JPH06105803B2 - Axial gas laser oscillator - Google Patents
Axial gas laser oscillatorInfo
- Publication number
- JPH06105803B2 JPH06105803B2 JP60029785A JP2978585A JPH06105803B2 JP H06105803 B2 JPH06105803 B2 JP H06105803B2 JP 60029785 A JP60029785 A JP 60029785A JP 2978585 A JP2978585 A JP 2978585A JP H06105803 B2 JPH06105803 B2 JP H06105803B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser oscillator
- common support
- cylindrical
- gas laser
- cylinder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、発振器を加工装置に取付ける取付構造を改良
した軸流形ガスレーザ発振器に関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to an axial flow gas laser oscillator with an improved mounting structure for mounting an oscillator on a processing apparatus.
第６図は従来の軸流形ガスレーザ発振器の一例を示す斜
視図、第７図は第６図の平面図である。図に示すよう
に、軸流形ガスレーザ発振器には４個の円筒形状励起部
（１）が設けられ、この円筒形状励起部（１）の両端は
ブロック（２）により支持されている。ブロック（２）
の開口（8a），（8b），（8c）からはレーザカスを導入
し、さらに開口（9a），（9b）からはレーザガスを排出
する。ブロック（２）のガス導入部には陽極（10a），
（10b），（10c）が設けられ、ガス流出部には陰極（11
a），（11b）が設けられ、また陽極（10a），（10b），
（10c）及び陰極（11a），（11b）は直流電源装置（1
2）に接続されている。ブロック（２）は共通支持体
（３）により支持されており、共通支持体（３）の両端
にはベースプレート（13）が取付けられている。さらに
円筒形状励起部（１）の円筒中心軸（４）を結ぶ延長線
両端部にはミラー（14a），（14b）がホルダー（16）、
調整ネジ（17）を介してベースプレート（13）に取付け
られている。FIG. 6 is a perspective view showing an example of a conventional axial flow type gas laser oscillator, and FIG. 7 is a plan view of FIG. As shown in the figure, the axial flow type gas laser oscillator is provided with four cylindrical excitation parts (1), and both ends of the cylindrical excitation part (1) are supported by blocks (2). Block (2)
Laser dust is introduced through the openings (8a), (8b), and (8c), and laser gas is discharged through the openings (9a) and (9b). The gas introduction part of the block (2) has an anode (10a),
(10b) and (10c) are provided, and the cathode (11
a), (11b) are provided, and the anodes (10a), (10b),
(10c) and cathodes (11a), (11b) are DC power supply (1
2) connected to. The block (2) is supported by a common support (3), and base plates (13) are attached to both ends of the common support (3). Further, mirrors (14a) and (14b) are attached to holders (16) at both ends of an extension line connecting the central axis (4) of the cylindrical excitation part (1).
It is attached to the base plate (13) via an adjusting screw (17).
第８図及び第９図は第７図のＡ−Ａ断面図及びＢ−Ｂ断
面図である。図に示すように共通支持体（３）は一方で
は取付金（19）により発振器の箱体（18）に固着され、
他方ではローラ（20）により円筒中心軸（４）方向に連
動自在に支承されている。8 and 9 are a sectional view taken along the line AA and a sectional view taken along the line BB in FIG. 7. As shown in the figure, the common support (3) is fixed to the oscillator box (18) by the mounting metal (19) on the one hand,
On the other hand, it is rotatably supported by the roller (20) in the direction of the cylindrical central axis (4).
第10図は、従来の他の軸流形ガスレーザ発振器の一例を
示す平面図であり、第11図は、第10図のＣ−Ｃ断面図で
ある。円筒形状励起部（１）は両端をブロック（２）に
より支持されており、ブロック（２）は２本の共通支持
体（３）により支持されている。なお一本の支持体
（３）と共に両端でベースプレート（13）連結されてい
る。またベースプレート（13）は直線連動用ガイド（2
1）より、ミラー（14a）の反対側は軸方向に箱体（18）
内で連動自在に支承されている。FIG. 10 is a plan view showing an example of another conventional axial flow type gas laser oscillator, and FIG. 11 is a sectional view taken along line CC of FIG. The cylindrical excitation part (1) is supported at both ends by blocks (2), and the block (2) is supported by two common supports (3). The base plate (13) is connected at both ends together with a single support (3). In addition, the base plate (13) is a guide (2
From 1), the opposite side of the mirror (14a) is the box (18) in the axial direction.
It is supported so that it can be linked internally.
上記のように構成した従来の軸流形ガスレーザ発振器の
作用を説明すれば次の通りである。まず円筒形状励起部
（１）内に開口（8a），（8b），（8c）からCO2，N2,He
を含むレーザ媒質ガスを導入し、さらにこれを開口（9
a），（9b）から流出させる。この場合レーザ媒質ガス
は円筒形状励起部（１）内を円筒軸方向に約200m/secの
速度で流通される。ガスの導入部及びガスの排出部に設
けられた陽極（10a）（10b），（10c）と陰極（11a），
（11b）間には直流電源装置（12）により約20KVの高電
圧が印加されている。この状態で円筒形状励起部（１）
内でガス圧力が約70Torrに保たれたレーザガスをグロー
放電により放電励起する。励起CO2分子より放射する波
長10.6μｍの光子を円筒形状励起部（１）の円筒中心軸
（４）の中心延長上に配設されたミラー（14a），（14
b）により共振増幅し、部分透過鏡であるミラー（14a）
側よりCO2レーザ光を出力する。ところで複数の円筒形
状励起部（１）の同軸度を保証するために共通支持体
（３）によりブロック（２）を介して円筒形状励起部
（１）を支持している。また共通支持体（３）の両端に
ベースプレート（13）を介し共振器ミラー（14a），（1
4b）を取付けることにより共振器ミラー（14a），（14
b）の円筒中心軸（４）に対する垂直角度の保持を保証
している。ところでレーザの安定な発振動作にとつて複
数の円筒形状励起部（１）の同軸度の狂い及び円筒中心
軸（４）に対する共振器ミラー（14a），（14b）の角度
の狂いが少ないことが最も重要である。このため共通支
持体（３）は外力による変形や熱変形を極力少なくする
構造を取り、また共通支持体（３）の材料には鉄の線膨
張率の1/10程度のインバー等と呼ばれる合金が用いられ
たり、共通支持体（３）の内部には冷却水を±0.5℃程
度にコントロールして流す方法等が取られている。また
共通支持体（３）は、レーザ発振器の箱体（18）に対し
て箱体（18）の変形が共通支持体（３）に影響を及ぼさ
ない様にローラ（20）や直線運動用ガイド（21）により
箱体（18）に共通支持体（３）が結合されている。レー
ザ発振器は金属加工用（切断、溶接、表面処理）に多く
用いられているが、加工装置への取付は箱体（18）に設
けられた取付金具（22）により取付けられる構造になつ
ている。The operation of the conventional axial flow type gas laser oscillator configured as described above will be described below. First cylindrical excitation section (1) in the opening (8a), (8b), CO 2 from (8c), N 2, He
Introducing a laser medium gas containing
Outflow from a) and (9b). In this case, the laser medium gas is circulated in the cylindrical shape excitation part (1) in the axial direction of the cylinder at a speed of about 200 m / sec. Anodes (10a) (10b), (10c) and cathodes (11a), which are provided at the gas introduction part and the gas discharge part,
A high voltage of about 20 KV is applied between (11b) by the DC power supply (12). In this state, the cylindrical excitation part (1)
The laser gas, whose gas pressure was kept at about 70 Torr, was discharge-excited by glow discharge. Mirrors (14a), (14) arranged on the central extension of the cylindrical central axis (4) of the cylindrical excitation part (1) for photons with a wavelength of 10.6 μm emitted from the excited CO 2 molecule.
Mirror (14a) that is a partially transmissive mirror that is resonantly amplified by b).
CO 2 laser light is output from the side. By the way, in order to guarantee the coaxiality of a plurality of cylindrical excitation parts (1), the cylindrical excitation part (1) is supported via the block (2) by the common support (3). In addition, resonator mirrors (14a), (1) are provided on both ends of the common support (3) via base plates (13).
By attaching 4b), the resonator mirrors (14a), (14a)
It ensures the retention of the vertical angle of b) to the cylinder center axis (4). By the way, the stable oscillation operation of the laser is less likely to cause a deviation in the coaxiality of the plurality of cylindrical pump portions (1) and a deviation in the angles of the resonator mirrors (14a) and (14b) with respect to the cylindrical center axis (4). Most important. For this reason, the common support (3) has a structure that minimizes deformation and thermal deformation due to external force, and the material of the common support (3) is an alloy called Invar which has a linear expansion coefficient of about 1/10 of iron. Is used, or the cooling water is controlled to flow within ± 0.5 ° C inside the common support (3). Further, the common support body (3) is a roller (20) or a linear motion guide so that the deformation of the box body (18) does not affect the common support body (3) with respect to the laser oscillator box body (18). The common support (3) is joined to the box (18) by (21). Laser oscillators are often used for metal processing (cutting, welding, surface treatment), but mounting to the processing equipment is done by mounting brackets (22) provided on the box (18). .
上記のように構成した従来の軸流形ガスレーザ発振器に
よれば、レーザ発振器の箱体（18）に対して円筒形状励
起部（１）の円筒中心軸（４）即ちレーザ出力光軸が第
４図に示す如く光軸位置の定められる保証が無く、また
箱体（18）の変形により光軸位置が変動するという欠点
があつた。したがつて製作された発振器毎に加工装置へ
の取付位置を調整したり経時的に変化する光軸位置のず
れを定期的に修正あるいは調節したりしなければならな
いという問題があつた。According to the conventional axial flow type gas laser oscillator configured as described above, the cylindrical central axis (4) of the cylindrical excitation part (1), that is, the laser output optical axis is the fourth with respect to the box (18) of the laser oscillator. As shown in the figure, there is a defect that the optical axis position is not guaranteed and the optical axis position changes due to the deformation of the box (18). Therefore, there is a problem in that it is necessary to adjust the mounting position on the processing device for each oscillator manufactured and to periodically correct or adjust the deviation of the optical axis position that changes with time.
本発明は上記のような問題点を解決するためになされた
もので、レーザ発振器の加工装置への取付を無調整でで
きると共に、長期間に渡つて出力光軸のくるいが無く、
したがつて安定に発振動作することができる軸流形ガス
レーザ発振器を得ることを目的とする。The present invention has been made in order to solve the above problems, and can be attached to the processing device of the laser oscillator without adjustment, and there is no wrapping of the output optical axis for a long period of time.
Therefore, it is an object of the present invention to obtain an axial flow type gas laser oscillator that can stably oscillate.
本発明は、円筒軸方向にレーザ媒質ガスを流通させて円
筒中心軸の延長線上の両端に共振器ミラーを設けた複数
の円筒形状励起部と、該各円筒形状励起部の両端を嵌合
させる嵌合孔を設けた角形の複数のブロックと、該各ブ
ロックの外側面を接触させて共通に支持すると共に前記
共振器ミラーを調製可能に間接的に支持する支持部材を
嵌合孔に嵌合して支持した共通支持体とを備えた軸流形
ガスレーザ発振器において、 前記共通支持体に前記円筒中心軸に平行で互いに異なる
平面上にある少なくとも２つの平面からなる位置決め用
の基準面を形成すると共に、前記各ブロックの底面と側
面を基準にして前記円筒形状励起部の嵌合孔を形成して
なり、前記基準面を基準にして共通支持体に前記支持部
材の嵌合孔及び前記各ブロックの底面と側面の当り面を
形成して、この基準面を取付け面としてレーザ発振器を
加工装置に取付けた軸流形ガスレーザ発振器を提供する
ものである。According to the present invention, a laser medium gas is circulated in the direction of a cylinder axis to fit a plurality of cylindrical shape excitation parts having resonator mirrors at both ends on an extension line of the cylinder center axis, and both ends of each cylindrical shape excitation part are fitted together. A plurality of prismatic blocks provided with fitting holes and a support member for contacting the outer surfaces of the blocks to support them in common and indirectly supporting the resonator mirror in a adjustable manner are fitted into the fitting holes. In the axial flow type gas laser oscillator having a common support body supported by a plurality of flat surfaces, at least two planes parallel to the central axis of the cylinder and on different planes for positioning are formed on the common support body. Along with the bottom surface and the side surface of each block, a fitting hole of the cylindrical excitation part is formed, and the fitting hole of the supporting member and each block are formed on a common support with the reference surface as a reference. Bottom and sides of The present invention provides an axial flow type gas laser oscillator in which a contact surface is formed and the laser oscillator is mounted on a processing device with this reference surface as a mounting surface.
共通支持体は取付位置決め用平面によりレーザ出力光軸
位置が規定され、かつ長期に渡り時間的経時的に変動し
ない。The laser output optical axis position of the common support is defined by the mounting positioning plane, and it does not change over time for a long time.
第１図は本発明の実施例を示す平面図、第２図は第１図
のＤ−Ｄ断面図、第３図は共振器ミラーと励起部と光軸
の位置関係を示す説明図、第４図は発振器の加工装置へ
の取付状態を示す斜視図である。（１）は円筒形状励起
部、（２）は円筒形状励起部（１）の両端を支持するブ
ロック、（３）はブロック（２）を支持する共通支持体
である。（23）は共通支持体（３）を固定側にインバー
（24）を円筒中心軸（４）方向に摺動自在に支持するリ
ニヤボールベヤリング、（13）はインバー（24）の両端
に設けられミラーホルダー（16）を調整ネジ（17）を介
して保持するベースプレートである。（25）はカバー、
（5a）．（5b）は共通支持体（３）に設けた円筒中心軸
（４）に対して平行で互いに異なるからなる基準面であ
る。FIG. 1 is a plan view showing an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a sectional view taken along the line DD of FIG. 1, and FIG. FIG. 4 is a perspective view showing how the oscillator is attached to the processing device. (1) is a cylindrical excitation part, (2) is a block that supports both ends of the cylindrical excitation part (1), and (3) is a common support that supports the block (2). (23) is a linear ball bearing which supports the common support (3) on the fixed side and the invar (24) slidably in the direction of the cylindrical central axis (4), and (13) is provided at both ends of the invar (24). A base plate for holding the mirror holder (16) via an adjusting screw (17). (25) is a cover,
(5a). (5b) is a reference plane which is parallel to the central axis (4) of the cylinder provided on the common support (3) and is different from each other.
ところで円筒形状励起部（１）の両端はブロック（２）
の底面と側面を基準に加工された穴（30）に嵌合し
て取付けられ、ブロック（２）は共通支持体（３）の基
準面（5a），（5b）を基準に加工された当たり面，
を基準として取付けられる。従つて複数の円筒形状励起
部（１）の円筒中心軸（４）の位置は基準面（5a）及び
（5b）に対してａ及びｂ寸法で幾何学的な設定が保証さ
れる。一方共振器ミラー（14a），（14b）を間接的に支
持するインバー（24）も共通支持体（３）の基準面（5
a），（5b）よりリニヤボールベヤリング（23）の嵌合
面を加工することで位置設定が幾何学的に保証される。
レーザ動作は上記のように設定された円筒中心軸（４）
で共振光軸が設定されたとき最大の能力及び性能を発揮
する。このため共振器ミラー（14a），（14b）を調整ネ
ジ（17）により角度調整してレーザ出力を最大となる様
にアライメントを行う。このようにして製作、組立、調
整されたレーザ発振器（６）は加工装置（７）に基準面
（5a），（5b）を基準に取付けられる。加工装置（７）
はコラム（28）に取付けられたベンドミラー（26）によ
りレーザ光を偏向させ加工レンズ（27）により集光して
X,Y方向に被加工物（29）を駆動してレーザ加工を行う
ものである。しかしながら、加工装置（７）により予め
決定される円筒中心軸（４）に対して加工装置（７）の
レーザ発振器基準面（5a），（5b）は幾何学的に設定可
能である。いいかえれば、発振器基準面（5a），（5b）
に対して一義的に決まる円筒中心軸（４）を基準に加工
装置（７）の光伝送系路や被加工物の運動方向を設定し
ておけば良い。実際問題として第３図に示すように、ミ
ラー（14a）はウエツジ角θ０を持つており、円筒中心
軸（４）に対してθ１＝（ｎ−１）θ０のふれ角を生ず
るが、CO2レーザの場合、ｎ（屈折率）≒2.4（ZnSe,10.
6μｍ）、θ０≒３′でθ１≒1.2mRadでごく僅かなため
支障は無い。また予めθ０が判明している場合は基準面
に対してスペーサー等を挿入して軸の補正を行うことが
可能である。By the way, both ends of the cylindrical excitation part (1) are blocks (2)
The block (2) is mounted by fitting it into the hole (30) machined based on the bottom and side surfaces of the base, and the block (2) is machined based on the reference planes (5a) and (5b) of the common support (3). surface,
It is attached based on. Therefore, the positions of the cylindrical central axes (4) of the plurality of cylindrical excitation parts (1) are guaranteed to be geometrically set by the a and b dimensions with respect to the reference planes (5a) and (5b). On the other hand, the invar (24) indirectly supporting the resonator mirrors (14a) and (14b) also includes the reference plane (5) of the common support (3).
Positioning is geometrically guaranteed by processing the fitting surface of the linear ball bearing (23) from a) and (5b).
The laser operation is the cylindrical center axis (4) set as above.
When the resonance optical axis is set, the maximum performance and performance are exhibited. Therefore, the resonator mirrors (14a) and (14b) are angle-adjusted by the adjusting screw (17) to perform alignment so that the laser output becomes maximum. The laser oscillator (6) manufactured, assembled and adjusted in this way is attached to the processing device (7) with reference to the reference planes (5a) and (5b). Processing equipment (7)
Is deflected by the bend mirror (26) attached to the column (28) and condensed by the processing lens (27).
Laser processing is performed by driving the workpiece (29) in the X and Y directions. However, the laser oscillator reference planes (5a), (5b) of the processing device (7) can be geometrically set with respect to the cylindrical central axis (4) predetermined by the processing device (7). In other words, oscillator reference planes (5a), (5b)
However, the movement direction of the optical transmission system path of the processing device (7) or the workpiece may be set with reference to the central axis (4) of the cylinder that is uniquely determined. As a practical matter, as shown in FIG. 3, the mirror (14a) has a wetting angle θ 0, which causes a deflection angle of θ 1 = (n−1) θ 0 with respect to the cylinder central axis (4). , CO 2 laser, n (refractive index) ≒ 2.4 (ZnSe, 10.
6 μm), θ 0 ≈ 3 ′, θ 1 ≈ 1.2 mRad, which is very small, so there is no problem. When θ 0 is known in advance, it is possible to correct the axis by inserting a spacer or the like on the reference surface.
以上の説明では円筒形状励起部が４個である場合を示し
ているが、本発明はこれに限定するものではなく８個で
あつても良く、また直線上に配列されている場合を示し
ているが第５図に示すようにコの字形の配列であつても
よい。また平面は直交していなくとも良い。さらに支持
体の全面に渡つて存在する必要は無く分割または分離し
て設けられても良く、またCO2レーザの放電励起だけで
なくガスレーザ全般に渡りかつ励起方法も放電に限定し
なくともよい。In the above description, the case where the number of cylindrical excitation parts is four is shown, but the present invention is not limited to this, and may be eight, and the case where they are arranged in a straight line is shown. However, the arrangement may be a U-shaped arrangement as shown in FIG. The planes do not have to be orthogonal. Further, it does not have to exist over the entire surface of the support, and it may be provided dividedly or separately, and not only the discharge excitation of the CO 2 laser but also the whole gas laser and the excitation method need not be limited to discharge.
以上の説明から明らかなように本発明によれば、発振器
の加工装置への取付時に発振器毎に異なる調整作業が無
くなり、発振器の互換性能が向上すると共に、加工装置
の設計、製作、調整が定められた光軸を基準に行うこと
ができるため精度の高い、安価な装置とすることができ
かつ、長期間に渡るレーザ光軸の狂いを全く解消し安定
な動作を行わせることができるという顕著な効果があ
る。As is apparent from the above description, according to the present invention, when the oscillator is attached to the processing device, the different adjustment work for each oscillator is eliminated, the compatibility performance of the oscillator is improved, and the design, manufacture, and adjustment of the processing device are determined. It is remarkable that it is possible to make a highly accurate and inexpensive device because it can perform with respect to the specified optical axis, and it is possible to completely eliminate the deviation of the laser optical axis for a long period of time and to perform stable operation. It has a great effect.
第１図は本発明の実施例を示す平面図、第２図は第１図
のＤ−Ｄ断面図、第３図は共振器ミラーと励起部と光軸
の位置関係を示す説明図、第４図は発振器の加工装置へ
の取付状態を示す斜視図、第５図は本発明の他の実施例
を示す平面図、第６図は従来の軸流形ガスレーザ発振器
の一例を示す斜視図、第７図は第６図の平面図、第８図
及び第９図は第７図のＡ−Ａ断面図及びＢ−Ｂ断面図、
第10図は従来の他の軸流形ガスレーザ発振器の一例を示
す平面図、第11図は第10図のＣ−Ｃ断面図である。 （１）…円筒形状励起部、（２）…ブロツク、（３）…
共通支持体、（４）…円筒中心軸、（5a），（5b）…基
準面、（６）…レーザ発振器、（７）…加工装置、（14
a），（14b）…共振器ミラー なお各図中、同一符号は同一又は相当部分を示す。FIG. 1 is a plan view showing an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a sectional view taken along the line DD of FIG. 1, and FIG. FIG. 4 is a perspective view showing a state where the oscillator is attached to a processing apparatus, FIG. 5 is a plan view showing another embodiment of the present invention, and FIG. 6 is a perspective view showing an example of a conventional axial flow type gas laser oscillator, FIG. 7 is a plan view of FIG. 6, FIGS. 8 and 9 are AA sectional views and BB sectional views of FIG.
FIG. 10 is a plan view showing an example of another conventional axial flow type gas laser oscillator, and FIG. 11 is a sectional view taken along line CC of FIG. (1) ... Cylindrical excitation part, (2) ... Block, (3) ...
Common support, (4) ... cylindrical center axis, (5a), (5b) ... reference plane, (6) ... laser oscillator, (7) ... processing device, (14)
a), (14b) ... Resonator mirror In each figure, the same reference numerals indicate the same or corresponding parts.
Claims (1)
円筒中心軸の延長線上の両端に共振器ミラーを設けた複
数の円筒形状励起部と、該各円筒形状励起部の両端を嵌
合させる嵌合孔を設けた角形の複数のブロックと、該各
ブロックの外側面を接触させて共通に支持すると共に前
記共振器ミラーを調製可能に間接的に支持する支持部材
を嵌合孔に嵌合して支持した共通支持体とを備えた軸流
形ガスレーザ発振器において、 前記共通支持体に前記円筒中心軸に平行で互いに異なる
平面上にある少なくとも２つの平面からなる位置決め用
の基準面を形成すると共に、前記各ブロックの底面と側
面を基準にして前記円筒形状励起部の嵌合孔を形成して
なり、前記基準面を基準にして共通支持体に前記支持部
材の嵌合孔及び前記各ブロックの底面と側面の当り面を
形成して、この基準面を取付け面としてレーザ発振器を
加工装置に取付けたことを特徴とする軸流形ガスレーザ
発振器。Claim: What is claimed is: 1. A plurality of cylindrical excitation parts, each having a resonator mirror provided at both ends on an extension line of the cylinder center axis by allowing a laser medium gas to flow in the cylinder axis direction, and both ends of each cylindrical excitation part being fitted to each other. A plurality of prismatic blocks having fitting holes provided therein, and a support member for bringing the outer surfaces of the blocks into contact with each other for common support and indirectly supporting the resonator mirror so that the resonator mirror can be adjusted. In an axial flow type gas laser oscillator including a common support body supported in combination, a positioning reference plane is formed on the common support body, the reference plane being at least two planes parallel to the central axis of the cylinder and on different planes from each other. In addition, the fitting hole of the cylindrical excitation part is formed with reference to the bottom surface and the side surface of each block, and the fitting hole of the supporting member and Bottom and sides of block An axial flow type gas laser oscillator characterized in that a contact surface of the surface is formed and the reference surface is used as a mounting surface to mount the laser oscillator on a processing apparatus.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60029785A JPH06105803B2 (en) | 1985-02-18 | 1985-02-18 | Axial gas laser oscillator |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60029785A JPH06105803B2 (en) | 1985-02-18 | 1985-02-18 | Axial gas laser oscillator |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61188987A JPS61188987A (en) | 1986-08-22 |
| JPH06105803B2 true JPH06105803B2 (en) | 1994-12-21 |
Family
ID=12285653
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60029785A Expired - Lifetime JPH06105803B2 (en) | 1985-02-18 | 1985-02-18 | Axial gas laser oscillator |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06105803B2 (en) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2560366Y2 (en) * | 1991-02-08 | 1998-01-21 | 株式会社ダイヘン | High-speed axial-flow type carbon dioxide laser oscillator |
| JPH07307506A (en) * | 1994-05-16 | 1995-11-21 | Mitsubishi Electric Corp | Laser oscillator |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS585363U (en) * | 1981-06-30 | 1983-01-13 | アンリツ株式会社 | Laser oscillation tube storage device |
| JPS58175887U (en) * | 1982-05-14 | 1983-11-24 | 株式会社ダイヘン | Gas laser processing equipment |
-
1985
- 1985-02-18 JP JP60029785A patent/JPH06105803B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61188987A (en) | 1986-08-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5802094A (en) | Narrow band excimer laser | |
| EP1331709B1 (en) | Laser diode collimating system | |
| JP3657009B2 (en) | High efficiency, high repetition rate, intracavity diode pumped solid state laser | |
| US4660209A (en) | High speed axial flow type gas laser oscillator | |
| US3886474A (en) | Gas laser having an integral optical resonator with external stabilizing means | |
| JPH04259271A (en) | Slab or strip waveguide laser | |
| US3866140A (en) | Optical cavity for a laser | |
| US5197079A (en) | High-power stripline laser | |
| JPH06105803B2 (en) | Axial gas laser oscillator | |
| JPH0595142A (en) | Laser oscillator | |
| US4666302A (en) | Ring laser, in particular for a ring laser type of gyro, having a block with an optical resonator cavity and three corner mirrors | |
| US4245195A (en) | Laser optical resonator assembly | |
| US7965757B2 (en) | Thermal distortion compensation for laser mirrors | |
| JP6737877B2 (en) | Laser equipment | |
| JPH10112570A (en) | Narrow-band oscillation excimer laser | |
| US20080037603A1 (en) | Rod-Type Solid Laser Apparatus | |
| JP4554825B2 (en) | Focus adjustment device | |
| JP2681319B2 (en) | Laser oscillator | |
| JP2001185791A (en) | Solid-state laser device | |
| JPH02109383A (en) | gas laser oscillator | |
| EP0094477A1 (en) | Laser system with interchangeable plasma chambers | |
| JPH0126119Y2 (en) | ||
| JPH04338687A (en) | laser oscillator | |
| JPS6364073B2 (en) | ||
| JPH0936461A (en) | Solid-state laser device |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |