[go: up one dir, main page]

JPH061090A - Manufacture of aluminum supporting body for planographic printing plate - Google Patents

Manufacture of aluminum supporting body for planographic printing plate

Info

Publication number
JPH061090A
JPH061090A JP18470992A JP18470992A JPH061090A JP H061090 A JPH061090 A JP H061090A JP 18470992 A JP18470992 A JP 18470992A JP 18470992 A JP18470992 A JP 18470992A JP H061090 A JPH061090 A JP H061090A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
aluminum
printing plate
support
plate
treatment
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP18470992A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Nagayoshi Kaneko
修芳 金子
Akio Uesugi
彰男 上杉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP18470992A priority Critical patent/JPH061090A/en
Publication of JPH061090A publication Critical patent/JPH061090A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide a supporting body wherein it is not necessary to worry about corrosion of process equipments caused by use of acidic aqueous solution, installation of large scale waste water disposal facility and safety of workers, a membrane with a high hardness having abrasion resistance and scratch resistance is provided, and stain and scumming do not occur on non-image parts at offset printing. CONSTITUTION:After a sheet-like or web-like support body consisting of aluminum or aluminum alloy is roughened mechanically, chemically and/or electrochemically, a hydrophilic membrane is formed by physical evaporation. In that case, for the hydrophilic membrane, aluminum oxide membrane is preferable.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は平版印刷版用アルミニウ
ム支持体の製造方法に関するものであり、詳しくは、粗
面化処理されたアルミニウム支持体に、平版印刷版とし
て優れた諸性能を付与するための皮膜を形成させる方法
に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate, and more specifically, it imparts various properties to a roughened aluminum support as a lithographic printing plate. The present invention relates to a method for forming a film for

【0002】[0002]

【従来の技術】平版印刷は、水と油が物性上混合しない
ことを利用した印刷方式であって、一平面上に水受容性
の非画像部と、インキ受容性の画像部とからなる版面を
形成させ、その版面に水を供給して非画像部分に水を保
持させた状態でさらに版面にインキを供給すると画像部
分のみにインキが保持されるので、このようにして形成
されたインキ画像を、ブランケットに転写したのち、紙
に印刷する技術である。従来、平版印刷に使用する平版
印刷版を作成する感光材料として“PS版”と称せられ
るものがあり、これは一般には版状のアルミニウム又は
アルミニウム合金からなる支持体(以下には特に区別し
た記述が必要がない限りアルミニウム支持体と略記す
る)に感光組成物が被覆されたものであって、その使用
に際してはPS版の感光製版面を所望の画像状に露光
し、ポジ型PS版においては、露光部分を水や有機溶剤
あるいはそれらの混合物により、溶解させて、非画像部
分となし、非露光部分は上記溶液に溶解しない性質を維
持させ、画像部分となし、ネガ型PS版においては、非
露光部分を上記溶液により溶解させて非画像部分とな
し、露光部分は上記溶液に溶解しない性質を維持させ
て、画像部分となして印刷版面を形成せしめるものであ
る。上述のごとく、印刷版面の非画像部分は、感光性組
成物の層が除かれた部分であるので、支持体のアルミニ
ウム表面そのものである。従ってアルミニウム支持体の
表面は非画像部分を構成する場合、水を保持する性質が
必要なので、一般に粗面化などによりその水を保持する
性質(保水性)を向上させている。またアルミニウムは
比較的軟らかく、耐摩耗性、耐腐食性に劣る材料なの
で、平版印刷版の支持体として用いる場合は通常、上述
の粗面化処理を施した後、必要により酸またはアルカリ
等の溶液によりエッチングし、次に陽極酸化処理を行っ
て硬い皮膜を形成させる。
2. Description of the Related Art Lithographic printing is a printing method that utilizes the fact that water and oil do not mix in terms of physical properties, and is a plate surface consisting of a water-receptive non-image area and an ink-receptive image area on one plane. Is formed, and when water is supplied to the plate surface and water is retained in the non-image portion, and ink is further supplied to the plate surface, the ink is retained only in the image portion. Is a technique for printing on paper after transferring it to a blanket. BACKGROUND ART Conventionally, as a photosensitive material for producing a lithographic printing plate used for lithographic printing, there is a so-called "PS plate", which is a plate-shaped support made of aluminum or an aluminum alloy (hereinafter, particularly distinguished description). Is abbreviated as an aluminum support unless necessary) is coated with a photosensitive composition, and the photosensitive plate surface of the PS plate is exposed to a desired image at the time of its use. , The exposed portion is dissolved with water or an organic solvent or a mixture thereof to form a non-image portion, and the non-exposed portion maintains the property of not being dissolved in the above solution, forming an image portion, and in a negative PS plate, The non-exposed portion is dissolved by the solution to form a non-image portion, and the exposed portion maintains the property of not being dissolved in the solution to form an image portion to form a printing plate surface. A. As described above, the non-image portion of the printing plate surface is the portion where the layer of the photosensitive composition is removed, and is therefore the aluminum surface itself of the support. Therefore, the surface of the aluminum support is required to retain water when forming a non-image portion, and therefore the property of retaining water (water retention) is generally improved by roughening or the like. Further, aluminum is a relatively soft material, which is inferior in wear resistance and corrosion resistance, so when it is used as a support for a lithographic printing plate, it is usually subjected to the above-mentioned surface roughening treatment and, if necessary, a solution of an acid or an alkali. And then anodized to form a hard film.

【0003】アルミニウム支持体の表面を粗面化する方
法は、例えば機械的な粗面化法としては、ワイヤーブラ
シグレイニング法、ブラシグレイニング法、サンドブラ
スト法、ボールグレイニング法が用いられる。化学的な
方法としてはアルカリエッチグ法が、また電気化学的粗
面化法としては、硝酸、塩酸およびその塩の水溶液中
で、直流または交流で粗面化する方法が用いられる。ま
た、特開昭54−63902号公報に開示されている直
流と交流の両者を組合せて粗面化する法も用いることが
できる。
As the method for roughening the surface of the aluminum support, for example, a wire brush graining method, a brush graining method, a sand blasting method, and a ball graining method are used as a mechanical surface roughening method. As a chemical method, an alkali etching method is used, and as an electrochemical surface roughening method, a method of roughening by direct current or alternating current in an aqueous solution of nitric acid, hydrochloric acid and its salt is used. Further, the method of roughening by combining both direct current and alternating current, which is disclosed in JP-A-54-63902, can also be used.

【0004】アルミニウム支持体は表面を粗面化した
後、上記したように表面の耐摩耗性や耐腐食性を向上す
るために陽極酸化処理を施す。この陽極酸化処理は従来
硫酸やリン酸等の水溶液中でアルミニウム支持体を陽極
として交流または直流の電流を用いて陽極酸化すること
によって行われてきた。例えば、米国特許第42116
19号明細書には、粗面化されたアルミニウム支持体の
表面に硫酸を電解液として0.5〜10g/m2 の陽極
酸化皮膜の形成例が記載されている。この硫酸を電解液
として形成された陽極酸化皮膜は一般には無定型皮膜で
あり、比較的厚い皮膜が得られるがアルカリ性の溶液に
たいする抵抗性が低くアルカリ性の溶液を現像液として
製版する場合皮膜が侵されてアルミニウム支持体表面の
耐摩耗性が劣化したり、印刷時の地汚れが起こり易い。
また米国特許第3511661号明細書には、42〜8
5%の濃度のリン酸水溶液中で陽極酸化した例が記載さ
れている。リン酸水溶液中で陽極酸化して得られた酸化
層は硫酸水溶液中で陽極酸化して得られた酸化層よりも
アルカリに対する抵抗性が優れており、かつ現像中の汚
れも起こり難い特徴が有るが、スクラッチに対する抵抗
性に乏しい欠点を有する。以上の硫酸やリン酸を使用す
る陽極酸化処理をして得られた陽極酸化層を有する粗面
化されたアルミニウム支持体はその表面の耐摩耗性や耐
腐食性の一層の向上が望まれている。
After the surface of the aluminum support is roughened, it is anodized in order to improve the wear resistance and corrosion resistance of the surface as described above. This anodizing treatment has conventionally been performed by anodizing in an aqueous solution of sulfuric acid, phosphoric acid or the like using an aluminum support as an anode and using an alternating or direct current. For example, US Pat. No. 42116.
No. 19 describes an example of forming an anodized film of 0.5 to 10 g / m 2 on the surface of a roughened aluminum support using sulfuric acid as an electrolytic solution. The anodic oxide film formed by using this sulfuric acid as an electrolytic solution is generally an amorphous film, and a relatively thick film can be obtained, but the resistance to alkaline solution is low and the film is corroded when plate making with an alkaline solution as a developing solution. As a result, the abrasion resistance of the surface of the aluminum support is deteriorated, and scumming during printing is likely to occur.
Further, in US Pat. No. 3,511,661, there are 42 to 8
An example of anodic oxidation in a 5% strength phosphoric acid aqueous solution is described. Oxidized layer obtained by anodizing in phosphoric acid aqueous solution is more resistant to alkali than oxide layer obtained by anodizing in sulfuric acid aqueous solution, and it is less likely to cause stain during development. However, it has the drawback of poor resistance to scratches. Roughened aluminum support having an anodized layer obtained by anodizing using the above sulfuric acid or phosphoric acid is desired to further improve the wear resistance and corrosion resistance of the surface. There is.

【0005】またオフセット印刷を行った時非画像部の
汚染及び地汚れしないためには従来は陽極酸化処理した
後さらに親水化処理を必要とした。この親水化処理には
陽極酸化層を有する粗面化されたアルミニウム支持体表
面をアルカリ金属珪酸塩の水溶液中に浸漬する方法や5
0〜300℃かつ90Torr以上の水蒸気雰囲気中で
「封孔処理」する方法等により親水化処理することが通
常であった。
Further, in order to prevent the non-image area from being contaminated and scummed when the offset printing is performed, conventionally, after the anodizing treatment, the hydrophilic treatment is further required. For this hydrophilic treatment, a method of immersing the roughened aluminum support surface having an anodized layer in an aqueous solution of an alkali metal silicate or 5
It was usual to carry out hydrophilic treatment by a method such as "sealing treatment" in a steam atmosphere of 0 to 300 ° C and 90 Torr or more.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、陽極酸
化処理には、上述したように、硫酸やリン酸等の酸を使
用するため、工程設備の腐食、大規模な廃液処理設備の
必要性、作業者の安全面への懸念等の問題点が存在し
た。
However, since an acid such as sulfuric acid or phosphoric acid is used for the anodizing treatment as described above, corrosion of process equipment, necessity of large-scale waste liquid treatment equipment, and work There were problems such as concerns about the safety of workers.

【0007】本発明の目的は、上記問題点を解消し、酸
性水溶液を使用することによる工程設備の腐食、大規模
な廃液処理設備の必要性、作業者の安全等の懸念が不必
要で、耐摩耗性やスクラッチ抵抗性を有する硬度の高い
皮膜を付与し、更に封孔処理のような付加的な親水化処
理をする必要がなく、オフセット印刷において非画像部
の汚染及び地汚れしない支持体を得ることができる平版
印刷版用支持体の製造方法を提供することにある。
The object of the present invention is to solve the above problems and eliminate the need for concern about corrosion of process equipment due to the use of an acidic aqueous solution, the necessity of large-scale waste liquid treatment equipment, and the safety of workers. A support that imparts a high-hardness film with abrasion resistance and scratch resistance, and does not require additional hydrophilic treatment such as sealing treatment, and that does not stain or stain the non-image area in offset printing. It is to provide a method for producing a support for a lithographic printing plate capable of obtaining

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段及び作用】本発明者らは鋭
意検討の結果、アルミニウム又はアルミニウム合金から
なるシート状又はウエブ状支持体を、機械的、化学的及
び/又は電気化学的に粗面化処理した後、物理蒸着法に
より親水性皮膜を形成することを特徴とする平版印刷版
用アルミニウム支持体の製造方法によって上記課題を達
成できることが明らかになった。又その場合の親水性皮
膜としては酸化アルミニウム皮膜が好ましい。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies, the present inventors have found that a sheet-shaped or web-shaped support made of aluminum or an aluminum alloy is mechanically, chemically and / or electrochemically roughened. It has been clarified that the above object can be achieved by a method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate, which comprises forming a hydrophilic film by a physical vapor deposition method after chemical conversion treatment. In this case, the hydrophilic film is preferably an aluminum oxide film.

【0009】物理蒸着法はPVD(Pyhsical vapor dep
osition)法と呼ばれている方法であり、一般的に、真空
蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法の
3種類に大別される。このうち真空蒸着法には通常の蒸
着法,反応蒸着法,レーザー蒸着法,イオンビーム蒸着
法,電子ビーム蒸着法,分子線エピタキシー(MBE) 法,
電解蒸着法等が含まれる。スパッタリング法には、通常
のスパッタリング法,反応性スパッタリング法,高周波
スパッタリング法,反応性高周波(RF)スパッタリン
グ法,ホローカソードスパッタリング法,イオンビーム
スパッタリング法等が含まれる。イオンプレーティング
法には、Mattox法,反応性イオンプレーティング法,中
空陰極放電(HCD)法,反応性HCD法,活性化反応
蒸着(ARE)法,高周波イオンプレーティング法,ク
ラスターイオンプレーティング法,アーク放電型イオン
プレーティング法等が含まれる。本発明においては、上
記方式の中で、適宜選択して実施できる。本発明におい
て、粗面化処理されたアルミニウム板には、上記物理蒸
着法によって硬膜及び親水性皮膜が形成される。本発明
における親水性皮膜としては酸化アルミニウム皮膜,酸
化ケイ素皮膜,酸化チタン皮膜等があり、これらに限ら
ず、親水性皮膜であればよい。これらの中で、酸化アル
ミニウム皮膜が最も好ましい。形成させる親水性皮膜の
厚みは、一般に10μm以下であるが、平版印刷版用支
持体としての性能上、2μm以下が好ましい。この物理
蒸着法によって得られた親水性皮膜を有する支持体によ
って従来のように陽極酸化処理及び付加的に親水化処理
をなわなくともオフセット印刷において、耐スクラッチ
性,耐刷性が良く更に非画像部の汚染及び地汚れしない
印刷版が得られる。
The physical vapor deposition method is PVD (Pyhsical vapor dep).
Oscillation method, which is generally classified into three types: a vacuum deposition method, a sputtering method, and an ion plating method. Among them, the vacuum vapor deposition method includes ordinary vapor deposition method, reactive vapor deposition method, laser vapor deposition method, ion beam vapor deposition method, electron beam vapor deposition method, molecular beam epitaxy (MBE) method,
Electrolytic vapor deposition and the like are included. The sputtering method includes an ordinary sputtering method, a reactive sputtering method, a high frequency sputtering method, a reactive high frequency (RF) sputtering method, a hollow cathode sputtering method, an ion beam sputtering method and the like. The ion plating method includes Mattox method, reactive ion plating method, hollow cathode discharge (HCD) method, reactive HCD method, activated reactive vapor deposition (ARE) method, high frequency ion plating method, cluster ion plating method. , Arc discharge type ion plating method, etc. are included. In the present invention, the method can be appropriately selected from the above methods. In the present invention, a hard film and a hydrophilic film are formed on the roughened aluminum plate by the physical vapor deposition method. Examples of the hydrophilic coating in the present invention include an aluminum oxide coating, a silicon oxide coating, a titanium oxide coating, and the like, and the hydrophilic coating is not limited to these. Among these, the aluminum oxide film is most preferable. The thickness of the hydrophilic film to be formed is generally 10 μm or less, but it is preferably 2 μm or less in terms of performance as a lithographic printing plate support. With the support having a hydrophilic film obtained by this physical vapor deposition method, scratch resistance and printing durability are good in offset printing without conventional anodizing treatment and additional hydrophilic treatment, and further non-image It is possible to obtain a printing plate which is free from stains and scumming of parts.

【0010】本発明に用いられるアルミニウム板として
は、純アルミニウムおよびアルミニウム合金板が含まれ
る。アルミニウム合金としては、種々のものが使用で
き、例えば珪素、鉄、銅、マンガン、マグネシウム、ク
ロム、亜鉛、ビスマス、ニッケルなどの金属とのアルミ
ニウム合金が用いられる。アルミニウム板は、シート状
であってもウエブ状であってもよく、また材料の構成の
上から表面をアルミニウムとして、紙、プラスチックあ
るいは他の金属などをラミネートしたものも用いること
ができる。アルミニウム板は、これが印刷版として印刷
機に装着された場合に、寸法の変化を生じないものでな
ければならず、例えばアルミニウム単独の板の場合に
は、一般に0.1〜0.5mmの厚みのものが用いられ
る。
Aluminum plates used in the present invention include pure aluminum and aluminum alloy plates. Various aluminum alloys can be used, and for example, aluminum alloys with metals such as silicon, iron, copper, manganese, magnesium, chromium, zinc, bismuth, and nickel are used. The aluminum plate may be in the form of a sheet or a web, and it is also possible to use a laminate of paper, plastic, or other metal with the surface of the aluminum being aluminum in view of the constitution of the material. The aluminum plate should not cause a dimensional change when it is mounted on a printing machine as a printing plate. For example, a plate made of aluminum alone generally has a thickness of 0.1 to 0.5 mm. What is used.

【0011】アルミニウム板の表面は粗面化処理に先だ
って必要に応じて表面の圧延油を除去するための脱脂処
理をおこなってもよい。アルミニウム板表面は、保水性
およびその上に塗設される感光性材料の層との密着性を
向上させるために粗面化される。粗面化する方法は既に
上記した方法、すなわち機械的な粗面化法、化学的粗面
化法、電気化学的粗面化法あるいはそれらを組み合わせ
た方法を用いることができる。このように粗面化された
アルミニウム板は、必要に応じてアルカリエッチング処
理および中和処理される。電気化学的粗面化方法を用い
た場合には、りん酸、硫酸、クロム酸等を用いたデスマ
ット処理を必要に応じておこなうのが通常である。
The surface of the aluminum plate may be subjected to a degreasing treatment for removing rolling oil on the surface, if necessary, prior to the roughening treatment. The surface of the aluminum plate is roughened in order to improve water retention and adhesion with a layer of a photosensitive material coated thereon. As the surface roughening method, the above-mentioned method, that is, the mechanical surface roughening method, the chemical surface roughening method, the electrochemical surface roughening method, or a combination thereof can be used. The thus roughened aluminum plate is subjected to alkali etching treatment and neutralization treatment, if necessary. When the electrochemical surface roughening method is used, it is usual to carry out desmutting treatment with phosphoric acid, sulfuric acid, chromic acid, etc., if necessary.

【0012】粗面化処理したアルミニウム板には、前述
の物理蒸着法により、親水化皮膜が生成される。本発明
においてはこの後、従来のような陽極酸化処理及び付加
的な親水化処理は不要である。しかしながら勿論、かか
る親水化処理を行なっても差し支えない。この付加的な
親水化処理としては、米国特許第2,714,066号
および同第3,181,461号の各明細書に記されて
いるようにアルカリ金属シリケート、例えば珪酸ナトリ
ウムの水溶液で浸漬などの方法により処理したり、米国
特許第3,860,426号明細書に記載されているよ
うに、水溶性金属塩(例えば酢酸亜鉛など)を含む親水
性セルロース(例えばカルボキシメチルセルロースな
ど)の下塗層を設けることもできる。このようにして得
られた平版印刷版用支持体の上には、PS版(Pre-sens
itized Plateの略称)の感光層として従来より知られて
いる感光層を設けて、感光性平版印刷版を得ることがで
きる。
A hydrophilizing film is formed on the roughened aluminum plate by the physical vapor deposition method described above. In the present invention, thereafter, the conventional anodic oxidation treatment and additional hydrophilic treatment are not required. However, of course, such hydrophilic treatment may be performed. This additional hydrophilizing treatment is carried out by dipping in an aqueous solution of an alkali metal silicate, for example, sodium silicate, as described in US Pat. Nos. 2,714,066 and 3,181,461. Under hydrophilic cellulose (eg, carboxymethyl cellulose, etc.) containing a water soluble metal salt (eg, zinc acetate, etc.) as described in US Pat. No. 3,860,426. A coating layer can also be provided. The PS plate (Pre-sensing plate) was placed on the support for lithographic printing plate thus obtained.
A photosensitive layer that is conventionally known as a photosensitive layer (abbreviated as itized Plate) can be provided to obtain a photosensitive lithographic printing plate.

【0013】これらの感光層の感光性組成物としては、
例えば(1)p−ジアゾフェニルアミンとパラホルムア
ルデヒドとの縮合物に代表されるジアゾ化合物で、水溶
性或いは水不溶性有機溶剤可溶性の、好ましくは水不溶
性有機溶剤可溶性のものが使用される。好ましいジアゾ
化合物の例としては、p−ジアゾジフェニルアミンとパ
ラホルムアルデヒドとの縮合物のフルオロカプリ酸塩や
5−ニトロオルトトルエンスルホン酸塩等がある。かか
るジアゾ化合物は単独でもレジストの作成に使用される
がシェラックやヒドロキシエチルアクリレートを含む共
重合化合物等のバインダーと共に使用される。(2)o
−キノンジアジド化合物、特に好ましいものは、o−ナ
フトキノンジアジドスルホン酸エステル、o−ナフトキ
ノンジアジドカルボン酸エステル、o−ナフトキノンジ
アジドスルホン酸アミドなどが使用される。かかるo−
キノンジアジド化合物は単独でもレジストの作成に使用
されるがアルカリ可溶性樹脂、例えばノボラック型フェ
ノール樹脂等と混合して使用される。(3)感光性アジ
ド化合物、例えばアジド基が直接またはカルボニル基ま
たはスルホニル基を介して芳香族環に結合している芳香
族アジド化合物である。好ましい芳香族アジド化合物と
してはアジドフェニル、アジドスチリル、アジドベンザ
ル及びアジドシンナモイルの如き基を1個またはそれ以
上含む化合物である。これら感光性アジド化合物もバイ
ンダーと共に使用される。好ましいバインダーはアルカ
リ可溶性樹脂(例えばノボラック型フェノール樹脂やポ
リアクリル酸を含むビニル共重合体等)である。(4)
桂皮酸基を含む高分子化合物、例えば米国特許第3,0
30,208号、同3,707,373号及び同3,4
53,237号の各明細書に記載されているようなシン
ナミリデンマロン酸等の(2−プロピリデン)マロン酸
化合物と2官能性グリコール化合物とからの感光性樹脂
を主成分とする感光性樹脂等、が好適な感光性組成物と
して挙げられる。これら感光性組成物を、必要により熱
重合防止剤,可塑剤や顔料と共に、上記本発明の製造方
法によるアルミニウム支持体の上に塗布して、優れた平
版印刷版を作成することができる。
The photosensitive composition for these photosensitive layers includes
For example, (1) a diazo compound represented by a condensate of p-diazophenylamine and paraformaldehyde, which is soluble in a water-soluble or water-insoluble organic solvent, preferably a water-insoluble organic solvent is used. Examples of preferable diazo compounds include fluorocaprylate and 5-nitroorthotoluenesulfonate, which are condensates of p-diazodiphenylamine and paraformaldehyde. Such a diazo compound is used alone to prepare a resist, but is also used with a binder such as a shellac or a copolymer compound containing hydroxyethyl acrylate. (2) o
-Quinonediazide compounds, particularly preferably o-naphthoquinonediazidesulfonic acid ester, o-naphthoquinonediazidecarboxylic acid ester, o-naphthoquinonediazidesulfonic acid amide and the like are used. Such o-
The quinonediazide compound is used alone in the preparation of a resist, but it is used as a mixture with an alkali-soluble resin such as a novolac type phenol resin. (3) A photosensitive azide compound, for example, an aromatic azide compound in which an azide group is bonded to an aromatic ring directly or through a carbonyl group or a sulfonyl group. Preferred aromatic azide compounds are compounds containing one or more groups such as azidophenyl, azidostyryl, azidobenzal and azidocinnamoyl. These photosensitive azide compounds are also used together with the binder. A preferable binder is an alkali-soluble resin (for example, a novolac type phenol resin or a vinyl copolymer containing polyacrylic acid). (4)
Polymeric compounds containing cinnamic acid groups, eg US Pat. No. 3,0
30,208, 3,707,373 and 3,4
Photosensitive resin containing as a main component a photosensitive resin composed of a (2-propylidene) malonic acid compound such as cinnamylidene malonic acid and a bifunctional glycol compound as described in each specification of No. 53,237. Etc. are mentioned as a suitable photosensitive composition. An excellent lithographic printing plate can be prepared by coating these photosensitive compositions, if necessary, with a thermal polymerization inhibitor, a plasticizer and a pigment on the aluminum support according to the above-mentioned production method of the present invention.

【0014】[0014]

【実施例】【Example】

(実施例−1)JIS1050アルミニウムシートをパ
ミスー水懸濁液を研磨剤として回転ナイロンブラシで表
面を砂目立てした。このときの表面粗さ(中心線平均粗
さ)は0.5μmであった。水洗後、10%苛性ソーダ
水溶液を70℃に温めた溶液中に浸漬して、アルミニウ
ム表面の溶解量が5g/m2 になるようにエッチングし
た。水洗後30%硝酸水溶液中に一分間浸漬し、0.7
%硝酸水溶液中で陽極時電圧23V、陰極時電圧12V
の矩形波交番波形を用いて、(特開昭52−77702
号公報の実施例に記載されている電流波形)160クー
ロン/dm2 の陽極時電気量で電解エッチングを行い、
30%硫酸の50℃溶液中に浸漬してデスマットした
後、水洗した。次に、真空中で粗面化したアルミニウム
板上にCO2 レーザーを酸化アルミニウムに照射するこ
とにより、上記粗面化処理されたアルミニウム板上に酸
化アルミニウム皮膜を蒸着し、アルミニウム基板(A)
を得た。レーザーのパワーは70W,処理時真空度は1
-4Torr,アルミニウム基板温度は250℃であ
り、酸化アルミニウム皮膜の厚みは1μmであった。
(Example-1) The surface of a JIS 1050 aluminum sheet was grained with a rotating nylon brush using a Pumisu water suspension as an abrasive. At this time, the surface roughness (centerline average roughness) was 0.5 μm. After washing with water, a 10% aqueous sodium hydroxide solution was immersed in a solution heated to 70 ° C., and etching was performed so that the amount of aluminum surface dissolved was 5 g / m 2 . After washing with water, soak in 30% nitric acid aqueous solution for 1 minute, and
Voltage 23% at anode and 12V at cathode
By using a rectangular alternating wave of (Japanese Unexamined Patent Publication No. 52-77702).
(Current waveforms described in the examples of the publication), electrolytic etching is carried out at an anode-time electric quantity of 160 coulomb / dm 2 .
It was immersed in a solution of 30% sulfuric acid at 50 ° C. for desmutting and then washed with water. Next, by irradiating a CO 2 laser on the aluminum plate which has been roughened in a vacuum to oxidize the aluminum oxide film on the roughened aluminum plate, an aluminum substrate (A) is obtained.
Got Laser power is 70W, vacuum degree is 1 during processing
0 -4 Torr, aluminum substrate temperature was 250 ° C., the thickness of the aluminum oxide film was 1 [mu] m.

【0015】(実施例−2)実施例−1と同じ粗面化処
理されたアルミニウム板上に、Ar+O2 ガス雰囲気中
で、スパッタリング法により、酸化アルミニウム皮膜を
生成させ、アルミニウム基板(B)を得た。ガス圧力は
10-2Torrであり、酸化アルミニウム皮膜の厚み
は、1μmであった。
Example 2 An aluminum oxide film was formed on the aluminum plate subjected to the same surface roughening treatment as in Example 1 by a sputtering method in an Ar + O 2 gas atmosphere to form an aluminum substrate (B). Obtained. The gas pressure was 10 -2 Torr and the thickness of the aluminum oxide film was 1 μm.

【0016】(比較例−1)実施例−1と同じ粗面化処
理されたアルミニウム板を硫酸水溶液(濃度150g/
リットル)中で陽極酸化処理を行ない、アルミニウム板
上に陽極酸化皮膜を生成させ、アルミニウム基板(C)
を得た。陽極酸化皮膜を生成させ、アルミニウム基板
(C)を得た。陽極酸化処理には電流密度2A/dm2
の直流電流を用い、陽極酸化皮膜の厚みは1μmであっ
た。
Comparative Example-1 The same roughened aluminum plate as in Example-1 was treated with an aqueous sulfuric acid solution (concentration: 150 g /
Anodized film in an aluminum substrate (C).
Got An anodized film was formed to obtain an aluminum substrate (C). Current density of 2 A / dm 2 for anodizing treatment
The thickness of the anodized film was 1 μm using a direct current of

【0017】次に、下記感光液を乾燥後の塗布量が、
2.5g/m2 となるように、上記アルミニウム基板
(A),(B),(C)上にそれぞれ塗布し、感光層を
設け、平版印刷版を作成した。 (感光液) ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホニ ルクロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエ ステル化物(米国特許第3,635,709号の明 細書に実施例−1に記載されているもの) 0.90g クレゾールノボラック樹脂 2.00g 無水フタル酸 0.20g 2−(p−ブトキシフェニル)−4,6−ビス( トリクロメチル−S−トリアジン 0.02g 油溶性染料(C142595) 0.03g エチレンクロライド 15g メチルセロソルブ 12g このようにして作られたPS版を真空枠中で透明ポジテ
ィブフィルムを通して1mの距離から3kwのメタルハ
ライドランプにより、50秒間露光を行った後、SiO
2 /Na2 Oのモル比が1.74の珪酸ナトリウムの
5.26%水溶液(pH=12.7)で現像した。この
ように現像した後、非画像部の汚染度、耐スクラッチ性
能を調べた。また、オフセット印刷機での耐刷性能も調
べた。 非画像部汚染の評価方法 非画像部の反射光学濃度と感光層を塗布する直前の支持
体表面の反射光学濃度との差で判定。 耐スクラッチ性の評価方法 スガ試験機性摩耗試験機(NUS−ISO−1型)を用
いて非画像部をアルミナ研磨紙で350往復した後の非
画像部表面の程度で判定。その結果を表1に示す。
Next, the coating amount after drying the following photosensitive solution is
Each of the aluminum substrates (A), (B), and (C) was coated so as to have a concentration of 2.5 g / m 2, and a photosensitive layer was provided to prepare a lithographic printing plate. (Photosensitive solution) Esters of naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonyl chloride and pyrogallol-acetone resin (described in Example 1 in the specification of US Pat. No. 3,635,709). ) 0.90 g cresol novolac resin 2.00 g phthalic anhydride 0.20 g 2- (p-butoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl-S-triazine 0.02 g oil-soluble dye (C142595) 0.03 g Ethylene chloride 15 g Methyl cellosolve 12 g The PS plate thus prepared was exposed through a transparent positive film in a vacuum frame from a distance of 1 m by a metal halide lamp of 3 kw for 50 seconds, and then SiO.
Development was performed with a 5.26% aqueous solution of sodium silicate (pH = 12.7) having a molar ratio of 2 / Na 2 O of 1.74. After the development as described above, the contamination degree and scratch resistance of the non-image area were examined. The printing durability of the offset printing machine was also examined. Evaluation method for non-image area contamination Judgment is made by the difference between the reflection optical density of the non-image area and the reflection optical density of the support surface immediately before coating the photosensitive layer. Evaluation method of scratch resistance Judgment was made based on the degree of the surface of the non-image portion after the non-image portion was reciprocated 350 times with alumina polishing paper using a Suga test machine abrasion tester (NUS-ISO-1 type). The results are shown in Table 1.

【0018】[0018]

【表1】 [Table 1]

【0019】[0019]

【発明の効果】本発明の平版印刷版アルミニウム支持体
の製造方法により (1)耐スクラッチ性や耐刷性能の向上した平版印刷版
用支持体が得られる。 (2)付加的な親水化処理をする必要なしに、非画像部
汚染や地汚れが改善された平版印刷版用支持体が得られ
る。 (3)陽極酸化処理による工程設備の腐食、大規模な廃
液処理設備の必要性、作業者の安全等の懸念のある酸性
水溶液を使用することなく、性能上優れた平版印刷版用
支持体が得られる。
Effects of the Invention According to the method for producing a lithographic printing plate aluminum support of the present invention, (1) a lithographic printing plate support having improved scratch resistance and printing durability can be obtained. (2) A lithographic printing plate support with improved non-image area contamination and background stains can be obtained without the need for additional hydrophilic treatment. (3) Corrosion of process equipment due to anodizing treatment, necessity of large-scale waste liquid treatment equipment, support for lithographic printing plate excellent in performance without using an acidic aqueous solution which is concerned about safety of workers can get.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 アルミニウム又はアルミニウム合金から
なるシート状又はウエブ状支持体を、機械的、化学的及
び/又は電気化学的に粗面化処理した後、その上に物理
蒸着法により親水性皮膜を形成することを特徴とする平
版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法。
1. A sheet-shaped or web-shaped support made of aluminum or an aluminum alloy is mechanically, chemically and / or electrochemically roughened, and then a hydrophilic film is formed thereon by physical vapor deposition. A method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate, which comprises forming the aluminum support.
【請求項2】 前記親水性皮膜が酸化アルミニウム皮膜
であることを特徴とする請求項1に記載の平版印刷版用
アルミニウム支持体の製造方法。
2. The method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate according to claim 1, wherein the hydrophilic film is an aluminum oxide film.
JP18470992A 1992-06-19 1992-06-19 Manufacture of aluminum supporting body for planographic printing plate Pending JPH061090A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18470992A JPH061090A (en) 1992-06-19 1992-06-19 Manufacture of aluminum supporting body for planographic printing plate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18470992A JPH061090A (en) 1992-06-19 1992-06-19 Manufacture of aluminum supporting body for planographic printing plate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH061090A true JPH061090A (en) 1994-01-11

Family

ID=16158000

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP18470992A Pending JPH061090A (en) 1992-06-19 1992-06-19 Manufacture of aluminum supporting body for planographic printing plate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH061090A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009041657A1 (en) 2007-09-28 2009-04-02 Fujifilm Corporation Substrate for solar cell and solar cell
WO2009041660A1 (en) 2007-09-28 2009-04-02 Fujifilm Corporation Substrate for solar cell and solar cell

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009041657A1 (en) 2007-09-28 2009-04-02 Fujifilm Corporation Substrate for solar cell and solar cell
WO2009041660A1 (en) 2007-09-28 2009-04-02 Fujifilm Corporation Substrate for solar cell and solar cell

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0694234B2 (en) Photosensitive lithographic printing plate
JPH0532238B2 (en)
JPH0314916B2 (en)
US4970116A (en) Substrates for presensitized plates for use in making lithographic printing plates
GB2060923A (en) Process for preparing positive-acting photosensitive lithographic printing plate precursor
EP0149490B1 (en) Presensitized plate having an anodized aluminum base with an improved hydrophilic layer
JPH0448640B2 (en)
JPS6219494A (en) Base material for lithographic printing
JP2648976B2 (en) Photosensitive lithographic printing plate
JPH0858257A (en) Photosensitive planographic printing plate
JPH062436B2 (en) Support for planographic printing plates
JPH028918B2 (en)
JPH0472719B2 (en)
JP2648981B2 (en) Photosensitive lithographic printing plate
JPH0513078B2 (en)
JPH061090A (en) Manufacture of aluminum supporting body for planographic printing plate
JPH03104694A (en) Manufacture of support for photosensitive lithography
JPH062435B2 (en) Support for planographic printing plates
JPH062434B2 (en) Support for planographic printing plates
JPH11174663A (en) Support for lithographic form and manufacture thereof
JPH0635215B2 (en) Method for producing support for lithographic printing plate
JPH0214187A (en) Manufacture of aluminum support for lithographic printing plate
JPH0542783A (en) Manufacture of support for lithographic printing form plate
JPH01316290A (en) Aluminum base material for lithographic printing plate and its manufacture
JP2614744B2 (en) Method for producing aluminum support for lithographic printing plate