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JPH05288520A - Pattern matching method - Google Patents

Pattern matching method

Info

Publication number
JPH05288520A
JPH05288520A JP4094011A JP9401192A JPH05288520A JP H05288520 A JPH05288520 A JP H05288520A JP 4094011 A JP4094011 A JP 4094011A JP 9401192 A JP9401192 A JP 9401192A JP H05288520 A JPH05288520 A JP H05288520A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
image
resolution
image pattern
pattern
low
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4094011A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shuzo Ozaki
秀三 尾嵜
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP4094011A priority Critical patent/JPH05288520A/en
Publication of JPH05288520A publication Critical patent/JPH05288520A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Image Analysis (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Supply And Installment Of Electrical Components (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 高速度でパターンマッチングを行える方法を
提供する。 【構成】 マスター対象物1をカメラ3で観察して、高
解像度のマスター画像パターンM1及び低解像度のマス
ター画像パターンM2を入手し、これらの画像データを
画像メモリ12に登録する。また検査対象物1をカメラ
3で観察して、低解像度の画像パターンA及び高解像度
の画像パターンBを入手し、これらの画像データを画像
メモリ11,12に入力する。そして低解像度のマスタ
ー画像パターンM1と低解像度の画像パターンAをマッ
チングさせて、検査対象物1が存在すると予想される領
域Eを求めた後、この領域Eについて、高解像度のマス
ター画像パターンM2と高解像度の画像パターンBを正
確にマッチングさせて、検査対象物1を検出する。
(57) [Summary] [Purpose] To provide a method for performing pattern matching at high speed. [Structure] A master object 1 is observed by a camera 3, a high resolution master image pattern M1 and a low resolution master image pattern M2 are obtained, and these image data are registered in an image memory 12. Further, the inspection object 1 is observed by the camera 3, the low resolution image pattern A and the high resolution image pattern B are obtained, and these image data are input to the image memories 11 and 12. Then, the low-resolution master image pattern M1 and the low-resolution image pattern A are matched to obtain an area E in which the inspection object 1 is expected to exist, and then the area E is compared with the high-resolution master image pattern M2. The inspection target 1 is detected by accurately matching the high resolution image pattern B.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はパターンマッチング法に
係り、詳しくは、マッチング速度をあげて処理時間の大
巾短縮を図ることができるパターンマッチング法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a pattern matching method, and more particularly, to a pattern matching method capable of increasing the matching speed to shorten the processing time.

【0002】[0002]

【従来の技術】例えば基板に実装された電子部品のよう
な検査対象物の位置検出や形状認識等のために行われる
パターンマッチングは、カメラに取り込まれた検査対象
物の画像の各画素のデータを、白黒の2値化データ若し
くは多値化データなどの画像データとして画像メモリに
記憶せしめ、この記憶されたデータと、予めメモリに記
憶されたマスター画像パターンの各画素のデータを1個
づつ照合することにより行われていた。
2. Description of the Related Art Pattern matching performed for position detection and shape recognition of an inspection object such as an electronic component mounted on a board is data of each pixel of an image of the inspection object captured by a camera. Is stored in the image memory as image data such as black-and-white binary data or multi-valued data, and the stored data and the data of each pixel of the master image pattern stored in the memory in advance are collated one by one. It was done by doing.

【0003】しかしながら従来手段は、検査対象物の画
像の各々の画素のデータと、マスター画像パターンの各
々の画素のデータを、1画素ずつ照合するものであった
ため、多大な処理時間を要する問題点があった。
However, since the conventional means collates the data of each pixel of the image of the object to be inspected with the data of each pixel of the master image pattern one pixel at a time, it takes a lot of processing time. was there.

【0004】そこで本出願人は、先にパターンマッチン
グの高速化を図るための方法を提案した(特開平2−9
0847号)。このものは、画像の複数個の画素のデー
タを単位データとし、この単位データを単位画素ずつず
らして画像メモリのアドレスに記憶せしめることによ
り、各々のアドレス毎に基準パターンメモリの各々のア
ドレスのデータと一括して照合できるようにして、処理
時間の大巾な短縮を図ったものである。
Therefore, the present applicant previously proposed a method for speeding up pattern matching (Japanese Patent Laid-Open No. 2-9).
0847). This data uses the data of a plurality of pixels of the image as unit data and shifts the unit data by unit pixel to store the data in the address of the image memory, thereby the data of each address of the reference pattern memory for each address. The processing time can be greatly shortened by making it possible to collate with

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
手段は、処理時間の大巾な短縮は困難であるという問題
点があった。
However, the above-mentioned conventional means has a problem that it is difficult to greatly reduce the processing time.

【0006】そこで本発明は、簡単な手段により、処理
時間を大巾に短縮できるパターンマッチング方法を提供
することを目的とする。
Therefore, an object of the present invention is to provide a pattern matching method which can greatly reduce the processing time by a simple means.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】このために本発明は、マ
スター対象物をカメラで観察して、低解像度のマスター
画像パターン及び高解像度のマスター画像パターンを入
手し、これらの画像データを画像メモリに登録する。ま
た検査対象物をカメラで観察して、低解像度の画像パタ
ーン及び高解像度の画像パターンを入手し、これらの画
像データを画像メモリに入力する。そして低解像度のマ
スター画像パターンと低解像度の画像パターンをマッチ
ングさせて、検査対象物が存在すると予想される領域を
求めたうえで、この領域について、高解像度のマスター
画像パターンと高解像度の画像パターンを精密にマッチ
ングさせて、検査対象物を正確に検出する。
To this end, the present invention provides a low resolution master image pattern and a high resolution master image pattern by observing a master object with a camera and stores these image data in an image memory. Register with. Further, the inspection object is observed by a camera to obtain a low resolution image pattern and a high resolution image pattern, and these image data are input to the image memory. Then, by matching the low-resolution master image pattern and the low-resolution image pattern to obtain the area where the inspection object is expected to exist, the high-resolution master image pattern and the high-resolution image pattern are found for this area. The object to be inspected is accurately detected by precisely matching.

【0008】[0008]

【作用】上記構成によれば、低解像度の画像パターンに
より、検査対象物が存在すると予想される領域を予め求
め、この領域内において、高解像度の画像パターンによ
り精密なパターンマッチングを行えばよいので、パター
ンマッチングを高速度で行える。
According to the above construction, an area in which the inspection object is expected to exist is obtained in advance from the low resolution image pattern, and precise pattern matching can be performed in this area with the high resolution image pattern. , Pattern matching can be performed at high speed.

【0009】[0009]

【実施例】次に、基板に実装された電子部品の位置検出
を例にとり、本発明の実施例を説明する。
Next, an embodiment of the present invention will be described by taking the position detection of an electronic component mounted on a board as an example.

【0010】図1は本発明に係るパターンマッチングを
行うための全体構成図である。基板2に電子部品(以下
「チップ」という)1が搭載されており、このチップ1
を上方のカメラ3で観察して、その位置を後述するパタ
ーンマッチング法により検出する。まず、カメラ3によ
りチップ1を観察して低解像度の画像パターンAと高解
像度の画像パターンBを入手し、これらの画像パターン
A,Bの画像データを画像メモリ(後述)に入力する。
1’はチップ1の画像であり、この画像1’は、例えば
2値化データや多値化データなどの画像データとして画
像メモリに入力される。4は低解像度処理部である。
FIG. 1 is an overall configuration diagram for performing pattern matching according to the present invention. An electronic component (hereinafter referred to as “chip”) 1 is mounted on a substrate 2, and this chip 1
Is observed by the upper camera 3 and its position is detected by a pattern matching method described later. First, the chip 1 is observed by the camera 3 to obtain a low-resolution image pattern A and a high-resolution image pattern B, and the image data of these image patterns A and B are input to an image memory (described later).
Reference numeral 1'is an image of the chip 1, and the image 1'is input to the image memory as image data such as binarized data and multi-valued data. Reference numeral 4 is a low resolution processing unit.

【0011】図2は低解像度のマスター画像パターンM
1を示している。また図3は高解像度のマスター画像パ
ターンM2を示している。これらのマスター画像パター
ンM1,M2は、多数個のチップの中から形状の良いチ
ップをマスター対象物として選択し、これをカメラ3で
観察して得られるものであり、第2の画像メモリ(後
述)12に登録される。
FIG. 2 shows a low resolution master image pattern M.
1 is shown. FIG. 3 shows a high resolution master image pattern M2. These master image patterns M1 and M2 are obtained by selecting a chip having a good shape from a large number of chips as a master object and observing this with a camera 3, and a second image memory (described later). ) 12 is registered.

【0012】低解像度処理部4による低解像度処理は周
知手段であるが、その処理方法を図5(a)(b)のモ
デルパターンを参照しながら簡単に説明する。図5
(a)はカメラ3に取り込まれた生画像を多値化処理し
た0,1,2の多値画像である。この画像を一点鎖線の
格子で示すように、4個の画素Gを1単位としたグルー
プに分割する。そして各グループの4個の画像Gの値の
平均値を算出する。例えばグループ1の4個の画素Gの
値は0,1,1,2であって、その平均値は1である。
またグループ2では同様に2,2,2,2であって、そ
の平均値は2である。
The low resolution processing by the low resolution processing section 4 is a well-known means, and its processing method will be briefly described with reference to the model patterns of FIGS. 5 (a) and 5 (b). Figure 5
(A) is a multi-valued image of 0, 1, 2 obtained by performing multi-valued processing on the raw image captured by the camera 3. This image is divided into groups each having four pixels G as one unit, as indicated by a dashed-dotted line grid. Then, the average value of the values of the four images G in each group is calculated. For example, the values of the four pixels G in group 1 are 0, 1, 1, and the average value thereof is 1.
Similarly, in group 2, the numbers are 2, 2, 2, and 2, and the average value is 2.

【0013】図5(b)は、すべてのグループについ
て、上述のようにして平均値を求めて得られた低解像度
の多値画像である。本実施例では、解像度を1/2に落
としており、その結果、図5(b)に示す低解像度の画
素Gの総数は、図5(a)に示す高解像度の画素Gの総
数の1/4になっている。このことは、パターンマッチ
ングによりマッチングする画素の総数が1/4になり、
これだけでマッチング時間も1/4に短縮できることを
意味する。
FIG. 5B is a low-resolution multivalued image obtained by obtaining the average value as described above for all the groups. In this embodiment, the resolution is reduced to 1/2, and as a result, the total number of low-resolution pixels G shown in FIG. 5B is 1 of the total number of high-resolution pixels G shown in FIG. It is / 4. This means that the total number of matching pixels becomes 1/4 by pattern matching,
This alone means that the matching time can be shortened to 1/4.

【0014】図4は回路構成のブロック図である。第1
の画像メモリ11は、シリアルポートメモリ20に接続
されている。シリアルポートメモリ20は入力部21に
接続されており、カメラ3に取り込まれた生画像データ
は、このシリアルポートメモリ20に1ライン入力され
る毎に、高解像度の画像データとして第1の画像メモリ
11に一括して入力される。そしてこの画像メモリ11
に記憶されたデータをマイクロプロセッサ13が読み取
って、上述した低解像度処理が行われ、この処理により
得られた低解像度の画像パターンAや、低解像度のマス
ター画像パターンM1、高解像度のマスター画像パター
ンM2の画像データは第2の画像メモリ12に入力され
る。
FIG. 4 is a block diagram of the circuit configuration. First
The image memory 11 of is connected to the serial port memory 20. The serial port memory 20 is connected to the input unit 21, and the raw image data captured by the camera 3 is input to the serial port memory 20 as one line every time one line is input into the first image memory as high resolution image data. It is input in 11 at a time. And this image memory 11
The low-resolution image pattern A, the low-resolution master image pattern M1, and the high-resolution master image pattern obtained by this processing are read by the microprocessor 13 of the data stored in The image data of M2 is input to the second image memory 12.

【0015】第1の画像メモリ11と、第2の画像メモ
リ12と、マイクロプロセッサ13はデータバス14に
より接続されている。このデータバス14には入力ポー
ト15を介してカウンタ16が接続されている。カウン
タ16は第1の画像メモリ11に入力されたデータの数
をカウントする。入力ポート15はカウンタ16の値を
読み取る。このカウンタ16は、同期信号発生回路17
に接続されている。この同期信号発生回路17はカウン
トのタイミングや画像取込みのタイミングを制御する。
カウンタ16はセレクタ18に接続されている。このセ
レクタ18はシリアルポートメモリ20を制御する。セ
レクタ18はアドレスバス19によりマイクロプロセッ
サ13に接続されている。
The first image memory 11, the second image memory 12, and the microprocessor 13 are connected by a data bus 14. A counter 16 is connected to the data bus 14 via an input port 15. The counter 16 counts the number of data input to the first image memory 11. The input port 15 reads the value of the counter 16. The counter 16 includes a synchronization signal generation circuit 17
It is connected to the. The synchronization signal generation circuit 17 controls the timing of counting and the timing of capturing images.
The counter 16 is connected to the selector 18. The selector 18 controls the serial port memory 20. The selector 18 is connected to the microprocessor 13 by an address bus 19.

【0016】本手段は上記のような構成より成り、次に
パターンマッチングのプロセスを説明する。まず多数個
のチップの中から、形状の良いチップをマスター対象物
として選択し、このチップをカメラ3で観察して、図2
に示す低解像度のマスター画像パターンM1と図3に示
す高解像度のマスター画像パターンM2を入手し、各々
の画像データを第2の画像メモリ12に登録する。
The present means is constructed as described above, and the pattern matching process will be described below. First, a chip with a good shape is selected as a master object from a large number of chips, and this chip is observed by the camera 3,
The low-resolution master image pattern M1 shown in FIG. 3 and the high-resolution master image pattern M2 shown in FIG. 3 are obtained, and each image data is registered in the second image memory 12.

【0017】次に検査対象物であるチップ1をカメラ3
で観察して、図1に示す高解像度の画像パターンBを第
1の画像メモリ11に入力し、また低解像度の画像パタ
ーンAを第2の画像メモリ12に入力する。ここで、低
解像度の画像パターンM1,Aを入手するための処理
は、図5に示した手法により、低解像度処理部4におい
て行われる。勿論、マイクロプロセッサ13でも低解像
度処理を行うことができる。
Next, the chip 1 to be inspected is mounted on the camera 3
The image pattern B of high resolution shown in FIG. 1 is input to the first image memory 11, and the image pattern A of low resolution is input to the second image memory 12 by observing. Here, the processing for obtaining the low resolution image patterns M1 and A is performed in the low resolution processing unit 4 by the method shown in FIG. Of course, the microprocessor 13 can also perform low resolution processing.

【0018】次に、図1に示すように、マスター画像パ
ターンM1を画像パターンA内で矢印N1方向にスキャ
ンニングさせて、画像パターンA内の画像1’と、マス
ター画像パターンM1内の画像1’がマッチングする領
域Eを求める。ここで、この画像パターンAとマスター
画像パターンM1は低解像度であるため、検出精度は低
く、したがって画像パターンA内の画像1’の正確な位
置は検出できないが、この領域E内に画像1’が存在す
る確率がきわめて高いことが予想される。また低解像度
の画像パターンA,M1は画素数が少なく(図5の場合
は、上述したように画素数は1/4になる)、しかもマ
ッチング回数も低解像度化しない場合の1/4になるの
で、マッチングに要する処理時間は1/16程度に短縮さ
れる。
Next, as shown in FIG. 1, the master image pattern M1 is scanned in the image pattern A in the direction of the arrow N1, and the image 1'in the image pattern A and the image 1 in the master image pattern M1 are scanned. Find the area E in which 'matches. Here, since the image pattern A and the master image pattern M1 have low resolution, the detection accuracy is low, and therefore the accurate position of the image 1'in the image pattern A cannot be detected, but the image 1'in the area E Is very likely to exist. Further, the low-resolution image patterns A and M1 have a small number of pixels (in the case of FIG. 5, the number of pixels is 1/4 as described above), and the number of matching times is also 1/4 of that when the resolution is not reduced. Therefore, the processing time required for matching is reduced to about 1/16.

【0019】そこで、図1の画像パターンB内にこの領
域Eを設定し、この領域E内において、高解像度のマス
ター画像パターンM2を矢印N2方向にスキャンニング
させて、画像パターンBの画像1’と、画像パターンM
2の画像1’が正確にマッチングする位置を精密に検出
することにより、画像パターンB内の画像1’の位置、
すなわち基板2上のチップ1の位置を正確に検出でき
る。
Therefore, the area E is set in the image pattern B of FIG. 1, and the high resolution master image pattern M2 is scanned in the area E in the direction of the arrow N2 to obtain the image 1'of the image pattern B. And the image pattern M
The position of the image 1'in the image pattern B is detected by precisely detecting the position where the second image 1'accurately matches,
That is, the position of the chip 1 on the substrate 2 can be accurately detected.

【0020】この領域Eの大きさは、画像パターンBの
大きさよりも大巾に縮小することが可能である(例えば
100分の1程度)。しかも低解像度のデータによるマ
ッチング時間も、1/16程度に短縮されるので、全体の
処理時間は従来手段の1/10以下に短縮される。
The size of the area E can be greatly reduced (for example, about 1/100) than the size of the image pattern B. Moreover, since the matching time for low-resolution data is also reduced to about 1/16, the overall processing time is reduced to 1/10 or less of the conventional method.

【0021】上記実施例は、検査対象物の位置検出を例
にとって説明したが、検査対象物の形状認識も同様の手
法により短時間で行える。
In the above embodiment, the position detection of the inspection object is described as an example, but the shape of the inspection object can be recognized in a short time by the same method.

【0022】[0022]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、高
解像度の画像パターンによるパターンマッチングは、低
解像度の画像パターンにより予め求められた狭い領域に
ついてのみ行えばよいので、処理時間を大巾に短縮で
き、しかも高いマッチング精度を維持できる。
As described above, according to the present invention, the pattern matching with the high resolution image pattern only needs to be performed for a narrow area previously obtained with the low resolution image pattern, so that the processing time can be greatly extended. Can be shortened to a high level and high matching accuracy can be maintained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係るパターンマッチング法の全体構成
FIG. 1 is an overall configuration diagram of a pattern matching method according to the present invention.

【図2】本発明に係る低解像度のマスター画像パターン
FIG. 2 is a low-resolution master image pattern diagram according to the present invention.

【図3】本発明に係る高解像度のマスター画像パターン
FIG. 3 is a high-resolution master image pattern diagram according to the present invention.

【図4】本発明に係る回路のブロック図FIG. 4 is a block diagram of a circuit according to the present invention.

【図5】(a)本発明に係るモデルパターンの画像図 (b)本発明に係るモデルパターンの画像図5A is an image diagram of a model pattern according to the present invention. FIG. 5B is an image diagram of a model pattern according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 チップ(検査対象物) 3 カメラ 11 画像メモリ 12 画像メモリ A 低解像度の画像パターン B 高解像度の画像パターン E 領域 M1 低解像度のマスター画像パターン M2 高解像度のマスター画像パターン 1 chip (inspection object) 3 camera 11 image memory 12 image memory A low resolution image pattern B high resolution image pattern E area M1 low resolution master image pattern M2 high resolution master image pattern

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】(i)マスター対象物をカメラで観察し
て、低解像度のマスター画像パターン及び高解像度のマ
スター画像パターンを入手し、これらの画像データを画
像メモリに登録するプロセスと、 (ii)検査対象物をカメラで観察して、低解像度の画像
パターン及び高解像度の画像パターンを入手し、これら
の画像データを画像メモリに入力するプロセスと、 (iii)上記(i)のプロセスで登録された低解像度のマ
スター画像パターンと上記(ii)のプロセスで入手され
た低解像度の画像パターンをマッチングさせて、上記検
査対象物が存在すると予想される領域を求めるプロセス
と、 (iv)上記(iii)のプロセスで求められた領域内におい
て、上記(i)のプロセスで登録された高解像度のマス
ター画像パターンと、上記(ii)のプロセスで入手され
た高解像度の画像パターンをマッチングさせて、上記検
査対象物を精密に検出するプロセスと、から成ることを
特徴とするパターンマッチング法。
1. A process of (i) observing a master object with a camera to obtain a low-resolution master image pattern and a high-resolution master image pattern, and registering these image data in an image memory, (ii) ) A process of observing the inspection object with a camera to obtain a low-resolution image pattern and a high-resolution image pattern and inputting these image data into an image memory, and (iii) registration in the process of (i) above. A process of matching the low-resolution master image pattern obtained with the low-resolution image pattern obtained in the process (ii) to obtain an area where the inspection object is expected to exist, and (iv) the above ( In the area obtained by the process of iii), the high-resolution master image pattern registered in the process of (i) and the process of (ii) A pattern matching method comprising a process of matching the obtained high-resolution image pattern to accurately detect the inspection object.
JP4094011A 1992-04-14 1992-04-14 Pattern matching method Pending JPH05288520A (en)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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