JPH0593300A

JPH0593300A - 電解エツチング方法

Info

Publication number: JPH0593300A
Application number: JP27628391A
Authority: JP
Inventors: Riyouichi Aogaki; 良一青柿
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 1991-09-30
Filing date: 1991-09-30
Publication date: 1993-04-16

Abstract

(57)【要約】【目的】実際的な工業的微細加工技術として使用でき
る電解エッチング方法を提供する。【構成】対極としてのプローブ電極を先端開口を有す
るキャピラリー中に挿入し、この先端開口の周辺面と作
動極としての加工対象固体表面との間に小さなギャップ
を置き、該先端開口を通して電解液を流動させつつ電解
エッチングを行う。【効果】キャピラリー内に電解反応生成物が蓄積・析
出すること無く、安定に電解エッチングを続けることが
できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、電気化学的微細加工法
としての電解エッチング方法に関し、特に開口先端を有
するキャピラリー中に少なくともその先端が挿入された
プローブ状電極を対極として使用する電解エッチング方
法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、電子デバイス製造技術に端を発し
た各種のシリコン微細加工法が開発され、各種のマイク
ロアクチュエーターやセンサーの微細化が試みられるよ
うになった。このような微細加工技術としては、新しい
精密加工法としてレーザー加工法や放電加工法等の開発
も活発に行われているものの、研磨・切削手段としては
主としてフォトリソグラフィーと湿式の異方性エッチン
グの組み合わせによるものが多い。

【０００３】電気化学の分野においては、従来から精密
表面加工技術として電気メッキや電解エッチングが広く
利用されている。例えば、かかる加工技術を利用して得
られる製品として、電気剃刀の網刃やＣＤのスタンパー
等を挙げることができる。

【０００４】これらの電気化学的手法の長所として、同
時加工により多量の製品を一時に製造することができる
といったエッチング技術に共通な利点以外にも、使用す
る溶液の種類を広く選べること、反応の制御が容易で且
つ穏やかな条件で反応を起こさせることができる等の利
点を挙げることができる。

【０００５】一方、これらの電気化学的手法の短所とし
ては、加工の為の特殊な電極が必要なこと、加工対象が
導電性の表面を持たねばならないこと、更には湿式法の
一般的欠点と見られる加工精度上の問題点等が挙げられ
る。このような点から、従来の電気化学的手法は、比較
的大規模な表面に対しての処理に主に用いられてきたの
であり、必ずしも局所的な微小表面の加工に対して適切
な電気化学技術が確立されている訳では無い。

【０００６】微小電極を用いて電気化学的加工を行う場
合の問題点は、別の視点から見ると、最近、電気化学分
析にしばしば用いられる微小電極の持つ利点と一致す
る。

【０００７】即ち、電極面積の減少と共に電極周辺部の
電流密度の異常、いわゆるエッジ効果が大きく効くよう
になり、電極面近傍の電流分布は放射状の広がりを持つ
ようになる。

【０００８】このことは、電気化学分析の立場から言え
ば、液抵抗の影響を小さくし、単位面積当りの電流値を
大きくする等の有利な条件を創り出す。

【０００９】しかしながら、表面加工の面から言うと、
この現象は電流分布の大きな不均一を招くと同時に加工
領域を大きく広げてしまい、加工精度と効率の大幅な低
下を招くこととなる。極端な場合には、表面の加工は全
く不可能となるのである。

【００１０】

【発明が解決しようとする問題点】電流分布の改善は、
作動極である被加工面と対極である微小電極との間を小
さくすることで達成できる。従って、電極を微小にした
場合、微小化に見合った加工を施すには、その分だけ電
極の先端を加工面に近付けなければならない。

【００１１】ＳＴＭ（走査トンネル顕微鏡）を用いた実
験のように極めて僅かな数の原子を移動させるような場
合を除き、或る程度の量の加工を行うとなると、加工に
伴う溶解析出反応によって微小電極の表面形状変化が時
々刻々と起こる。また、同時に微小電極での反応生成物
による加工面への汚染等も考えられるから、一般的に言
って、微小電極を用いる加工は極めて解決困難な問題を
抱えていると言えよう。

【００１２】以上のような困難な問題の解決方法とし
て、本発明者等は、キャピラリー中にプローブ状の微小
電極を挿入し、これを対極として行うエッチング法（以
下、「キャピラリーエッチング法」と略称することもあ
る）を試みた。即ち、作動極である被エッチング素材と
しては銅を用い、これに対極としての微小開口先端を有
するガラスキャピラリー電極（ガラスキャピラリー中に
対極としての白金線を挿入したもの）を密着させて、閉
鎖された銅電極部分を創り出し、電解液（支持電解質溶
液）として硝酸ソーダ溶液を用い、電解エッチングを行
うものである。

【００１３】この電解エッチング法では、キャピラリー
内を電解電流が流れることにより方向性の揃った均一な
電流が得られ、そのためキャピラリーの内径と同程度の
微小孔を銅面に形成させることができる。一般的に言っ
て、多結晶性の銅版等への等方性電解エッチングでは、
エッジ効果としての周辺部のオーバーエッチング（サイ
ドエッチング）が大きな問題点となっている。この欠点
を克服するにはエッジ面近傍の電流分布の均一化が不可
欠であり、かかる観点からキャピラリーにより電流分布
の不均一化を防ぐことにより、上記のような結果を得る
ことができるのである。また、この電解エッチング法で
は、電解反応生成物による電極の汚染を防ぐこともでき
ることが明らかとなった。

【００１４】しかし、上記のエッチング法では、電解エ
ッチングの進行に伴い、キャピラリー内に硝酸の銅塩が
生成し、やがてこれが析出してキャピラリーの先端が詰
まってくるという不都合が生じると共に、該銅塩の過飽
和状態になるとエッチング反応速度が遅くなるという問
題点が有る。このため、この電解エッチング法は現実的
な工業的微細加工技術として発展性を有するものでは無
い。

【００１５】本発明は、上記のような技術的背景下にな
されたもので、現実的な工業的微細加工技術として発展
性を有する電解エッチング法を提供することを目的とす
る。

【００１６】

【問題点を解決するための手段】上記のようなキャピラ
リーエッチング法について更に鋭意検討を行った結果、
本発明の発明者は、下記のような電解エッチング法によ
り上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成す
るに到った。

【００１７】即ち、本発明によれば、加工対象としての
固体表面を作動極とし、開口先端を有するキャピラリー
中に少なくともその先端が挿入されたプローブ状電極を
対極として使用し、少なくとも前記キャピラリーの開口
先端を通して電解液を流動させつつ行うことを特徴とす
る電解エッチング方法が提供される。

【００１８】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
キャピラリーエッチング法の特徴は、キャピラリーの開
口先端を通して電解液を流動させることに有り、これを
実現させるためには、キャピラリーの開口先端側におい
て該キャピラリーの内側と外側の電解液を流動連通状態
とすればよい。

【００１９】具体的には、作動極としての固体表面とキ
ャピラリーの先端開口の周辺面にギャップを設けるのが
一つの方法である。また、キャピラリーの先端開口の周
辺面部分に少なくとも一つの切欠部を設ければ、例え、
キャピラリーの先端開口周辺面を作動極固体表面に接触
させても流通連通状態を実現できる（勿論、この場合に
ギャップを設けてもよい）。

【００２０】上記のギャップの大きさは、キャピラリー
の先端開口の形状、大きさ等によって異なってくるのが
一般的であるが、例えば、０．０１μｍ〜２０μｍ程
度、好ましくは０．１μｍ〜１０μｍ程度とすればよ
い。上記先端開口が大きくなるに従って、ギャップも大
きくするのが一般的である。

【００２１】上記の少なくとも一つの切欠部を設ける場
合、その形状や大きさはキャピラリーの形状、大きさに
応じて選択すれば良く、特に制限されるものでは無い。
この場合、切欠部による電流分布の乱れにより生ずる効
果を無視できる程度にしたければ、キャピラリーを回転
させつつ電解エッチング操作を行えば良い。

【００２２】キャピラリーとしては、電解液と作用せ
ず、電流分布の広がりを抑制することができるものであ
れば、特に制限されず、各種材料のものを使用できる。
例えば、アクリル系等のプラスチック中空繊維やガラス
キャピラリーを使用することができる。先端開口部とし
ては、これらキャピラリーそのものを用いても良いし、
プラスチックやガラス板に小孔を開け、これを上記のよ
うなキャピラリーの先端に接着して設けても良い。

【００２３】このようなキャピラリーの電解液中におけ
る位置固定を確実とするために、プラスチック製等の治
具を使用してもよい。このような治具には、作動極に対
面する側に、外部の電解液と連通するような溝を一本以
上を設け、キャピラリーの先端開口を通しての電解液の
流動を妨げ無いようにする。

【００２４】キャピラリーの断面形状やキャピラリーの
先端開口の形状も特に制限されるものでは無く、三角、
四角等の多角形、円形、楕円形、長方形、その他種々の
形状を採り得るが、円形が最も一般的で好ましい。ま
た、キャピラリーは、先端開口に向かって、先細りにな
っていても、先細りになっていなくても良い。

【００２５】キャピラリーの先端開口の大きさは、エッ
チングの目的等により異なってくるため、特に制限され
るものでは無いが、０．１μｍ〜２mm程度が好ましく、
１μｍ〜１００μｍ程度が更に好ましく、先端開口の形
成し易さも考慮すると３μｍ〜５０μｍが更にもっと好
ましい。該先端開口の大きさを余り小さくするのはキャ
ピラリーの加工が困難となるし、該先端開口が余り大き
いとサイドエッチングが生じ易くなるので好ましくな
い。該先端開口が小さくなる異方性エッチングに近づ
く。

【００２６】このようなキャピラリーに挿入する対極の
材料としては、カーボン、白金、金ステンレス鋼、ニッ
ケル、銅、鉛等を挙げることができる。キャピラリー中
に、これらの線材を直線状で挿入しても良く、例えば、
スプリング状にして挿入しても良い。

【００２７】加工対象である作動極としては、銅、ニッ
ケル、アルミニウム、ステンレス鋼、シリコン、白金、
金等を挙げることができるが、これらに限定されるもの
では無い。

【００２８】参照極として、銀・塩化銀電極、銅・硫酸
銅電極、アンチモン電極、カロメル電極等を使用するこ
とができる。

【００２９】電解液に使用する電解質は、作動極の材料
によって異なってが、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム、
弗化ナトリウム、弗化カリウム、塩化第二鉄、塩化カリ
ウム、塩化ナトリウム、硝酸、塩酸、硫酸等を例として
挙げることができる。

【００３０】所要に応じ、電解液に燐酸、チオ尿素、サ
ッカリン、酢酸鉛等の添加剤（平滑剤）を加えても良
い。

【００３１】キャピラリー中に挿入された対極と作動極
の間の距離は、特に限定されるものでは無いが、例え
ば、３mm〜２cmとすればよく、好ましくは５mm〜１cmと
することができる。一般的に、上記の距離が長いと液抵
抗が大きくなり反応の制御が難しくなる傾向がある。

【００３２】電解エッチング操作中に、キャピラリーを
回転させてエッチング端面の均一化を図っても良く、ま
た、特に切欠の無い先端開口周辺面のような場合は、通
常、回転させる必要は無い。

【００３３】キャピラリーの開口先端を通して流動する
電解液の流れの方向はキャピラリー内からキャピラリー
外への方向でも良いし、その逆でも良い。前者の場合、
電解反応生成物により対極が汚染されるのを防ぐことが
でき、後者の場合、電解反応速度を早めることができる
と言うそれぞれの特徴が有る。

【００３４】電解液の流動速度は、キャピラリーの先端
開口の大きさ、作動極と対極のギャップの大きさ等によ
って最適速度が異なってくるので一概に言えず、上記の
ファクターと共に、エッチングの目的等を考慮して決定
すれば良い。一般的に、流動速度が低すぎるとエッチン
グ効率（使用総電気量に対するエッチング量）が低下す
るが、或る程度の流動速度以上となるとエッチング効率
はほぼ一定となる傾向にある。

【００３５】作動極としての加工対象固体表面上に、例
えば、フォトリソグラフィーによるマスクを用いるか否
かは場合によって異なる。作動極と対極の間のギャップ
が小さい場合は、通常マスク無でも綺麗な輪郭を持って
エッチング孔を形成することができる。作動極と対極の
間のギャップが大きいとオーバーエッチングが大きくな
るので、マスクを使用する場合も有る。

【００３６】電解エッチング操作を行うに当たって、電
流パルスもしくは電位パルスを用いるのが好ましい。パ
ルス法は、エッチング加工面の平滑化に有効で、エッチ
ング小孔のサイドエッチング（オーバーエッチング）を
小さくでき、一般にエッチング効率を向上させることが
できる場合が多い。

【００３７】電流パルスの方が、一般的にパルス高さを
一定に制御し易く、また、エッチング効率向上に利点を
有し、電位パルスは、反応の選択性向上が可能という利
点を有する。

【００３８】また、電流パルスとしては酸化電流パルス
と還元電流パルスが有るが、電位をゼロとして、還元電
流パルスのみでは電解エッチングは進行しない。しか
し、一定の還元電流とし酸化電流パルスを流し、結果と
して還元電流パルスを流すのと同じ状態とするか、一定
の酸化電流とし還元電流パルスを流すかすると、上記の
ような効果を期待できる。このような点に関しては、電
位パルスの場合も電流パルスの場合と同様に考えること
ができる。

【００３９】この際、デューティー比（酸化電流パルス
の還元電流時間に対する比）は、極端に大きいか小さい
場合を除いて、作用効果面で大きな影響は無い。

【００４０】特に加工対象となる固体表面が不動態皮膜
を形成する傾向のある材質の場合、電流パルス又は電位
パルスの使用はエッチング効率の向上に大きく貢献す
る。

【００４１】例えば、不動態皮膜を形成しない銅を作動
極とし、３Ｍ硝酸ナトリウム溶液を電解液として用いて
電解エッチングする場合には、還元電流を流さず、酸化
電流パルス（アノードパルス）を流した場合、パルス高
さがごく小さい（１mA以下）場合にパルス高さの増大に
伴いエッチング効率が良くなるが、それ以外のパルス高
さの領域では、エッチング効率は酸化電流パルスの高さ
に殆ど依存し無いので（銅表面は、完全活性表面と考え
られる）、電流パルスの使用によるエッチング効率の向
上効果は余り無いが、特に短波長側ではサイドエッチン
グを小さくする効果が有る。

【００４２】例えば、不動態化皮膜を形成するニッケル
を作動極とし、３Ｍ硝酸ナトリウム溶液を電解液とし
て、還元側には電流を入れず、酸化電流パルス（アノー
ド電流パルス）を流した場合、パルス高さの増大に伴い
エッチング効率が向上するが、同一量のエッチングを行
うのに銅の場合と比べて数十倍の電気量を要する。これ
は、ニッケル表面上に有る不動態化皮膜によりエッチン
グが大幅に制限されているが、アノード電流パルスによ
り該皮膜の一部が破壊されてエッチングが進行するもの
と考えられる。

【００４３】アノード電流パルスと交互にカソード電流
パルス（還元電流パルス）を流すと、不動態化皮膜を還
元しつつエッチングを行う形となり、更にエッチング効
率を向上させる傾向にある。この場合、一旦還元され消
滅した不動態化皮膜が再度酸化再生されるまでの時間は
10ms（マイクロ秒）のオーダーと考えられ、従って、カ
ソード電流パルスの波長は、不動態化皮膜還元効果を発
現させるためには短い方が良い。しかし、約２msより小
さい波長では、電気二重層充電による逆効果が生じ、エ
ッチング効率は低下する傾向にある。従って、上記のよ
うなニッケルのエッチングでは、約２ms〜約20msの範囲
内のアノード電流パルス波長が、オフ・パルス時に一部
還元された不動態化皮膜の再形成とエッチングが競合す
るので好ましい。

【００４４】このようなニッケル等の電解エッチングで
は、不動態化皮膜は溶存酸素不足状態では形成され難く
なるので、エッチングの進行に伴い小孔の深さが増すに
従い、酸素拡散の遅れによりエッチング速度が加速され
る傾向にある。即ち、意図的に孔蝕を起こしているかの
ような状態となるのである。なお、この場合、不動態化
皮膜の存在・形成のためにオーバーエッチング（サイド
エッチング）が少ない。

【００４５】また、ニッケル等の不動態化皮膜を形成す
る金属の電解エッチングの場合、エッチング環境中にハ
ロゲンイオンが存在すると、不動態皮膜の化学的破壊
（孔蝕）が生じ易くなり、小孔（ピット）以外の部分は
不動態化皮膜で覆われ、酸素のカソード還元はその全面
で起こり、局部電池を形成し、ピット内のアノード溶解
を加速する。一旦ピットが発生すると、その内部にハロ
ゲンイオンの濃縮及びｐＨの変化が起こり、ピットの成
長は持続する。

【００４６】このようなことから、ニッケル等の不動態
化皮膜を形成する金属の電解エッチングの場合、支持電
解質溶液に塩素イオン等のハロゲンイオンを共存させる
のが好ましい。かかるハロゲンイオン源としては、例え
ば、ハロゲンのナトリウム塩、カリウム塩等を使用でき
る。ハロゲンイオンの共存により、エッチング効率は飛
躍的に向上する。

【００４７】

【作用】対極としてのプローブ電極を挿入したキャピラ
リーを用いることにより、電解電流分布の均一化を図る
ことができ、例えマスクを使用しなくても作動極として
の固体表面にキャピラリーの先端開口にほぼ対応するエ
ッチング小孔を形成することができる。

【００４８】対極としてのプローブ電極を挿入したキャ
ピラリーの先端開口を通して電解液の流動を行うので、
電解反応生成物がキャピラリー内に蓄積・析出し、キャ
ピラリーの先端開口を詰まらせたり、対極を汚染したり
するのを防ぐことができ、また、電解反応生成物がエッ
チング領域で過飽和状態になり、エッチング速度の減速
が生ずることを防ぐことができ、工業的微細加工法とし
ての実現性が極めて高い。

【００４９】

【実施例】以下、添付の図面を参照しつつ、実施例によ
り本発明を更に具体的且つ詳細にに説明するが、本発明
は実施例に限定されるものでは無い。図１は、本発明の
電解エッチング方法を実施するための実験装置の説明図
で、以下の実施例で用いたものを概略的に描写した図で
ある。この図における「キャピラリー電極８」（後述す
る）の描写は不正確であるが、作図を簡略化したためで
あり、以下の説明により実施例で用いた実際のキャピラ
リー電極がどのようなものか充分理解されるはずであ
る。

【００５０】実施例電解エッチングの対極（ＣＥ）として使用するプローブ
電極を挿入した先端キャピラリー状ガラス管（ここで、
これを「キャピラリー電極８」と言う）は、次の様にし
て製作した。

【００５１】外径２mm、内径１mm、長さ90mmのガラス管
の先端部分をを外径約５μｍの毛細管に加工した後、先
端面を研磨して平滑にした。次にガラス管の後部にプラ
スチック製の二股プラグを取付け、その一方の口からは
直径0.2 mmの白金線（対極ＣＥ）をガラス管の中に差し
込んでエポキシ樹脂により接着・注封した。もう一方の
口にはマイクロチューブポンプ９〔ＭＰ−３、東京理化
機械（株）製〕により送られる電解液を上記毛細管から
流出させるためのシリコンゴム製のチューブ７を同様に
エポキシ樹脂により接着・注封した。

【００５２】マイクロマニピュレーターを用いて、この
ようにして製作されたキャピラリー電極８の先端を作動
極（ＷＥ）としてのエッチング用試料の表面から１μｍ
程度上方の位置に設定した。なお、作動極（ＷＥ）と対
極（ＣＥ）との間の距離は約５mmであった。

【００５３】一方、作動極（ＷＥ）としてエッチングを
受けるエッチング用試料の電位の規制及び計測を行うた
めの照合電極（ＲＥ）として銀・塩化銀参照電極を用い
た。

【００５４】以上の三つの電極を、エッチング操作に際
して電位規制又は電流規制を行うための装置であるポテ
ンショ・ガルバノスタット（以下、単に「ポテンショス
タット」と呼ぶ）１１〔２０００、東方技研（株）製〕
に接続した。更に、このポテンショスタット１１を電位
パルス又は電流パルス状態で作動させるための装置であ
るファンクションジェネレーター１２〔ＦＧ−０２、東
方技研（株）〕を上記ポテンショスタット１１に接続し
た。

【００５５】エッチング用試料としては、非耐蝕性金属
の例として厚さ10μｍの銅箔、並びに耐蝕性金属の例と
して厚さ10μｍのニッケル箔を用いた。

【００５６】電解液としては、銅箔のエッチングには３
Ｍ硝酸ナトリウム液を用い、ニッケル箔のエッチングに
は３Ｍ硝酸ナトリウム＋ 0.5Ｍ塩化ナトリウム液を用い
た。液温は、 300Ｋ一定とした。

【００５７】電解液を電解槽１０内に満たすと共に、マ
イクロチューブポンプ９によりキャピラリー電極８の先
端開口から流出（流量：約３ml／hr）させることによ
り、常に新しい電解液によりエッチングを行うようにし
た。なお、電解液は、電解槽１０からマイクロチューブ
７’を通って、マイクロチューブポンプ９へ戻り、循環
する。

【００５８】電解槽１０内に電解液を満たして後、エッ
チング用試料（ＷＥ）とキャピラリー電極８を設置して
からポテンショスタット１１と各電極の接続を行った。

【００５９】電解エッチングには、ファンクションジェ
ネレーター１２を通してポテンショスタット１１から発
生させた波高−10μＡ、波長 500msのアノード電流パル
スをデューティー比（duty ratio、アノード電流パルス
のカソード電流時間に対する比）50％で用いた。ここ
で、ｘ−ｔレコーダー１３〔Ｒ３０２Ｖ、理化電気
（株）製〕は、電位の変化を記録した。

【００６０】このようにして電解エッチングを行った結
果は次の通りである。エッチングされた銅箔、ニッケル
箔のいづれにも直径約５μｍの円形の小孔が貫通してい
ることが、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）によって確認さ
れた。

【００６１】銅箔の場合、該小孔の形状は、ほぼ真円で
オーバーエッチングも殆ど見られ無かった。一方、ニッ
ケル箔の場合は、該小孔はやや歪んだ形の円形であり、
オーバーエッチングは殆ど見られないものの、側壁には
結晶粒界の出現による凹凸が観察された。

【００６２】電解エッチング速度は、いづれの場合も毎
分２〜３μｍ程度であった。これはドライエッチング法
に比べて非常な高速であり、本発明の方法で更に電解エ
ッチング速度を向上させることは可能である。

【００６３】なお、銅箔の電解エッチングの場合、例え
ば、３０分程度と電解時間を余り長くすると、小孔の側
壁に「だれ」が生じることが分かった。

【００６４】

【発明の効果】本発明の電解エッチング方法によれば、
エッチング領域における電解電流分布の均一化を図るこ
とができ、例えマスクを使用しなくても作動極としての
固体表面にキャピラリーの先端開口にほぼ対応するエッ
チング小孔を形成することができる。

【００６５】対極としてのプローブ電極を挿入したキャ
ピラリーの先端開口を通して電解液の流動を行うので、
電解反応生成物がキャピラリー内に蓄積・析出し、キャ
ピラリーの先端開口を詰まらせたり、対極を汚染したり
するのを防ぐことができ、また、電解反応生成物がエッ
チング領域で過飽和状態になり、エッチング速度の減速
が生ずることを防ぐことができ、工業的微細加工法とし
ての実現性が極めて高い。

【００６６】ドライエッチング法の場合、マスクとして
のレジスト層も同時にエッチングされるために最大エッ
チング深さがおよそ１０μｍ程度と制限されるが、本発
明の電解エッチング方法では、これより遙に深いエッチ
ングが可能である。

【００６７】本発明の方法は、キャピラリーの移動を例
えばコンピューター制御することにより、その先端を走
査させつつ電解エッチング操作を行うことが可能と考え
られ、マイクロマシニングの切削・研磨手段として、複
雑な形状のマイクロマシンや更には印刷配線板や或る種
の半導体装置等の製作に利用できるものと期待される。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、本発明の電解エッチング方法を実施す
るための装置の一例の概略説明図である。

【符号の説明】

ＷＥ作動極ＣＥ対極ＲＥ照合電極７マイクロチューブ７’ マイクロチューブ８キャピラリー電極９マイクロチューブポンプ１０電解槽１１ポテンショスタット１２ファンクションジェネレーター１３ｘ−ｔレコーダー

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】加工対象としての固体表面を作動極と
し、開口先端を有するキャピラリー中に少なくともその
先端が挿入されたプローブ状電極を対極として使用し、
前記キャピラリーの開口先端を通して電解液を流動させ
つつ行うことを特徴とする電解エッチング方法。
【請求項２】前記固体表面と前記キャピラリーの開口
先端との間にギャップを設けて行うことを特徴とする請
求項１に記載の電解エッチング方法。
【請求項３】電流パルス又は電位パルスを用いて行う
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の電解エッチン
グ方法。