent is 1 to 10 g / m.

また、第2の方法としては、1価銅イオンと硫化剤を含
む溶液を、又は2価銅イオンと還元剤と硫化剤を含む溶
液を無機材料に接触させる方法がある。この場合、1価
銅イオンを生成する化合物、2価銅イオンを生成する化
合物及び還元剤の具体例としては、前記したものが挙げ
られ、また、硫化剤としては、チオ硫酸塩が用いられ
る。溶液中の銅イオン濃度は、通常、1〜30g/、好ま
しくは2〜10g/であり、硫化剤の濃度は、1〜40g/
、好ましくは2〜20g/である。反応温度は常温ない
し加温、好ましくは30〜80゜Cである。
As a second method, there is a method in which a solution containing a monovalent copper ion and a sulfiding agent or a solution containing a divalent copper ion, a reducing agent and a sulfiding agent is brought into contact with an inorganic material. In this case, specific examples of the compound generating monovalent copper ions, the compound generating divalent copper ions, and the reducing agent include those described above, and the sulfurizing agent is thiosulfate. The concentration of copper ions in the solution is usually 1 to 30 g /, preferably 2 to 10 g /, and the concentration of the sulfiding agent is 1 to 40 g /
, Preferably 2 to 20 g /. The reaction temperature is from room temperature to warming, preferably 30 to 80 ° C.

さらに、他の方法としては、無機材料にあらかじめ前記
硫化剤、好ましくい硫化水素を吸着させておき、これに
前記第1の方法と同様にして1価銅イオンを結合させて
硫化銅とすればよい。
Further, as another method, if the sulfurizing agent, preferably hydrogen sulfide, is adsorbed on an inorganic material in advance, and monovalent copper ions are bonded to this to form copper sulfide in the same manner as in the first method. Good.

本発明においては、無機材料に対する硫化銅の結合を安
定化させ、製品の耐水性や耐湿性を改善させるために、
銀、金及び白金属金属の中から選ばれる金属成分を硫化
銅と共に結合させるのが好ましい。この場合、白金属金
属には、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウ
ム、イリジウム及び白金が含まれる。硫化銅に対して補
助成分として用いるこのような補助金属成分は、硫化銅
の結合量に比して極めて少量でよく、無機材料に対し
て、金属換算量で、通常、0.0005〜10重量%、好ましく
は0.005〜5重量%であり、また硫化銅に対する割合
は、原子モル比M/Cu(M:補助金属)で表わして、通
常、0.0001〜0.5、好ましくは0.0001〜0.3程度である。
In the present invention, to stabilize the binding of copper sulfide to the inorganic material, in order to improve the water resistance and moisture resistance of the product,
It is preferable to combine a metal component selected from silver, gold and white metal with copper sulfide. In this case, the white metal includes ruthenium, rhodium, palladium, osmium, iridium and platinum. Such an auxiliary metal component used as an auxiliary component for copper sulfide may be a very small amount as compared with the amount of copper sulfide bonded, and is an inorganic material-equivalent amount of usually 0.0005 to 10% by weight, The amount is preferably 0.005 to 5% by weight, and the ratio with respect to copper sulfide is usually 0.0001 to 0.5, preferably about 0.0001 to 0.3, expressed as an atomic molar ratio M / Cu (M: auxiliary metal).

前記補助金属成分の無機材料に対する添加は、前記で得
た硫化銅を結合させた無機材料に対し、補助金属イオン
を含む溶液を用いて接触処理すればよい。この場合、補
助金属イオンを与える化合物としては、例えば、硫酸
塩、硝酸塩等の無機酸塩の他、酢酸塩、安息香酸塩等の
有機酸塩、ロダン錯塩、チオ硫酸錯塩等の各種の錯塩が
挙げられる。補助金属化合物の溶液中の濃度は特に制約
されないが、金属換算量で、通常、0.005〜10g/好ま
しくは0.01〜6g/である。溶液中に硫化銅含有無機材
料を浸漬させて処理する場合、無機材料に対する浴比
は、無機材料1重量部に対し、溶液5〜50重量部、好ま
しくは10〜30重量部であり、処理温度は常温〜110゜C、
好ましくは30〜80゜Cであり、処理時間は0.5〜20時間、
好ましくは1〜10時間である。
The addition of the auxiliary metal component to the inorganic material may be carried out by contacting the obtained inorganic material to which copper sulfide is bonded with a solution containing an auxiliary metal ion. In this case, examples of the compound that gives an auxiliary metal ion include inorganic acid salts such as sulfates and nitrates, organic acid salts such as acetates and benzoates, various complex salts such as rhodan complex salts and thiosulfate complex salts. Can be mentioned. The concentration of the auxiliary metal compound in the solution is not particularly limited, but is usually 0.005 to 10 g / preferably 0.01 to 6 g / p in terms of metal. When the copper sulfide-containing inorganic material is immersed in the solution for treatment, the bath ratio to the inorganic material is 5 to 50 parts by weight, preferably 10 to 30 parts by weight, based on 1 part by weight of the inorganic material. Is room temperature to 110 ° C,
The temperature is preferably 30 to 80 ° C, the treatment time is 0.5 to 20 hours,
It is preferably 1 to 10 hours.

以上のように、硫化銅を結合させた無機材料に対して補
助金属イオンを含む溶液を接触させるだけで、無機材料
に対する硫化物の結合安定性を高め、耐水性や耐湿性等
の向上した製品を得ることができるが、この処理に際し
ては、必要に応じ、還元性イオウ化合物を併用すること
ができ、これによって、硫化銅の結合安定性をさらに高
めることができる。この場合のイオウ化合物は、還元作
用を持つものであればよく、例えば、硫化ナトリウム(N
a2S)、硫化水素(H2S)、二酸化イオウ(SO2)、亜硫酸水素
ナトリウム(NaHSO3)、チオ硫酸ナトリウム(Na2S2O3)、
亜硫酸(H2SO3)二亜硫酸ナトリウム(Na2S2O5)、亜ニチオ
ン酸ナトリウム(Na2S2O4)、亜ニチオン酸(H2S2O4)、ロ
ンガリット(亜ニチオン酸塩とホルマリンの付加物)、
あるいは前記の混合物が挙げられる。硫化水素や二酸化
イオウのようなガス状イオウ化合物を用いる時には、溶
液中への溶解度を高めるために、加圧下で行うか、ある
いはガス状イオウ化合物を連続的に溶液中に吹込むのが
よい。イオウ化合物の添加量は、溶液中の補助金属化合
物1モルに対し、通常、0.2〜5モル、好ましくは0.4〜
3モルの範囲である。このイオウ化合物の使用は、硫化
銅の結合した無機材料上への補助金属成分の結合を促進
させかつ安定化させ、さらに、導電性を向上させる効果
も示す。前記還元性イオウ化合物を併用する場合、補助
金属イオンを含む溶液による処理をイオウ化合物の存在
下で行うことができ、またその溶液による処理の後、イ
オウ化合物で処理することができる。
As described above, by simply contacting a solution containing an auxiliary metal ion with an inorganic material bound with copper sulfide, the bond stability of sulfide with respect to the inorganic material is increased, and the product has improved water resistance and moisture resistance. In this treatment, a reducing sulfur compound can be used in combination, if necessary, whereby the bond stability of copper sulfide can be further enhanced. The sulfur compound in this case may be any compound having a reducing action, for example, sodium sulfide (N
a 2 S), hydrogen sulfide (H 2 S), sulfur dioxide (SO 2 ), sodium bisulfite (NaHSO 3 ), sodium thiosulfate (Na 2 S 2 O 3 ),
Sulfurous acid (H 2 SO 3 ) Sodium bisulfite (Na 2 S 2 O 5 ), Sodium dithionite (Na 2 S 2 O 4 ), Nitious acid (H 2 S 2 O 4 ), Rongalit (Nithionite salt) And the addition of formalin),
Alternatively, the above mixture may be mentioned. When a gaseous sulfur compound such as hydrogen sulfide or sulfur dioxide is used, it is preferable to perform it under pressure or continuously blow the gaseous sulfur compound into the solution in order to increase the solubility in the solution. The addition amount of the sulfur compound is usually 0.2 to 5 mol, preferably 0.4 to 5 mol, based on 1 mol of the auxiliary metal compound in the solution.
It is in the range of 3 mol. The use of this sulfur compound also has the effect of promoting and stabilizing the binding of the auxiliary metal component onto the copper sulfide-bonded inorganic material, and further improving the conductivity. When the reducing sulfur compound is used in combination, the treatment with a solution containing an auxiliary metal ion can be carried out in the presence of a sulfur compound, and the treatment with the solution can be followed by treatment with a sulfur compound.

上記の態様においては、あらかじめ硫化銅を結合させた
無機材料に対して補助金属成分を結合させたが、これと
は別に、補助金属成分は、無機材料に対して硫化銅を結
合させる際に、同時に結合させることも可能であり、こ
の場合には、補助金属成分を銅イオンと共存させればよ
い。
In the above aspect, the auxiliary metal component was bonded to the inorganic material to which copper sulfide was previously bonded, but apart from this, the auxiliary metal component is, when bonding copper sulfide to the inorganic material, It is also possible to bond simultaneously, and in this case, the auxiliary metal component may coexist with copper ions.

本発明においては、必要に応じ、前記した硫化銅を結合
させた無機材料に対して、その硫化銅を介してさらに導
電性金属を付着させることもできる。この場合、導電性
金属の付着は、通常の電解めつき法によって行うことが
できる。即ち、硫化銅を結合させた無機材料を陰極と
し、所要の金属イオンを含む電解浴中で、陰極と陽極と
の間を通電すればよい。電解めつき用の金属としては、
導電性のものであればよく、例えば、ニッケル、銅コバ
ルト、鉛、亜鉛、錫等が用いられる。この導電性金属の
付着は、高分子材料に対し、10〜80重量%、好ましくは
15〜50重量%である。この電解めつき処理により、硫化
銅結合無機材料の導電性をさらに改良することができ
る。
In the present invention, if necessary, a conductive metal can be further attached to the above-mentioned inorganic material to which copper sulfide is bonded via the copper sulfide. In this case, the conductive metal can be attached by the usual electrolytic plating method. That is, an inorganic material to which copper sulfide is bonded may be used as a cathode, and current may be passed between the cathode and the anode in an electrolytic bath containing required metal ions. As a metal for electroplating,
Any conductive material may be used, and for example, nickel, copper cobalt, lead, zinc, tin or the like is used. The adhesion of this conductive metal is 10 to 80% by weight, preferably
15 to 50% by weight. This electrolytic plating treatment can further improve the conductivity of the copper sulfide-bonded inorganic material.

〔効果〕〔effect〕

本発明は、前記の構成であり、本発明によれば、無機材
料に対し、少量の硫化銅を結合させるだけで、その無機
材料に高い導電性を付与し得ることから、その実用的価
値は大きい。しかも、本発明の導電性無機材料の場合、
従来法に比べ、その製造が容易であるという利点があ
る。
The present invention has the above-mentioned constitution, and according to the present invention, since it is possible to impart high conductivity to the inorganic material only by binding a small amount of copper sulfide, the practical value thereof is large. Moreover, in the case of the conductive inorganic material of the present invention,
Compared with the conventional method, there is an advantage that the manufacturing is easy.

本発明の製品は、プラスチック中に混入して電磁波シー
ルド材等として有利に適用される。
The product of the present invention is mixed in plastics and is advantageously applied as an electromagnetic wave shielding material or the like.

〔実施例〕〔Example〕

次に本発明を実施例によりさらに詳細に説明する。 Next, the present invention will be described in more detail with reference to Examples.

実施例1 ガラスファイバー(33.7テックス、フィラメント系)10
gを、γ−シアノプロピルトリエトキシシラン0.5gを水1
00゜C中に溶解し、酢酸でpHを3.5に調整した溶液中に浸
漬し、常温で30分間処理した後、水洗した。
Example 1 Glass fiber (33.7 tex, filament type) 10
g, γ-cyanopropyltriethoxysilane 0.5 g water 1
It was dissolved in 00 ° C., immersed in a solution whose pH was adjusted to 3.5 with acetic acid, treated at room temperature for 30 minutes, and washed with water.

次に、上記処理したガラスファイバーを、硫酸銅15g、
チオ硫酸ソーダ10g、酸性亜硫酸ソーダ5g、酢酸3g、酢
酸ソーダ3gを200ccの水に溶解した溶液中で、60℃で4
時間処理を行った。処理後のガラスファイバーは、オリ
ーブグレー色を呈し、電気比抵抗値3.2×10-2Ω・cmを
示した。
Next, the treated glass fiber, copper sulfate 15g,
Sodium thiosulfate 10 g, acidic sodium sulfite 5 g, acetic acid 3 g, and sodium acetate 3 g in a solution of 200 cc of water at 60 ° C.
Time processing was performed. The treated glass fiber had an olive gray color and an electric resistivity of 3.2 × 10 -2 Ω · cm.

実施例2 雲母片10gを、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシ
ラン0.5gを100ccの水に溶解し酢酸でpH3.5に調整した溶
液中に浸漬し、常温で40分処理後、水洗し、実施例1と
同条件で硫化銅結合処理を行った。処理後の雲母は黒灰
色を呈し、その表面電気抵抗率は350Ωであった。
Example 2 10 g of mica pieces was immersed in a solution of 0.5 g of γ-mercaptopropyltrimethoxysilane dissolved in 100 cc of water and adjusted to pH 3.5 with acetic acid, treated at room temperature for 40 minutes, and washed with water. Copper sulfide bonding treatment was performed under the same conditions as in 1. The treated mica exhibited a black gray color and its surface electrical resistivity was 350Ω.

実施例3 白色磁製ビーカーの破片20gを、γ−アミノピロピルト
リエトキシシラン0.5gを100ccの水に溶かし酢酸でpH3.5
に調整した溶液中に浸漬し、50゜Cで15分間処理し、水洗
した後、実施例1と同一条件で硫化銅を結合処理を行っ
た。得られた製品は、オリーブグレー色を示し、その表
面電気抵抗率は220Ωであった。
Example 3 20 g of a piece of a white porcelain beaker was dissolved in 0.5 g of γ-aminopyropyrtriethoxysilane in 100 cc of water, and pH was adjusted to 3.5 with acetic acid.
The sample was dipped in the solution prepared as above, treated at 50 ° C. for 15 minutes, washed with water, and then bound with copper sulfide under the same conditions as in Example 1. The obtained product had an olive gray color and its surface electrical resistivity was 220Ω.

実施例4 ガラスファイバー10gを、イソシアネートプロピルトリ
エトキシシラン1gをメタノール100cc中に溶解し、酢
酸でpH3.5に調整した溶液中に、浸漬し、40゜Cで20分間
処理を行った後、水洗した。得られたガラスファイバー
を実施例1と同様にして硫化銅結合処理を施したとこ
ろ、電気比抵抗値2.6×10-1Ω・cmの製品を得た。
Example 4 10 g of glass fiber was dissolved in 100 cc of isocyanatopropyltriethoxysilane in 100 cc of methanol, immersed in a solution adjusted to pH 3.5 with acetic acid, treated at 40 ° C. for 20 minutes, and then washed with water. did. When the obtained glass fiber was subjected to copper sulfide bonding treatment in the same manner as in Example 1, a product having an electric specific resistance of 2.6 × 10 −1 Ω · cm was obtained.

実施例5 実施例1において、ガラスファイバーの代りに橄欖石を
用いた以外は同様にして実験を行いグレーの色相を有す
る表面電気抵抗率380Ωの製品を得た。
Example 5 An experiment was conducted in the same manner as in Example 1 except that olivine was used instead of the glass fiber, and a product having a surface hue of 380Ω having a gray hue was obtained.

実施例6 雲母片5gを、トリメトキシシリールプロピルオクタデ
シルジメチルアンモニウムクロライド0.5gをメタノール
100ccに溶解した溶液中に浸漬し、常温で30分間処理
後、80゜Cで20分間乾燥した。この乾燥物を、実施例1と
同様にして硫化銅結合処理を行い、黒灰色を示し、表面
電気抵抗率410Ωの製品を得た。
Example 6 5 g of mica and 0.5 g of trimethoxysilylyloctadecyldimethylammonium chloride in methanol
It was immersed in a solution dissolved in 100 cc, treated at room temperature for 30 minutes, and then dried at 80 ° C for 20 minutes. The dried product was subjected to copper sulfide bonding treatment in the same manner as in Example 1 to obtain a product showing a black gray color and a surface electric resistivity of 410Ω.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭58−45263(JP,A) 特開 昭59−112502(JP,A) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-58-45263 (JP, A) JP-A-59-112502 (JP, A)

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】銅イオン結合性活性基と無機材料に対し親
和性を有する基を含有する表面処理剤をあらかじめ表面
に付着させた無機材料に対し、該銅イオン結合性活性基
を介して硫化銅を結合させたことを特徴とする導電性無
機材料。
1. A sulfur treatment is performed on an inorganic material having a surface-treating agent containing a copper ion-bonding active group and a group having an affinity for the inorganic material attached to the surface in advance through the copper ion-bonding active group. A conductive inorganic material, which is characterized by binding copper.
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