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JPH06111384A - How to duplicate stamper for optical disk - Google Patents

How to duplicate stamper for optical disk

Info

Publication number
JPH06111384A
JPH06111384A JP25504992A JP25504992A JPH06111384A JP H06111384 A JPH06111384 A JP H06111384A JP 25504992 A JP25504992 A JP 25504992A JP 25504992 A JP25504992 A JP 25504992A JP H06111384 A JPH06111384 A JP H06111384A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
stamper
optical disk
master
oxygen plasma
plasma ashing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP25504992A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tatsuya Sunamoto
辰也 砂本
Hirokazu Igarashi
宏和 五十嵐
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kuraray Co Ltd
Original Assignee
Kuraray Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kuraray Co Ltd filed Critical Kuraray Co Ltd
Priority to JP25504992A priority Critical patent/JPH06111384A/en
Publication of JPH06111384A publication Critical patent/JPH06111384A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 廃液処理が不要で環境問題がなく、また電気
メッキ液の汚染もなく、しかも高い転写性で欠陥の少な
いスタンパが得られる光ディスク用スタンパの複製方法
を提供すること。 【構成】 酸素プラズマアッシング処理により形成され
た酸化膜からなる剥離皮膜1a,2aを有するスタンパ
を用いることを特徴とする。
(57) [Summary] [Purpose] To provide a stamper duplication method for an optical disk, which does not require waste liquid treatment, has no environmental problems, does not contaminate an electroplating solution, and has a high transferability and few defects. . [Structure] A stamper having release films 1a and 2a made of an oxide film formed by oxygen plasma ashing is used.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は光ディスクの製造に使用
するスタンパを複製する方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of reproducing a stamper used for manufacturing an optical disc.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の光ディスク用スタンパの製造方法
およびその複製方法を図3を用いて説明する。光学研磨
されたガラス盤11(図3(a))を洗浄した後、この
ガラス盤11上にフォトレジスト膜11b(厚さ150
nm程度)を塗布する(図3(b))。このフォトレジ
スト上に、記録する信号に応じて変調されたレーザー光
を照射し露光する。露光された部分を現像除去すること
により、微小凹凸を形成し(図3(c))、ガラスマス
ター12の表面に電気メッキに際して必要となる導電膜
12aを付ける(図3(d))。通常導電膜はAgまた
はNiからなり、スパッタリング法または無電解メッキ
法により付けられる。この後、これを電極としてニッケ
ル電鋳を行い、ガラス原盤を剥離するとマスタースタン
パ13(以下、スタンパを複製するために用いるスタン
パをマスタースタンパという。)が得られる(図3
(e),(f))。そのマスタースタンパ13を用いて
光ディスク用スタンパを複製する場合、マスタースタン
パ13の表面を電解脱脂法により洗浄した後、剥離皮膜
13aをマスタースタンパ上に形成する(図3
(g))。さらに、マスタースタンパ13を電極として
ニッケル電鋳を行い、所定の厚さまでニッケルを付着さ
せた後、剥離することによってマスタースタンパ13と
逆の凹凸パターンを有するマザースタンパ14(以下、
マスタースタンパから複製されたスタンパをマザースタ
ンパという。)を得る(図3(h))。マザースタンパ
14の表面を電解脱脂法により洗浄した後、マザースタ
ンパ14上に剥離皮膜14aを形成する。このマザース
タンパ14を電極として、ニッケル電鋳を行うと、マス
タースタンパ13と同じ凹凸パターンを有するサンスタ
ンパ15(以下、マザースタンパから複製されたスタン
パをサンスタンパという。)が得られる(図3(i〜
1))。上記光ディスク用スタンパの複製工程におい
て、剥離皮膜13aおよび14aとしては、一般に重ク
ロム酸溶液を用いて形成されたクロム酸化物膜が用いら
れる。
2. Description of the Related Art A conventional method for manufacturing an optical disk stamper and a method for copying the same will be described with reference to FIG. After cleaning the optically polished glass plate 11 (FIG. 3A), a photoresist film 11b (having a thickness of 150) is formed on the glass plate 11.
(about nm) is applied (FIG. 3B). The photoresist is exposed by irradiating laser light modulated according to the signal to be recorded. The exposed portion is developed and removed to form fine irregularities (FIG. 3C), and the conductive film 12a necessary for electroplating is attached to the surface of the glass master 12 (FIG. 3D). Usually, the conductive film is made of Ag or Ni and is applied by the sputtering method or the electroless plating method. After that, nickel electroforming is performed using this as an electrode, and the glass master is peeled off to obtain a master stamper 13 (hereinafter, the stamper used to duplicate the stamper is referred to as a master stamper) (FIG. 3).
(E), (f)). When the master stamper 13 is used to duplicate an optical disk stamper, the surface of the master stamper 13 is cleaned by electrolytic degreasing, and then the release coating 13a is formed on the master stamper (FIG. 3).
(G)). Further, nickel electroforming is performed using the master stamper 13 as an electrode, nickel is attached to a predetermined thickness, and then peeled off to form a mother stamper 14 (hereinafter,
A stamper duplicated from the master stamper is called a mother stamper. ) Is obtained (FIG. 3 (h)). After the surface of the mother stamper 14 is washed by the electrolytic degreasing method, the release coating 14a is formed on the mother stamper 14. When nickel electroforming is performed using this mother stamper 14 as an electrode, a sun stamper 15 (hereinafter, a stamper duplicated from the mother stamper is referred to as a sun stamper) having the same concavo-convex pattern as the master stamper 13 is obtained (FIG.
1)). In the duplication process of the stamper for an optical disc, a chromium oxide film formed by using a dichromic acid solution is generally used as the release coatings 13a and 14a.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】重クロム酸溶液により
光ディスク用スタンパの表面に剥離皮膜を形成する従来
の方法においては、使用した重クロム酸溶液が公害物質
であるため、廃液をそのまま捨てることができず、何ら
かの廃液処理を施す必要があり、廃液処理のコストがか
かること、また環境問題に関する規制の強化から重クロ
ム酸溶液の使用が難しくなってきている等の問題が存在
する。また、重クロム酸溶液には、電気メッキ液を激し
く疲労させ、電気メッキ液を汚染することから、使用に
際して注意を要するという欠点が存在する。さらに、上
記従来の方法は、基本的にウエットプロセスであるため
に、光ディスク用スタンパのように微細な凹凸パターン
に剥離皮膜を付ける方法としては不適当である。また、
重クロム酸溶液により光ディスク用スタンパ表面が汚染
され欠陥が増える可能性がある。
In the conventional method of forming a release coating on the surface of a stamper for an optical disk with a dichromic acid solution, the dichromic acid solution used is a pollutant, so the waste liquid may be discarded as it is. However, there is a problem that it is difficult to use the dichromic acid solution due to the fact that it is necessary to carry out some kind of waste liquid treatment, the cost of waste liquid treatment is high, and the tightening of regulations concerning environmental problems makes it difficult to use the dichromic acid solution. In addition, the dichromic acid solution has a drawback in that the electroplating solution is severely fatigued and contaminates the electroplating solution, so that care must be taken during use. Furthermore, since the above-mentioned conventional method is basically a wet process, it is unsuitable as a method for attaching a release coating to a fine concavo-convex pattern like an optical disk stamper. Also,
The surface of the stamper for an optical disk may be contaminated by the dichromic acid solution and defects may increase.

【0004】本発明は上記問題点に鑑みてなされたもの
で、廃液処理が不要で環境問題がなく、また、電気メッ
キ液の汚染もなく、しかも高い転写性で欠陥の少ないス
タンパが得られる光ディスク用スタンパの複製方法を提
供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and there is no need for waste liquid treatment, there is no environmental problem, there is no contamination of the electroplating liquid, and a stamper having high transferability and few defects can be obtained. The purpose is to provide a method of duplicating a stamper.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の光ディスク用スタンパの複製方法は、酸
素プラズマアッシング処理により形成された酸化膜から
なる剥離皮膜を有するスタンパを用いることを特徴とす
る。
In order to achieve the above object, a method of duplicating a stamper for an optical disk of the present invention uses a stamper having a peeling film made of an oxide film formed by oxygen plasma ashing treatment. Characterize.

【0006】[0006]

【実施例】以下、本発明の光ディスク用スタンパの複製
方法の実施例について、図1を用いて説明する。ニッケ
ル電鋳により作られたマスタースタンパ1(図1
(a))の表面に酸素プラズマアッシング処理を行い、
マスタースタンパ1の表面洗浄を行うとともにマスター
スタンパ1の表面に酸化膜からなる剥離皮膜1aを形成
する(図1(b))。マスタースタンパ1の酸素プラズ
マアッシング処理は、マスタースタンパ1が完全に純水
に濡れる(接触角で5度以下)まで行うことが望まし
い。また、酸素プラズマアッシング処理のみでは、清浄
な光ディスク用スタンパ表面が得られない場合には、湿
式の化学洗浄を酸素プラズマアッシング後行うのが望ま
しい。マスタースタンパ1の表面に酸素プラズマアッシ
ング処理した後、このマスタースタンパ1を電極として
ニッケル電鋳を行い、所定の厚さまでニッケルを付着さ
せた後、剥離することによって、マスタースタンパ1と
逆の凹凸パターンを有するマザースタンパ2を得る(図
1(c),(d))。マスタースタンパ1と同様に、マ
ザースタンパ2の表面に酸素プラズマアッシング処理を
施し、マザースタンパ2上に剥離皮膜2aを形成する
(図1(e))。このマザースタンパ2を電極として、
所定の厚さまでニッケル電鋳を行い、マザースタンパ2
から剥離することにより、マスタースタンパ1と同じ凹
凸パターンを有するサンスタンパ3が得られる(図1
(f),(g))。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of a method of copying an optical disk stamper according to the present invention will be described below with reference to FIG. Master stamper 1 made by nickel electroforming (Fig. 1
The surface of (a)) is subjected to oxygen plasma ashing treatment,
The surface of the master stamper 1 is cleaned, and a release coating 1a made of an oxide film is formed on the surface of the master stamper 1 (FIG. 1 (b)). The oxygen plasma ashing treatment of the master stamper 1 is preferably performed until the master stamper 1 is completely wet with pure water (contact angle is 5 degrees or less). If a clean optical disk stamper surface cannot be obtained only by the oxygen plasma ashing treatment, it is desirable to perform wet chemical cleaning after the oxygen plasma ashing. After oxygen plasma ashing treatment is applied to the surface of the master stamper 1, nickel electroforming is performed using the master stamper 1 as an electrode, nickel is adhered to a predetermined thickness, and then peeled off to form an uneven pattern opposite to the master stamper 1. A mother stamper 2 having is obtained (FIGS. 1C and 1D). Similar to the master stamper 1, the surface of the mother stamper 2 is subjected to oxygen plasma ashing treatment to form the release coating 2a on the mother stamper 2 (FIG. 1 (e)). Using this mother stamper 2 as an electrode,
The nickel stamper is electroformed to the specified thickness and the mother stamper 2
By peeling from the sun stamper 3 having the same concavo-convex pattern as the master stamper 1 (see FIG. 1).
(F), (g)).

【0007】本発明における酸素プラズマアッシング処
理の条件としては、酸素ガス圧3〜10Pa、高周波電
圧200〜450W、時間3〜5分の範囲が好ましく、
この範囲で酸素プラズマアッシング処理することによ
り、重クロム酸溶液により得られた膜と略等しい0/N
iモル比と深さとの関係を有する剥離皮膜が得られる。
As conditions for the oxygen plasma ashing treatment in the present invention, an oxygen gas pressure of 3 to 10 Pa, a high frequency voltage of 200 to 450 W, and a time of 3 to 5 minutes are preferable.
By performing oxygen plasma ashing treatment in this range, the film thickness obtained by the dichromic acid solution is almost equal to 0 / N.
A release coating having a relationship between i molar ratio and depth is obtained.

【0008】本発明に用いられる酸素プラズマアッシン
グ装置の概略構成図を図2に示す。エッチング槽4内に
酸素ガスを導入し、真空ポンプ(図中では記載せず。)
を用いてエッチング槽4内を低圧に保つ。高周波電圧装
置5により、高周波電界を光ディスク用スタンパ6に印
加すると、酸素プラズマ7(化学的活性度の高い原子状
酸素、イオン種、電子、中性種などからなる。)が発生
する。光ディスク用スタンパ6は、エッチング槽4の下
部電極部8上に載置され、直流のバイアス成分が印加さ
れた高周波電圧発生装置5を下部電極部8に接続する。
下部電極部8に直流のバイアス成分を印加した高周波電
圧発生装置5を接続した場合、電子とイオンとの易動度
の大きな違いにより電極表面に電圧効果が発生し、この
陽極降下内で酸素イオンが上部電極部9、下部電極部8
および光ディスク用スタンパ6上の垂直な電界にそって
入射し、リアクティブなエッチングが進行する。また、
化学的に活性な原子状酸素による酸化作用によって、有
機物等の汚染物質の分解が行われるとともに光ディスク
用スタンパ表面に酸化膜が形成される。また、酸素プラ
ズマアッシング処理を施すと当該処理を施さないものよ
り表面の酸素量が多くなり、酸化物が内部まで生成さ
れ、光ディスク用スタンパの複製に必要な剥離皮膜が形
成される。
A schematic configuration diagram of the oxygen plasma ashing apparatus used in the present invention is shown in FIG. An oxygen gas was introduced into the etching tank 4, and a vacuum pump (not shown in the figure).
Is used to keep the inside of the etching tank 4 at a low pressure. When a high-frequency electric field is applied to the optical disk stamper 6 by the high-frequency voltage device 5, oxygen plasma 7 (consisting of atomic oxygen, ionic species, electrons, neutral species and the like having high chemical activity) is generated. The optical disk stamper 6 is mounted on the lower electrode portion 8 of the etching tank 4, and connects the high frequency voltage generator 5 to which the DC bias component is applied to the lower electrode portion 8.
When a high frequency voltage generator 5 applying a DC bias component is connected to the lower electrode portion 8, a voltage effect is generated on the electrode surface due to a large difference in mobility between electrons and ions, and oxygen ions are generated in this anode drop. Is the upper electrode portion 9 and the lower electrode portion 8
And, it is incident along the vertical electric field on the stamper 6 for the optical disk, and the reactive etching proceeds. Also,
Oxidation by chemically active atomic oxygen decomposes contaminants such as organic substances and forms an oxide film on the surface of the optical disk stamper. Further, when the oxygen plasma ashing treatment is applied, the amount of oxygen on the surface becomes larger than that in the case where the treatment is not applied, and the oxide is generated up to the inside, so that a peeling film necessary for duplication of the stamper for an optical disk is formed.

【0009】[0009]

【発明の効果】以上記述したように、本発明によれば、
重クロム酸溶液を用いて光ディスク用スタンパ上に剥離
皮膜を設けることがないため、重クロム酸溶液の廃液処
理にコストがかからず、環境への影響を問題とする必要
がなく、さらに電気メッキ液への汚染もない。また、本
発明では、微細な凹凸パターンを持つ光ディスク用スタ
ンパ上に酸素プラズマアッシング処理により剥離皮膜を
設けているため、転写性に優れ、かつ欠陥の少ないスタ
ンパが複製される。
As described above, according to the present invention,
Since no peeling film is provided on the stamper for optical discs using a dichromic acid solution, there is no cost for waste liquid treatment of the dichromic acid solution, there is no need to consider the effect on the environment, and electroplating is also possible. There is no contamination to the liquid. Further, in the present invention, since the release coating is provided by the oxygen plasma ashing treatment on the stamper for an optical disk having a fine concavo-convex pattern, the stamper having excellent transferability and few defects is duplicated.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の光ディスク用スタンパの複製方法につ
いての説明図である。
FIG. 1 is an explanatory diagram of a method of copying an optical disk stamper of the present invention.

【図2】酸素プラズマアッシング装置の概略構成図であ
る。
FIG. 2 is a schematic configuration diagram of an oxygen plasma ashing apparatus.

【図3】従来の光ディスク用スタンパの製造方法および
その複製方法についての説明図である。
FIG. 3 is an explanatory diagram of a conventional method for manufacturing an optical disk stamper and a method for copying the same.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 マスタースタンパ 2 マザースタンパ 3 サンスタンパ 1a,2a 剥離皮膜 1 Master Stamper 2 Mother Stamper 3 Sun Stamper 1a, 2a Release film

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 酸素プラズマアッシング処理により形成
された酸化膜からなる剥離皮膜を有するスタンパを用い
ることを特徴とする光ディスク用スタンパの複製方法。
1. A method of duplicating a stamper for an optical disk, wherein a stamper having a peeling film made of an oxide film formed by an oxygen plasma ashing process is used.
JP25504992A 1992-09-24 1992-09-24 How to duplicate stamper for optical disk Pending JPH06111384A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008509555A (en) * 2004-08-05 2008-03-27 インテル・コーポレーション Method and apparatus for imprinting a substrate

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JP2008509555A (en) * 2004-08-05 2008-03-27 インテル・コーポレーション Method and apparatus for imprinting a substrate

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