JPH056869A - Semiconductor device - Google Patents
Semiconductor deviceInfo
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- JPH056869A JPH056869A JP3923691A JP3923691A JPH056869A JP H056869 A JPH056869 A JP H056869A JP 3923691 A JP3923691 A JP 3923691A JP 3923691 A JP3923691 A JP 3923691A JP H056869 A JPH056869 A JP H056869A
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Abstract
(57)【要約】
〔構成〕 下記の(A)〜(C)成分を含有する樹脂組
成物を用いて半導体素子を樹脂封止する。
(A)1分子中に2個以上のマレイミド基を有するマレ
イミド化合物。
(B)下記の一般式(1)を繰り返し単位とするアリル
化フエノール樹脂。
【化1】
〔上記一般式(1)において、n,mは整数であり、m
/(n+m)=0.3以上で、かつn+m=1〜20で
ある。〕
(C)硬化触媒。
〔効果〕 耐湿信頼性,耐熱信頼性および機械的強度に
優れている。(57) [Summary] [Structure] A semiconductor element is resin-encapsulated using a resin composition containing the following components (A) to (C). (A) A maleimide compound having two or more maleimide groups in one molecule. (B) An allylated phenol resin having the following general formula (1) as a repeating unit. [Chemical 1] [In the general formula (1), n and m are integers, and m
/(N+m)=0.3 or more and n + m = 1 to 20. ] (C) Curing catalyst. [Effect] Excellent in moisture resistance, heat resistance, and mechanical strength.
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、信頼性に優れた半導
体装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device having excellent reliability.
【0002】[0002]
【従来の技術】トランジスタ,IC,LSI等の半導体
素子は、通常、セラミツクパツケージもしくはプラスチ
ツクパツケージ等により封止され、半導体装置化されて
いる。上記セラミツクパツケージは、構成材料そのもの
が耐熱性を有し、耐透湿性にも優れているため、温度,
湿度に対して強く、しかも中空パツケージのため機械的
強度も高く信頼性の高い封止が可能である。しかしなが
ら、構成材料が比較的高価なのものであることと、量産
性に劣る欠点があるため、最近では上記プラスチツクパ
ツケージを用いた樹脂封止が主流となつている。この種
の樹脂封止には、従来からエポキシ樹脂組成物が使用さ
れており、良好な成績を収めている。しかしながら、半
導体分野の技術革新によつて集積度とともに素子サイズ
の大形化,配線の微細化が進み、パツケージも小形化,
薄形化する傾向にあり、これに伴つて封止材料に対して
より以上の信頼性(得られる半導体装置の内部応力,耐
湿信頼性,耐熱信頼性等)の向上が要望されている。2. Description of the Related Art Semiconductor elements such as transistors, ICs, and LSIs are usually sealed by a ceramic package or a plastic package to form a semiconductor device. In the above ceramic package, the constituent material itself has heat resistance and also has excellent moisture permeation resistance.
It is highly resistant to humidity, and because it is a hollow package, it has high mechanical strength and enables highly reliable sealing. However, since the constituent materials are relatively expensive and the mass productivity is inferior, recently, resin sealing using the plastic package has become mainstream. An epoxy resin composition has been conventionally used for this type of resin encapsulation, and has achieved good results. However, due to technological innovations in the semiconductor field, the size of the device has been increased, the size of the device has been increased, and the wiring has been miniaturized.
There is a tendency to make the device thinner, and accordingly, further improvement in reliability (such as internal stress, humidity resistance reliability, and heat resistance reliability of the obtained semiconductor device) of the sealing material is demanded.
【0003】近年、このような高信頼性、特に高耐熱信
頼性を得るために半導体素子の封止樹脂として、エポキ
シ樹脂(ガラス移転温度100〜200℃)よりも耐熱
性に優れているマレイミド樹脂(ガラス転移温度200
〜300℃)を用いる系が種々検討されている。In recent years, a maleimide resin, which is superior in heat resistance to epoxy resin (glass transition temperature of 100 to 200 ° C.), is used as a sealing resin for semiconductor elements in order to obtain such high reliability, particularly high heat resistance. (Glass transition temperature 200
Various systems using (~ 300 ° C) have been studied.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記マ
レイミド樹脂は、エポキシ樹脂以上にその硬化物の弾性
率が高く、エネルギー吸収能力が低いため、硬くて脆い
という欠点を有している。また、マレイミド樹脂を封止
樹脂として用いた場合、耐湿信頼性が不充分であるとい
う問題を有している。However, the maleimide resin has a drawback that it is hard and brittle because the cured product thereof has a higher elastic modulus and a lower energy absorption capacity than the epoxy resin. Further, when a maleimide resin is used as a sealing resin, there is a problem that the moisture resistance reliability is insufficient.
【0005】この発明は、このような事情に鑑みなされ
たもので、耐湿信頼性,耐熱信頼性および機械的強度に
優れた高信頼性を有する半導体装置の提供をその目的と
する。The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide a semiconductor device having high reliability with excellent humidity resistance reliability, heat resistance reliability, and mechanical strength.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、この発明の半導体装置は、下記の(A)〜(C)成
分を含有する樹脂組成物を用いて半導体素子を封止して
なる半導体装置。
(A)1分子中に2個以上のマレイミド基を有するマレ
イミド化合物。
(B)下記の一般式(1)を繰り返し単位とするアリル
化フエノール樹脂。In order to achieve the above object, the semiconductor device of the present invention has a semiconductor element encapsulated with a resin composition containing the following components (A) to (C). Semiconductor device. (A) A maleimide compound having two or more maleimide groups in one molecule. (B) An allylated phenol resin having the following general formula (1) as a repeating unit.
【化3】
〔上記一般式(1)において、n,mは整数であり、m
/(n+m)=0.3以上で、かつn+m=1〜20で
ある。〕
(C)硬化触媒。[Chemical 3] [In the general formula (1), n and m are integers, and m
/(N+m)=0.3 or more and n + m = 1 to 20. ] (C) Curing catalyst.
【0007】[0007]
【作用】すなわち、本発明者らは、信頼性に優れた封止
樹脂を得るために一連の研究を重ねた。その結果、マレ
イミド樹脂とこれと反応しうるフエノール性OH基およ
びアリル基を含有する特殊なフエノール樹脂を用いる
と、高い信頼性が得られることを見出しこの発明に到達
した。FUNCTIONS That is, the present inventors have conducted a series of studies in order to obtain a highly reliable sealing resin. As a result, they have found that high reliability can be obtained by using a maleimide resin and a special phenol resin containing a phenolic OH group and an allyl group capable of reacting with it, and arrived at the present invention.
【0008】つぎに、この発明について詳しく説明す
る。Next, the present invention will be described in detail.
【0009】この発明に用いられる樹脂組成物は、特定
のマレイミド化合物(A成分)と、特殊なフエノール樹
脂(B成分)と、硬化触媒(C成分)とを用いて得られ
るものであり、通常、粉末状もしくはそれを打錠したタ
ブレツト状になつている。The resin composition used in the present invention is obtained by using a specific maleimide compound (component A), a special phenol resin (component B), and a curing catalyst (component C). , Powdery or tablet-shaped tablets.
【0010】上記特定のマレイミド化合物(A成分)
は、1分子中に2個以上のマレイミド基を有するもの
で、例えば下記の一般式(2)で表されるマレイミド化
合物,一般式(3)で表される繰り返し単位を主成分と
するマレイミド化合物および一般式(4)で表されるマ
レイミド化合物を用いて得られるものがあげられる。The above specific maleimide compound (component A)
Is a compound having two or more maleimide groups in one molecule, and is, for example, a maleimide compound represented by the following general formula (2) or a maleimide compound containing a repeating unit represented by the general formula (3) as a main component. And those obtained by using the maleimide compound represented by the general formula (4).
【0011】[0011]
【化4】 [Chemical 4]
【0012】[0012]
【化5】 [Chemical 5]
【0013】[0013]
【化6】 [Chemical 6]
【0014】これらのマレイミド化合物は、単独で用い
ても併用してもよい。上記マレイミド化合物(A成分)
とともに用いられる特殊なアリル化フエノール樹脂(B
成分)は、アラルキルエーテルとフエノールとを反応さ
せて得られる樹脂(例えば三井東圧化学社製,ザイロツ
クXL−225)に、アリルクロライドを常法により付
加せしめた後、この付加物をクライゼン転移させること
により得られる。このような特殊なアリル化フエノール
樹脂(B成分)は、下記の一般式(1)で表される。下
記の一般式(1)において、繰り返し数nで示される成
分と、繰り返し数mで示される成分との態様は、ブロツ
ク状,交互状,ランダム状となる。These maleimide compounds may be used alone or in combination. The maleimide compound (component A)
Special allylated phenolic resin (B
The component) is obtained by reacting an aralkyl ether with a phenol (for example, Mitsui Toatsu Chemical Co., Ltd., Zyrock XL-225), and after adding allyl chloride by a conventional method, the Claisen rearrangement is performed. It is obtained by Such a special allylated phenol resin (component B) is represented by the following general formula (1). In the following general formula (1), the form of the component represented by the number of repetitions n and the component represented by the number of repetitions m is block, alternating, or random.
【0015】[0015]
【化7】 [Chemical 7]
【0016】上記一般式(1)で表されるアリル化フエ
ノール樹脂において、m/(n+m)、すなわちアリル
化率は0.3以上でなければならない。すなわち、アリ
ル化率が0.3未満では耐熱性および耐湿性が劣化する
からである。また、m+nは1〜20の範囲でなければ
ならない。特に好適なのはm+nが2〜15である。す
なわち、m+nが20を超えると粘度が高くなり封止作
業性に問題が生じるからである。In the allylated phenol resin represented by the above general formula (1), m / (n + m), that is, the allylation rate must be 0.3 or more. That is, when the allylation ratio is less than 0.3, heat resistance and moisture resistance deteriorate. Further, m + n must be in the range of 1-20. Particularly preferably, m + n is 2 to 15. That is, when m + n exceeds 20, the viscosity becomes high and a problem occurs in sealing workability.
【0017】上記特殊なアリル化フエノール樹脂(B成
分)の配合量は、重量比で、前記マレイミド化合物(A
成分)1に対して、0.3〜1.5の範囲に設定するの
が好ましい。すなわち、上記範囲を外れると耐熱性,耐
湿性および作業性が劣化する傾向がみられるからであ
る。The amount of the special allylated phenolic resin (component B) is the weight ratio of the maleimide compound (A).
It is preferable to set it in the range of 0.3 to 1.5 with respect to component 1). That is, if it is out of the above range, heat resistance, moisture resistance and workability tend to deteriorate.
【0018】上記マレイミド化合物(A成分)および特
殊なアリル化フエノール樹脂(B成分)とともに用いら
れる硬化触媒(C成分)としては、有機過酸化物,アゾ
化合物等のラジカル開始剤や、三級アミン類,イミダゾ
ール類,四級アンモニウム塩,有機ホスフイン化合物,
ルイス酸,ルイス酸錯体等があげられる。これらは単独
でもしくは併用してもよい。上記硬化触媒(C成分)の
配合量は、製造時に使用される硬化条件に併せて適宜に
決定される。The curing catalyst (component C) used together with the maleimide compound (component A) and the special allylated phenolic resin (component B) is a radical initiator such as an organic peroxide or an azo compound, or a tertiary amine. , Imidazoles, quaternary ammonium salts, organic phosphine compounds,
Examples thereof include Lewis acid and Lewis acid complex. These may be used alone or in combination. The blending amount of the above-mentioned curing catalyst (component C) is appropriately determined in accordance with the curing conditions used during production.
【0019】また、この発明に用いられる樹脂組成物に
は、上記A〜C成分以外に、必要に応じて粉末状の補強
剤や充填剤,着色剤,離型剤,難燃剤,カツプリング
剤,硬化触媒等を適宜添加することができる。In the resin composition used in the present invention, in addition to the above-mentioned components A to C, if necessary, a powdery reinforcing agent, filler, colorant, release agent, flame retardant, coupling agent, A curing catalyst or the like can be added as appropriate.
【0020】上記粉末状の補強剤や充填剤としては、酸
化アルミニウム,酸化マグネシウム,水酸化アルミニウ
ム,炭酸アルミニウム,炭酸カルシウム,炭酸マグネシ
ウム,ケイソウ土,ケイ酸カルシウム,焼成クレー,粉
末シリカ,グラフアイト,アスベスト,三酸化アンモチ
ン,ガラス繊維,ロツクウール,カーボンフアイバー等
があげられる。そして、上記補強剤および充填剤の使用
量は、用途により異なるが、樹脂成分100重量部(以
下「部」と略す)に対し500部以下の割合に設定する
のが好ましい。Examples of the powdery reinforcing agent or filler include aluminum oxide, magnesium oxide, aluminum hydroxide, aluminum carbonate, calcium carbonate, magnesium carbonate, diatomaceous earth, calcium silicate, calcined clay, powdered silica, graphite, Examples include asbestos, ammotin trioxide, glass fiber, rock wool, carbon fiber, etc. The amount of the reinforcing agent and the filler used is preferably 500 parts or less with respect to 100 parts by weight of the resin component (hereinafter abbreviated as “part”), although it depends on the application.
【0021】また、上記着色剤としては、二酸化チタ
ン,黄鉛カーボンブラツク,鉄黒,モリブデン赤,群
青,紺青,カドミウム黄,カドミウム赤等があげられ
る。Examples of the colorant include titanium dioxide, yellow lead carbon black, iron black, molybdenum red, ultramarine blue, dark blue, cadmium yellow, cadmium red and the like.
【0022】上記離型剤としては、高級脂肪族パラフイ
ン,高級脂肪族エステル,天然ワツクス,合成ワツクス
等があげられ、離型剤としては、三酸化アンチモン,リ
ン系化合物等があげられる。Examples of the releasing agent include higher aliphatic paraffins, higher aliphatic esters, natural waxes and synthetic waxes, and examples of the releasing agent include antimony trioxide and phosphorus compounds.
【0023】そして、上記カツプリング剤としては、シ
ラン系,チタネート系,アルミ系カツプリング剤等があ
げられる。Examples of the coupling agent include silane-based, titanate-based, aluminum-based coupling agents and the like.
【0024】この発明に用いられる樹脂組成物は、例え
ばつぎのようにして製造することができる。すなわち、
前記マレイミド化合物(A成分),特殊なアリル化フエ
ノール樹脂(B成分)および硬化触媒(C成分)さらに
必要に応じて上記充填剤,着色剤,離型剤,難燃剤およ
びカツプリング剤等その他の添加剤を適宜配合する。つ
ぎに、この配合物を加熱し混合混練し、室温に冷却した
のち、粉砕し、必要に応じて打錠するという一連の工程
により目的とする樹脂組成物を製造することができる。The resin composition used in the present invention can be manufactured, for example, as follows. That is,
The maleimide compound (component A), special allylated phenol resin (component B) and curing catalyst (component C), and other additives such as the above-mentioned fillers, colorants, release agents, flame retardants and coupling agents, if necessary. The agent is blended appropriately. Next, the desired resin composition can be produced by a series of steps in which the composition is heated, mixed and kneaded, cooled to room temperature, pulverized, and tableted if necessary.
【0025】このような樹脂組成物を用いての半導体素
子の封止は、特に限定するものではなく、通常のトラン
スフアー成形等の公知のモールド方法により行うことが
できる。The encapsulation of the semiconductor element using such a resin composition is not particularly limited and can be performed by a known molding method such as ordinary transfer molding.
【0026】このようにして得られる半導体装置は、低
応力性,耐熱性,耐湿性に優れており、信頼性の高いも
のである。The semiconductor device thus obtained is excellent in low stress, heat resistance, and moisture resistance and has high reliability.
【0027】[0027]
【発明の効果】以上のように、この発明の半導体装置
は、前記特殊なアリル化フエノール樹脂(B成分)を含
有する特殊な樹脂組成物を用いて樹脂封止されており、
その封止プラスチツクパツケージが従来のエポキシ樹脂
組成物製またはマレイミド樹脂組成物製のものとは異な
るため、耐湿信頼性が高くさらに耐熱信頼性にも優れて
いる。したがつて、過酷な使用条件下における信頼性が
一層高くなつている。As described above, the semiconductor device of the present invention is resin-sealed with the special resin composition containing the special allylated phenol resin (component B).
Since the sealing plastic package is different from that of the conventional epoxy resin composition or maleimide resin composition, it has high moisture resistance reliability and also excellent heat resistance reliability. Therefore, reliability is further enhanced under severe usage conditions.
【0028】つぎに、実施例について比較例と併せて説
明する。Next, examples will be described together with comparative examples.
【0029】先ず、下記の一般式(1)を繰り返し単位
とし、アリル化率および(n+m)数が下記の表1に示
すような6種類のアリル化フエノール樹脂A〜Fおよび
下記の一般式(5)を繰り返し単位とするフエノールノ
ボラツク樹脂を準備した。First, using the following general formula (1) as a repeating unit, six kinds of allylated phenol resins A to F having the allylation ratio and (n + m) number shown in the following Table 1 and the following general formula ( A phenol novolak resin having 5) as a repeating unit was prepared.
【0030】[0030]
【化8】[Chemical 8]
【0031】[0031]
【化9】 [Chemical 9]
【0032】[0032]
【表1】 [Table 1]
【0033】[0033]
【実施例1〜6】上記アリル化フエノール樹脂A〜C,
Fおよび下記の表2に示す各成分を用い、同表に示す割
合で配合し、溶融混練を行つた。ついで、冷却固化した
のち粉砕することにより目的とする粉末状の樹脂組成物
を得た。Examples 1 to 6 Allylated phenol resins A to C,
F and each component shown in Table 2 below were blended in the proportions shown in the same table, and melt-kneaded. Then, the mixture was cooled and solidified, and then pulverized to obtain a desired powdery resin composition.
【0034】[0034]
【表2】 [Table 2]
【0035】[0035]
【比較例1〜3】前記アリル化フエノール樹脂D,Eお
よびフエノールノボラツク樹脂と、下記の表3に示す各
成分を用い、同表に示す割合で配合し、溶融混練を行つ
た。ついで、冷却固化したのち粉砕することにより目的
とする粉末状の樹脂組成物を得た。Comparative Examples 1 to 3 The above allylated phenol resins D and E and the phenol novolak resin were used, and the respective components shown in Table 3 below were blended in the proportions shown in the same table and melt kneaded. Then, the mixture was cooled and solidified, and then pulverized to obtain a desired powdery resin composition.
【0036】[0036]
【表3】 [Table 3]
【0037】上記のように実施例および比較例で得られ
た粉末状の樹脂組成物を用いて、トランスフアー成形に
より硬化体を成形した。そして、この硬化体を用いて曲
げ弾性率,曲げ強度および吸湿率の測定をJIS K
6911に準じて行い、その結果を下記の表4および表
5に示した。なお、上記吸湿率の測定では、85℃×8
5%RHの条件下で行つた。Using the powdery resin compositions obtained in Examples and Comparative Examples as described above, a cured product was molded by transfer molding. Then, the flexural modulus, flexural strength and moisture absorption rate of the cured product are measured according to JIS K.
6911 and the results are shown in Tables 4 and 5 below. In the measurement of the moisture absorption rate, 85 ° C. × 8
It was carried out under the condition of 5% RH.
【0038】[0038]
【表4】 [Table 4]
【0039】[0039]
【表5】 [Table 5]
【0040】上記表4および表5の結果から、比較例品
はいずれも高温における強度が低く吸湿率か高い。これ
に対して実施例品は高温強度が高くしかも吸湿率も低
い。このことから、実施例品の硬化物は耐湿性および特
に高温における機械的強度に優れていることがわかる。
そして、この実施例の樹脂組成物を用い、半導体装置を
作製した。これら半導体装置は耐湿信頼性および機械的
強度に優れたものであつた。From the results shown in Tables 4 and 5, the comparative products have low strength at high temperature and high moisture absorption. On the other hand, the example products have high high-temperature strength and low hygroscopicity. From this, it is understood that the cured product of the example product is excellent in moisture resistance and mechanical strength particularly at high temperature.
Then, a semiconductor device was produced using the resin composition of this example. These semiconductor devices were excellent in moisture resistance reliability and mechanical strength.
Claims (2)
脂組成物を用いて半導体素子を封止してなる半導体装
置。 (A)1分子中に2個以上のマレイミド基を有するマレ
イミド化合物。 (B)下記の一般式(1)を繰り返し単位とするアリル
化フエノール樹脂。 【化1】 〔上記一般式(1)において、n,mは整数であり、m
/(n+m)=0.3以上で、かつn+m=1〜20で
ある。〕 (C)硬化触媒。1. A semiconductor device obtained by encapsulating a semiconductor element with a resin composition containing the following components (A) to (C). (A) A maleimide compound having two or more maleimide groups in one molecule. (B) An allylated phenol resin having the following general formula (1) as a repeating unit. [Chemical 1] [In the general formula (1), n and m are integers, and m
/(N+m)=0.3 or more and n + m = 1 to 20. ] (C) Curing catalyst.
導体封止用樹脂組成物。 (A)1分子中に2個以上のマレイミド基を有するマレ
イミド化合物。 (B)下記の一般式(1)を繰り返し単位とするアリル
化フエノール樹脂。 【化2】 〔上記一般式(1)において、n,mは整数であり、m
/(n+m)=0.3以上で、かつn+m=1〜20で
ある。〕 (C)硬化触媒。2. A semiconductor encapsulating resin composition containing the following components (A) to (C). (A) A maleimide compound having two or more maleimide groups in one molecule. (B) An allylated phenol resin having the following general formula (1) as a repeating unit. [Chemical 2] [In the general formula (1), n and m are integers, and m
/(N+m)=0.3 or more and n + m = 1 to 20. ] (C) Curing catalyst.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3923691A JPH056869A (en) | 1991-02-09 | 1991-02-09 | Semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3923691A JPH056869A (en) | 1991-02-09 | 1991-02-09 | Semiconductor device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH056869A true JPH056869A (en) | 1993-01-14 |
Family
ID=12547498
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3923691A Pending JPH056869A (en) | 1991-02-09 | 1991-02-09 | Semiconductor device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH056869A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2016104195A1 (en) * | 2014-12-25 | 2016-06-30 | 昭和電工株式会社 | Thermosetting resin composition |
| KR20180123729A (en) * | 2014-12-25 | 2018-11-19 | 쇼와 덴코 가부시키가이샤 | Thermosetting resin composition |
-
1991
- 1991-02-09 JP JP3923691A patent/JPH056869A/en active Pending
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