JPH0539285A - オキシフラバン類の精製法 - Google Patents
オキシフラバン類の精製法Info
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- JPH0539285A JPH0539285A JP19530691A JP19530691A JPH0539285A JP H0539285 A JPH0539285 A JP H0539285A JP 19530691 A JP19530691 A JP 19530691A JP 19530691 A JP19530691 A JP 19530691A JP H0539285 A JPH0539285 A JP H0539285A
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- Japan
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- oxyflavans
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- water
- methanol
- purifying
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 オキシフラバン類の精製法を提供する。
【構成】 メタノール−水の混合溶媒で再結晶すること
を特徴とするオキシフラバン類の精製法。
を特徴とするオキシフラバン類の精製法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はオキシフラバン類の精製
法に関するものである。
法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】オキシフラバン類の精製法として、例え
ば、英国特許822659号、特開昭55-139375 号公報および
特開昭61-27980号公報には、ケトン類とレゾルシンを酸
触媒存在下で反応させて得られたオキシフラバン類をろ
別し、得られたケーキを水洗浄し、乾燥する方法が提案
されている。
ば、英国特許822659号、特開昭55-139375 号公報および
特開昭61-27980号公報には、ケトン類とレゾルシンを酸
触媒存在下で反応させて得られたオキシフラバン類をろ
別し、得られたケーキを水洗浄し、乾燥する方法が提案
されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、この精製法で
は、未反応レゾルシンおよび副生成物（特にポリマー成
分）が洗浄しきれず、純度の高いオキシフラバン類が得
られなかった。本発明の目的は、未反応レゾルシンおよ
び副生成物を除去し、高純度のオキシフラバン類を得る
べく、その精製法を提供することにある。
は、未反応レゾルシンおよび副生成物（特にポリマー成
分）が洗浄しきれず、純度の高いオキシフラバン類が得
られなかった。本発明の目的は、未反応レゾルシンおよ
び副生成物を除去し、高純度のオキシフラバン類を得る
べく、その精製法を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成するために鋭意検討を行い、オキシフラバン類を
メタノール−水の混合溶媒で再結晶することにより、本
発明の目的が達成されることを見い出した。
を達成するために鋭意検討を行い、オキシフラバン類を
メタノール−水の混合溶媒で再結晶することにより、本
発明の目的が達成されることを見い出した。
【０００５】すなわち本発明は、メタノール−水の混合
溶媒で再結晶することを特徴とする下記一般式で表され
るオキシフラバン類の精製法を提供する。
溶媒で再結晶することを特徴とする下記一般式で表され
るオキシフラバン類の精製法を提供する。
【０００６】
【化２】
【０００７】（式中、Ｒ1 〜Ｒ5 はそれぞれ独立に、水
素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル
基、アラルキル基またはアリール基を表す。またＲ1 と
Ｒ2 およびＲ4 とＲ5 はそれぞれ独立に、環を形成する
場合もある。ただし、Ｒ1 およびＲ2 のどちらか一方は
アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アラル
キル基またはアリール基を表す。）
素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル
基、アラルキル基またはアリール基を表す。またＲ1 と
Ｒ2 およびＲ4 とＲ5 はそれぞれ独立に、環を形成する
場合もある。ただし、Ｒ1 およびＲ2 のどちらか一方は
アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アラル
キル基またはアリール基を表す。）
【０００８】以下に、本発明について更に詳細に説明す
る。上記一般式中のＲ1 〜Ｒ5 のアルキル基は分岐して
いてもよく、炭素数１〜５のものが好ましい。アルケニ
ル基としては炭素数２〜５のものが好ましい。アラルキ
ル基のアルキル部位としては炭素数１〜３のものが好ま
しい。また、アリール基としてはフェニル基およびナフ
チル基が好ましい。
る。上記一般式中のＲ1 〜Ｒ5 のアルキル基は分岐して
いてもよく、炭素数１〜５のものが好ましい。アルケニ
ル基としては炭素数２〜５のものが好ましい。アラルキ
ル基のアルキル部位としては炭素数１〜３のものが好ま
しい。また、アリール基としてはフェニル基およびナフ
チル基が好ましい。
【０００９】オキシフラバン類の具体例として、例え
ば、以下の化合物が挙げられる。
ば、以下の化合物が挙げられる。
【００１０】
【化３】
【００１１】オキシフラバン類は、例えば、英国特許82
2659号、特開昭55-139375 号公報および特開昭61-27980
号公報に記載されている方法に準じて、レゾルシンとケ
トン類を酸触媒存在下、反応溶媒中で反応させて合成さ
れる。また、反応溶媒としてメタノールを使用する方法
で合成することもできる。
2659号、特開昭55-139375 号公報および特開昭61-27980
号公報に記載されている方法に準じて、レゾルシンとケ
トン類を酸触媒存在下、反応溶媒中で反応させて合成さ
れる。また、反応溶媒としてメタノールを使用する方法
で合成することもできる。
【００１２】反応終了後、析出物をろ別し、水洗後乾燥
して得られたオキシフラバン類を、そのケーキ中固形分
１００重量部当り１００〜１６００重量部のメタノール
に溶解したのち、溶解に使用したメタノール１００重量
部当り５０〜１０００重量部の水を添加する。この中で
も特に水添加後のメタノール濃度が３０〜５０％（重量
基準）、溶媒量がケーキ中固形分１００重量部当り３０
０〜５５０重量部となる条件が好ましい。水添加後の液
温は２０〜７０℃、好ましくは５０〜７０℃である。添
加する水の温度は１０〜１００℃、好ましくは５０〜７
０℃である。その後、一定時間撹拌を行い、ろ過などに
より固体を分取する。得られた固体は適当量のメタノー
ル水、特にメタノール濃度３０〜５０％（重量基準）の
メタノール水で洗浄することにより白色粉末状の目的物
である高純度のオキシフラバン類を得る。
して得られたオキシフラバン類を、そのケーキ中固形分
１００重量部当り１００〜１６００重量部のメタノール
に溶解したのち、溶解に使用したメタノール１００重量
部当り５０〜１０００重量部の水を添加する。この中で
も特に水添加後のメタノール濃度が３０〜５０％（重量
基準）、溶媒量がケーキ中固形分１００重量部当り３０
０〜５５０重量部となる条件が好ましい。水添加後の液
温は２０〜７０℃、好ましくは５０〜７０℃である。添
加する水の温度は１０〜１００℃、好ましくは５０〜７
０℃である。その後、一定時間撹拌を行い、ろ過などに
より固体を分取する。得られた固体は適当量のメタノー
ル水、特にメタノール濃度３０〜５０％（重量基準）の
メタノール水で洗浄することにより白色粉末状の目的物
である高純度のオキシフラバン類を得る。
【００１３】
【実施例】次に、実施例を挙げて本発明をさらに具体的
に説明するが、本発明はこれらの実施例によってなんら
限定されるものでない。
に説明するが、本発明はこれらの実施例によってなんら
限定されるものでない。
【００１４】比較例１ 攪拌器、冷却器、滴下ロートおよび温度計を装着した四
ツ口フラスコにレゾルシン２００ｇ（1.82モル）、３６
％塩酸91.2ｇ（0.9 モル）および水３３０ｇを仕込み、
４２℃で攪拌下アセトン35.2ｇ（0.61モル）を１時間か
けて滴下した。滴下後、５０℃で３時間反応した。反応
生成物をろ別し、得られたウェットケーキを水洗後乾燥
し、２，４，４−トリメチル−２−（２，４−ジヒドロ
キシフェニル）−７−ヒドロキシクロマンを得た。結果
は表１に示す。
ツ口フラスコにレゾルシン２００ｇ（1.82モル）、３６
％塩酸91.2ｇ（0.9 モル）および水３３０ｇを仕込み、
４２℃で攪拌下アセトン35.2ｇ（0.61モル）を１時間か
けて滴下した。滴下後、５０℃で３時間反応した。反応
生成物をろ別し、得られたウェットケーキを水洗後乾燥
し、２，４，４−トリメチル−２−（２，４−ジヒドロ
キシフェニル）−７−ヒドロキシクロマンを得た。結果
は表１に示す。
【００１５】比較例２ 攪拌器、冷却器、滴下ロートおよび温度計を装着した四
ツ口フラスコに、レゾルシン２００ｇ（1.82モル）、ｐ
−トルエンスルホン酸1.38ｇ（0.007 モル）およびメタ
ノール６６ｇを仕込み５５℃で攪拌下アセトン 35.16ｇ
（0.61モル）を１時間かけて滴下した。滴下後６５℃で
３時間反応し、１４５ｇの水を加え５５℃でさらに３時
間攪拌した。反応生成物をろ別し、得られたウェットケ
ーキを水洗後乾燥を行い、２，４，４−トリメチル−２
−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−７−ヒドロキシ
クロマンを得た。結果は表１に示す。
ツ口フラスコに、レゾルシン２００ｇ（1.82モル）、ｐ
−トルエンスルホン酸1.38ｇ（0.007 モル）およびメタ
ノール６６ｇを仕込み５５℃で攪拌下アセトン 35.16ｇ
（0.61モル）を１時間かけて滴下した。滴下後６５℃で
３時間反応し、１４５ｇの水を加え５５℃でさらに３時
間攪拌した。反応生成物をろ別し、得られたウェットケ
ーキを水洗後乾燥を行い、２，４，４−トリメチル−２
−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−７−ヒドロキシ
クロマンを得た。結果は表１に示す。
【００１６】実施例１ 攪拌器、冷却器および温度計を装着した四ツ口フラスコ
に、上記比較例１で得られたオキシフラバン類のウェッ
トケーキ１０２ｇ（中固形分重量７２ｇ）とメタノール
１１９ｇを入れ加熱撹拌下溶解し、６５℃で結晶が溶解
したことを確認した後、６５℃の温水１７９ｇを添加
し、５５℃まで冷却した。５５℃で３時間撹拌した後析
出物をろ別し、４０％のメタノール水で水洗、乾燥を行
い、２，４，４−トリメチル−２−（２，４−ジヒドロ
キシフェニル）−７−ヒドロキシクロマンを得た。結果
は表１に示す。
に、上記比較例１で得られたオキシフラバン類のウェッ
トケーキ１０２ｇ（中固形分重量７２ｇ）とメタノール
１１９ｇを入れ加熱撹拌下溶解し、６５℃で結晶が溶解
したことを確認した後、６５℃の温水１７９ｇを添加
し、５５℃まで冷却した。５５℃で３時間撹拌した後析
出物をろ別し、４０％のメタノール水で水洗、乾燥を行
い、２，４，４−トリメチル−２−（２，４−ジヒドロ
キシフェニル）−７−ヒドロキシクロマンを得た。結果
は表１に示す。
【００１７】実施例２ 比較例１で得られたオキシフラバン類のウェットケーキ
の代わりに比較例２で得られたオキシフラバン類のウェ
ットケーキ９５ｇ（中固形分重量７０ｇ）を用い、メタ
ノール量を１１０ｇに代えかつ６５℃の温水の量を１６
６ｇに代えた以外は実施例１と同様にして、２，４，４
−トリメチル−２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）
−７−ヒドロキシクロマンを得た。結果は表１に示す。
の代わりに比較例２で得られたオキシフラバン類のウェ
ットケーキ９５ｇ（中固形分重量７０ｇ）を用い、メタ
ノール量を１１０ｇに代えかつ６５℃の温水の量を１６
６ｇに代えた以外は実施例１と同様にして、２，４，４
−トリメチル−２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）
−７−ヒドロキシクロマンを得た。結果は表１に示す。
【００１８】
【表１】
【００１９】１）純度およびレゾルシン含量は、液体ク
ロマトグラフ（ＨＰＬＣ）絶対検量線法で求めた。 装 置：島津製作所（株）製 ＬＣ−４Ａ カラム：Sumipax ODS A-212 （５μm) ６mmφ×150mm 溶離液：Ａ液 0.5％ギ酸／水 Ｂ液 0.5％ギ酸／
アセトニトリル Ｂ液濃度 10％→ 100％ （３％／min) 流 量： 1.5ml/min 検出器：ＵＶ280nm ２）ポリマー含量は、ＧＰＣ面積百分率法で求めた。 装 置：東ソー（株）製 ＨＬＣ−8020 カラム：TSKgel G4000HXL＋G2000HXL 移動相：テトラヒドロフラン 40℃ 流 量： 1ml/min 検出器：ＵＶ254nm
ロマトグラフ（ＨＰＬＣ）絶対検量線法で求めた。 装 置：島津製作所（株）製 ＬＣ−４Ａ カラム：Sumipax ODS A-212 （５μm) ６mmφ×150mm 溶離液：Ａ液 0.5％ギ酸／水 Ｂ液 0.5％ギ酸／
アセトニトリル Ｂ液濃度 10％→ 100％ （３％／min) 流 量： 1.5ml/min 検出器：ＵＶ280nm ２）ポリマー含量は、ＧＰＣ面積百分率法で求めた。 装 置：東ソー（株）製 ＨＬＣ−8020 カラム：TSKgel G4000HXL＋G2000HXL 移動相：テトラヒドロフラン 40℃ 流 量： 1ml/min 検出器：ＵＶ254nm
【００２０】
【発明の効果】本発明の方法によれば、高純度のオキシ
フラバン類を得ることができる。
フラバン類を得ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 桑名 耕治 大阪府大阪市此花区春日出中３丁目１番98 号 住友化学工業株式会社内 (72)発明者 富岡 淳 大阪府大阪市此花区春日出中３丁目１番98 号 住友化学工業株式会社内
Claims (1)
- 【請求項１】メタノール−水の混合溶媒で再結晶するこ
とを特徴とする下記一般式で表されるオキシフラバン類
の精製法。 【化１】 （式中、Ｒ1 〜Ｒ5 はそれぞれ独立に、水素原子、アル
キル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アラルキル
基またはアリール基を表す。またＲ1 とＲ2 およびＲ4
とＲ5 はそれぞれ独立に、環を形成する場合もある。た
だし、Ｒ1 およびＲ2 のどちらか一方はアルキル基、ア
ルケニル基、シクロアルキル基、アラルキル基またはア
リール基を表す。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3195306A JP3000734B2 (ja) | 1991-08-05 | 1991-08-05 | オキシフラバン類の精製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3195306A JP3000734B2 (ja) | 1991-08-05 | 1991-08-05 | オキシフラバン類の精製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0539285A true JPH0539285A (ja) | 1993-02-19 |
| JP3000734B2 JP3000734B2 (ja) | 2000-01-17 |
Family
ID=16338964
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3195306A Expired - Lifetime JP3000734B2 (ja) | 1991-08-05 | 1991-08-05 | オキシフラバン類の精製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3000734B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014201585A (ja) * | 2013-04-10 | 2014-10-27 | 株式会社トクヤマ | 酢酸が低減されたテルミサルタンａ型結晶の製造方法 |
-
1991
- 1991-08-05 JP JP3195306A patent/JP3000734B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014201585A (ja) * | 2013-04-10 | 2014-10-27 | 株式会社トクヤマ | 酢酸が低減されたテルミサルタンａ型結晶の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3000734B2 (ja) | 2000-01-17 |
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